JP2002121684A - 平版印刷版のための支持体の製造 - Google Patents

平版印刷版のための支持体の製造

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JP2002121684A
JP2002121684A JP2001215043A JP2001215043A JP2002121684A JP 2002121684 A JP2002121684 A JP 2002121684A JP 2001215043 A JP2001215043 A JP 2001215043A JP 2001215043 A JP2001215043 A JP 2001215043A JP 2002121684 A JP2002121684 A JP 2002121684A
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orthophosphate
salt
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JP2001215043A
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English (en)
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Felton Rudolph Mayers
フエルトン・ルドルフ・メイヤーズ
Tu Vinh Chau
トウ・ビン・チヨウ
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Agfa Gevaert NV
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 消去が容易であること、良好な耐腐食性、耐
溶媒性、印刷機における清浄化及びロールアップに関し
て優れた性能を示し、しかもバックグラウンド汚染が観
察されず、優れたインキ水バランス及び湿し寛容度及び
良好な運転長さを示す平版印刷版を与えるアルミニウム
支持体を提供する。 【解決手段】 (a)アルミニウム基材を準備し、
(b)該基材の少なくとも1つの表面を研磨し、(c)
該少なくとも1つの研磨された表面に陽極層を適用し、
(d)該少なくとも1つの研磨されそして陽極酸化され
た表面を、周規律表のIB、IIB、IVA、IVB、
VB、VIA、VIB、VIIB又はVIII族の金属
の少なくとも1種の塩を含んでなる水性溶液で処理し、
そして(E)該少なくとも1つの処理された表面を少な
くとも1種のアルカリ金属のオルトリン酸塩を含んでな
る水性溶液で処理する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は平版印刷版のための
基材として使用するための支持体の製造方法に関する。
更に特定的には、本発明は特に有利な平版特性を有する
基材を得ることができる支持体材料の表面処理のための
方法を提供する。
【0002】
【従来の技術】支持体材料として使用される材料は、印
刷版が使用されるべき特定の目的に依存し、そして例え
ば金属、紙又はプラスチック材料であることができる。
しかしながら、一般に印刷版のための好ましい基材はア
ルミニウム、最も好ましくは陽極酸化アルミニウム(a
nodic aluminum oxide)の表面層
を含む電気化学的に粗面化された(electroch
emically roughened)アルミニウム
である。場合により、該アルミニウムは銅もしくは亜鉛
の如き他の金属又はプラスチック材料、例えばポリ(エ
チレンテレフタレート)の如きポリエステル材料にラミ
ネーションされていてもよい。
【0003】従来は、平版印刷版及びその前駆体のため
の支持体材料として使用する目的のアルミニウム基材
は、感光性コーティング材料の適用の前に表面処理に付
された。これらの処理はアルミニウムの平版特性、特に
その親水性を改良するのに役立つ。これは印刷操作期間
中重要である。何故ならば平版印刷の基礎は、平版がバ
ックグラウンド(非像)区域においてインキを撥しそし
て水を受容すると共に像区域ではインキを受容すること
ができることであり、それにより印刷された像は該バッ
クグラウンド区域の汚れ及び他の汚染を含まないからで
ある。かくして、平版印刷版前駆体の感光性コーティン
グは、放射が当たった区域のコーティングの溶解性特性
を変えるために放射に像通りに(imagewise)
露光される。可溶性区域は次いで現像溶液による処理に
より溶解除去されて、インキを撥しそして水を受容する
ことができなければならないアルミニウム表面を露出さ
せる。
【0004】典型的な表面処理は、アルミニウム表面を
機械的もしくは電気化学的手段により粗化する最初の研
磨処理(graining treatment)と、
アルミニウムの表面に酸化アルミニウムの層を形成させ
るその後の陽極酸化処理を含んでなる。陽極酸化処理
は、例えば研磨されたアルミニウムウエブを硫酸もしく
はリン酸又はその混合物の如き適当な陽極酸化酸(an
odising acid)の浴に通すと共に、陽極酸
化浴に電流を流しそしてウエブを陽極(anode)と
して働かせることにより行うことができる。表面陽極層
(surfaceanodic layer)の存在は
アルミニウム表面の親水性を大きく高め、そしてアルミ
ニウムの表面が陽極酸化の前に研磨処理に付される場合
にはその後に形成される像層(image laye
r)の接着がはるかに改良されることが見いだされる。
