JP2002147352A - コールドトラップ - Google Patents
コールドトラップInfo
- Publication number
- JP2002147352A JP2002147352A JP2000344044A JP2000344044A JP2002147352A JP 2002147352 A JP2002147352 A JP 2002147352A JP 2000344044 A JP2000344044 A JP 2000344044A JP 2000344044 A JP2000344044 A JP 2000344044A JP 2002147352 A JP2002147352 A JP 2002147352A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- trap
- container
- gas
- cold trap
- outlet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 不純物ガス中の生成物の付着率を著しく向上
できるコールドトラップの提供。 【解決手段】 真空雰囲気中のガスまたはガス中に含ま
れる生成物等を凝縮・吸着させるトラップ部を有するト
ラップ本体と、該トラップ本体を包囲収容する筒形の密
閉型容器からなり、前記トラップ本体をステンレス鋼管
からなる配管の外周にステンレス帯材をスパイラル状に
巻回したフィンチューブで構成し、かつ該フィンチュー
ブをコイル状に巻回して容器本体内中央部に配設したこ
とを特徴とする。
できるコールドトラップの提供。 【解決手段】 真空雰囲気中のガスまたはガス中に含ま
れる生成物等を凝縮・吸着させるトラップ部を有するト
ラップ本体と、該トラップ本体を包囲収容する筒形の密
閉型容器からなり、前記トラップ本体をステンレス鋼管
からなる配管の外周にステンレス帯材をスパイラル状に
巻回したフィンチューブで構成し、かつ該フィンチュー
ブをコイル状に巻回して容器本体内中央部に配設したこ
とを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、真空チャンバを有
する半導体製造装置や真空炉等における真空雰囲気中の
ガスまたはガス雰囲気を必要とする装置のガス中に含ま
れる生成物（不純物を含む）等の除去に好適なコールド
トラップに関する。
する半導体製造装置や真空炉等における真空雰囲気中の
ガスまたはガス雰囲気を必要とする装置のガス中に含ま
れる生成物（不純物を含む）等の除去に好適なコールド
トラップに関する。
【０００２】
【従来の技術】真空チャンバを有する半導体製造装置や
真空炉等における真空雰囲気中のガスまたはガス雰囲気
を必要とする装置のガス中に含まれる生成物等の除去に
用いられるコールドトラップには、例えば、真空炉と排
気系とを連通するコールドトラップ（密閉型容器）内部
に、真空炉などの装置内に侵入しようとする不純物ガス
中の生成物（不純物を含む）を付着・析出させるトラッ
プ本体が配設され、このトラップ本体に導入された冷却
媒体の冷却作用により、コールドトラップ内部に導入さ
れた不純物ガスを当該トラップ本体に凝結、付着させ、
これにより真空炉やガス雰囲気を必要とする装置内に不
純物ガスが侵入するのを防止するものがある。
真空炉等における真空雰囲気中のガスまたはガス雰囲気
を必要とする装置のガス中に含まれる生成物等の除去に
用いられるコールドトラップには、例えば、真空炉と排
気系とを連通するコールドトラップ（密閉型容器）内部
に、真空炉などの装置内に侵入しようとする不純物ガス
中の生成物（不純物を含む）を付着・析出させるトラッ
プ本体が配設され、このトラップ本体に導入された冷却
媒体の冷却作用により、コールドトラップ内部に導入さ
れた不純物ガスを当該トラップ本体に凝結、付着させ、
これにより真空炉やガス雰囲気を必要とする装置内に不
純物ガスが侵入するのを防止するものがある。
【０００３】しかしながら、この種の従来のコールドト
ラップは、コールドトラップ内部に、単にトラップ本体
が配設されているだけであるため、コールドトラップ内
に導入された不純物ガスと、不純物ガス中の生成物（不
