JP2002120397A

JP2002120397A - 画像記録装置

Info

Publication number: JP2002120397A
Application number: JP2000316723A
Authority: JP
Inventors: Tomohito Ishida; 知仁石田
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 2000-10-17
Filing date: 2000-10-17
Publication date: 2002-04-23

Abstract

(57)【要約】【課題】注目走査位置と隣接する走査位置にビームを
照射するタイミングをずらし、ビームの副走査方向での
光量分布の重なりを低減し得る画像記録装置を提供す
る。【解決手段】画像情報に対応する複数のビームを像担
持体１の隣接しない走査位置ａ３１，ｂ３１；ａ３２，
ｂ３２・・に像露光する構成で、像露光時に注目走査位
置ａ３１にビームを照射するタイミングと、これに隣接
する走査位置ｂ３０にビームを照射するタイミングをず
らして像露光をおこない、光量分布の重なりを低減する
ことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば複写機，プ
リンタ，ファクシミリ，製版システムなどに用いる電子
写真方式の画像記録装置に関し、特にレーザービーム等
の画像情報に対応する複数のビームで対応する走査位置
を同時に像露光して静電潜像を形成する画像記録装置に
関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、この種の画像記録装置には、高速
かつ低騒音のプリンタとして、電子写真方式を採用した
レーザービームプリンタが知られている。このレーザー
ビームプリンタは、像担持体にレーザービームを当てる
か当てないかの２値記録により、文字，図形などの画像
を形成するようにしたもので、文字，図形などの記録で
あれば、中間調濃度を記録する必要がなく、簡易な構造
とすることができる。

【０００３】このような２値記録方式のプリンタであっ
ても、ディザ法，濃度パターン法などの面積階調による
中間調再現法を採用することにより中間調を表現できる
が、ディザ法，濃度パターン法などを採用したプリンタ
では高解像度が得られないという問題点があった。

【０００４】そのため、記録密度を低下させずに高解像
度で、各画素において中間調を形成するパルス幅変調方
式（ＰＷＭ方式）の画像記録装置が提案されている。こ
のＰＷＭ方式の画像記録装置は、画像信号によってレー
ザービームの照射時間を変調することにより中間調の画
素形成を行うもので、高解像度で、かつ高階調性の画像
を形成できるため、カラー画像の形成に特に適してい
る。すなわち、上記ＰＷＭ方式によると、１画素毎にビ
ームスポットにより形成されるドットの面積階調を行う
ことができ、解像度を低下させることなく中間調を表現
できる。

【０００５】ところが、上述したＰＷＭ方式の画像記録
装置において、画素密度をさらに高めていくと、ビーム
スポット径に対して画素が相対的に小さくなるために露
光時間変調による階調を十分に取ることができないとい
う問題があった。このため、階調性を保持したまま解像
度を向上させるには、ビームスポット径をより小さくす
る必要がある。

【０００６】例えばレーザを用いた走査光学系を使用す
るときには、レーザ光の波長を短波長化したり、ｆ−θ
レンズのＮＡ（開口数）を大きくしたりすることなどが
必要となるが、このような方法を用いると高価なレーザ
を使用しなければならず、またレンズやスキャナの大型
化および焦点深度の低下に伴って走査光学系に要求され
ている機械精度の向上などから、装置本体の大型化とコ
ストの上昇とが避けられないという問題が生じる。

【０００７】さらに、ＬＥＤアレイや液晶シャッターア
レイなどの固体スキャナにおいてもスキャナ自体の価格
の上昇、取り付け精度の上昇、電気駆動回路のコスト上
昇は避けられないという問題がある。

【０００８】この問題を解決する手段として、特開平１
−１６９４５４号公報，特開平１−１７２８６３号公報
等に開示されているように、低露光量において感度が小
さく、露光量が増大するにつれて感度が上昇するような
特性（図４参照）を有する感光体を用い、強度分布を有
する照射スポットの低露光量部分を除去し、あたかも、
照射スポット径を小さくする方法が知られている。

【０００９】また、特開平１０−２８２６９５号公報に
開示されているように、低光量の光は吸収し光量がある
閾値を越えたところで急激に透過特性（図５参照）を示
す様な過飽和吸収色素を感光体の膜中に混合させ、光学
スポットを見かけ上シャープにする方法も知られてい
る。

