JP2002103895A - 表示板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】優れた金属光沢性、及び絶縁性の両方を併せも
った、透明プラスチック基材表面から金属光沢性エンボ
ス模様を透視可能な表示板を得ることを目的とする。 【解決手段】透明プラスチック基材の裏面に、エンボス
模様が施され、エンボス模様上に表面抵抗値が１０⁵Ω
／□を超える金属光沢性絶縁層が形成されている表示板
であって、透明プラスチック基材の表面側から測定した
可視光反射率が８％を超えることを特徴とする透明プラ
スチック基材表面から金属光沢性エンボス模様を透視可
能な表示板。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ステレオ、テレ
ビ、電子レンジ、冷蔵庫等の家電製品、ゲーム機、自動
車等に使用する表示板であって、優れた金属光沢性、及
び絶縁性の両方を併せもった、透明プラスチック基材表
面から金属光沢性エンボス模様を透視可能な表示板に関
する。

【０００２】

【従来の技術】家電製品、ゲーム機、自動車等に使用し
て、透明プラスチック基材表面から金属光沢性エンボス
模様を透視可能な表示板としては、従来透明プラスチッ
ク基材にエンボス模様を形成し、その上に金属光沢層が
形成されたものが知られている。そして該金属光沢層と
しては、Ａｌ等の金属薄膜層を使用したもの、又は樹脂
に金属粉末や金属ペーストを分散した所謂メタリック塗
料をコーティングして形成したメタリック塗料層を使用
したものが知られている。

【０００３】Ａｌ等の金属薄膜層が形成された表示板
は、具体的にはプラスチックフイルムにエンボス模様を
形成し、該エンボス模様上に離型層、保護層、Ａｌ薄膜
層、接着層を順次形成した転写材料を透明プラスチック
基材の裏面に転写して製造されるのが一般的であり、で
き上がった表示板は、透明プラスチック基材上に、接着
層、Ａｌ薄膜層、保護層、離型層が順次形成されてお
り、接着層、Ａｌ薄膜層、保護層、離型層がエンボス模
様を呈した構成になっている。

【０００４】さらに、上記表示板と似た構成の表示板で
あって、透明板を通して、エンボス効果のある着色層を
透視できる構造物が知られている。特公平２−４９９１
９号公報の実施例には、厚さ２５μｍのポリエステルフ
イルムの片面にエンボス加工の一種であるヘアライン加
工を施したものを使用し、このヘアライン加工面に離型
層、および蒸着アンカー層を順次形成し、その後、真空
蒸着法により金属Ｃｒを薄く蒸着して金属薄膜である蒸
着層を形成し、フイルム全体の光線透過率を４８〜５５
％とし、更に、この蒸着層上に透明ホットメルト接着剤
層を形成して得た転写箔を、透明アクリル板の片面に転
写し、さらに転写面上に黒色塗膜を形成することによ
り、黒色層に明瞭なヘアライン模様を有する外観の構造
物が記載されている。また、上記金属薄膜は、Ａｌから
なるものであってもよい旨の記載もある。

