JP2002112965A

JP2002112965A - 眼光学特性測定装置

Info

Publication number: JP2002112965A
Application number: JP2000309484A
Authority: JP
Inventors: Raku Takeuchi; 楽竹内; Katsuhiko Kobayashi; 克彦小林; Masahiro Shibuya; 雅博渋谷
Original assignee: Topcon Corp
Current assignee: Topcon Corp
Priority date: 2000-10-10
Filing date: 2000-10-10
Publication date: 2002-04-16
Anticipated expiration: 2020-10-10
Also published as: JP4606559B2; US20020047993A1; US6824269B2

Abstract

(57)【要約】【課題】瞳上での異なる領域で、更に瞳上全域に亘り眼
光学特性の分布を測定することが可能な眼光学特性測定
装置を提供する。【解決手段】被検眼１瞳と略共役位置に配置され瞳１８
上での光束の通過領域を決める為の開口絞り１４と、該
開口絞りを介して被検眼眼底に第１次指標像を投影する
為の投影光学系２と、被検眼眼底からの反射光束により
前記開口絞りを介して光電検出器２１上に第２次指標像
を形成する為の受光光学系３と、前記光電検出器からの
信号により第２次指標像の光量強度分布を検出する検出
部２６，２７，２８とを具備する眼光学特性測定装置に
於いて、前記開口絞りは異なる開口の絞りに変更可能に
構成した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は被検眼の眼底上に投
影された指標像の光量強度分布を測定して眼球光学系の
光学特性を測定する為の眼光学特性測定装置に関するも
のである。

【０００２】

【従来の技術】従来、被検眼眼底にピンホール像等の指
標像を投影し、その反射光束から光電検出器上に指標像
を形成し、その指標像の光量強度分布特性を基に、被検
眼の眼球光学系の光学特性を示す点像光量強度分布関数
を測定する眼光学特性測定装置が知られている。

【０００３】この眼光学特性測定装置に於いては、眼球
光学系を透過した光束により形成される指標像の光量強
度分布を直接測定し、被検眼の眼光学特性を正確に測定
することができ、被検眼眼底上で形成される指標像をシ
ミュレーション画像としても演算により求めることがで
きる。眼光学特性測定装置で得られた眼光学特性は、眼
科治療或は視力矯正の情報として利用される。

【０００４】又、現在視力を矯正する為角膜をレーザ光
により矯正する手術が出現している。この手術では角膜
の表面の形状そのものをレーザ光で加工する為、その加
工量を決める為の術前の測定、及び、術後の評価を行う
為には、瞳上での異なる領域での眼光学特性を正確に知
ることが必要となる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】然し乍ら、上記した従
来の装置に於いては、被検眼瞳上では一定の開口径の光
束を利用して測定を行う為、一定の瞳径での眼光学特性
を測定することしかできず、瞳上での異なる領域での眼
光学特性を知ることができないという欠点を有してい
た。

【０００６】本発明は斯かる実情に鑑み、従来の眼光学
特性測定装置の有する欠点を解決することを目的とした
のものであり、瞳上での異なる領域で、更に瞳上全域に
亘り眼光学特性の分布を測定することが可能な眼光学特
性測定装置を提供するものである。

【０００７】

【課題を解決する為の手段】本発明は、被検眼瞳と略共
役位置に配置され瞳上での光束の通過領域を決める為の
開口絞りと、該開口絞りを介して被検眼眼底に第１次指
標像を投影する為の投影光学系と、被検眼眼底からの反
射光束により前記開口絞りを介して光電検出器上に第２
次指標像を形成する為の受光光学系と、前記光電検出器
からの信号により第２次指標像の光量強度分布を検出す
る検出部とを具備する眼光学特性測定装置に於いて、前
記開口絞りは異なる開口の絞りに変更可能に構成した眼
光学特性測定装置に係り、又前記開口絞りは開口位置を
変更可能とした眼光学特性測定装置に係り、又前記開口
絞りは複数の開口板から成り、該開口板の組合わせで前
記反射光束を複数の領域に分割可能とした眼光学特性測
定装置に係り、又前記領域毎に第２次指標像の光量強度
分布を検出し、検出結果より得られる眼光学特性を表示
する表示部を有し、該表示部は領域の分割態様を表示す
ると共に分割された領域毎に眼光学特性を表示する眼光
学特性測定装置に係るものである。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ本発明の
実施の形態を説明する。