【００１０】また、光学系からのアプローチとしては、
特開平４−１３７６号公報に開示されているように、比
較的安価にスポット径を小さくできる、いわゆるベッセ
ルビームを用いた光学系による画像出力装置も知られて
いる。このベッセルビームはスポット径が小さいことは
もちろんのこと焦点深度が深く電子写真の光学系に用い
るに適している。

【００１１】ベッセルビームの生成法についても、特開
平５−３０７１５１号公報，特開平６−８２７２０号公
報，特開平６−１４８５４５号公報，特開平７−７２４
０２号公報，特開平７−７２４０３号公報，特開平１０
−２２７９９２号公報，特開平１０−２２７９９３号公
報などに多く開示されている。

【００１２】また、非線形光学材料とベッセルビームを
併用し、光学系の重なりによる影響を低減する手法も提
案されている。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような従来技術の場合には、下記のような問題が生じて
いた。

【００１４】非線形材料を用いたとき、あるいは、ベッ
セルビームと非線形材料を併用したときに、一画素ずつ
では光量分布の裾野やサイドローブの影響を十分抑える
ことができるが、画像パターンを形成し、画素を連結さ
せていったとき、注目画素と隣接する画素にレーザーを
照射する時間間隔が短かすぎ、十分な非線形特性が現れ
ず、画像不良が起こることがある。

【００１５】上記の電子写真画像記録装置について言え
ば、主走査方向に隣接したときには数十ｓｅｃ、副走査
方向に隣接したときには数十〜数百μｓｅｃの時間間隔
しかない。

【００１６】このときの光量分布の重なりを図１２で説
明すると、一画素づつの光量分布１２１を連結していく
と、主走査，副走査ともに１２２の様に光量分布の裾野
が重なって、積算光量の影響を無視できなくなる。

【００１７】いずれの非線形材料も、少ない光の影響を
抑える働きをしているのだが、少ない光も時間間隔を開
けずに連続して光照射することにより、重なる部分が積
算され、光量が強いときと同じ特性を示してしまうこと
になる。

【００１８】言い換えると、非線形材料が少ない光を吸
収した後、励起状態から失活して定常状態に戻る前に、
続けて光の照射をおこなうと、それが時間あたりには少
ない光量であっても積算されて、十分な光量を与えたと
きと同様の挙動を示してしまうことになる。

【００１９】本発明は上記の従来技術の課題を解決する
ためになされたもので、その目的とするところは、注目
走査位置と隣接する走査位置にビームを照射するタイミ
ングをずらし、ビームの副走査方向での光量分布の重な
りを低減し得る画像記録装置を提供することにある。

【００２０】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、光導電性の像担持体と、該像担持体を均
一帯電する帯電手段と、帯電後の像担持体表面を像露光
して静電潜像を形成する露光手段と、を備えた画像記録
装置において、前記露光手段は画像情報に対応する複数
のビームを前記像担持体の隣接しない走査位置に像露光
する構成で、像露光時に注目走査位置にビームを照射す
るタイミングと、これに隣接する走査位置にビームを照
射するタイミングをずらして像露光をおこない、光量分
布の重なりを低減することを特徴とする。

【００２１】前記像担持体として、ビームの照射スポッ
トを見かけ上シャープにする非線形特性を有する感光体
を用いることを特徴とする。

【００２２】ビームとしてベッセルビームを用いること
を特徴とする。

【００２３】また、非線形特性を有する感光体として、
少ない光量では電荷が発生せず、光量がある閾値を越え
たときに急激に電荷が発生する感光体を用いることを特
徴とする。

【００２４】また、非線形特性を有する感光体として、
少ない光量の光は吸収し、光量がある閾値を越えたとき
に急激に透過する感光体を用いることを特徴とする。

【００２５】

【発明の実施の形態】以下に図面を参照して、この発明
の好適な実施の形態を例示的に詳しく説明する。ただ
し、この実施の形態に記載されている構成部品の寸法、
材質、形状、その相対配置などは、特に特定的な記載が
ない限りは、この発明の範囲をそれらのみに限定する趣
旨のものではない。