純物を含む）付着させるトラップ本体との接触が十分に
行なわれず、不純物ガス中の生成物の付着率が高くな
く、真空度を高めることができなかった。
ラップは、コールドトラップ内部に、単にトラップ本体
が配設されているだけであるため、コールドトラップ内
に導入された不純物ガスと、不純物ガス中の生成物（不
純物を含む）付着させるトラップ本体との接触が十分に
行なわれず、不純物ガス中の生成物の付着率が高くな
く、真空度を高めることができなかった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、コールドト
ラップ内に導入された不純物ガスと、不純物ガス中の生
成物（不純物を含む）付着させるトラップ本体との接触
が十分に行なわれ、不純物ガス中の生成物の付着率を著
しく向上できるコールドトラップを提供することを目的
とするものである。
ラップ内に導入された不純物ガスと、不純物ガス中の生
成物（不純物を含む）付着させるトラップ本体との接触
が十分に行なわれ、不純物ガス中の生成物の付着率を著
しく向上できるコールドトラップを提供することを目的
とするものである。
【０００５】本発明に係るコールドトラップは、真空雰
囲気中のガスまたはガス雰囲気を必要とする装置のガス
中に含まれる生成物等を凝縮・吸着させるトラップ部を
有するトラップ本体と、該トラップ本体を包囲収容する
筒形の密閉型容器からなり、該密閉型容器には雰囲気ガ
スの入口および出口と、ドレン排出口が設けられ、前記
トラップ本体はステンレス鋼管からなる配管の外周にス
テンレス帯材をスパイラル状に巻回したフィンチューブ
からなり、かつ該フィンチューブはコイル状に巻回され
て容器本体内中央部に配設され、該フィンチューブの入
口および出口を容器蓋体または容器本体に取付けた構成
となしたことを特徴とするものである。また、このコー
ルドトラップにおいて、前記密閉型容器は当該本体部外
周に冷却ジャケットを有し、該冷却ジャケットに冷却媒
体を供給して容器本体を冷却する構造となしたことを特
徴とし、さらに前記トラップ本体は、密閉型容器の内部
中央に容器蓋体部より垂設した筒状体ガイドの外周にコ
イル状に巻回して配設したことを特徴とするものであ
る。
囲気中のガスまたはガス雰囲気を必要とする装置のガス
中に含まれる生成物等を凝縮・吸着させるトラップ部を
有するトラップ本体と、該トラップ本体を包囲収容する
筒形の密閉型容器からなり、該密閉型容器には雰囲気ガ
スの入口および出口と、ドレン排出口が設けられ、前記
トラップ本体はステンレス鋼管からなる配管の外周にス
テンレス帯材をスパイラル状に巻回したフィンチューブ
からなり、かつ該フィンチューブはコイル状に巻回され
て容器本体内中央部に配設され、該フィンチューブの入
口および出口を容器蓋体または容器本体に取付けた構成
となしたことを特徴とするものである。また、このコー
ルドトラップにおいて、前記密閉型容器は当該本体部外
周に冷却ジャケットを有し、該冷却ジャケットに冷却媒
体を供給して容器本体を冷却する構造となしたことを特
徴とし、さらに前記トラップ本体は、密閉型容器の内部
中央に容器蓋体部より垂設した筒状体ガイドの外周にコ
イル状に巻回して配設したことを特徴とするものであ
る。
【０００６】
【発明の実施の形態】図１は本発明に係るコールドトラ
ップの一実施例を示す概略縦断面図であり、１は密閉型
容器、２は蓋体、３はトラップ本体、４は筒状体ガイ
ド、５は冷却ジャケット、６、７はそれぞれ真空雰囲気
ガスの入口および出口、８はドレン排出口、９、１０は
それぞれ冷却媒体の入口および出口である。
ップの一実施例を示す概略縦断面図であり、１は密閉型
容器、２は蓋体、３はトラップ本体、４は筒状体ガイ
ド、５は冷却ジャケット、６、７はそれぞれ真空雰囲気
ガスの入口および出口、８はドレン排出口、９、１０は
それぞれ冷却媒体の入口および出口である。
【０００７】図１に示すコールドトラップの密閉型容器
１は、側壁下部に真空雰囲気ガスの出口７と、容器底部
にドレン排出口８が設けられ、開口部に水平に突設した
フランジ１−１に蓋体２をボルト・ナット１１にて取付
けられた構造となす。また、この密閉型容器１の蓋体２
には真空雰囲気ガスの入口６が設けられ、さらに蓋体２