【０００９】図１に於いて、本発明の実施の形態の光学
系について説明する。

【００１０】図中、１は被検眼、２は投影光学系、３は
受光光学系を示す。

【００１１】前記投影光学系２は光源５、該光源５から
発せられた投影光束を集光する投影レンズ６、該投影レ
ンズ６の光軸上に配設されたハーフミラー７、該ハーフ
ミラー７を透過した投影光束を前記被検眼１に向け第１
の偏光方向の直線偏光成分（Ｓ直線偏光）を反射して投
影する偏光ビームスプリッタ８、該偏光ビームスプリッ
タ８の投影光軸に前記偏光ビームスプリッタ８側から配
設されたリレーレンズ９、対物レンズ１１、１／４波長
板１３、前記被検眼１の瞳１８と略共役な位置（共役な
位置を含む）に配設された開口絞り１４を有する。更
に、前記ハーフミラー７に対向して固視標１５、集光レ
ンズ１６を有する固視標系１７が配設されている。前記
光源５、固視標１５は前記被検眼１の眼底と共役な位置
にあり、後述する様に、前記光源５、固視標１５は眼底
に結像する。尚、光源５と投影レンズ６は一体で、後述
の合焦レンズ１９と連動して光軸方向に沿って移動可能
となっている。

【００１２】前記受光光学系３は、前記偏光ビームスプ
リッタ８、該偏光ビームスプリッタ８の投影光軸に配設
された前記リレーレンズ９、対物レンズ１１、１／４波
長板１３を前記投影光学系２と共用している。

【００１３】前記偏光ビームスプリッタ８を透過する反
射光軸上には反射光軸に沿って移動可能な合焦レンズ１
９、結像レンズ２０が配設され、該結像レンズ２０は前
記被検眼１の眼底と共役な位置にある光電検出器２１上
に反射光束を結像させる。

【００１４】該光電検出器２１からの受光信号は信号処
理部２６を介して記憶部２７に記憶される。前記信号処
理部２６から前記記憶部２７へのデータの書込みは制御
部２８によって制御され、該制御部２８は前記記憶部２
７に記憶されたデータを基に所要の演算をし、又演算結
果を表示部２９に表示する。

【００１５】前記開口絞り１４について、図２（Ａ）、
図２（Ｂ）、図２（Ｃ）により説明する。

【００１６】該開口絞り１４は円形状の３枚の開口板２
３，２４，２５から構成され、前記開口板２３は中央部
に円形の遮光部２３ａを有し、周囲のリング形状部分が
透過部２３ｂとなっており、前記開口板２４は前記遮光
部２３ａと同形の透過部２４ａと前記透過部２３ｂと同
形のリング形状の遮光部２４ｂを有している。前記開口
板２５は８等分した中心角が４５°で対称位置にある２
つの小扇形状部分が透過部２５ａ，２５ａであり、残り
の２つの大扇形状部分が遮光部２５ｂ，２５ｂとなって
いる。

【００１７】前記開口板２３，２４，２５を組合わせる
ことで、図３で示されるＡ1 ，Ａ2，Ｂ1 ，Ｂ2 ，Ｃ1
，Ｃ2 ，Ｄ1 ，Ｄ2 及びＡ′1 ，Ａ′2 ，Ｂ′1 ，
Ｂ′2 ，Ｃ′1 ，Ｃ′2 ，Ｄ′1 ，Ｄ′2 の開口部が得
られる。