【０００５】メタリック塗料層を形成した表示板は、具
体的にはプラスチックフイルムにエンボス模様を形成
し、該エンボス模様上に離型層、保護層、接着層を順次
形成した転写材料を透明プラスチック基板の裏面に転写
した後、離型層上にメタリック塗料をコーティングして
メタリック塗料層を形成することにより製造されるのが
一般的であり、でき上がった表示板は、透明プラスチッ
ク基材上に、接着層、保護層、離型層、メタリック塗料
層が順次形成されており、接着層、保護層、離型層がエ
ンボス模様を呈した構成になっている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかし最近、家電製
品、ゲーム機、自動車等に使用して、透明プラスチック
基材表面から金属光沢性エンボス模様を透視可能な表示
板として、優れた金属光沢性、及び絶縁性の両方を併せ
もったものが切望されているが、上記従来の表示板には
優れた金属光沢性、及び絶縁性の両方を満足するものは
存在せず、従って以下に示す欠点があった。 （１）Ａｌ等の金属薄膜層が形成された表示板は、金属
光沢を呈する層がＡｌ等の金属薄膜層で形成されている
ので、金属光沢性に優れているものの、金属薄膜層が導
電性であり絶縁性が全くないという問題があった。すな
わち、上記表示板の最表層には、表示板を得るために使
用する転写材料の離型層、及び保護層が該金属薄膜層上
に形成されており該表示板の最表層は絶縁性を呈する
が、該転写材料の転写適性のため離型層、及び保護層の
厚さが数μｍしかなく、非常に薄いので、容易に絶縁破
壊が生じてしまい、結果的にはＡｌ等の金属薄膜層自体
の導電性が発現するという欠点があった。従って上記表
示板を、例えばテレビやオーディオ機器等の家電製品の
表示板に使用した場合、Ａｌ等の金属箔膜層に電荷が帯
電し人がこれに接触すると電撃が生じたり、また逆に人
体に帯電した電荷により家電製品を破壊することがあっ
た。 （２）メタリック塗料層を形成した表示板は、メタリッ
ク塗料層が導電性ではないので絶縁性に優れているもの
の、金属光沢性に欠けていた。従って、メタリック塗料
層を形成した表示板も金属光沢性に欠けるという問題が
あった。 （３）特公平２−４９９１９号公報に記載の構造物は、
金属薄膜層の光線透過率が非常に高いので、金属光沢性
を全く有するものではなかった。本発明は、上記全ての
欠点を除去したものであり、優れた金属光沢性、及び絶
縁性の両方を併せもった、透明プラスチック基材表面か
ら金属光沢性エンボス模様を透視可能な表示板を得るこ
とを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】（１）本発明は、透明プ
ラスチック基材の裏面に、エンボス模様が施され、エン
ボス模様上に表面抵抗値が１０⁵Ω／□を超える金属光
沢性絶縁層が形成されている表示板であって、透明プラ
スチック基材の表面側から測定した可視光反射率が８％
を超えることを特徴とする透明プラスチック基材表面か
ら金属光沢性エンボス模様を透視可能な表示板である。 （２）本発明は、金属光沢性絶縁層が、可視光反射率９
％の透明プラスチック基材の裏面に金属光沢性絶縁層を
形成したものを透明プラスチック基材側から測定したと
きの可視光反射率が４０％を超える金属光沢性絶縁層で
ある上記（１）記載の表示板である。 （３）本発明は、エンボス模様が、透明プラスチック基
材と金属光沢性絶縁層との間に形成された透明なエンボ
ス層に施されている上記（１）、又は（２）記載の表示
板である。 （４）本発明は、エンボス層が、透明接着層で形成され
ている上記（３）記載の表示板である。 （５）本発明は、エンボス層が、透明プラスチック基材
に近い方から順に透明接着層、耐溶剤性透明樹脂層で形
成されている上記（３）記載の表示板である。 （６）本発明は、エンボス層が、透明プラスチック基材
に近い方から順に透明接着層、耐溶剤性透明樹脂層、透
明樹脂層で形成されている上記（３）記載の表示板であ
る。 （７）本発明は、透明プラスチック基材とエンボス層と
の間に、透明印刷層が形成されている上記（３）乃至
（６）何れかに記載の表示板である。 （８）本発明は、エンボス層を転写法により形成するこ
とを特徴とする上記（３）乃至（７）何れかに記載の表
示板である。

【０００８】本発明の表示板は、透明プラスチック基材
表面から金属光沢性エンボス模様を透視可能な表示板で
あって、該透明プラスチック基材の表面側から測定した
可視光反射率が８％を超えるので、金属光沢性に優れて
いる。一般に上記の金属光沢性は、該可視光反射率が８
％を超えれば実用上問題がない。特に本発明の表示板に
形成した金属光沢性絶縁層を、可視光反射率９％の透明
プラスチック基材の裏面に金属光沢性絶縁層を形成した
ものを透明プラスチック基材側から測定したときの可視
光反射率が４０％を超える金属光沢性絶縁層とすればよ
り万全である。また、本発明の表示板は、上記金属光沢
性絶縁層の表面抵抗値が、１０⁵Ω／□を超えるので、
Ａｌ等の金属薄膜層が形成された表示板のように導電性
でなく絶縁性にも優れている。一般に家電製品等に使用
される表示板としては、金属光沢性絶縁層の表面抵抗値
が、１０⁵Ω／□を超えれば特に実用上問題がない。本
発明の表示板は、エンボス層を転写により形成すること
ができるので、必要な部分に、容易にエンボス模様を得
ることができる。

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明の表示板に使用する透明プ
ラスチック基材は、本発明の表示板を透明プラスチック
基材の表面側から測定した可視光反射率が８％を超える
ことを満足し、かつ透明プラスチック基材表面から金属
光沢性エンボス模様を透視可能な程度の透明性を有して
いるものであれば特に制限はなく、アクリル樹脂、ポリ
カーボネート樹脂等の透明なプラスチック基材が使用で
きる。また、該透明プラスチック基材の厚さは、上記条
件を満足する範囲で適宜決定すれば良い。さらに、該透
明プラスチック基材は、染料や顔料等で着色されていて
も良い。そして、透明プラスチック基材裏面には、エン
ボス模様が施されていても良く、施されていない場合に
は、後で述べる透明なエンボス層にエンボス模様を施せ
ば良い。

【００１０】本発明の表示板に施されるエンボス模様
は、透明プラスチック基材の裏面に直接施されていても
良く、また後で述べる透明プラスチック基材の裏面に形
成された透明なエンボス層に施されていても良い。該エ
ンボス模様は、例えばヘアライン模様やマット状模様
等、任意の形状の凹凸を有する模様であり、本発明の表
示板に意匠効果を与えるものである。該エンボス模様
は、本発明の表示板の所望の意匠外観に合わせて適宜決
定すれば良い。