【００２６】まず、図９および図１０を参照して本発明
の実施の形態に係る画像記録装置全体の構成等について
説明する。図９は本発明の実施の形態に係る画像記録装
置の主要部構成を示す概略図であり、図１０は全体構成
図である。

【００２７】この画像記録装置は、光導電性の像担持体
１と、像担持体１の周りに配置され像担持体１を均一帯
電する帯電手段としての帯電器２と、帯電後の像担持体
１表面をスポット光により像露光して静電潜像を形成す
る露光手段としての画像露光器７とを備えている。

【００２８】さらに、この像担持体１の周囲には、像担
持体１に形成された静電潜像にトナーを付着させてトナ
ー像を形成する現像手段としての現像器９と、得られた
トナー像を最終支持部材としての記録材１０に転写する
ための転写手段４と、転写後の像担持体１に残留した残
トナーを除去するクリーニング部材６、が設けられてい
る。記録材１０に転写されたトナー像は定着器５によっ
て定着される。

【００２９】像担持体１は、導電性の支持基体を最下層
として、電荷発生層、電荷輸送層のように２層構造より
なる機能分離タイプのものや、単層型のものが使用でき
る。

【００３０】帯電器２としては、ワイヤーと電界制御グ
リッドよりなるコロナ帯電器を用いたコロナ帯電方式、
像担持体１に接触させた帯電ローラーに直流あるいは直
流と交流の重畳バイアスを印加して帯電するローラ帯電
方式などが適用可能である。

【００３１】画像露光器７は、半導体レーザーを使用し
たスキャナータイプのものや、ＬＥＤに集光装置である
セルフォックレンズを介して像露光をおこなうもの、ま
た、ＥＬ素子やプラズマ発光素子、その他の光学系も使
用することができる。

【００３２】図１は、半導体レーザーを使用した画像露
光器７の光学系を示すもので、複数のビームとしての２
つのレーザービームを用いて像露光するもので、半導体
レーザー等の不図示のレーザー光源から出射されたレー
ザービームを像担持体１の回転軸に対して平行方向に走
査するためのポリゴンミラー等の回転反射体１１と、レ
ンズ１２及びｆ−θレンズ１３と、各レーザービームを
像担持体１に向けて折り返す折り返しミラー１４，１５
とを備えている。

【００３３】この２つのレーザービームを像担持体１上
の互いに隣接しない走査位置に同時に像露光する構成
で、注目走査位置にビームを照射するタイミングと、こ
れに隣接する走査位置にビームを照射するタイミングを
ずらして像露光をおこない、光量分布の重なりを低減す
るようになっている。

【００３４】たとえば、図２に示すように、注目画素ｂ
１２に副走査方向に隣接する画素ａ１１，ａ１２，ａ１
３，ａ２１，ａ２２，ａ２３との光量分布の重なり合い
を低減させるために、図３に示す如く、注目画素のある
走査位置ａ３１を像露光するとき、もう一方のレーザー
ビームで、２ライン離れた画素ｂ３１の走査位置を像露
光することにより、副走査方向の光量分布の重なりを低
減することを可能にする。

【００３５】このとき、同時に走査する各レーザービー
ムの間隔は、２ライン以上離れていれば、時間的には数
１００ｎｓｅｃのずれが生じるため、十分な非線形光学
特性を得ることが可能となり、潜像の画像部と非画像部
のコントラストを大きくとれる。したがって、現像工程
も安定し、感光体や現像剤担持体の偏心など、様々な変
動要因に対して安定な画像出力を可能にする。

【００３６】また、レーザービームとしては、図７に示
すような、通常のガウス分布形状の光量分布となるレー
ザービーム７１により像露光をおこなうこともできる
が、図８に示すように、中心光がシャープな分布を持つ
ベッセルビーム８１を使用することもできる。

【００３７】ベッセルビームの生成法を、図６で説明す
る（特開平６４−１３７６号公報参照）。

【００３８】同図において、半導体レーザー等の光源６
１から画像情報に基づき光変調し射出したレーザービー
ムは、ベッセルビーム発生手段６３により、その光路を
横切る平面Ａを中心位置とするベッセルビーム６２とな
り、この平面Ａに集光された後発散している。