【００１８】例えば、前記開口板２５を図２（Ｃ）図示
の状態とし、該開口板２５に前記開口板２３を組合わせ
ることで、開口部Ａ2 ，Ａ′2 が得られ、前記開口板２
５に前記開口板２４を組合わせることで、開口部Ａ1 ，
Ａ′1 が得られる。

【００１９】更に、前記開口板２５を４５°ステップで
回転させ、各ステップで開口板２３、開口板２４を組合
わせることで、前記開口部Ａ1 ，Ａ2 ，Ｂ1 ，Ｂ2 ，Ｃ
1 ，Ｃ2 ，Ｄ1 ，Ｄ2 及びＡ′1 ，Ａ′2 ，Ｂ′1 ，
Ｂ′2 ，Ｃ′1 ，Ｃ′2 ，Ｄ′1 ，Ｄ′2 が得られる。

【００２０】以下、上記光学系の作用について説明す
る。

【００２１】前記被検眼１に前記固視標１５を注視させ
た状態で、前記投影光学系２により投影光束を投影す
る。尚、前記固視標１５に関しては、可視光が用いら
れ、前記投影光束については赤外光が用いられる。

【００２２】前記光源５からの投影光束（赤外光）が前
記投影レンズ６、ハーフミラー７を透過して前記偏光ビ
ームスプリッタ８に至り、該偏光ビームスプリッタ８で
Ｓ直線偏光分が反射され、前記リレーレンズ９を経て前
記対物レンズ１１により前記１／４波長板１３を経て前
記被検眼１の眼底に投影され、第１次指標像が結像され
る。

【００２３】Ｓ直線偏光が前記１／４波長板１３を透過
することで、右円偏光となる。前記被検眼１の眼底で投
影光束が反射され、反射光束は眼底で反射されること
で、左円偏光となる。更に、反射光束が前記１／４波長
板１３を透過することで、前記Ｓ直線偏光とは偏光方向
が９０°異なるＰ直線偏光となる。

【００２４】Ｐ直線偏光は、対物レンズ１１、リレーレ
ンズ９により前記偏光ビームスプリッタ８に導かれる。
該偏光ビームスプリッタ８はＳ直線偏光を反射し、Ｐ直
線偏光を透過するので、前記反射光束は該偏光ビームス
プリッタ８を透過し、前記合焦レンズ１９、結像レンズ
２０により前記光電検出器２１上に第２次指標像として
結像される。

【００２５】該光電検出器２１が受光した第２次指標像
の光量強度分布は前記被検眼１の眼光学特性を反映して
おり、前記光電検出器２１の受光状態を検出すること
で、眼光学特性を測定することができる。

【００２６】次に、前記被検眼１の眼底に投影された投
影光束は眼底で全て反射されるわけではなく、一部は眼
底表面から表層内部に侵入し、散乱反射される現象、所
謂にじみ反射（以下、散乱反射という）が発生する。こ
の散乱反射が、反射光束と共に前記光電検出器２１に受
光されると、第２次指標像の光量強度分布のノイズとな
り、正確な眼球光学系の眼光学特性が測定できない。

【００２７】斯かる散乱反射による光束の偏光状態はラ
ンダム状態である。この為、前記１／４波長板１３を透
過し、直線偏光となった場合にＰ直線偏光と合致するも
のは極限られた部分に限定される。従って、前記偏光ビ
ームスプリッタ８により散乱反射成分が殆ど吸収され、
前記光電検出器２１が受光するのは実質上散乱反射成分
が除去された投影反射光束となる。而して、前記１／４
波長板１３を投影光学系２、受光光学系３の構成要素と
することで、正確な眼球光学系の眼光学特性測定を可能
とする。