【００１１】本発明の表示板に形成される金属光沢性絶
縁層は、透明プラスチック基材裏面に直接エンボス模様
が施されている場合には該エンボス模様上に、透明プラ
スチック基材裏面に直接エンボス模様が施されていない
場合には後で述べるエンボス模様が施された透明なエン
ボス層上に形成される。そして、エンボス模様上、又は
エンボス模様が施された透明なエンボス層上に金属光沢
性絶縁層を形成することにより、本発明の表示板が、透
明プラスチック基材表面から金属光沢性エンボス模様を
透視可能となる。また、金属光沢性絶縁層はエンボス層
上の全面に形成しても、必要な部分にのみ形成しても良
い。金属光沢性絶縁層を必要な部分にのみ形成した場合
には、金属光沢性絶縁層を形成した部分のみが金属光沢
性エンボス模様を呈する表示板となる。

【００１２】本発明の表示板に形成される金属光沢性絶
縁層は、表面抵抗値が１０⁵Ω／□を超えるので、Ａｌ
等の金属薄膜層に比べて絶縁性に優れている。従って、
該金属光沢性絶縁層が形成された本発明の表示板は、Ａ
ｌ等の金属薄膜層が形成された表示板のように導電性で
なく絶縁性にも優れている。

【００１３】また、本発明の表示板に形成される金属光
沢性絶縁層は、優れた金属光沢性を有する。従って、該
金属光沢性絶縁層が形成された本発明の表示板は、透明
プラスチック基材の表面側から測定した可視光反射率が
８％を超え、優れた金属光沢性を有するものとなる。特
に該金属光沢性絶縁層を、可視光反射率９％の透明プラ
スチック基材の裏面に金属光沢性絶縁層を形成したもの
を透明プラスチック基材側から測定したときの可視光反
射率が４０％を超える金属光沢性絶縁層とした場合に
は、本発明の表示板は金属光沢性に特に優れたものとな
る。

【００１４】本発明の表示板に形成される金属光沢性絶
縁層は、樹脂にアルミペースト等の金属ペーストを分散
した塗料を使用して、スクリーン印刷法等の従来公知の
方法で形成される。

【００１５】本発明の表示板に形成される金属光沢性絶
縁層に使用する塗料は、透明プラスチック基材、又はエ
ンボス層と密着し、かつ上記可視光反射率の条件を満足
するものであれば特に制限はないが、粒度分布の小さい
アルミペーストを分散した高金属光沢性メタリックイン
キを使用して形成するのが好ましい。該高金属光沢性メ
タリックインキとして例えば、セイコーアドバンス社製
の鏡面インキが使用できる。

【００１６】金属光沢性絶縁層の厚さは、０．１〜１０
μｍが好ましく、特に１〜２μｍが好ましい。金属光沢
性絶縁層の厚さが０．１μｍより薄いと金属光沢性が低
下するので好ましくない。金属光沢性絶縁層の厚さが１
０μｍより厚くても金属光沢性は向上せず、経済性の点
から好ましくない。従って、金属光沢性絶縁層の厚さ
は、金属光沢性、及び経済性の点から０．１〜１０μｍ
が好ましく、１〜２μｍであればより万全である。

【００１７】本発明の表示板に形成するエンボス模様
は、透明プラスチック基材と金属光沢性絶縁層との間に
形成された透明なエンボス層に施されていても良い。上
記エンボス層は、本発明の表示板を透明プラスチック基
材の表面側から測定した可視光反射率が８％を超えるこ
とを満足し、かつ透明プラスチック基材表面から金属光
沢性エンボス模様を透視可能な程度の透明性があれば足
り、エンボス層に染料や顔料等を混入して着色されてい
ても構わない。上記エンボス模様は、エンボス層全体に
施されていても良いが、少なくともエンボス層の金属光
沢性絶縁層側表面に施されていれば良い。さらに、エン
ボス層は一層でも、二層以上の複数の層で形成されてい
ても良く、また表示板の全面に形成されていても、必要
な部分にのみ形成されていても良い。本発明の表示板に
エンボス層を形成する方法としては、透明プラスチック
基材の裏面に直接透明な樹脂塗料をスクリーン印刷法等
で一層、又は複数層形成した後、該層上にエンボス模様
を施してエンボス層を形成しても構わないが、あらかじ
めエンボス模様を施したエンボス層を転写法により形成
すれば、必要な部分に、容易にエンボス模様を得ること
ができるので好ましい。特にエンボス層を複数の層で形
成する場合にエンボス層を転写法により形成すれば、エ
ンボス層の形成が一工程のみですむので表示板の生産性
向上の点からも最適である。

【００１８】本発明の表示板にエンボス層を転写法によ
り形成するには、例えば離型性を有するプラスチックフ
イルムの片面にエンボス模様を施し、その上にエンボス
層を形成した転写材料を透明プラスチック基材の裏面に
ラバー押し等で熱転写する。このとき、透明プラスチッ
ク基材の裏面に転写されたエンボス層の少なくとも最表
層には、上記転写材料に使用したプラスチックフイルム
の片面に施したエンボス模様と同じエンボス模様が施さ
れている。そして、該エンボス層上に金属光沢性絶縁層
を形成することにより、透明プラスチック基材表面から
金属光沢性エンボス模様を透視可能な本発明の表示板と
なる。