【００３９】発散したベッセルビーム６２は集光レンズ
６４により収束され、光偏向器としての回転多面鏡６５
の反射面（偏向面）に入射した後反射偏向され、ｆ−θ
特性を有する結像レンズ６６によって回転ドラム（感光
ドラム）等の像担持体１の表面（被走査面）上に結像さ
れ、この像担持体１表面の感光体（不図示）に静電潜像
を形成する。

【００４０】結像レンズ６６と像担持体１の間には適宜
折り返しミラー６７が配置される。また、ベッセルビー
ムの周辺のサイドローブ部分を吸収して中心スポットを
透過させる非線形光学特性を有する非線形光学手段とし
て、たとえば像担持体１近傍に非線形光学手段としての
フィルター６９を配置するようにしてもよい。

【００４１】同図において平面Ａと像担持体１の表面と
は光学的に略共役な関係に設定しているので、ベッセル
ビームは像担持体１の表面近傍に形成される。このベッ
セルビームは、前述した如く焦点深度が非常に深いの
で、例えばその光学系に像面湾曲があっても、あるいは
回転ドラムＢの位置が光軸方向に多少ズレていてもビー
ムスポット径は変化せず、これより高解像度の光走査装
置を得る。

【００４２】ベッセルビーム生成手段６３の好適な例と
しては、アルコキシルプリズムが挙げられるが、その他
に、瞳フィルタ、アキシコンプリズムと同様の光学的作
用を有する回折格子等を用いても良い。

【００４３】これらの光学系を用い、ＰＷＭ方式による
階調制御や、ディザ法などの面積階調法，レーザー光強
度変調，あるいはこれらを組み合わせた制御法を使用す
ることができる。

【００４４】このとき、図３において、レーザービーム
ａとレーザービームｂを像露光する際の画像信号は、不
図示の制御回路によって、レーザービームａとレーザー
ビームｂの走査位置の画像信号をレーザー駆動パルス信
号が送られる様に制御をおこなう。

【００４５】像担持体１である感光体としては、レーザ
ービームの照射スポットを見かけ上シャープにする非線
形特性を有することが好ましい。

【００４６】たとえば、特開平１−１６９４５４，特開
平１−１７２８６３等に開示されているように、図４の
グラフに示す様に、低露光量において感度が小さく、露
光量が増大するにつれて感度が上昇するような特性、言
い換えれば少ない光量では電荷が発生せず、光量がある
閾値を越えたときに急激に電荷が発生する、いわゆるイ
ンダクション効果を有する感光体を用い、強度分布を有
する照射スポットの低露光量部分を除去し、あたかも、
照射スポットを見かけ上シャープにする方法を使用する
ことができる。

【００４７】この場合、図７に示すようなガウス形状の
レーザービーム７１を用いた場合には、照射スポット低
露光量部分が除去されて７２のような照射スポット形状
となる。一方、図８（ａ）に示すようなベッセルビーム
を用いた場合には、図８（ｂ）に示すように、サイドロ
ーブ部分８１が低くなり（符号８２参照）、中心スポッ
ト部分８０のみの照射スポット形状となる。

【００４８】インダクション効果を発現するときの電荷
発生材料としては、例えばセレン−テルル，ピリリウム
系染料，チオピリリウム系染料，フタロシアニン系顔
料，アントアントロン系顔料，ジベンズピレンキノン系
顔料，ピラントロン系顔料，トリスアゾ系顔料，ジスア
ゾ系顔料，アゾ系顔料，インジゴ系顔料，キナクリドン
系顔料，シアニン系顔料などを用いることができる。

【００４９】電荷輸送材料としては、ポリ−Ｎ−ビニル
カルバゾール，ポリスチリルアントラセンなどの複素環
や縮合多環芳香族を有する高分子化合物，ピラゾリン，
イミダゾール，オキサゾール，オキサジアゾール，トリ
アゾール，カルバゾールなどの複素環化合物，トリフェ
ニルメタンなどのトリアリールアルカン誘導体，トリフ
ェニルアミンなどのトリアリールアミン誘導体，フェニ
レンジアミン誘導体，Ｎ−フェニルカルバゾール誘導
体，スチルベン誘導体，ヒドラゾン誘導体などの低分子
化合物を用いることができる。