【0005】更に、一般に陽極酸化プロセスに続いて更
なる表面処理の要求がある。陽極後浸漬(post−a
nodic dip)と呼ばれるこのような処理は通常
バックグラウンド区域の清浄化、コーティング接着もし
くは耐腐食性の如き基材の特定の平版印刷性を改良する
ために適用され、そして典型的には選ばれた試薬の溶
液、しばしば水性溶液によりアルミニウムを処理するこ
とを含むであろう。普通に使用される陽極後浸漬は、例
えば種々の無機塩又は有機誘導体、例えばポリ(アクリ
ル)酸もしくは種々の水溶性コポリマーを含有する水性
溶液を包含する。
【0006】かくして、EP−A−567178はアル
カリ金属炭酸水素塩の水性溶液による研磨されそして陽
極酸化されたアルミニウムの処理を開示しており、陽極
酸化されたアルミニウムに適用するための塩化物、フッ
化物、硝酸塩、カルボン酸塩、硫酸塩及びリン酸塩を包
含するアニオンを含有する溶液の使用が特開平10−1
29143に記載されている。更に英国特許第1128
506号は、陽極酸化されたアルミニウムを四塩化チタ
ン、四塩化ジルコニウム又は四塩化ハフニウム−又は例
えばアルカリ金属フッ化物を用いて形成された対応する
ダブルフルオリド(double fluorid)−
の水性溶液で処理し、次いでテトラピロリン酸カリウム
(potassium tetrapyrophosp
hate)の水性アルカリ溶液に浸漬する方法を扱って
いる。実際、陽極後浸漬処理のためのチタン、ハフニウ
ム及びジルコニウムの種々のフッ化物誘導体の成功した
使用が広く報告されており;例えば、英国特許第150
4503号は耐腐食性を改良するために陽極酸化された
アルミニウム表面の処理において植物タンニン化合物及
び可溶性リチウム化合物と組み合わせたカリウムチタン
フッ化物(potassium titanium f
luoride)の使用を教示しており、EP−A−1
78020は優れた耐腐食性及びペイント接着特性を与
えそして該表面を(1)ハフニウム、ジルコニウム及び
/又はチタンイオン、フッ化物イオン、タンニン化合物
及び金属イオン封鎖剤を含有する水性酸性溶液及び
(2)ポリフェノール化合物又はその酸塩を含んでなる
溶液と順次に接触させることを含む、外には処理されて
いないアルミニウムの処理方法を開示している。
【0007】しかしながら、本発明者はこのタイプのフ
ッ化物誘導体の使用は製版プロセス期間中問題を起こす
ことがあり、それにより劣った品質の印刷版が製造され
ることを見いだした。特に、消去(deletion)
を行うことの容易さが不利な影響を受け、それにより版
表面に対する訂正は困難を伴って行うことしかできない
ことが観察された。その結果として、製版中にコストの
高い遅れを生じそして訂正を行うために必要な激しい処
理は版表面に損傷を起こし、それにより印刷性能に対し
て不利な効果を生じる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、チタン、ハフニウム及び/又はジルコニウムのフッ
化物誘導体の使用に関連した印刷製版中の消去の不十分
な容易さの問題を排除すると共に、同時にこれらの材料
の使用に関連した有利な性質を保持する、研磨されそし
て陽極酸化されたアルミニウムの陽極後浸漬処理を提供
することである。
【0009】最初に、本発明者は陽極後浸漬に対する更
なる材料の可能な添加を研究して、該フッ化物誘導体と
の組み合わせにおけるそれらの効果を研究した。特に、
種々の他の塩を加えたヘキサフルオロジルコニウム酸カ
リウムの水性溶液により一連の実験を行い、本発明はヘ
キサフルオロジルコニウム酸塩と組み合わせたいくつか
の替わりのアニオンの潜在的利益を調べることであっ
た。オルトリン酸塩が陽極後浴(post−anodi
c bath)中に存在する場合に特に有利な結果が達
成されること、及び得られる印刷版は良好な消去の容易
さを示すことが見いだされた。しかしながら、都合の悪
いことに、厳しい実用的な困難がこの方法と関連してお
り、そしてこの方法における陽極後浴へのオルトリン酸
塩の添加は、得られる結果が商業的に実行可能であると
考えることはできない程度に製造中にひどい沈殿の問題
を生じることが示された。それ故、本発明者は、有利な
処理結果を維持することができると共に同時に上記の実
際的問題をなくする別の方法を探求した。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明に従えば、(a)
アルミニウム基材を準備し、(b)該基材の少なくとも
1つの表面を研磨し(graining)、(c)該少
なくとも1つの研磨された表面に陽極層(anodic
layer)を適用し(apply)、(d)該少な
くとも1つの研磨されそして陽極酸化された(anod
ized)表面を、周規律表のIB、IIB、IVA、
IVB、VB、VIA、VIB、VIIB又はVIII
族の金属の少なくとも1種の塩を含んでなる水性溶液で
処理し、そして(E)該少なくとも1つの処理された表
面を少なくとも1種のアルカリ金属のオルトリン酸塩を
含んでなる水性溶液で処理する、段階を含んでなる平版
印刷版の製造に使用するための基材の製造方法が提供さ
れる。
【0011】周規律表のIB、IIB、IVA、IV
B、VB、VIA、VIB、VIIB又はVIII族の
金属の少なくとも1種の塩を含んでなる水性溶液による
該少なくとも1つの研磨されそして陽極酸化された表面
の該処理は、該基材を好ましくは該塩0.01%〜1
0.0%(w/w)(更に好ましくは0.05%〜1.