【００２８】被検眼の眼光学特性の測定について図３、
図４を参照して説明する。

【００２９】以下の眼光学特性の測定では瞳１８を所要
の領域に分割して各領域毎に領域眼光学特性を測定し、
得られた領域眼光学特性から被検眼の眼光学特性を測定
するものである。

【００３０】ＳＴＥＰ０１：前記被検者に前記固視標１
５を注視させた状態で、前記合焦レンズ１９を移動させ
る。該合焦レンズ１９と連動して、前記光源５及び投影
レンズ６も一体で移動する。概略のピント合わせを行
い、被検眼の屈折力に対応した目標測定位置を設定す
る。この設定は、事前に測定した他覚式レフラクトメー
タの測定結果に基づき設定を行う方法、或は、被検者が
前記光電検出器２１からの信号に基づきモニタに表示さ
れた指標像を観察し、指標像の概略のピントが合う様に
ピント合わせを行う方法等が利用できる。

【００３１】ＳＴＥＰ０２：測定する領域を前記開口絞
り１４により設定する。設定は、前記開口板２３、開口
板２４、開口板２５を組合わせて行う。図３中で示す、
Ａ1の領域を設定するには、前記開口板２５を図２
（Ｃ）の状態とし、該開口板２５に前記開口板２４を重
合せることでＡ1 の領域が設定される。尚、前記被検眼
１眼底で反射された反射光束は前記開口絞り１４のＡ1
とは対称な領域を通過するので、Ａ′1 が開口される。

【００３２】前記光源５からの投影光束はＡ1 の領域の
みを透過する。又、前記開口絞り１４は前記瞳１８と共
役な位置にあるので、瞳１８のＡ1 の領域に相当する領
域を投影光束が透過する。尚、前記被検眼１の眼底で反
射された反射光束は、前記開口絞り１４のＡ1 の領域と
対称な位置のＡ′1 の領域を通過して前記偏光ビームス
プリッタ８に至り、反射光束は該偏光ビームスプリッタ
８を透過する。上記した様に、該偏光ビームスプリッタ
８を透過するのはＰ直線偏光のみであり、反射光束に含
まれる散乱光は略完全に除去される。前記瞳１８のＡ1
の領域のみを透過した反射投影光束が前記被検眼１の眼
底で反射され、反射された反射光束がＡ′1 の領域を透
過して前記合焦レンズ１９、結像レンズ２０により前記
光電検出器２１上に投影され、第２次指標像を形成す
る。

【００３３】ＳＴＥＰ０３：この状態で、ＳＴＥＰ０１
で設定された位置を中心として、その前後で前記合焦レ
ンズ１９を所定ステップ量で移動させる。該合焦レンズ
１９と連動して、光源５及び投影レンズ６も一体で移動
する。前記光電検出器２１上での合焦状態を変えながら
各ステップ毎に前記光電検出器２１で得られる画像信号
を前記記憶部２７（例えばフレームメモリ）に記憶す
る。記憶する画像信号は目標位置（目標合焦位置）を含
めた例えば３０フレーム分とする。

【００３４】ＳＴＥＰ０４：前記表示部２９は前記記憶
部２７に記憶された多数の画像データを比較する。被検
眼が乱視を含むとすると、合焦位置は被検眼の前側焦線
位置、後側焦線位置の２つに現れる。前側焦線位置、後
側焦線位置の合焦時の前記合焦レンズ１９の位置等の合
焦状態のデータが取得される。

【００３５】ＳＴＥＰ０５：前記制御部２８は被検眼の
前側焦線位置、後側焦線位置の２つの画像データを選択
する。ここで、前側焦線位置、後側焦線位置では、指標
像は所定経線方向にのみ合焦し、それぞれ方向の異なる
スリット状の像として形成される為、前側焦線位置、後
側焦線位置である２つの画像データは、指標像の形状が
スリット状であるかないかで判断され、選択される。