【００５０】上記電荷発生材料や電荷輸送材料は必要に
応じてバインダーポリマーが用いられる。バインダーポ
リマーの例としては、スチレン，酢酸ビニル，塩化ビニ
ル，アクリル酸エステル，メタクリル酸エステル，フッ
化ビニリデン，トリフルオロエチレンなどのビニル化合
物の重合体および共重合体，ポリビニルアルコール，ポ
リビニルアセタール，ポリカーボネート，ポリエステ
ル，ポリスルホン，ポリフェニレンオキサイド，ボリウ
レタン，セルロース樹脂，フェノール樹脂，メラミン樹
脂，けい素樹脂，エポキシ樹脂などが挙げられる。

【００５１】光導電層には前記化合物以外にも機械的特
性の改良や耐久性向上のための添加剤を用いることがで
きる。このような添加剤としては、酸化防止剤，紫外線
吸収剤，安定化剤，架橋剤，潤滑剤，導電性制御剤など
が用いられる。

【００５２】またこれら材料を用いて、電荷発生層と電
荷輸送層とからなる機能分離タイプのものや電荷発生と
電荷輸送とを同一の層で行う単層タイプが使用可能であ
る。

【００５３】またその他の感光体として、特開平１０−
２８２６９５号公報に開示されているように、図５に示
すように、少ない光量の光は吸収し、光量がある閾値を
越えたところで急激に透過特性を示すような感光体を用
いこともでき、インダクション効果を有する感光体と同
様、図７，図８に示すように、光学スポットを見かけ上
シャープにすることができる。

【００５４】このときの非線形光学特性を示す材料とし
ては過飽和吸収色素が挙げられ、この過飽和吸収色素を
感光体の膜中に混合させる。この過飽和吸収色素は照射
光の強度に比例して吸収係数が減少するものであれば用
いることが可能であるが、照射光の強度の高次の項に比
例しているものがより望ましい。

【００５５】用いられる過飽和吸収色素の濃度は、像露
光に用いるビームのピーク光量の１０％の光量に対する
吸光度として０．５〜１．０となるように用いられる。
０．５以下では本発明の効果が少なく、１．０以上では
感度の低下が大きすぎるために望ましくない。

【００５６】具体的に用いられる過飽和吸収色素として
は下記のようなものがあるが、使用する照射光の波長、
強度において前記の特性を示すものであれば用いること
は可能である。

【００５７】ヂチオベンジルニッケル錯体類ビス（４−ジメチルアミノジチオベンジル）ニッケルビス（４−ジエチルアミノジチオベンジル）ニッケルローダミン色素類ローダミンＢローダミン６Ｇシアニン色素類３，３′−ジエチルチアジカルボシアニンアイオダイドフタロシアニン類日本触媒化学工業（株）製造ＰＣ−４９４ナフタロシアニン類テトラキス（ｔ−オクチル）ナフタロシアニンこの様な非線形性の光学特性を示す過飽和吸収色素を、
例えば積層感光体の電荷輸送層の結着樹脂であるバイン
ダー中に混合分散させて使用することができる。

【００５８】バインダーポリマーの例としては、スチレ
ン，酢酸ビニル，塩化ビニル，アクリル酸エステル，メ
タクリル酸エステル，フッ化ビニリデン，トリフルオロ
エチレン，等のビニル化合物の重合体および共重合体，
ポリビニルアルコール，ポリビニルアセタール，ポリカ
ーボネート，ポリエステル，ポリスルホン，ポリフェニ
レンオキサイド，ボリウレタン，セルロース樹脂，フェ
ノール樹脂，メラミン樹脂，けい素樹脂，エポキシ樹脂
などが挙げられる。