5%)を含有する水性溶液で10°〜90℃(更に好ま
しくは40°〜80℃)の好ましい温度で0.1秒〜5
分(更に好ましくは0.2秒〜30秒)の好ましい滞留
時間で、好ましくは1〜6、最も好ましくは3.5〜
5.5のpHで処理することにより行われるのが好まし
い。塩を適用するための種々のコーティング技術、例え
ば、浸漬(dip)コーティング、スロット(slo
t)コーティング、リバースロールコーティング又は電
気化学的コーティングを使用することができる。しかし
ながら、最も好ましいのは噴霧コーティングである。シ
ングルパスプロセス(single pass pro
cesses)も好ましい。何故ならばそれらは溶液の
再循環の結果としてシングルパスプロセスでない場合に
起こり得る汚染の回避を促進するからである。
【0012】該処理のために使用することができる適当
な塩は、例えばチタン、ジルコニウム、ハフニウム、モ
リブデン、タングステン、バナジウム、マンガン、ニッ
ケル、銅、亜鉛、錫、ニオブ、タンタル、セリウム、セ
レン、ケイ素、コバルト又は鉄の塩を包含する。該塩は
上記の金属を例えばハロゲン化物、硫酸塩もしくは硝酸
塩中のカチオンとして又は錯化されたアニオンの一部と
して含むことができる。チタン、ジルコニウムもしくは
ハフニウムの塩、例えば硫酸ハフニウム、リン酸ジルコ
ニウム、硝酸チタン、酢酸ハフニウム、フッ化ジルコニ
ウム及び塩化チタンにより特に有利な結果が達成され
る。しかしながら、最も好ましくは、ハフニウム、ジル
コニウムもしくはチタン塩は、金属がクロロチタネート
もしくはフルオロジルコネートアニオンの如き金属錯体
アニオン中に存在する塩を含んでなる。この点で特に好
ましいものはアルカリ金属フルオロジルコネート、特に
ヘキサフルオロジルコニウム酸カリウムである。
【0013】少なくとも1種のアルカリ金属のオルトリ
ン酸塩を含んでなる水性溶液による少なくとも1つの処
理された表面の該処理は、該基材をアルカリ金属のオル
トリン酸塩0.01%〜10.0%(w/w)(更に好
ましくは0.05%〜1.5%)を含有する水性溶液で
5°〜90℃(更に好ましくは40°〜80℃)の好ま
しい温度で、0.05秒〜5分(更に好ましくは0.1
秒〜30秒)の好ましい滞留時間で、好ましくは3〜
7、最も好ましくは約4.5のpHで処理することによ
り行われるのが好ましい。アルカリ金属のオルトリン酸
塩を適用するための種々のコーティング技術、例えば、
浸漬コーティング、スロットコーティング、リバースロ
ールコーティング又は電気化学的コーティング、を使用
することができる。しかしながら、最も好ましいのは噴
霧コーティングである。シングルパスプロセス(sin
gle pass processes)も好ましい。
何故ならばそれらは溶液の再循環の結果としてシングル
パスプロセスでない場合に起こり得る汚染の回避を促進
するからである。
【0014】該処理に使用することができる特に適当な
アルカリ金属のオルトリン酸塩はオルトリン酸水素塩又
はオルトリン酸二水素塩を包含するナトリウム又はカリ
ウムのオルトリン酸塩である。これらの材料は優れた結
果を与え、したがって好ましいことが見いだされた。ハ
イポホスホネート、ハイポホスフェート、ピロホスホネ
ート、ピロホスフェート、ホスホネート、ポリホスホネ
ート又はメタホスホネート誘導体の如き他のりん含有化
合物が先行技術で報告されているが、一般にオルトリン
酸塩の適用により得られる品質より低い品質の印刷版を
与える。
【0015】更に、アルカリ金属フルオロホスフェート
又はジフルオロホスフェート、ホスホシリケート及びホ
スホボレート(これらのすべてはコーティング浴へのホ
スフェートの制御された放出を促進する)及び種々の有
機材料、例えばアクリル酸とビニルホスホン酸とのコポ
リマーの使用が調査された。しかしながら、経済的観点
から、より安価なオルトリン酸塩が最も好ましい材料で
あり、最適コストで優秀な性能を与え、オルトリン酸二
水素ナトリウム及び最も特定的にはオルトリン酸二水素
カリウムが特に好ましい。
【0016】アルカリ金属のオルトリン酸塩は、周規律
表のIB、IIB、IVA、IVB、VB、VIA、V
IB、VIIB又はVIII族の金属の塩と同時に基材
に適用することができるか、又はそれは該塩の適用の後
に別々の処理において適用することができ、いずれにせ
よ、優れた消去の容易さ及び他の望ましい性質を示す版
が得られる。しかしながら、同時処理法と関連している
沈殿問題は、アルカリ金属のオルトリン酸塩が周規律表
のIB、IIB、IVA、IVB、VB、VIA、VI
B、VIIB又はVIII族の金属の塩による処理の後
に適用される、処理を別々の段階として行う場合には明
白ではない。
【0017】更に、他の材料は、周規律表のIB、II
B、IVA、IVB、VB、VIA、VIB、VIIB
又はVIII族の金属の塩の水性溶液に加えることがで