の内面側中央部には所望長さの筒状体ガイド４が垂設さ
れ、この筒状体ガイド４の外周にトラップ本体３がコイ
ル状に巻回されて配設され、該トラップ本体３の入口と
出口は蓋体２に設けている。トラップ本体３は、不純物
ガス中の生成物の付着効率をより高めるために、ステン
レス鋼管からなるガス配管３−１の外周にステンレス帯
材をスパイラル状に巻回したフィンチューブ３−２から
なっている。密閉型容器１の外周には、冷却ジャケット
５が付設され、該ジャケットの上部に冷却媒体入口９と
同下部に冷却媒体出口１０が設けられ、冷却ジャケット
５内の冷却媒体によって密閉型容器１が冷却される構造
となっている。勿論、密閉型容器１を内筒と外筒とから
なる二重筒状体として、内筒と外筒の間に冷却媒体を通
流させるようにしてもよい。なお筒状体ガイド４は、必
ずしも必要とするものではなく、また筒状でなく棒状の
ようなものでもよい。またここでは、トラップ本体３の
入口と出口は蓋体２に設けているが、密閉型容器１の側
壁に設けてもよい。図中１２は相手部材等への取付部材
である。
１は、側壁下部に真空雰囲気ガスの出口７と、容器底部
にドレン排出口８が設けられ、開口部に水平に突設した
フランジ１−１に蓋体２をボルト・ナット１１にて取付
けられた構造となす。また、この密閉型容器１の蓋体２
には真空雰囲気ガスの入口６が設けられ、さらに蓋体２
の内面側中央部には所望長さの筒状体ガイド４が垂設さ
れ、この筒状体ガイド４の外周にトラップ本体３がコイ
ル状に巻回されて配設され、該トラップ本体３の入口と
出口は蓋体２に設けている。トラップ本体３は、不純物
ガス中の生成物の付着効率をより高めるために、ステン
レス鋼管からなるガス配管３−１の外周にステンレス帯
材をスパイラル状に巻回したフィンチューブ３−２から
なっている。密閉型容器１の外周には、冷却ジャケット
５が付設され、該ジャケットの上部に冷却媒体入口９と
同下部に冷却媒体出口１０が設けられ、冷却ジャケット
５内の冷却媒体によって密閉型容器１が冷却される構造
となっている。勿論、密閉型容器１を内筒と外筒とから
なる二重筒状体として、内筒と外筒の間に冷却媒体を通
流させるようにしてもよい。なお筒状体ガイド４は、必
ずしも必要とするものではなく、また筒状でなく棒状の
ようなものでもよい。またここでは、トラップ本体３の
入口と出口は蓋体２に設けているが、密閉型容器１の側
壁に設けてもよい。図中１２は相手部材等への取付部材
である。
【０００８】上記構成のコールドトラップにおいて、真
空チャンバを有する半導体製造装置や真空炉等より排気
もしくはこれらに供給される、不純物を含有する真空雰
囲気ガスは、蓋体２に設けられた入口６より密閉型容器
１内に供給される。一方、トラップ本体３には真空雰囲
気ガス中の不純物を付着させるための冷却媒体（液体窒
素等）が導入されている。蓋体２に設けられた入口６よ
り密閉型容器１内に供給された真空雰囲気ガスは、筒状
体ガイド４および該ガイドの外周にコイル状に巻回され
たフィンチューブ３−２からなるトラップ本体３に沿っ
てスパイラル状に流れるため、当該ガスとトラップ本体
３との接触が十分に行なわれ、真空雰囲気ガス中の不純
物がトラップ本体３に効率よく付着して凝集し凝縮・吸
着あるいは析出する。このようにして不純物が除去され
た真空雰囲気ガスは、密閉型容器１の側壁下部に設けら
れた出口７より流出し、真空チャンバを有する半導体製
造装置や真空炉等に送られる。また、密閉型容器１の外
周に付設した冷却ジャケット５に冷却媒体入口９より流
入し、同出口１０より流出する冷却媒体により密閉型容
器１が冷却されるので、高温、高熱の真空雰囲気ガスに
も対応できる。
空チャンバを有する半導体製造装置や真空炉等より排気
もしくはこれらに供給される、不純物を含有する真空雰
囲気ガスは、蓋体２に設けられた入口６より密閉型容器
１内に供給される。一方、トラップ本体３には真空雰囲
気ガス中の不純物を付着させるための冷却媒体（液体窒
素等）が導入されている。蓋体２に設けられた入口６よ
り密閉型容器１内に供給された真空雰囲気ガスは、筒状
体ガイド４および該ガイドの外周にコイル状に巻回され
たフィンチューブ３−２からなるトラップ本体３に沿っ