【００５９】現像器９の現像方式には、磁性トナーを磁
力により搬送し現像ニップで非接触により像担持体１上
に飛翔現像させる磁性１成分の非接触現像方式、あるい
は現像ニップで像担持体１に接触させて現像処理をおこ
なう磁性接触現像方式、非磁性トナーをブレードにより
規制し帯電させ、現像剤担持体に担持して搬送し現像ニ
ップにおいて非接触でトナーを飛翔現像させる非磁性１
成分の非接触現像方式、あるいは現像ニップで像担持体
１に接触させ現像処理をおこなう非磁性１成分の接触現
像方式、同じく非磁性トナーを磁性粉体であるキャリア
に混合させ同じく現像剤担持体で現像ニップまで搬送し
現像処理をおこなう２成分現像方式など、様々な現像法
を使用することができる。

【００６０】転写手段４の転写方式には、電気的な力、
あるいは機械的な力を利用した転写方式を使用すること
ができる。電気的な力を利用して転写をおこなう方法と
して、コロナワイヤーによりトナーの帯電極性と逆極性
の直流バイアスを印加して転写をおこなうコロナ転写方
式、１０⁵〜１０¹²Ωの電気抵抗値を示す部材を表層に
有するローラーを当接させ、トナーと逆極性のバイアス
を印加するローラー転写方式などが挙げられる。

【００６１】これら基本的な構成を用い、図１１に示す
ように、複数の像担持体１を有し（図示例では４色）、
シアン、マゼンタ、イエロー、ブラックの各色像を順次
形成し、記録材１０にカラー出力をするカラー画像記録
装置を構成することも可能である。

【００６２】

【実施例】以下、これまで説明した発明の実施の形態に
基づく、より具体的な実施例について説明する。

【００６３】（実施例１）像担持体として、ポリエステ
ル−メラミン系硬化樹脂４重量部に対して特殊ＣｕＰＣ
顔料（東洋インキ製）を１重量部分散し、感光層として
２０μｍ塗布したものを用い、インダクション効果を発
現する感光ドラムを使用した。

【００６４】像露光に用いるビームの形状は、ピークか
ら１／ｅ²の光量分布の位置での径が、６０×７０ｕｍ
のガウス形状のものを使用し、２本のレーザーで、像露
光はおのおの２ライン分離した位置におこなうことで非
線形光学特性を十分に得る。

【００６５】その結果、４００ｄｐｉのＰＷＭ画像，６
００ｄｐｉのＰＷＭ画像，６００ｄｐｉの２値画像で良
好な階調画像出力が得られた。

【００６６】＜比較例＞実施例１において、同時に像露
光をおこなう２本のレーザーの走査位置を隣接させた。

【００６７】その結果、光量分布の裾野の重なりにより
画像不良が発生し、また、レーザーの面倒れや回転む
ら、像担持体１の回転むらによる露光分布の変動、像担
持体１や現像剤担持体３の偏心などによる各種変動要因
による画像不良が目立つ画像となった。

【００６８】（実施例２）像担持体１として、積層型の
ものを使用し、そのときの電荷発生層に、トリアリール
アミン化合物５部とポリカーボネート樹脂（商品名Ｚ
−２００、三菱瓦斯化学（株）製）５部、過飽和吸収色
素としてフタロシアニン化合物（日本触媒化学工業
（株）製造ＰＣ−４９４）１部をクロロベンゼン７０部
に溶解した電荷輸送層用の塗液に、平均粒径２μｍのシ
リコーン樹脂微粒子０．３部を添加したものを塗工した
ものを使用することで、少ない光量の光は吸収し、光量
がある閾値を越えたときに急激に透過する感光体を使用
した。

【００６９】像露光に用いるビームの形状はガウス形状
のものを使用し、２本のレーザーで、像露光はおのおの
２ライン分離した位置におこなうことで非線形光学特性
を十分に得る。