【００１９】本発明の表示板に形成されるエンボス層が
一層の場合には、該エンボス層は透明接着層で形成して
も良い。上記透明接着層は、透明プラスチック基材、及
び金属光沢性絶縁層と密着し、また該透明接着層上に後
で述べる耐溶剤性透明樹脂層を形成した場合には耐溶剤
性透明樹脂層と、透明プラスチック基材と透明接着層と
の間に後で述べる透明印刷層が形成されている場合には
透明印刷層とも密着するものである。そして、上記透明
接着層は、その少なくとも金属光沢性絶縁層側表面には
エンボス模様が施されている。また、上記透明接着層
は、本発明の表示板の全面に形成されていても良く、ま
た必要な部分にのみ形成されていても良い。

【００２０】本発明の表示板に形成される透明接着層に
使用する樹脂は、透明プラスチック基材、金属光沢性絶
縁層、耐溶剤性透明樹脂層、又は透明印刷層と密着する
ものであれば特に制限はなく、アクリル系樹脂、塩化ビ
ニル・酢酸ビニル共重合体系樹脂等が使用できる。ま
た、透明プラスチック基材と透明接着層との間に透明印
刷層が形成されている場合に、透明接着層に使用する樹
脂を硝化綿等の繊維素としておけば、透明プラスチック
基材に密着せず、透明印刷層のみに密着するので透明印
刷層上のみにエンボス模様を施したい場合には特に有効
である。

【００２１】透明接着層の厚さは、０．１〜１０μｍが
好ましく、０．５〜５μｍが特に好ましい。透明接着層
の厚さが０．１μｍより薄いと透明プラスチック基材、
金属光沢性絶縁層、耐溶剤性透明樹脂層、又は透明印刷
層との密着性が低下するので好ましくない。透明接着層
の厚さが１０μｍより厚くても透明プラスチック基材、
金属光沢性絶縁層、耐溶剤性透明樹脂層、又は透明印刷
層との密着性は向上せず、経済性の点から好ましくな
い。従って、透明接着層の厚さは、密着性、及び経済性
の点から０．１〜１０μｍが好ましく、０．５〜５μｍ
であればより万全である。

【００２２】透明接着層の形成方法は、透明プラスチッ
ク基材に直接形成する場合には、スクリーン印刷法等が
使用でき、転写法で形成する場合には、例えば離型性を
有するプラスチックフイルムの片面にエンボス模様を施
し、その上に透明接着層をグラビアコート法、リバース
コート法、バーコート法、ダイコート法、スクリーン印
刷法等の従来公知の方法を使用して全面、又は必要な部
分にのみ形成した転写材料を透明プラスチック基材の裏
面にラバー押し等で熱転写する方法が使用できる。

【００２３】本発明の表示板に形成されるエンボス層
は、透明プラスチック基材に近い方から順に透明接着
層、耐溶剤性透明樹脂層としても良い。このとき、エン
ボス模様は、エンボス層全体に施されていても良いが、
少なくとも耐溶剤性透明樹脂層の金属光沢性絶縁層側表
面に施されていれば良い。上記耐溶剤性透明樹脂層は、
エンボス層が透明接着層一層のみである場合に、該透明
接着層上に金属光沢性絶縁層を形成する時に使用する高
金属光沢性メタリックインキに含まれる溶剤で該透明接
着層表面に施されたエンボス模様の形状が変化するのを
防止する目的で透明接着層上に形成される。従って、透
明接着層上に耐溶剤性透明樹脂層を形成しておけば、エ
ンボス模様の形状変化防止の効果が向上するので、その
結果本発明の表示板の意匠効果が低下し難いので好まし
い。

【００２４】本発明の表示板に形成される耐溶剤性透明
樹脂層に使用する樹脂は、透明接着層、及び金属光沢性
絶縁層と密着し、また該耐溶剤性透明樹脂層上に後で述
べる透明樹脂層を形成した場合には透明樹脂層とも密着
し、かつ金属光沢性絶縁層を形成する時に使用する高金
属光沢性メタリックインキに含まれる溶剤で耐溶剤性透
明樹脂層表面に施されたエンボス模様の形状が変化しな
いものであれば特に制限はなく、メラミン系樹脂、アク
リル系樹脂、ウレタン系樹脂等が使用できる。また、耐
溶剤性の点から上記の樹脂は硬化型樹脂が好ましく、例
えばウレタン・アクリル系樹脂等が使用できる。

【００２５】耐溶剤性透明樹脂層の厚さは、０．５〜５
μｍが好ましく、１〜２μｍが特に好ましい。耐溶剤性
透明樹脂層の厚さが０．５μｍより薄いと耐溶剤性が低
下して、エンボス模様の形状変化防止の効果が低下する
ので好ましくない。耐溶剤性透明樹脂層の厚さが５μｍ
より厚くてもエンボス模様の形状変化防止の効果は向上
せず、経済性の点から好ましくない。従って、耐溶剤性
透明樹脂層の厚さは、耐溶剤性、及び経済性の点から
０．５〜５μｍが好ましく、１〜２μｍであればより万
全である。

