JP2002128924A - ポリエーテルスルフォン樹脂フィルムの製造方法 - Google Patents
ポリエーテルスルフォン樹脂フィルムの製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明はダイラインを修正し、リタデーショ
ン値を大きくすることなく表面平滑性を良くし、液晶用
プラスチック基板として使用可能なフィルムを生産性良
く製造する方法を提供することにある。 【解決手段】 ポリエーテルスルフォン樹脂の溶融押出
法でフィルムを成形した後、ポリエーテルスルフォン樹
脂の良溶剤ミスト中を通過させて、該フィルムの表面層
を溶解、平滑化した後、溶剤を除去するポリエーテルス
ルフォン樹脂フィルムの製造方法である。
ン値を大きくすることなく表面平滑性を良くし、液晶用
プラスチック基板として使用可能なフィルムを生産性良
く製造する方法を提供することにある。 【解決手段】 ポリエーテルスルフォン樹脂の溶融押出
法でフィルムを成形した後、ポリエーテルスルフォン樹
脂の良溶剤ミスト中を通過させて、該フィルムの表面層
を溶解、平滑化した後、溶剤を除去するポリエーテルス
ルフォン樹脂フィルムの製造方法である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光学用途、なかでも特に
表面平滑性を必要としかつリタデーション値が小さいこ
とを必要とする液晶用プラスチック基板として使用可能
なフィルムの製造方法に関するものである。
表面平滑性を必要としかつリタデーション値が小さいこ
とを必要とする液晶用プラスチック基板として使用可能
なフィルムの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来技術】最近は、ディスプレイ分野で液晶表示が増
加している。液晶用基板としては表面平滑性、透明性等
の性能が要求され、一般的にはガラス板が使用されてい
る。しかしガラス板は薄くすると耐衝撃性に問題を生
じ、厚くするとかさばり重量も重くなる。携帯電話やモ
バイルコンピューター用等薄型、軽量で耐衝撃性が要求
される用途では、プラスチック基板の使用が増加してい
る。プラスチック基板用樹脂としては、ポリカーボネー
ト、シクロオレフィン共重合体等も使用可能であるが、
耐熱性、線膨張係数等を考慮した場合、ポリエーテルス
ルフォン樹脂（以下、ＰＥＳと略す）が適している。
加している。液晶用基板としては表面平滑性、透明性等
の性能が要求され、一般的にはガラス板が使用されてい
る。しかしガラス板は薄くすると耐衝撃性に問題を生
じ、厚くするとかさばり重量も重くなる。携帯電話やモ
バイルコンピューター用等薄型、軽量で耐衝撃性が要求
される用途では、プラスチック基板の使用が増加してい
る。プラスチック基板用樹脂としては、ポリカーボネー
ト、シクロオレフィン共重合体等も使用可能であるが、
耐熱性、線膨張係数等を考慮した場合、ポリエーテルス
ルフォン樹脂（以下、ＰＥＳと略す）が適している。
【０００３】ＰＥＳをフィルム状に加工する方法として
は、たとえば溶液キャスト法がある。この方法はＰＥＳ
を溶剤で溶かし均一な溶液にした後、表面平滑なベルト
の上に溶液を流し、その後溶剤を除去してフィルム状に
加工する方法である。この方法で加工されたフィルム
は、表面平滑性が優れ、光学的異方性も小さくリタデー
ション値が小さいという特徴がある。しかし厚いフィル
ムの場合、溶剤の除去に長時間を要し生産性が悪く、コ
スト高となる。厚いフィルムを生産性良く製造する方法
としては、溶融押出法がある。しかし溶融押出法では、
ダイスから樹脂を押し出す際にフィルム表面にダイライ
ンと称するスジが生じる。このダイラインの凹凸差が６
０ｎｍ以上になると、液晶表示された文字等が歪んだり
部分的に見えなくなったりする。このダイラインはフィ
ルムを延伸加工することにより凹凸差を小さくすること
が可能であるが、延伸すると分子の配向性が良くなり光
学異方性が大きくなりリタデーション値が大きくなる。
リタデーション値が大きくなると液晶表示された文字等