き、あるいは少なくとも1種のアルカリ金属のオルトリ
ン酸塩の水性溶液又は組み合わせた溶液が使用されるべ
き場合には、この水性溶液又は組み合わせた溶液に加え
ることができる。特に、1つ又は複数の溶液は金属イオ
ン封鎖剤、タンニン、硫酸、フッ化物及び、種々の有機
及び無機ポリマー材料を包含する基材の平版的性質を改
良することが知られている他の添加剤の如き材料を含む
ことができる。
【0018】場合により、該基材は周規律表のIB、I
IB、IVA、IVB、VB、VIA、VIB、VII
B又はVIII族の少なくとも1種の金属の塩を含んで
なる水性溶液による該処理の後に及び少なくとも1種の
アルカリ金属のオルトリン酸塩を含んでなる水性溶液に
よる該処理の前に水で洗浄することができる。
【0019】該アルミニウム基材は、純粋なアルミニウ
ム、又は少量の例えばマンガン、ニッケル、コバルト、
亜鉛、鉄、銅、マグネシウム、チタン、バナジウム、ケ
イ素もしくはジルコニウムを含有するアルミニウム合金
を含んでなることができる。該基材は連続ウエブ又は材
料のロールの形態で一般に提供される。
【0020】好ましくは、該基材は該研磨処理の前に脱
脂処理に付される。該脱脂処理は水性アルカリ溶液によ
り行うのが最も好都合である。典型的には、該処理は該
基材を例えば水酸化ナトリウムもしくは水酸化カリウム
の1〜20%w/w溶液を含有する浴に30〜80℃の
温度で5〜60秒の滞留時間で通すことを含む。該脱脂
処理の後、該基材は更なる処理の前に水で洗浄される。
【0021】基材を研磨するために既知の方法のいずれ
でも利用することができる。該研磨処理は基材の表面を
機械的力にさらす機械的研磨を含むことができ、これは
例えば非常に小さな金属ボールのスラリーの使用により
又はブラシ研磨法により達成することができる。別法と
して且つ最も好ましくは電気化学的研磨を使用すること
ができ、該方法は典型的には鉱酸もしくは有機酸又はそ
の混合物、例えば塩化水素酸と酢酸の混合物の溶液に電
流を印加しながら基材を該酸溶液に通すことを含んでな
る。別法として、鉱酸中の適当な無機塩の溶液が高度に
受け入れられる結果を与えることも見いだされ、特にこ
の点で有利なのは塩酸、水和塩化アルミニウム及び水和
硫酸アルミニウムを含んでなる混合電解質である。例示
として、適当な研磨条件は1〜30g/lの濃度及び5
〜70℃の温度で、200〜800C/dm2の電荷密
度及び1〜60Vの印加電位における1〜60秒の滞留
時間での水性塩酸の浴の使用を含むことができる。次い
で研磨された基材は更なる処理の前に水で洗浄される。
【0022】電気化学的研磨の後、該研磨された基材
は、該電気研磨処理の過程で形成されそして基材の表面
に付着した副生物を除去するためにスマット除去(de
smutting)処理に付されるべきである。典型的
には、このプロセスは当該技術分野で周知の方法に従う
水性酸又はアルカリによる研磨された基材の処理を含
む。適当なスマット除去条件は、例えば、20〜80℃
の範囲の温度で1秒〜5分のオーダーの滞留時間で約2
0〜400g/lの濃度の水性リン酸による研磨された
基材の処理を含むことができ、別法として、50〜30
0g/lの硫酸及び約8秒の短い滞留時間で30〜80
℃を使用するより高温の処理を使用することができ、又
は5〜60℃で2〜20g/lの水性水酸化ナトリウム
によるアルカリ処理は十分であろう。スマット除去の後
基材は水で洗浄される。
【0023】研磨された基材の陽極酸化は、当該技術分
野で周知の標準的方法のいずれかにより行われ、そして
典型的には、水性鉱酸、例えば硫酸、リン酸、硝酸、フ
ッ化水素酸もしくはクロム酸又は有機酸、例えばシュウ
酸、酒石酸、クエン酸、酢酸もしくはオレイン酸又はこ
れらの酸の混合物の水性溶液を含む浴に電流を印加しな
がら基材を該陽極酸化浴に通すことを含む。適当な陽極
酸化条件は10〜300g/l、好ましくは100〜1
50g/lの濃度の硫酸の浴及び1〜120秒、好まし
くは3〜40秒の滞留時間での20〜60℃、好ましく
は40〜60℃の範囲の温度、5〜60V、好ましくは
10〜50Vの印加電位及び100〜500C/d
2、好ましくは200〜400C/dm2の電荷密度の
使用を含むであろう。次いで研磨されそして陽極酸化さ
れた基材は更なる処理の前に水で洗浄される。
【0024】本発明により提供される方法は種々の形態
の方法及びコーティング法を使用して好結果を伴って使
用することができる。一般に、該方法は平台技術(fl
atbed technology)及び鉛直セル技術
(vertical cell technolog
y)と関連した種々の形態のセル整列(cell al
ignment)と共に使用するのに適当であり、上記
技術の両方とも当業者には周知である。
【0025】本発明の方法により提供される支持体は、
次いで感光性コーティングでコーティングして平版印刷