【００７０】その結果、４００ｄｐｉのＰＷＭ画像，６
００ｄｐｉのＰＷＭ画像，６００ｄｐｉの２値画像で良
好な階調画像出力が得られた。

【００７１】（実施例３）実施例１において、像露光に
用いる光学系に、アキシコンプリズムによって生成され
たベッセルビームを使用した。

【００７２】その結果、４００ｄｐｉのＰＷＭ画像，６
００ｄｐｉのＰＷＭ画像，６００ｄｐｉの２値画像で良
好な階調画像出力が得られた。

【００７３】（実施例４）実施例２において、像露光に
用いる光学系に、アキシコンプリズムによって生成され
たベッセルビームを使用した。

【００７４】その結果、４００ｄｐｉのＰＷＭ画像，６
００ｄｐｉのＰＷＭ画像，６００ｄｐｉの２値画像で良
好な階調画像出力が得られた。

【００７５】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
複数のビームを像担持体の隣接しない走査位置に露光
し、像露光時に注目走査位置にビームを照射するタイミ
ングと、隣接する走査位置にレーザー照射するタイミン
グをずらして副走査方向の光量分布の重なりを低減する
ことで、光量分布の裾野やサイドローブが重なった部位
でも良好なコントラストの高い潜像を形成することがで
き、像担持体や現像剤担持体の偏心による各種変動要因
に対しても安定な画像出力が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態に係る画像記録装置の画像
露光器の光学系の説明図である。

【図２】本発明の原理を説明する図である。

【図３】本発明の像露光をおこなう際の走査方法を説明
する図である。

【図４】本発明の実施例１，３に使用するインダクショ
ン効果を有する感光体の特性を説明する図である。

【図５】本発明の実施例２，４に使用する過飽和吸収色
素を混合した感光体の特性を説明する図である。

【図６】ベッセルビームの生成法を説明する図である。

【図７】非線形光学特性を使用した際のガウスビームの
変化の様子を説明する図である。

【図８】（ａ），（ｂ）は非線形光学特性を使用した際
のベッセルビームの変化の様子を説明する図である。

【図９】本発明の画像記録装置の基本構成を説明する図
である。

【図１０】図９の画像記録装置の全体構成図である。

【図１１】本発明においてカラー出力を可能とする複数
の像担持体を有する画像記録装置を示す図である。

【図１２】従来技術の光量分布の重なりによる弊害を説
明する図である。

【符号の説明】

１像担持体２一次帯電器３現像剤担持体４転写帯電器５定着器６クリーナー７像露光器９現像器１０記録材１１回転反射体１２レンズ１３ｆ−θレンズ１４折り返しミラー１５折り返しミラー１６像担持体２１注目画素２２隣接画素群２３ダブルビームで像露光した際に同一のレーザーで
像露光する走査位置２４ダブルビームで像露光した際に同一のレーザーで
像露光する走査位置ａ本発明で像露光する際の一つのレーザー走査位置ｂ本発明で像露光する際の一つのレーザー走査位置６１半導体レーザー６２ベッセルビーム６３ベッセルビーム生成手段６４集光レンズ６５回転反射体６６ｆ−θレンズ群６７折り返しミラー６９フィルターＡ集光位置７１ガウスビームの断面形状７２非線形光学特性を利用したときのガウスビームの
断面形状８１ベッセルビームの断面形状８２非線形光学特性を利用したときのベッセルビーム
の断面形状１２１単一のガウスビームの断面形状１２２重なり合ったときのガウスビームの断面形状

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光導電性の像担持体と、前記像担持体を均
一帯電する帯電手段と、帯電後の像担持体表面を像露光
して静電潜像を形成する露光手段と、を備えた画像記録
装置において、前記露光手段は同時に複数のビームを互いに隣接しない
走査位置に像露光する構成とし、注目走査位置にビーム
を照射するタイミングと、これに隣接する走査位置にビ
ームを照射するタイミングをずらして像露光をおこな
い、光量分布の重なりを低減することを特徴とする画像
記録装置。
【請求項２】前記像担持体として、ビームの照射スポッ
トを見かけ上シャープにする非線形特性を有する感光体
を用いることを特徴とする請求項１に記載の画像記録装
置。
【請求項３】像露光を行うビームとしてベッセルビーム
を用いることを特徴とする請求項１に記載の画像記録装
置。
【請求項４】非線形特性を有する感光体として、少ない
光量では電荷が発生せず、光量がある閾値を越えたとき
に急激に電荷が発生する感光体を具備することを特徴と
する請求項２に記載の画像記録装置。
【請求項５】非線形特性を有する感光体として、少ない
光量の光は吸収し、光量がある閾値を越えたときに急激
に透過する感光体を具備することを特徴とする請求項２
に記載の画像記録装置。