がぼやける等の欠陥が生じる。
は、たとえば溶液キャスト法がある。この方法はＰＥＳ
を溶剤で溶かし均一な溶液にした後、表面平滑なベルト
の上に溶液を流し、その後溶剤を除去してフィルム状に
加工する方法である。この方法で加工されたフィルム
は、表面平滑性が優れ、光学的異方性も小さくリタデー
ション値が小さいという特徴がある。しかし厚いフィル
ムの場合、溶剤の除去に長時間を要し生産性が悪く、コ
スト高となる。厚いフィルムを生産性良く製造する方法
としては、溶融押出法がある。しかし溶融押出法では、
ダイスから樹脂を押し出す際にフィルム表面にダイライ
ンと称するスジが生じる。このダイラインの凹凸差が６
０ｎｍ以上になると、液晶表示された文字等が歪んだり
部分的に見えなくなったりする。このダイラインはフィ
ルムを延伸加工することにより凹凸差を小さくすること
が可能であるが、延伸すると分子の配向性が良くなり光
学異方性が大きくなりリタデーション値が大きくなる。
リタデーション値が大きくなると液晶表示された文字等
がぼやける等の欠陥が生じる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、この溶融押
出法でのフィルム成形時に生じるダイラインを、リタデ
ーション値を大きく変更することなく修正し、液晶用プ
ラスチック基板として使用可能なＰＥＳフィルムを効率
良く製造する方法を提供することにある。
出法でのフィルム成形時に生じるダイラインを、リタデ
ーション値を大きく変更することなく修正し、液晶用プ
ラスチック基板として使用可能なＰＥＳフィルムを効率
良く製造する方法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、ＰＥＳの溶融
押出法でフィルムを成形した後、ＰＥＳの良溶剤ミスト
中を通過させて、フィルムの表面を溶解、平滑化した
後、溶剤を除去するＰＥＳフィルムの製造方法である。
押出法でフィルムを成形した後、ＰＥＳの良溶剤ミスト
中を通過させて、フィルムの表面を溶解、平滑化した
後、溶剤を除去するＰＥＳフィルムの製造方法である。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明に用いるＰＥＳは、耐熱性、線膨張係数等
に優れ液晶プラスチック基板用樹脂として最適なもので
ある。ＰＥＳの構造上脂肪族の単位を含まずパラフェニ
レン単位がスルフォン基とエーテル基とで交互に結合し
ていて電子が局在化していないため熱安定性が高く透明
性が優れている。フィルムに使用する場合、例えば住友
化学工業のビクトレックスＰＥＳ４１００（Ｔｇ＝２２
６℃）が一般的である。
する。本発明に用いるＰＥＳは、耐熱性、線膨張係数等
に優れ液晶プラスチック基板用樹脂として最適なもので
ある。ＰＥＳの構造上脂肪族の単位を含まずパラフェニ
レン単位がスルフォン基とエーテル基とで交互に結合し
ていて電子が局在化していないため熱安定性が高く透明
性が優れている。フィルムに使用する場合、例えば住友
化学工業のビクトレックスＰＥＳ４１００（Ｔｇ＝２２
６℃）が一般的である。
【０００７】本発明で用いる溶融押出法で成形したＰＥ
Ｓフィルムの厚さは１００μｍ以上５００μｍ以下が好
ましい。厚さ１００μｍ未満では、ガラス基板用液晶製
造ラインをプラスチック基板用に転用して液晶を製造す
る場合、フィルムの取り扱いが困難となる。また液晶の
セルギャップ保持がむつかしく、特に表示面積の大きい
液晶表示素子ではセルギャップ保持ができない場合も生
じる。５００μｍを越えると液晶表示がダブルイメージ
と呼ばれる表示不良を起こす。更に液晶表示素子の厚さ
が厚くなり機能上好ましくない場合がある。フィルムの
表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）は６０μｍ以下が好まし
い。６０μｍを越えると、液晶表示された文字等が歪ん
だり、見えない部分が生じたりする。溶融した樹脂が通
過するダイス面の表面粗さの最大は０．５μｍ以下が好
ましい。表面粗さの最大が０．５μｍを越えるとダイス