【００３６】ＳＴＥＰ０６：前記ＳＴＥＰ０５で選択さ
れた前側焦線位置、後側焦線位置での２つの画像データ
に基づき各位置での光量強度分布が前記制御部２８に於
いて演算され、更に各位置での光量強度分布から２次元
的光量強度分布（ＰＳＦ：ＳｐｒｅａｄＦｕｎｃｔｉ
ｏｎ）が演算される。

【００３７】図５を参照して２次元的光量強度分布を略
述する。

【００３８】後側焦線位置での光量強度分布を図５
（Ａ）に示し、前側焦線位置での光量強度分布を図５
（Ｂ）に示している。

【００３９】図５（Ａ）で示す後側焦線の光量強度分布
に於いて、Ｘ方向断面であるＰx は後側焦線で光束が最
も集光している方向の光量分布を表している。

【００４０】同様に、図５（Ｂ）で示す前側焦線の光量
強度分布に於いて、Ｙ方向断面であるＰy は前側焦線で
光束が最も集光している方向の光量分布を表している。

【００４１】前記２次元的光量強度分布（ＰＳＦ：Ｓｐ
ｒｅａｄＦｕｎｃｔｉｏｎ）は、光量強度Ｉ（ｉ）に
於ける楕円近似により、図６（Ａ）、図６（Ｂ）の様に
表される。例えば、図６（Ｂ）では２次元的光量強度分
布はＰxyとして計算される。

【００４２】ＳＴＥＰ０７：領域Ａ1 に於ける被検眼の
情報Ｓ，Ｃ，Ａｘ（球面度数、乱視度数、乱視軸）を前
記合焦レンズ１９の位置データ、前記前側焦線位置、後
側焦線位置でのスリット像の方向及び前記２次元的光量
強度分布Ｐxyに基づき演算により取得する。

【００４３】前記前側焦線位置、後側焦線位置での合焦
レンズ１９の位置の差が乱視度数Ｃに該当し、後側焦線
位置での合焦レンズ１９の位置が球面度数Ｓに該当す
る。又、スリット像の方向から乱視軸が求められる。

【００４４】ＳＴＥＰ０８：次に、前記開口板２４を前
記開口板２３に交換する。該開口板２３にすることで、
領域はＡ2 に変更される（図３参照）。

【００４５】ＳＴＥＰ０９：次の測定対象領域であるＡ
2 の領域について測定が行われたかどうかが判断され
る。未だ測定が行われていない場合は、ＳＴＥＰ０２に
戻り領域の再設定が行われた後、ＳＴＥＰ０８迄の処理
が行われる。未測定対象領域が存在する限り、ＳＴＥＰ
０２に戻りＳＴＥＰ０８迄の処理が繰返される。

【００４６】ＳＴＥＰ０９：全ての領域で測定が完了し
たかどうかが判断され、全領域での測定が完了した場
合、ＳＴＥＰ１０に進む。

【００４７】ＳＴＥＰ１０：全領域の測定結果を基に眼
光学特性を演算して求める。

【００４８】ＳＴＥＰ０６で示した様に、後側焦線の光
量強度分布及び前側焦線の光量強度分布から前記Ｐxyが
得られるが、得られた該Ｐxyは前記被検眼１の眼球光学
系を投影光束が２度通過して得られるものであるので、
前記Ｐxyと被検眼１の眼球光学系のスプレッドファンク
ション（ＰＳＦ）Ｐ′xyとは以下の関係にある。

【００４９】Ｐxy＝(Ｐ′xy)²

【００５０】従って、Ｐ′xy＝√（Ｐxy）となる。従っ
て、前記Ｐxyを得ることで、被検眼１の眼球光学系のス
プレッドファンクション（ＰＳＦ）Ｐ′xyを求めること
ができる。

【００５１】以上の様にして、求められたＰxy を図８
に示す様に前記被検眼１が実際に見ている指標Ｏxyと重
合せ積分してイメージＩxyを得ることができる。イメー
ジＩxyは前記被検眼１を屈折力−Ｓディオプターの球面
レンズと、屈折力−ディオプターの円柱レンズとを組合
わせた眼鏡レンズで矯正した場合に得られる被検眼眼底
像を表している。