版前駆体を与えることができる。当業者には周知のタイ
プの種々のコーティング、例えば、キノンジアジド誘導
体を含むポジティブの作用をするコーティング(pos
itive−working coating)、ジア
ゾもしくはアジド樹脂を含むネガテイブに作用するコー
ティング(negative−working coa
tings)又は光架橋可能な樹脂もしくはハロゲン化
銀ベースのコーティングをこの目的で適用することがで
きる。コーティングは、カーテンコーティング、浸漬コ
ーティング、メニスカスコーティング、スロットコーテ
ィング、リバースロールコーティング等の如き当業者に
は知られている標準コーティング技術のいずれかにより
適用することができる。
【0026】かくして得られた平版印刷版前駆体は次い
で像通りに(imagewise)露光させそして非像
区域を現像して平版印刷版を得、これを次いで印刷機で
使用してコピーを得る。
【0027】本発明の方法により得られるアルミニウム
支持体から製造された平版印刷版は消去が容易なこと及
び良好な耐腐食性、耐溶媒性、印刷機上での清浄化及び
ロールアップに関して優れた性能を示す。バックグラウ
ンド汚染は観察されずそして版は優れたインキ−水バラ
ンス(ink−water balance)及び湿り
寛容度性能(damping latitude pe
rformance)並びに長い運転長さを示す。
【0028】
【実施例】本発明を下記の実施例を参照してここで説明
するが、本発明を限定するものではない。
【0029】実施例1 Al≧99.1%、Si≦0.2%、Fe≦0.4%、
Cu≦0.05%、Mn≦0.05%、Mg≦0.05
%、Zn≦0.07%、Ti≦0.05%及びV≦0.
05%を含んでなるアルミニウム合金基材を常法により
脱脂し、洗浄し、そして500C/dm2の電荷密度で
20秒の滞留時間で30℃の温度で塩酸(9g/l)及
び酢酸(25g/l)を含んでなる液を使用して電気化
学的研磨に付した。水洗浄及び45℃で20秒間のリン
酸(260g/l)の溶液中でのスマット除去の後、研
磨された基材を250C/dm2の電荷密度で20秒の
滞留時間で45℃で硫酸(145g/l)で処理するこ
とにより陽極酸化プロセスに付し、次いで水で洗浄し
た。
【0030】研磨されそして陽極酸化されたアルミニウ
ム基材を、次いでpH4.0を有するヘキサフルオロジ
ルコニウム酸カリウム(5g/l)の水性溶液により6
0℃で20秒間噴霧コーティングにより処理し、次いで
pH4.5を有するオルトリン酸二水素カリウム(12
g/l)の水性溶液により60℃で20秒間噴霧コーテ
ィングした。処理期間中又は処理の後沈殿の証拠は観察
されなかった。
【0031】得られる基材を水で洗浄しそして2−メト
キシプロパノール中のナフトキノンジアジド感光性樹脂
及びクレゾールノボラック支持体樹脂の溶液でコーティ
ングして感光性コーティング層を生成し、そしてコーテ
ィングされた基材を130℃で5分間ベーキングした。
得られる平版印刷版前駆体を100〜300mJ/cm
2の紫外線に像通りに露光し、そして非像区域を20℃
で30秒間の浸漬により水性アルカリ現像剤溶液で現像
した。得られる平版印刷版を水で洗浄しそして冷空気の
流れの中で乾燥し、次いでドレント・ウエブ・オフセッ
ト印刷機(Drent Web Offset Pre
ss)で250,000枚の優秀な品質のコピーを製造
した。版は印刷機において、バックグラウンド汚染を伴
わずに優秀なロ−ルアップ及び清浄化を示した。インキ
/水バランス、湿し寛容度及び耐溶媒性もすべて格別に
良好であった。ポジデルA(Posidel A)(ア
グファ・ゲバエルトにより供給される市販の消去液)に
より処理すると、版は優秀な消去の容易さを示しそして
残留物汚染の証拠を殆ど示さなかった。
【0032】実施例2 Al≧98.0%、Si≦0.5%、Fe≦0.7%、
Cu≦0.05%、Mn 1.0〜1.5%、Mg≦
0.15%、Zn≦0.1%、Ti≦0.05%及びV
≦0.05%を含んでなるアルミニウム合金基材を実施
例1に記載の如くして脱脂し、研磨し、スマット除去し
そして陽極酸化した。
【0033】研磨されそして陽極酸化されたアルミニウ
ム基材を、次いでpH4.0を有するヘキサフルオロジ
ルコニウム酸カリウム(5g/l)の水性溶液により8
0℃で3.5秒の滞留時間で噴霧コーティングにより処
理し、次いでpH4.5を有するオルトリン酸二水素カ
リウム(8g/l)の水性溶液により70℃で0.5秒
間更に噴霧コーティングした。処理期間中又は処理の後
沈殿の証拠は観察されなかった。
【0034】得られる基材を水で洗浄し、そして約4μ
mの平均直径を有するシリカの分散した粒子を含有する
2−メトキシプロパノール及びテトラヒドロフラン
(1:1)中のナフトキノンジアジド感光性樹脂及びク
レゾールノボラック支持体樹脂の溶液でコーティングし