【００２６】耐溶剤性透明樹脂層の形成方法は、透明接
着層上に直接形成する場合には、スクリーン印刷法等が
使用でき、転写法で形成する場合には、例えば離型性を
有するプラスチックフイルムの片面にエンボス模様を施
し、その上に耐溶剤性透明樹脂層をグラビアコート法、
リバースコート法、バーコート法、ダイコート法、スク
リーン印刷法等の従来公知の方法を使用して形成し、さ
らにその上に透明接着層を形成した転写材料を透明プラ
スチック基材の裏面にラバー押し等で熱転写する方法が
使用できる。

【００２７】本発明の表示板に形成されるエンボス層
は、透明プラスチック基材に近い方から順に透明接着
層、耐溶剤性透明樹脂層、透明樹脂層としても良い。上
記透明樹脂層は、エンボス層を転写法で形成する場合に
使用する転写材料のプラスチックフイルムと耐溶剤性透
明樹脂層との間に形成され、離型性の向上を目的とする
所謂離型層の役割を果たすものであり、該転写材料を透
明プラスチック基材に転写した後にはエンボス層の最表
層となる。このときエンボス模様は、上記透明樹脂層の
耐溶剤性が比較的優れている場合には、該透明樹脂層の
金属光沢性絶縁層側表面にのみ施されていれば良いが、
透明樹脂層の耐溶剤性が劣る場合には、エンボス模様が
透明樹脂層の金属光沢性絶縁層側表面にのみ施されてい
ると金属光沢性絶縁層を形成する時に使用する高金属光
沢性メタリックインキに含まれる溶剤によりエンボス模
様の形状が変化してしまうので、エンボス模様はエンボ
ス層全体に施されているか、少なくとも耐溶剤性透明樹
脂層には施されている必要がある。エンボス模様が少な
くとも耐溶剤性透明樹脂層に施されているようにする方
法としては、例えば前記転写材料のプラスチックフイル
ムに施されるエンボス模様の凹凸の深さよりも透明樹脂
層の厚さを薄くしておけば良く、こうすることによりそ
の上に形成する耐溶剤性透明樹脂層にもエンボス模様が
施されるので、溶剤により透明樹脂層に施されたエンボ
ス模様が変化しても耐溶剤性透明樹脂層に施されたエン
ボス模様は変化しないので、従って本発明の表示板も金
属光沢性エンボス模様が変化することがなく、意匠効果
が低下することもない。

【００２８】本発明の表示板に形成される透明樹脂層に
使用する樹脂は、耐溶剤性透明樹脂層、及び金属光沢性
絶縁層と密着し、かつエンボス層を転写法で形成する場
合に使用する転写材料のプラスチックフイルムと耐溶剤
性透明樹脂層との離型性を向上するものであれば特に制
限はなく、アクリル系樹脂等が使用できる。

【００２９】透明樹脂層の厚さは、０．１〜５μｍが好
ましく、０．５〜２μｍが特に好ましい。透明樹脂層の
厚さが０．１μｍより薄いと離型性が低下して、離型性
向上の効果が低下するので好ましくない。透明樹脂層の
厚さが５μｍより厚いと、離型性が良すぎて所謂箔散り
が発生するので好ましくない。特に透明樹脂層が耐溶剤
性に劣る場合には、エンボス層を転写法で形成する場合
に使用する転写材料のプラスチックフイルムに施される
エンボス模様の凹凸の深さよりも透明樹脂層の厚さが厚
くなってしまうと、耐溶剤性透明樹脂層にエンボス層が
施されず、金属光沢性絶縁層を形成する時に使用する高
金属光沢性メタリックインキに含まれる溶剤によりエン
ボス模様の形状が変化してしまうので、結果として本発
明の表示板も金属光沢性エンボス模様が変化してしま
い、意匠効果が低下するので好ましくない。従って、透
明樹脂層の厚さは、離型性、及びエンボス模様の形状変
化防止の点から０．１〜５μｍが好ましく、０．５〜２
μｍであればより万全である。

【００３０】透明樹脂層の形成方法は、例えばプラスチ
ックフイルムの片面に、又は離型性を有するプラスチッ
クフイルムの片面にエンボス模様を施し、その上に透明
樹脂層をグラビアコート法、リバースコート法、バーコ
ート法、ダイコート法、スクリーン印刷法等の従来公知
の方法を使用して形成し、その上に耐溶剤性透明樹脂層
を形成し、さらにその上に透明接着層を形成した転写材
料を透明プラスチック基材の裏面にラバー押し等で熱転
写する方法が使用できる。