より押出されたＰＥＳフィルムの表面に発生したダイラ
インが溶剤ミストで修正してもフィルムの表面粗さの最
大を６０μｍ以下にすることが困難な場合が生ずる。
Ｓフィルムの厚さは１００μｍ以上５００μｍ以下が好
ましい。厚さ１００μｍ未満では、ガラス基板用液晶製
造ラインをプラスチック基板用に転用して液晶を製造す
る場合、フィルムの取り扱いが困難となる。また液晶の
セルギャップ保持がむつかしく、特に表示面積の大きい
液晶表示素子ではセルギャップ保持ができない場合も生
じる。５００μｍを越えると液晶表示がダブルイメージ
と呼ばれる表示不良を起こす。更に液晶表示素子の厚さ
が厚くなり機能上好ましくない場合がある。フィルムの
表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）は６０μｍ以下が好まし
い。６０μｍを越えると、液晶表示された文字等が歪ん
だり、見えない部分が生じたりする。溶融した樹脂が通
過するダイス面の表面粗さの最大は０．５μｍ以下が好
ましい。表面粗さの最大が０．５μｍを越えるとダイス
より押出されたＰＥＳフィルムの表面に発生したダイラ
インが溶剤ミストで修正してもフィルムの表面粗さの最
大を６０μｍ以下にすることが困難な場合が生ずる。
【０００８】本発明でＰＥＳフィルムを溶融押し出しす
る場合、ダイスのリップ間隔は所定の仕上がりのフィル
ム厚さの５倍以上４０倍以下が好ましい。ダイスのリッ
プ間隔が５倍未満であると、ダイスより押出された樹脂
を引き延ばす作用が少なくなりフィルムの表面粗さが悪
化する。この場合、ダイス面の表面粗さを向上させれば
フィルムの表面粗さも向上するが、ダイス面の表面粗さ
を向上させることは技術的にも経済的にも困難が伴う。
ダイスリップの間隔が４０倍を越えると、フィルムの表
面粗さは改善されるが、厚さの調整が困難となり、厚さ
のバラツキが大きくなる。また所定の厚さに調整した場
合延伸作用が大きく働き、フィルムのリタデーションが
悪化する。
る場合、ダイスのリップ間隔は所定の仕上がりのフィル
ム厚さの５倍以上４０倍以下が好ましい。ダイスのリッ
プ間隔が５倍未満であると、ダイスより押出された樹脂
を引き延ばす作用が少なくなりフィルムの表面粗さが悪
化する。この場合、ダイス面の表面粗さを向上させれば
フィルムの表面粗さも向上するが、ダイス面の表面粗さ
を向上させることは技術的にも経済的にも困難が伴う。
ダイスリップの間隔が４０倍を越えると、フィルムの表
面粗さは改善されるが、厚さの調整が困難となり、厚さ
のバラツキが大きくなる。また所定の厚さに調整した場
合延伸作用が大きく働き、フィルムのリタデーションが
悪化する。
【０００９】本発明では、ＰＥＳを溶融押出法でフィル
ムに成形した後、ＰＥＳの良溶剤ミスト中を通過させ
て、該フィルム表面層を溶解、平滑化した後、溶剤を除
去することを特徴とする。溶融押出法でフィルムを成形
するのみでは、フィルム表面にダイラインが発生し、液
晶表示された文字等に歪み、部分的な消失を招くことに
なる。そこで、溶融押出法で得られたフィルムをＰＥＳ
の良溶剤ミスト中をフィルムを通過させることで、表面
に１０μｍ以下の溶剤層を付着させ、表面層のみ溶解さ
せ、その後溶剤を除去することにより、ダイラインの凹
凸を修正できる。すなわち、フィルム表面層を溶解する
と、フィルム表面層のみ溶解させることにより、溶液キ
ャスト法に近い表面状態にすることにより、表面平滑性
を改善できる。ＰＥＳの良溶剤ミストとは、ＰＥＳを溶
解させる能力のある溶剤で、粒径が１〜１０μｍ程度で
空中に霧状に浮遊するものをいう。１μｍ以下ではＰＥ
Ｓの表面を平滑に溶解させることが困難となる。１０μ
ｍ以上では均一に付着させた場合表面層のみ溶解させる
ことがむかしく、また表面を平滑にした後溶剤を除去す
るのに時間がかかり生産効率が低下する。本発明におけ
るＰＥＳの良溶剤としては、メチルエチルケトン、Ｎメ
チルピロリドン（ＮＭＰ）等が挙げられる。比較的沸点
の高いＮメチルピロリドン（ＮＭＰ）がミストの安全性
を考慮すると好ましい。本発明におけるミスト発生する
装置としては、超音波振動による噴霧器等を使用するこ