た。コーティングされた基材を140℃で30秒〜1分
間ベーキングして、つや消し(mat)表面層を有する
感光性コーティング層を生成させ、これは像通りの露光
期間中良好な真空ドローダウン性能(vacuumdr
awdown performance)を促進した。
これは100〜300mJ/cm2の紫外線を使用して
行われ、その後非像区域を20℃で30秒間の浸漬によ
り水性アルカリ現像剤溶液で現像した。得られる平版印
刷版を水で洗浄しそして冷空気の流れの中で乾燥し、次
いでドレント・ウエブ・オフセット印刷機で250,0
00枚の優秀な品質のコピーを製造した。版は印刷機に
おいて、バックグラウンド汚染を伴わずに優秀なロ−ル
アップ及び清浄化を示した。インキ/水バランス、湿し
寛容度及び耐溶媒性もすべて格別に良好であった。ポジ
デルA(Posidel A)(アグファ・ゲバエルト
により供給される市販の消去液)により処理すると、版
は優秀な消去の容易さを示しそして残留物汚染の証拠を
殆ど示さなかった。
【0035】実施例3 実施例1の場合と同じアルミニウム合金基材を常法に従
って脱脂し、洗浄しそして540〜550C/dm2
電荷密度で5秒の滞留時間で40℃の温度で塩酸(12
g/l)及び硫酸(9g/l)を含んでなる液を使用し
て電気化学的研磨処理に付した。水洗浄及び70℃で硫
酸(145g/l)中でのスマット除去の後、研磨され
た基材を250C/dm2の電荷密度で6秒の滞留時間
で57℃で硫酸(145g/l)で処理することにより
陽極酸化プロセスに付し、次いで水で洗浄した。
【0036】研磨されそして陽極酸化されたアルミニウ
ム基材をpH4.0を有するヘキサフルオロジルコニウ
ム酸カリウム(5g/l)の水性溶液により70℃で5
秒間スロットコーティングし、次いでpH4.5を有す
るオルトリン酸二水素カリウム(4g/l)の水性溶液
により70℃で1.0秒間スロットコーティングするこ
とにより更に処理した。処理期間中又は処理の後沈殿の
証拠は観察されなかった。
【0037】得られる基材を水で洗浄しそして2−メト
キシプロパノール中のナフトキノンジアジド感光性樹脂
及びクレゾールノボラック支持体樹脂の溶液でコーティ
ングして感光性コーティング層を生成し、そしてコーテ
ィングされた基材を130℃で5分間ベーキングした。
得られる平版印刷版前駆体を100〜300mJ/cm
2の紫外線に像通りに露光し、そして非像区域を20℃
で30秒間の浸漬により水性アルカリ現像剤溶液で現像
した。得られる平版印刷版を水で洗浄しそして冷空気の
流れの中で乾燥し、次いでドレント・ウエブ・オフセッ
ト印刷機で250,000枚の優秀な品質のコピーを製
造した。版は印刷機において、バックグラウンド汚染を
伴わずに優秀なロ−ルアップ及び清浄化を示した。イン
キ/水バランス、湿し寛容度及び耐溶媒性もすべて格別
に良好であった。ポジデルA(Posidel A)
(アグファ・ゲバエルトにより供給される市販の消去
液)により処理すると、版は優秀な消去の容易さを示し
そして残留物汚染の証拠を殆ど示さなかった。
【0038】実施例4 アルミニウム合金基材を実施例1に記載の如くして脱脂
し、研磨し、スマット除去しそして陽極酸化した。
【0039】研磨されそして陽極酸化されたアルミニウ
ム基材を、次いでpH4.0を有するヘキサクロロチタ
ン酸カリウム(5g/l)の水性溶液により80℃で
3.5秒の滞留時間で噴霧コーティングにより処理し、
次いでpH4.5を有するオルトリン酸二水素ナトリウ
ム(8g/l)の水性溶液により70℃で0.5秒間間
更に噴霧コーティングした。処理期間中又は処理の後沈
殿の証拠は観察されなかった。
【0040】得られる基材を水で洗浄しそして2−メト
キシプロパノール中のナフトキノンジアジド感光性樹脂
及びクレゾールノボラック支持体樹脂の溶液でコーティ
ングして感光性コーティング層を生成し、そしてコーテ
ィングされた基材を130℃で5分間ベーキングした。
得られる平版印刷版前駆体を100〜300mJ/cm
2の紫外線に像通りに露光し、そして非像区域を20℃
で30秒間の浸漬により水性アルカリ現像剤溶液で現像
した。得られる平版印刷版を水で洗浄しそして冷空気の
流れの中で乾燥し、次いでドレント・ウエブ・オフセッ
ト印刷機で250,000枚の優秀な品質のコピーを製
造した。版は印刷機において、バックグラウンド汚染を
伴わずに優秀なロ−ルアップ及び清浄化を示した。イン
キ/水バランス、湿し寛容度及び耐溶媒性もすべて格別
に良好であった。ポジデルA(Posidel A)
(アグファ・ゲバエルトにより供給される市販の消去
液)により処理すると、版は優秀な消去の容易さを示し
そして残留物汚染の証拠を殆ど示さなかった。
【0041】比較実施例1 アルミニウム合金基材を実施例1に記載の如くして脱脂
し、研磨し、スマット除去しそして陽極酸化した。
【0042】研磨されそして陽極酸化されたアルミニウ