【００３１】本発明の表示板に形成される透明印刷層
は、透明プラスチック基材とエンボス層との間にあっ
て、エンボス層を転写法で形成する場合には、透明プラ
スチック基材に使用する樹脂の種類、及び透明接着層に
使用する樹脂の種類の組み合わせを適宜選択することに
より、透明プラスチック基材上に選択的にエンボス層を
形成する役割を果たすものである。具体的には、透明プ
ラスチック基材上の必要な部分に透明印刷層を形成し、
その上に硝化綿等の繊維素を使用した透明接着層が形成
された転写材料を熱転写してエンボス層を形成すれば、
該エンボス層は透明プラスチック基材上には密着せず、
透明印刷層上にのみ選択的に密着する。従って、エンボ
ス層を形成するために使用する転写材料の透明接着層が
たとえ該転写材料の全面に形成されていたとしても、透
明プラスチック基材上の必要な部分に透明印刷層を形成
しておけば、透明プラスチック基材上の必要な部分に、
必要な時に、しかも容易にエンボス模様を形成すること
ができるので、結果として金属光沢性エンボス模様を表
示板の所望の部分に、容易に形成することができ、また
表示板の小ロット生産も可能となった。

【００３２】本発明の表示板に形成される透明印刷層に
使用する樹脂は、透明プラスチック基材、及び透明接着
層と密着し、本発明の表示板を透明プラスチック基材の
表面側から測定した可視光反射率が８％を超えることを
満足し、かつ透明プラスチック基材表面から金属光沢性
エンボス模様を透視可能な程度の透明性を有する樹脂で
あれば特に制限はなく、アクリル系樹脂、塩化ビニル・
酢酸ビニル共重合体系樹脂等が使用できる。また、透明
印刷層に使用する樹脂の種類は、透明プラスチック基材
の種類により適宜決定すれば良い。

【００３３】透明印刷層の厚さは、０．５〜１０μｍが
好ましく、１〜５μｍが特に好ましい。透明印刷層の厚
さが０．５μｍより薄いと、透明プラスチック基材や透
明接着層との密着力が低下するので好ましくない。透明
印刷層の厚さが１０μｍより厚いと、透明印刷層を形成
する工程で乾燥性が悪くなり、そのために生産性が低下
したり、また経済性の点からも好ましくない。従って、
透明印刷層の厚さは、透明プラスチック基材や透明接着
層との密着力、生産性、経済性の点から０．５〜１０μ
ｍが好ましく、１〜５μｍであればより万全である。

【００３４】透明印刷層の形成方法は、スクリーン印刷
法等の従来公知の方法が使用できる。

【００３５】ここで本発明に係る表示板について、図面
を参照しながら説明する。図１は、本発明に係る表示板
の一例を示す一部拡大断面図であり、透明プラスチック
基材１の裏面に、透明接着層３、耐溶剤性透明樹脂層
４、透明樹脂層５、金属光沢性絶縁層６が順次全面に形
成されており、透明接着層３、耐溶剤性透明樹脂層４、
透明樹脂層５の全体にエンボス模様が施されている。図
２は、本発明に係る表示板の一例を示す一部拡大断面図
であり、透明プラスチック基材１の裏面に、透明印刷層
２、透明接着層３、耐溶剤性透明樹脂層４、透明樹脂層
５、金属光沢性絶縁層６が順次部分的に形成されてお
り、透明接着層３、耐溶剤性透明樹脂層４、透明樹脂層
５の全体にエンボス模様が施されている。

【００３６】

【実施例１】エンボス模様を施した厚さ２５μｍのプラ
スチックフイルムのエンボス模様上に、アクリル系樹脂
（三井東圧社製）をグラビアコート法にてコーティング
して、離型性を有する厚さ１μｍの透明樹脂層を形成
し、その上にウレタン・アクリル系の硬化型樹脂をグラ
ビアコート法にてコーティングして、厚さ１．５μｍの
耐溶剤性透明樹脂層を形成し、さらにその上に硝化綿Ｎ
Ｃ１／１６（ダイセル化学社製）をリバースコート法に
てコーティングして、厚さ０．５μｍの透明接着層を形
成して、転写材料を得た。次に、厚さ０．５ｍｍの透明
ポリカーボネート基材（透明ポリカーボネート基材の表
側から測定した可視光反射率：９％）に、透明な塩化ビ
ニル・酢酸ビニル共重合体系インキ（帝国インク社製
セリコール）をシルクスクリーン印刷法にてコーティン
グして、厚さ２μｍの透明印刷層を形成した上に、上記
転写材料の透明接着層面を透明印刷層面側に接触させて
熱転写したところ、透明印刷層上にのみ透明接着層、耐
溶剤性透明樹脂層、透明樹脂層からなるエンボス層が転
写形成され、透明印刷層の存在しない部分には透明接着
層、耐溶剤性透明樹脂層、透明樹脂層が転写されず、エ
ンボス層は形成されなかった。さらに透明樹脂層上に高
金属光沢性メタリックインキ（セイコーアドバンス社製
鏡面インキ）をスクリーン印刷法にてコーティングし
て、厚さ２μｍの金属光沢性絶縁層を形成し、部分的に
金属光沢性エンボス模様を有する本発明に係る表示板を
得た。