とができる。超音波振動による噴霧器では、振動子が円
形で厚さ方向共振を利用し、周波数１〜３ＭＨｚの出力
で、２〜７μｍのミスト粒子を発生させることができ
る。本発明において溶剤を除去する方法としてはヒータ
ーで加熱する方法が最も簡単で効果的な方法である。通
常のシースヒーターや遠赤外線ヒーター等が使用でき
る。溶剤は表面層に近いところに付着しているだけなの
で容易に除去でき、残留溶剤の問題等は生じないように
することが容易である。
ムに成形した後、ＰＥＳの良溶剤ミスト中を通過させ
て、該フィルム表面層を溶解、平滑化した後、溶剤を除
去することを特徴とする。溶融押出法でフィルムを成形
するのみでは、フィルム表面にダイラインが発生し、液
晶表示された文字等に歪み、部分的な消失を招くことに
なる。そこで、溶融押出法で得られたフィルムをＰＥＳ
の良溶剤ミスト中をフィルムを通過させることで、表面
に１０μｍ以下の溶剤層を付着させ、表面層のみ溶解さ
せ、その後溶剤を除去することにより、ダイラインの凹
凸を修正できる。すなわち、フィルム表面層を溶解する
と、フィルム表面層のみ溶解させることにより、溶液キ
ャスト法に近い表面状態にすることにより、表面平滑性
を改善できる。ＰＥＳの良溶剤ミストとは、ＰＥＳを溶
解させる能力のある溶剤で、粒径が１〜１０μｍ程度で
空中に霧状に浮遊するものをいう。１μｍ以下ではＰＥ
Ｓの表面を平滑に溶解させることが困難となる。１０μ
ｍ以上では均一に付着させた場合表面層のみ溶解させる
ことがむかしく、また表面を平滑にした後溶剤を除去す
るのに時間がかかり生産効率が低下する。本発明におけ
るＰＥＳの良溶剤としては、メチルエチルケトン、Ｎメ
チルピロリドン（ＮＭＰ）等が挙げられる。比較的沸点
の高いＮメチルピロリドン（ＮＭＰ）がミストの安全性
を考慮すると好ましい。本発明におけるミスト発生する
装置としては、超音波振動による噴霧器等を使用するこ
とができる。超音波振動による噴霧器では、振動子が円
形で厚さ方向共振を利用し、周波数１〜３ＭＨｚの出力
で、２〜７μｍのミスト粒子を発生させることができ
る。本発明において溶剤を除去する方法としてはヒータ
ーで加熱する方法が最も簡単で効果的な方法である。通
常のシースヒーターや遠赤外線ヒーター等が使用でき
る。溶剤は表面層に近いところに付着しているだけなの
で容易に除去でき、残留溶剤の問題等は生じないように
することが容易である。
【００１０】ダイスより押出され所定の厚さに調整され
たフィルムの表面には、ダイラインと称するスジが生じ
ていて、これが表面粗さを大きくする原因となってい
る。表面粗さの最大が６０ｎｍ以下であれば、使用上問
題ない。しかし長時間製造しつづけると、部分的に６０
ｎｍ以上になる場合がある。これらは、たとえば必要サ
イズに裁断した後、暗室でキセノンランプの光をあて
て、ダイラインの凹凸の大きさを判定し、選別すること
ができるが、歩留まりが悪く、多くの工数を無駄にする
場合がある。本発明では、ＰＥＳの溶融押出法でフィル
ムを成形した後、ＰＥＳの良溶剤ミスト中を通過させ
て、該フィルムの表面層を溶解、平滑化した後、溶剤を
除去する方法により、表面粗さ０ｎｍ以下のＰＥＳフィ
ルムを効率的に製造できることになる。
たフィルムの表面には、ダイラインと称するスジが生じ
ていて、これが表面粗さを大きくする原因となってい
る。表面粗さの最大が６０ｎｍ以下であれば、使用上問
題ない。しかし長時間製造しつづけると、部分的に６０
ｎｍ以上になる場合がある。これらは、たとえば必要サ
イズに裁断した後、暗室でキセノンランプの光をあて
て、ダイラインの凹凸の大きさを判定し、選別すること
ができるが、歩留まりが悪く、多くの工数を無駄にする
場合がある。本発明では、ＰＥＳの溶融押出法でフィル
ムを成形した後、ＰＥＳの良溶剤ミスト中を通過させ
て、該フィルムの表面層を溶解、平滑化した後、溶剤を
除去する方法により、表面粗さ０ｎｍ以下のＰＥＳフィ
ルムを効率的に製造できることになる。
【００１１】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれら実施例により何ら限定されるもの