てスパイラル状に流れるため、当該ガスとトラップ本体
３との接触が十分に行なわれ、真空雰囲気ガス中の不純
物がトラップ本体３に効率よく付着して凝集し凝縮・吸
着あるいは析出する。このようにして不純物が除去され
た真空雰囲気ガスは、密閉型容器１の側壁下部に設けら
れた出口７より流出し、真空チャンバを有する半導体製
造装置や真空炉等に送られる。また、密閉型容器１の外
周に付設した冷却ジャケット５に冷却媒体入口９より流
入し、同出口１０より流出する冷却媒体により密閉型容
器１が冷却されるので、高温、高熱の真空雰囲気ガスに
も対応できる。
【０００９】密閉型容器１の内壁および真空雰囲気ガス
中の生成物や不純物が凝縮・吸着したトラップ本体３を
清掃する場合は、ボルト・ナット１１を外して蓋体２を
取外し、水洗する方法や蒸気吹付け方法等を採用するこ
とができる。この時生成するドレンは、密閉型容器１底
部のドレン排出口８より排出される。なお、密閉型容器
１の内壁およびトラップ本体３を清掃する際、トラップ
本体３および密閉型容器１の冷却ジャケット５に高温水
や高温気体を通流することにより、より効果的に付着物
を除去することができる。また、密閉型容器１に振動装
置を付設することにより、清掃時に振動を付与すること
も可能である。
中の生成物や不純物が凝縮・吸着したトラップ本体３を
清掃する場合は、ボルト・ナット１１を外して蓋体２を
取外し、水洗する方法や蒸気吹付け方法等を採用するこ
とができる。この時生成するドレンは、密閉型容器１底
部のドレン排出口８より排出される。なお、密閉型容器
１の内壁およびトラップ本体３を清掃する際、トラップ
本体３および密閉型容器１の冷却ジャケット５に高温水
や高温気体を通流することにより、より効果的に付着物
を除去することができる。また、密閉型容器１に振動装
置を付設することにより、清掃時に振動を付与すること
も可能である。
【００１０】
【発明の効果】以上説明したごとく、本発明のコールド
トラップによれば、フィンチューブからなるトラップ本
体を容器中央部にコイル状に巻回配設したことにより、
コールドトラップ内に導入された不純物ガスと、トラッ
プ本体との接触が十分に行なわれ、不純物ガス中の生成
物の付着率を著しく向上できるので、真空チャンバを有
する半導体製造装置や真空炉あるいはガス雰囲気を必要
とする装置等における真空雰囲気ガスの真空度をより高
めることができ、真空ポンプ等の劣化も防ぐことがで
き、また付着物の除去清掃が容易であるので作業効率も
向上する等の効果を奏し、実用上極めて有効である。
トラップによれば、フィンチューブからなるトラップ本
体を容器中央部にコイル状に巻回配設したことにより、
コールドトラップ内に導入された不純物ガスと、トラッ
プ本体との接触が十分に行なわれ、不純物ガス中の生成
物の付着率を著しく向上できるので、真空チャンバを有
する半導体製造装置や真空炉あるいはガス雰囲気を必要
とする装置等における真空雰囲気ガスの真空度をより高
めることができ、真空ポンプ等の劣化も防ぐことがで
き、また付着物の除去清掃が容易であるので作業効率も
向上する等の効果を奏し、実用上極めて有効である。
【図１】本発明に係るコールドトラップの一実施例を示
す概略縦断面図である。
す概略縦断面図である。
１ 密閉型容器 ２ 蓋体 ３ トラップ本体 ４ 筒状体ガイド ５ 冷却ジャケット ６ 真空雰囲気ガスの入口 ７ 真空雰囲気ガスの出口 ８ ドレン排出口 ９ 冷却媒体の入口 １０ 冷却媒体の出口
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 坂本 保司 静岡県田方郡大仁町守木326−９ (72)発明者 渡辺 郁夫 静岡県裾野市佐野1228−７ (72)発明者 渡邉 幸雄 静岡県駿東郡清水町徳倉888−１ (72)発明者 渡辺 忍 静岡県三島市南町14−７ハイカムール白銀 Ｂ201号 Ｆターム(参考） 3H076 AA25 BB05 BB12 CC52
Claims (3)
- 【請求項１】 ガス中に含まれる生成物等を凝縮・吸着
させるトラップ部を有するトラップ本体と、該トラップ
本体を包囲収容する筒形の密閉型容器からなり、該密閉
型容器にはガスの入口および出口と、ドレン排出口が設