【００３７】

【実施例２】厚さ０．５ｍｍの透明ポリカーボネート基
材上に透明印刷層を形成しなかったこと、及び透明接着
層をアクリル系樹脂を使用して厚さ２μｍの透明接着層
を形成したこと以外は実施例１と同様にして熱転写し、
透明ポリカーボネート基材上に透明接着層、耐溶剤性透
明樹脂層、透明樹脂層からなるエンボス層を全面に転写
形成した後、実施例１と同様にして透明ポリカーボネー
ト基材の全面に金属光沢性エンボス模様を有する本発明
に係る表示板を得た。

【００３８】

【比較例１】実施例１のエンボス模様と同じエンボス模
様を施した厚さ２５μｍのプラスチックフイルムのエン
ボス模様上に、アクリル系樹脂（三井東圧社製）をグラ
ビアコート法にてコーティングして、離型性を有する厚
さ１μｍの透明樹脂層を形成し、その上にウレタン・ア
クリル系の硬化型樹脂をグラビアコート法にてコーティ
ングして、厚さ１μｍの耐溶剤性透明樹脂層を形成し、
その上にＡｌを真空蒸着法にて蒸着して、厚さ４０ｎｍ
のＡｌ薄膜層を形成し、さらにその上に塩化ビニル・酢
酸ビニル共重合体系樹脂をリバースコート法にてコーテ
ィングして、厚さ２μｍの透明接着層を形成して、転写
材料を得た。該転写材料を実施例１で使用したものと同
様の透明ポリカーボネート基材に熱転写して透明ポリカ
ーボネート基材の全面に金属光沢性エンボス模様を有す
る表示板を得た。

【００３９】

【比較例２】高金属光沢性メタリックインキ（セイコー
アドバンス社製 鏡面インキ）の代わりにメタリック塗
料（昭和インク社製）を使用することにより、金属光沢
性絶縁層に代えて、厚さ２μｍのメタリック塗料層を形
成したこと以外は、実施例２と同様にして、透明ポリカ
ーボネート基材の全面に金属光沢性エンボス模様を有す
る表示板を得た。

【００４０】

【実験例１】厚さ２５μｍのプラスチックフイルムにエ
ンボス模様を施さなかったこと以外は実施例２と同様に
して、透明ポリカーボネート基材の全面に金属光沢性を
有する試料を得た。

【００４１】

【実験例２】厚さ２５μｍのプラスチックフイルムにエ
ンボス模様を施さなかったこと以外は比較例１と同様に
して、透明ポリカーボネート基材の全面に金属光沢性を
有する試料を得た。

【００４２】

【実験例３】厚さ２５μｍのプラスチックフイルムにエ
ンボス模様を施さなかったこと以外は、比較例２と同様
にして、透明ポリカーボネート基材の全面に金属光沢性
を有する試料を得た。

【００４３】実施例１、２、比較例１、２で得られた表
示板について、以下の試験を行い性能を比較した。ま
た、本発明の表示板に形成される金属光沢性絶縁層の金
属光沢性を確認するために、実験例１〜３の試料につい
て可視光反射率を測定し比較した。

【００４４】１．可視光反射率 （測定資料）実施例１、２、比較例１、２で得られた表
示板、及び実験例１〜３で得られた試料について、５ｃ
ｍ×５ｃｍの大きさの正方形にカットしたものをそれぞ
れ１枚準備し、性能比較のための試料とした。（測定方
法）自記分光光度計（日立製作所社製 Ｕ−４０００
型）を使用して、ＪＩＳ−Ｒ−３１０６に準じて、透明
ポリカーボネート基材表面側の５°正反射を測定した。
尚、実施例１の表示板については、金属光沢性エンボス
模様が形成されている部分の５°正反射を測定した。 （測定結果）表１

【００４５】２．表面抵抗値 （測定資料）実施例１、２、比較例１、２で得られた表
示板について、１０ｃｍ×１０ｃｍの大きさの正方形に
カットしたものをそれぞれ１枚準備し、性能比較のため
の試料とした。但し、比較例１の表示板については、Ａ
ｌ薄膜層の表面に耐溶剤性透明樹脂層、及び透明樹脂層
が形成されていて、直接Ａｌ薄膜層の表面抵抗値を測定
することができないので、比較例１の表示板を得るのに
使用した転写材料のＡｌ蒸着後（透明接着層のコーティ
ング前）のサンプルを１０ｃｍ×１０ｃｍの大きさの正
方形にカットしたものを１枚準備し、性能比較のための
試料とした。（測定方法）高抵抗率計（三菱化学社製
ハイレスターｕｐ）を使用して、実施例１、及び実施例
２の表示板については金属光沢性絶縁層表面を、比較例
２の表示板については、メタリック塗料層表面を、比較
例１については、前記転写材料のＡｌ薄膜層表面をそれ
ぞれ測定した。尚、実施例１の表示板については、金属
光沢性エンボス模様が形成されている部分の表面抵抗値
を測定した。 （測定結果）表１ 但し、実験例１〜３が本発明の表示板に形成される金属
光沢性絶縁層の金属光沢性を確認するための実験である
ということと、実験例１の試料の表面抵抗値と実施例
１、及び実施例２の表示板の表面抵抗値が、実験例２の
試料の表面抵抗値と比較例１の表示板の表面抵抗値が、
実験例３の試料の表面抵抗値と比較例２の表示板の表面
抵抗値が、それぞれ同じであると考えて差し支えないと
の理由で、実験例１〜３の試料について表面抵抗値は測
定しなかった。