ではない。実施例及び比較例における測定及び評価方法
は以下の通りである。 （１）サンプル 溶融押出で得られたフィルムを幅方向に３００ｍｍ、長
さ方向に３００ｍｍの正方形に切り取りサンプルとし
た。 （２）リターデーション オリンパス（株）製偏向顕微鏡ＢＨ２とベレックコンペ
ンセーターを用い、波長５５０ｎｍでのサンプル内面の
最大屈折率（Ｎｘ）と最小屈折率（Ｎｙ）を測定し、次
の式より算出した。 Ｒｅ（リタデーション）＝（Ｎｘ−Ｎｙ）×ｄ（フィル
ムの厚さ） リターデーションは、２０ｎｍ以下が好ましい。２０ｎ
ｍを越えると、液晶表示された文字等のコントラストが
悪化しぼやけたりする場合があるからである。 （３）ダイライン サンプルにキセノンランプの光線を照射しスクリーンに
ダイラインを写し出し、位置を確認した後、キーエンス
製のMICROSCOPEにより測定し、６０ｎｍ以上のダイライ
ンの数、表面粗さの最大を評価した。
るが、本発明はこれら実施例により何ら限定されるもの
ではない。実施例及び比較例における測定及び評価方法
は以下の通りである。 （１）サンプル 溶融押出で得られたフィルムを幅方向に３００ｍｍ、長
さ方向に３００ｍｍの正方形に切り取りサンプルとし
た。 （２）リターデーション オリンパス（株）製偏向顕微鏡ＢＨ２とベレックコンペ
ンセーターを用い、波長５５０ｎｍでのサンプル内面の
最大屈折率（Ｎｘ）と最小屈折率（Ｎｙ）を測定し、次
の式より算出した。 Ｒｅ（リタデーション）＝（Ｎｘ−Ｎｙ）×ｄ（フィル
ムの厚さ） リターデーションは、２０ｎｍ以下が好ましい。２０ｎ
ｍを越えると、液晶表示された文字等のコントラストが
悪化しぼやけたりする場合があるからである。 （３）ダイライン サンプルにキセノンランプの光線を照射しスクリーンに
ダイラインを写し出し、位置を確認した後、キーエンス
製のMICROSCOPEにより測定し、６０ｎｍ以上のダイライ
ンの数、表面粗さの最大を評価した。
【００１２】実施例 住友化学工業（株）の粉末状ポリエーテルスルフォン：
ビクトレックスＰＥＳ４１００（Ｔｇ＝２２６℃）を使
用し、通常の押出装置で表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）が
０．４μｍ、リップ間隔が３ｍｍのダイスを使用し、厚
さが４００μｍ、幅６００ｍｍのフィルム成形後、１．
５ＭＨｚの超音波振動装置をもつ霧化器を使用し粒径２
〜７μｍのＮＭＰのミストを発生させ、このミストを充
満させたミストゾーンを通過させ、その後赤外線ヒータ
ーで加熱しＮＭＰを蒸発除去し、フィルムを得た。
ビクトレックスＰＥＳ４１００（Ｔｇ＝２２６℃）を使
用し、通常の押出装置で表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）が
０．４μｍ、リップ間隔が３ｍｍのダイスを使用し、厚
さが４００μｍ、幅６００ｍｍのフィルム成形後、１．
５ＭＨｚの超音波振動装置をもつ霧化器を使用し粒径２
〜７μｍのＮＭＰのミストを発生させ、このミストを充
満させたミストゾーンを通過させ、その後赤外線ヒータ
ーで加熱しＮＭＰを蒸発除去し、フィルムを得た。
【００１３】比較例 住友化学工業（株）の粉末状ポリエーテルスルフォン：
ビクトレックスＰＥＳ４１００（Ｔｇ＝２２６℃）を使
用し、通常の押出装置で表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）が
０．４μｍ、リップ間隔が３ｍｍのダイスを使用し、厚
さが４００μｍ、幅６００ｍｍのフィルムを得た。
ビクトレックスＰＥＳ４１００（Ｔｇ＝２２６℃）を使
用し、通常の押出装置で表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）が
０．４μｍ、リップ間隔が３ｍｍのダイスを使用し、厚
さが４００μｍ、幅６００ｍｍのフィルムを得た。
【００１４】表１に実施例の評価結果を示す。
【００１５】
【表１】
【００１６】
【発明の効果】本発明によると、フィルム成形は溶融押