けられ、前記トラップ本体はステンレス鋼管からなる配
管の外周にステンレス帯材をスパイラル状に巻回したフ
ィンチューブからなり、かつ該フィンチューブはコイル
状に巻回されて容器本体内中央部に配設され、該フィン
チューブの入口および出口を容器蓋体または容器本体に
取付けた構成となしたことを特徴とするコールドトラッ
プ。 - 【請求項２】 前記密閉型容器は当該本体部外周に冷却
ジャケットを有し、該冷却ジャケットに冷却媒体を供給
して容器本体を冷却する構造となしたことを特徴とする
請求項１記載のコールドトラップ。 - 【請求項３】 前記トラップ本体は、密閉型容器の内部
中央に容器蓋体部より垂設した筒状体ガイドの外周にコ
イル状に巻回して配設したことを特徴とする請求項１ま
たは２記載のコールドトラップ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000344044A JP2002147352A (ja) | 2000-11-10 | 2000-11-10 | コールドトラップ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000344044A JP2002147352A (ja) | 2000-11-10 | 2000-11-10 | コールドトラップ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002147352A true JP2002147352A (ja) | 2002-05-22 |
Family
ID=18818307
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000344044A Pending JP2002147352A (ja) | 2000-11-10 | 2000-11-10 | コールドトラップ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002147352A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU183272U1 (ru) * | 2018-06-14 | 2018-09-17 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский государственный архитектурно-строительный университет" | Криогенная ловушка |
| RU190323U1 (ru) * | 2018-10-30 | 2019-06-26 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский государственный архитектурно-строительный университет" | Криогенная ловушка |
-
2000
- 2000-11-10 JP JP2000344044A patent/JP2002147352A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU183272U1 (ru) * | 2018-06-14 | 2018-09-17 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский государственный архитектурно-строительный университет" | Криогенная ловушка |
| RU190323U1 (ru) * | 2018-10-30 | 2019-06-26 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский государственный архитектурно-строительный университет" | Криогенная ловушка |
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