【００５２】ここで、ＦＴを逆フーリエ変換、ＩＦＴを
逆フーリエ変換するとｐxy＝ＦＴ（Ｐxy）ｏxy＝ＦＴ（Ｏxy）ｉxy＝ＦＴ（Ｉxy）となるので、ｉxy＝ｐxy×ｏxy Ｉxy＝ＩＦＴ（ｉxy）より、イメージＩxyを得ることもできる。

【００５３】更に、前記ＰＳＦをフーリエ変換するとＭ
ＴＦ（ＭｏｄｕｌａｔｉｎｇＴｒａｎｓｆｅｒＦｕ
ｎｃｔｉｏｎ）が得られる。該ＭＴＦを例えばＡ1 領
域、Ａ2 領域、Ｄ1 領域、Ｄ2 領域について図示すると
図１１（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）に示す様にな
る。図９に於いて、縦軸はスペクトル（周波数）の強度
を表し、１に正規化してあり、横軸は周波数を示してい
る。

【００５４】ＳＴＥＰ１１以降の処理は各領域毎に得ら
れた測定結果を表示、或は測定結果に基づき所要の演算
をして演算結果を表示する。

【００５５】ＳＴＥＰ１１：瞳１８の領域分割した状態
を表示すると共に各領域毎に領域特性（Ｓ，Ｃ，Ａx ）
を表示する。領域毎の表示は瞳１８の分割状態に重合さ
せ、或は表形式で表示する（図７参照）。

【００５６】ＳＴＥＰ１２：分割した領域毎にグラフィ
ックを表示する。

【００５７】表示されるグラフィックは、前側焦線位
置、後側焦線位置でのＰＳＦ（Ｐx 、Ｐy )（図５
（Ａ）（Ｂ）参照）、矯正時予測Ｐxy（図９参照）、シ
ミュレーション眼底像（Ｉxy）（図１０参照）を表示す
る。

【００５８】ＳＴＥＰ１３：分割した領域毎にグラフを
表示する。

【００５９】表示されるグラフは前記ＭＴＦであり、図
１１に示されたグラフが各領域毎に独立して表示され、
或は図１２に示す様に各領域毎に線種を変え重合して表
示される。

【００６０】而して、瞳１８の分割された領域毎の眼光
学特性が得られる。

【００６１】尚、領域分割については測定の目的に応じ
適正な分割態様とすればよく、例えば図１３に示される
様に、円周方向に半円４分割（Ａ〜Ｄ）、半径方向に６
分割して、更に細分化した領域について眼光学特性を測
定してもよい。

【００６２】図１３に示される分割の態様を得るには、
図１４に示される中心開口板Ｊ1 〜Ｊ6 、周辺開口板Ｋ
1 〜Ｋ5 、扇状開口板Ｌ1 ，Ｌ2 を組合わせることで分
割が可能である。例えば、中心開口板Ｊ3 、周辺開口板
Ｋ2 及び図示の状態の扇状開口板Ｌ1 ，Ｌ2 を組合わせ
ることで、図１３中、Ｄ3 の領域が得られる。

【００６３】更に、図１５に示される様に得ようとする
領域のみが開口３３ａされた開口板３３を用いてもよ
い。図１５では該開口板３３は一枚しか示していない
が、開口が半径方向にずれている６枚を使用し、同一円
周上に位置する領域、例えば、Ａ5 ，Ｂ5 ，Ｃ5 ，Ｄ5
については同一の開口板３３を４５°ステップで回転さ
せることで得られる。

【００６４】更に、上記実施の形態では分割領域の形状
を円弧状としたが、リング状に分割してもよい。例え
ば、図２に示す開口板２３、開口板２４を用いること
で、中心部、及び周辺部の２領域に分割することが可能
である。リング状に分割することは虹彩の拡縮に対応し
た眼光学特性が得られる利点がある。