出法によるため厚いフィルムを効率良く製造でき、ダイ
ラインの修正は、表面層のみ溶剤で溶解させ溶液キャス
ト法に近い表面状態となるため、リタデーション値を大
きく変化させることなく凹凸を修正できる。
出法によるため厚いフィルムを効率良く製造でき、ダイ
ラインの修正は、表面層のみ溶剤で溶解させ溶液キャス
ト法に近い表面状態となるため、リタデーション値を大
きく変化させることなく凹凸を修正できる。
【００１７】
【図１】 溶融押出によるフィルムの成形例である。
【図２】 溶剤ミストによるダイライン修正例である。
１ 押出機 ２ ダイス ３ 冷却成形ロール ４ 超音波振動式霧化器 ５ ミスト充満ゾーン ６ 赤外線加熱機 ７ 冷却成形ロール ８ フィルム巻き
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ２９Ｌ 7:00 Ｂ２９Ｌ 7:00 Ｃ０８Ｌ 81:06 Ｃ０８Ｌ 81:06 Ｆターム(参考） 4F071 AA64 BB06 BC01 BC12 BC16 4F073 AA10 BA32 BB01 EA03 EA25 4F207 AA32 AG01 KA01 KA17 KW41 KW50
Claims (3)
- 【請求項１】 ポリエーテルスルフォン樹脂の溶融押出
法でフィルムを成形した後、ポリエーテルスルフォン樹
脂の良溶剤ミスト中を通過させて、該フィルムの表面層
を溶解、平滑化した後、溶剤を除去するポリエーテルス
ルフォン樹脂フィルムの製造方法。 - 【請求項２】 良溶剤がＮ・メチルピロリドンである請
求項１記載のポリエーテルスルフォン樹脂フィルムの製
造方法。 - 【請求項３】 フィルムの厚さが１００μｍ以上である
請求項１又は２記載のポリエーテルスルフォン樹脂フィ
ルムの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000328538A JP2002128924A (ja) | 2000-10-27 | 2000-10-27 | ポリエーテルスルフォン樹脂フィルムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000328538A JP2002128924A (ja) | 2000-10-27 | 2000-10-27 | ポリエーテルスルフォン樹脂フィルムの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002128924A true JP2002128924A (ja) | 2002-05-09 |
Family
ID=18805374
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000328538A Pending JP2002128924A (ja) | 2000-10-27 | 2000-10-27 | ポリエーテルスルフォン樹脂フィルムの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002128924A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007016076A (ja) * | 2005-07-05 | 2007-01-25 | Lintec Corp | 高平滑フィルムおよびその製造方法、ならびに光記録媒体用保護層形成シートおよび光記録媒体 |
-
2000
- 2000-10-27 JP JP2000328538A patent/JP2002128924A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007016076A (ja) * | 2005-07-05 | 2007-01-25 | Lintec Corp | 高平滑フィルムおよびその製造方法、ならびに光記録媒体用保護層形成シートおよび光記録媒体 |
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