ム基材を、次いでpH4.0を有するヘキサフルオロジ
ルコニウム酸カリウム(5g/l)及びポリ(ビニルホ
スホン酸)(2g/l)の水性溶液で60℃で20秒間
処理した。該処理期間中又は該処理の後沈殿の証拠は観
察されなかった。
【0043】得られる基材を水で洗浄しそして2−メト
キシプロパノール中のナフトキノンジアジド感光性樹脂
及びクレゾールノボラック支持体樹脂の溶液でコーティ
ングして感光性コーティング層を生成し、そしてコーテ
ィングされた基材を130℃で5分間ベーキングした。
得られる平版印刷版前駆体を100〜300mJ/cm
2の紫外線に像通りに露光し、そして非像区域を20℃
で30秒間の浸漬により水性アルカリ現像剤溶液で現像
した。得られる平版印刷版を水で洗浄しそして冷空気の
流れの中で乾燥し、次いでドレント・ウエブ・オフセッ
ト印刷機で250,000枚の優秀な品質のコピーを製
造した。版は印刷機において、バックグラウンド汚染を
伴わずに優秀なロ−ルアップ及び清浄化を示した。イン
キ/水バランス、湿し寛容度及び耐溶媒性もすべて格別
に良好であった。ポジデルA(Posidel A)
(アグファ・ゲバエルトにより供給される市販の消去
液)により処理すると、版は中程度の(moderat
e)消去の容易さを示しそして残留物汚染の証拠が観察
された。
【0044】比較実施例2 アルミニウム合金基材を実施例1に記載の如くして脱脂
し、研磨し、スマット除去しそして陽極酸化した。
【0045】研磨されそして陽極酸化されたアルミニウ
ム基材を、水で洗浄した後、pH4.0を有するヘキサ
フルオロジルコニウム酸カリウム(5g/l)の水性溶
液で60℃で20秒間噴霧コーティングし、次いでpH
3.5を有するポリ(ビニルホスホン酸)(2g/l)
の水性溶液で60℃で20秒間噴霧コーティングにより
処理した。該処理期間中又は該処理の後沈殿の証拠は観
察されなかった。
【0046】得られる基材を水で洗浄しそして2−メト
キシプロパノール中のナフトキノンジアジド感光性樹脂
及びクレゾールノボラック支持体樹脂の溶液でコーティ
ングして感光性コーティング層を生成し、そしてコーテ
ィングされた基材を130℃で5分間ベーキングした。
得られる平版印刷版前駆体を100〜300mJ/cm
2の紫外線に像通りに露光し、そして非像区域を20℃
で30秒間の浸漬により水性アルカリ現像剤溶液で現像
した。得られる平版印刷版を水で洗浄しそして冷空気の
流れの中で乾燥し、次いでドレント・ウエブ・オフセッ
ト印刷機で250,000枚の優秀な品質のコピーを製
造した。版は印刷機において、バックグラウンド汚染を
伴わずに優秀なロ−ルアップ及び清浄化を示し、インキ
/水バランス及び湿し寛容度も非常に良好であった。ポ
ジデルA(Posidel A)(アグファ・ゲバエル
トにより供給される市販の消去液)により処理すると、
版は優秀な消去の容易さを示しそして残留物汚染の証拠
を殆ど示さなかった。しかしながら、耐溶媒性及び耐腐
食性の点で性能は劣っていた。
【0047】比較実施例3 アルミニウム合金基材を実施例1に記載の如くして脱脂
し、研磨し、スマット除去しそして陽極酸化した。
【0048】研磨されそして陽極酸化されたアルミニウ
ム基材を、pH4.0を有するヘキサフルオロジルコニ
ウム酸カリウム(5g/l)及びピロリン酸ナトリウム
(8g/l)の水性溶液で60℃で20秒間処理した。
該処理期間中又は該処理の後沈殿の証拠は観察されなか
った。
【0049】得られる基材を水で洗浄しそして2−メト
キシプロパノール中のナフトキノンジアジド感光性樹脂
及びクレゾールノボラック支持体樹脂の溶液でコーティ
ングして感光性コーティング層を生成し、そしてコーテ
ィングされた基材を130℃で5分間ベーキングした。
得られる平版印刷版前駆体を100〜300mJ/cm
2の紫外線に像通りに露光し、そして非像区域を20℃
で30秒間の浸漬により水性アルカリ現像剤溶液で現像
した。得られる平版印刷版を水で洗浄しそして冷空気の
流れの中で乾燥し、次いでドレント・ウエブ・オフセッ
ト印刷機で250,000枚の優秀な品質のコピーを製
造した。版は印刷機において、バックグラウンド汚染を
伴わずに優秀なロ−ルアップ及び清浄化を示した。イン
キ/水バランス、湿し寛容度及び耐溶媒性もすべて格別
に良好であった。ポジデルA(Posidel A)
(アグファ・ゲバエルトにより供給される市販の消去
液)により処理すると、版は優秀な消去の容易さを示し