【００４６】

【表１】

【００４７】表１から明らかなように、実施例１、及び
実施例２の表示板と比較例１、及び比較例２の表示板と
では、性能に差異があった。実施例１、及び実施例２の
表示板は、アクリル基板表面側から測定した可視光反射
率が、１０．５６％であり、また金属光沢性絶縁層の表
面抵抗値が１０⁶Ω／□であるので、金属光沢性、及び
絶縁性の両方に優れている。これに対し、比較例１の表
示板は、金属光沢性には優れているものの、Ａｌ薄膜層
の表面抵抗値が１０Ω／□で絶縁性が全くなく、また比
較例２の表示板は、絶縁性には優れているものの、ポリ
カーボネート基板表面側から測定した可視光反射率が、
６．９％であり金属光沢性に劣っていることがわかる。
また、実験例１〜３の試料の可視光反射率の測定値を比
較すると、本発明の表示板の金属光沢性絶縁層を形成す
るのに用いる高金属光沢性メタリックインキを使用して
得た実験例１の試料の可視光反射率測定値は６３．８１
であり、Ａｌ薄膜層を形成した実験例２の試料の可視光
反射率測定値８３．５にはやや劣るものの、従来のメタ
リックインキを使用して得た実験例３の試料の可視光反
射率測定値６．８０よりはるかに高い値を示しているこ
とから明らかなように、本発明の表示板に形成される金
属光沢性絶縁層は優れた金属光沢性を有していることが
わかる。

【００４８】

【発明の効果】本発明の表示板は、透明プラスチック基
材表面から金属光沢性エンボス模様を透視可能な表示板
であって、該透明プラスチック基材の表面側から測定し
た可視光反射率が８％を超えるので、金属光沢性に優れ
ている。特に本発明の表示板に形成した金属光沢性絶縁
層を、可視光反射率９％の透明プラスチック基材の裏面
に金属光沢性絶縁層を形成したものを透明プラスチック
基材側から測定したときの可視光反射率が４０％を超え
る金属光沢性絶縁層とすればより万全である。また、本
発明の表示板は、上記金属光沢性絶縁層の表面抵抗値
が、１０⁵Ω／□を超えるので、Ａｌ等の金属薄膜層が
形成された表示板のように導電性でなく絶縁性にも優れ
ている。本発明の表示板は、エンボス層を転写により形
成することができるので、必要な部分に、容易にエンボ
ス模様を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る表示板の一例を示す一部拡大断面
図である。

【図２】本発明に係る表示板の一例を示す一部拡大断面
図である。

【符号の説明】

１透明プラスチック基材 ２透明印刷層 ３透明接着層 ４耐溶剤性透明樹脂層 ５透明樹脂層 ６金属光沢性絶縁層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０９Ｆ 7/16 Ｇ０９Ｆ 7/16 Ｄ 13/16 13/16 Ｚ

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】透明プラスチック基材の裏面に、エンボス
   模様が施され、エンボス模様上に表面抵抗値が１０⁵Ω
   ／□を超える金属光沢性絶縁層が形成されている表示板
   であって、透明プラスチック基材の表面側から測定した
   可視光反射率が８％を超えることを特徴とする透明プラ
   スチック基材表面から金属光沢性エンボス模様を透視可
   能な表示板。
2. 【請求項２】金属光沢性絶縁層が、可視光反射率９％の
   透明プラスチック基材の裏面に金属光沢性絶縁層を形成
   したものを透明プラスチック基材側から測定したときの
   可視光反射率が４０％を超える金属光沢性絶縁層である
   請求項１記載の表示板。
3. 【請求項３】エンボス模様が、透明プラスチック基材と
   金属光沢性絶縁層との間に形成された透明なエンボス層
   に施されている請求項１、又は２記載の表示板。
4. 【請求項４】エンボス層が、透明接着層で形成されてい
   る請求項３記載の表示板。
5. 【請求項５】エンボス層が、透明プラスチック基材に近
   い方から順に透明接着層、耐溶剤性透明樹脂層で形成さ
   れている請求項３記載の表示板。
6. 【請求項６】エンボス層が、透明プラスチック基材に近
   い方から順に透明接着層、耐溶剤性透明樹脂層、透明樹
   脂層で形成されている請求項３記載の表示板。
7. 【請求項７】透明プラスチック基材とエンボス層との間
   に、透明印刷層が形成されている請求項３、乃至６何れ
   かに記載の表示板。
8. 【請求項８】エンボス層を転写法により形成することを
   特徴とする請求項３、乃至７何れかに記載の表示板。