【００６５】尚、上記実施の形態では偏光ビームスプリ
ッタを使用したが、ビームスプリッタをハーフミラーと
し投光系、受光系の光路にそれぞれ９０°偏光方向の異
なる偏光板を設けてもよい。

【００６６】

【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、被検眼
瞳と略共役位置に配置され瞳上での光束の通過領域を決
める為の開口絞りと、該開口絞りを介して被検眼眼底に
第１次指標像を投影する為の投影光学系と、被検眼眼底
からの反射光束により前記開口絞りを介して光電検出器
上に第２次指標像を形成する為の受光光学系と、前記光
電検出器からの信号により第２次指標像の光量強度分布
を検出する検出部とを具備する眼光学特性測定装置に於
いて、前記開口絞りは異なる開口の絞りに変更可能に構
成したので、瞳上での異なる複数の領域での眼光学特性
を測定することができ、角膜矯正手術が行われる場合等
に重要な情報が得られる等の種々の優れた効果を発揮す
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態を示す光学系の概略構成図
である。

【図２】同前実施の形態に使用される開口絞りの説明図
である。

【図３】前記開口絞りにより分割される領域の状態を示
す説明図である。

【図４】本発明の実施の形態の作用を示すフローチャー
トである。

【図５】本発明の実施の形態での測定で得られる光量強
度分布の線図であり、（Ａ）は後側焦線での光量強度分
布を示す線図、（Ｂ）は前側焦線での光量強度分布を示
す線図である。

【図６】（Ａ）は後側焦線での光量強度分布、（Ｂ）は
前側焦線での光量強度分布から得られる２次元光量強度
分布の線図である。

【図７】瞳の領域分割態様と、分割領域に各領域の眼光
学特性のデータを表示した説明図である。

【図８】指標と矯正されたイメージの説明図である。

【図９】矯正時予測ＰＳＦを示す説明図である。

【図１０】矯正時のシミュレーションイメージ像の説明
図である。

【図１１】（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）（Ｄ）は測定した光量強
度分布から得られるＭＴＦの線図である。

【図１２】前記ＭＴＦを重合し、一図として示した説明
図である。

【図１３】他の分割態様を示す説明図である。

【図１４】該分割態様に使用される開口絞りの説明図で
ある。

【図１５】他の開口絞りの説明図である。

【符号の説明】

１被検眼２投影光学系３受光光学系５光源８偏光ビームスプリッタ９リレーレンズ１１対物レンズ１３１／４波長板１４開口絞り１７固視標系１９合焦レンズ２１光電検出器２７記憶部２８制御部２９表示部

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】被検眼瞳と略共役位置に配置され瞳上で
の光束の通過領域を決める為の開口絞りと、該開口絞り
を介して被検眼眼底に第１次指標像を投影する為の投影
光学系と、被検眼眼底からの反射光束により前記開口絞
りを介して光電検出器上に第２次指標像を形成する為の
受光光学系と、前記光電検出器からの信号により第２次
指標像の光量強度分布を検出する検出部とを具備する眼
光学特性測定装置に於いて、前記開口絞りは異なる開口
の絞りに変更可能に構成したことを特徴とする眼光学特
性測定装置。
【請求項２】前記開口絞りは開口位置を変更可能とし
た請求項１の眼光学特性測定装置。
【請求項３】前記開口絞りは複数の開口板から成り、
該開口板の組合わせで前記反射光束を複数の領域に分割
可能とした請求項１の眼光学特性測定装置。
【請求項４】前記領域毎に第２次指標像の光量強度分
布を検出し、検出結果より得られる眼光学特性を表示す
る表示部を有し、該表示部は領域の分割態様を表示する
と共に分割された領域毎に眼光学特性を表示する請求項
３の眼光学特性測定装置。