そして残留物汚染の証拠を殆ど示さなかった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C23C 22/40 C23C 22/40 22/56 22/56 C25D 11/04 C25D 11/04 E 11/18 312 11/18 312 C25F 3/04 C25F 3/04 A G03F 7/00 503 G03F 7/00 503 7/09 501 7/09 501 // C22C 21/00 C22C 21/00 C (72)発明者 トウ・ビン・チヨウ ドイツ55263バツケルンハイム・ラインブ リツク33 Fターム(参考) 2H025 AA06 AA12 AB03 DA18 DA20 EA01 2H096 AA07 CA01 CA03 2H114 AA04 AA14 AA27 DA09 EA08 GA03 GA06 GA09 4K026 AA09 BA01 BA03 BA12 BB02 CA16 CA18 CA23 CA24 CA27 CA28 CA29 CA30 CA31 CA32 CA33 CA38 EA06 EA10 EA11 4K044 AA06 AB02 BA11 BA13 BA17 BA20 BB03 BB04 BC02 CA04 CA16 CA17 CA53

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (a)アルミニウム基材を準備し、 (b)該基材の少なくとも1つの表面を研磨し、 (c)該少なくとも1つの研磨された表面に陽極層を適
    用し、 (d)該少なくとも1つの研磨されそして陽極酸化され
    た表面を、周規律表のIB、IIB、IVA、IVB、
    VB、VIA、VIB、VIIB又はVIII族の金属
    の少なくとも1種の塩を含んでなる水性溶液で処理し、
    そして (E)該少なくとも1つの処理された表面を少なくとも
    1種のアルカリ金属のオルトリン酸塩を含んでなる水性
    溶液で処理する、段階を含んでなる平版印刷版の製造に
    使用するための基材の製造方法。
  2. 【請求項2】 アルカリ金属のオルトリン酸塩が、オル
    トリン酸三ナトリウム、オルトリン酸水素二ナトリウ
    ム、オルトリン酸二水素ナトリウム、オルトリン酸三カ
    リウム、オルトリン酸水素二カリウム又はオルトリン酸
    二水素カリウムを含んでなる請求項1に記載の方法。
  3. 【請求項3】 周規律表のIB、IIB、IVA、IV
    B、VB、VIA、VIB、VIIB又はVIII族の
    金属の該塩が、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、モ
    リブデン、タングステン、バナジウム、マンガン、ニッ
    ケル、銅、亜鉛、錫、ニオブ、タンタル、セリウム、セ
    レン、ケイ素、コバルト又は鉄の塩を含んでなる請求項
    1又は2に記載の方法。
  4. 【請求項4】 周規律表のIB、IIB、IVA、IV
    B、VB、VIA、VIB、VIIB又はVIII族の
    金属の該塩が金属をカチオンとして含む請求項1〜3の
    いずれかに記載の方法。
  5. 【請求項5】 該塩がチタン、ジルコニウム又はハフニ
    ウムの硫酸塩、リン酸塩、硝酸塩、酢酸塩、フッ化物塩
    又は塩化物塩を含んでなる請求項4に記載の方法。
  6. 【請求項6】 周規律表のIB、IIB、IVA、IV
    B、VB、VIA、VIB、VIIB又はVIII族の
    金属の該塩が金属を錯体化されたアニオンの一部として
    含む請求項1〜3のいずれかに記載の方法。
  7. 【請求項7】 該塩がアルカリ金属フルオロジルコネー
    トを含んでなる請求項6に記載の方法。
  8. 【請求項8】 該アルカリ金属フルオロジルコネートが
    ヘキサフルオロジルコニウム酸カリウムを含んでなる請
    求項7に記載の方法。
  9. 【請求項9】 該金属基材がアルミニウム、又は少量の
    マンガン、ニッケル、コバルト、亜鉛、鉄、銅、マグネ
    シウム、チタン、バナジウム、ケイ素もしくはジルコニ
    ウムの少なくとも1種を含有するアルミニウム合金を含
    んでなる請求項1〜8のいずれかに記載の方法。
  10. 【請求項10】 該研磨処理が機械的又は電気化学的研
    磨処理を含んでなる請求項1〜9のいずれかに記載の方
    法。
  11. 【請求項11】 該電気化学的研磨処理が、鉱酸もしく
    は有機酸又はその混合物の溶液に電流を印加しながら、
    該酸溶液に基材を通すことを含んでなる請求項10に記
    載の方法。
  12. 【請求項12】 水性鉱酸もしくは有機酸又はその混合
    物の溶液に電流を印加しながら、該酸溶液に該基材を通
    すことにより該基材の少なくとも1つの研磨された表面
    に該陽極層を適用する請求項1〜11のいずれかに記載
    の方法。
  13. 【請求項13】 請求項1〜12のいずれかに記載の方
    法に従って得られる基材に感光性コーティングを適用す
    ることにより製造される平版印刷版前駆体。
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