JP2002096058A - 揮発性汚染物質の浄化処理装置 - Google Patents

揮発性汚染物質の浄化処理装置

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JP2002096058A
JP2002096058A JP2000288161A JP2000288161A JP2002096058A JP 2002096058 A JP2002096058 A JP 2002096058A JP 2000288161 A JP2000288161 A JP 2000288161A JP 2000288161 A JP2000288161 A JP 2000288161A JP 2002096058 A JP2002096058 A JP 2002096058A
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Miki Masuda
幹 増田
Masao Wakabayashi
正男 若林
Ryozo Ushio
亮三 牛尾
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 揮発性汚染物質が活性炭に吸着されることに
よって活性炭の交換が必要となる頻度を小さくし、活性
炭交換のための費用や作業工数を節約することができる
とともに、装置全体の省スペース化が可能な揮発性汚染
物質の浄化処理装置の提供。 【解決手段】 揮発性汚染物質を含有する汚染水にアル
カリ溶剤を添加して該汚染水のpHをアルカリに調整す
るpH調整装置と、揮発性汚染物質を含有する汚染ガス
を真空吸引するガス吸引装置と、前記汚染ガス中の揮発
性汚染物質を分解せしめ、分解処理後の汚染ガスを、前
記pH調整装置によりpH調整した汚染水と接触させ、
該汚染水中に含有する揮発性汚染物質を前記処理ガス中
に気化させるとともに分解処理後の汚染ガス中の酸性物
質を該汚染水中に溶解させ、除害する分解−曝気装置
と、前記分解−曝気装置から排出される気体が導入さ
れ、該気体中に含有する揮発性汚染物質を吸着させて除
去する活性炭槽とを有することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、有機塩素化合物で
汚染された土壌における土壌間空隙や地下水に存在する
揮発性汚染物質を除去処理する浄化処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】地下水や土壌中に存在する有機塩素化合
物などの汚染物質を含む土壌を修復する方法として、い
わゆる真空吸引−揚水曝気法が知られている。この方法
では有機塩素化合物などの揮発性汚染物質、例えばトリ
クロロエチレン、テトラクロロエチレン、1,2−ジク
ロロエタン、1,1,1−トリクロロエタン、1,1,
2−トリクロロエタンなどを含んだ土壌中のガスや地下
水をポンプで吸引し、これらの揮発性汚染物質を活性炭
に吸着させて除去した後、処理済みの気体を放出する。
また、吸引したガスや地下水を曝気さぜた後の揮発性汚
染物質を含んだ気体を活性炭に吸着させずに、化学的に
分解処理する場合もある。しかしこの化学的分解処理方
法は、装置の大きさに制約がある場合や、修復規模が比
較的小さい場合には設備費を含めた浄化コストが高くな
ることが多いため、活性炭で吸着除去をする方式を採用
する場合が多い。活性炭を用いる方式では、使用した活
性炭は飽和状態近くになり次第、新品と交換することに
なる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら活性炭処
理を行う従来の装置では以下に示すような問題点があ
る。活性炭が飽和してしまう前に活性炭を新品と交換す
るには、交換する活性炭の費用に加えて、その作業のた
めの労務コストが掛り交換頻度が高くなればなるほど費
用がかさむ。また特に住宅地などの密集した市街地の中
では小型の修復装置により土壌や地下水の修復を行う必
要があるが、特に修復初期では活性炭への負荷が大き
く、かなりの頻度で活性炭を交換する必要が生じる。例
えば土壌吸引ガス中に含まれる揮発性汚染物質の濃度が
数百〜数千ppmに達するような状況で小型の修復装置
を用いた場合には、十数時間で活性炭の交換が必要とな
る。
【0004】一方、活性炭の交換を省略する方法とし
て、土壌吸引および曝気処理より曝気させた後の揮発性
汚染物質に対して、気相中で分解処理を施す手法があ
る。汚染規模が大きな大工場跡地等の地下修復において
は、備え付ける活性炭槽も曝気槽も比較的大型なものを
使用できる場合が多く、また分解処理に切り替える場合
でも、その修復規模に見合ったサイズの分解処理装置を
設置することも可能である。例えば触媒燃焼式の処理装
置で設置面積が2〜3m2以上必要な装置を汚染現場に
設置して、ガス化した揮発性汚染物質を対象に活性炭吸
着させる前に分解処理を施すような事例がある。しかし
クリーニング店や中小企業向けの小型の真空抽出−揚水
曝気塔に対して、これらの比較的大がかりな分解処理装
置に替えるのは、スペース的に見ても設置費用的にも無
理があり現実的ではない。
【0005】本発明は、上記のような問題点に鑑みてな
されたものであり、その目的は、揮発性汚染物質が活性
炭に吸着されることによって活性炭の交換が必要となる
頻度を小さくし、活性炭交換のための費用や作業工数を
節約することができるとともに、装置全体の省スペース
化が可能な揮発性汚染物質の浄化処理装置を提供するこ
とである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明に係る揮発性汚染
物質の浄化処理装置は、揮発性汚染物質を含有する汚染
水にアルカリ溶剤を添加して該汚染水のpHをアルカリ
に調整するpH調整装置と、揮発性汚染物質を含有する
汚染ガスを真空吸引するガス吸引装置と、前記汚染ガス
中の揮発性汚染物質を分解せしめ、分解処理後の汚染ガ
スを、該pH調整装置によりpH調整した汚染水と接触
させ、該汚染水中に含有する揮発性汚染物質を前記処理
ガス中に気化させるとともに、汚染ガス中の酸性物質を
該汚染水中に溶解させ、除害する分解−曝気装置と、前
記分解−曝気装置から排出される気体が導入され、該気
体中に含有する揮発性汚染物質を吸着させて除去する活
性炭槽とを有することを特徴とするもので、前記分解−
曝気装置は、その下部より導入される汚染ガスに紫外線
を照射する紫外線照射装置を備えたり、また揮発性汚染
物質を含有する汚染水にアルカリ溶剤を添加してpHを
調整した当該汚染水にオゾンを導入するオゾン混合装置
と、該汚染水に紫外線を照射する紫外線照射装置を設け
たりするものである。
【0007】
【発明の実施の形態】図1は本発明に係る揮発性汚染物
質の浄化処理装置の一実施例を示す装置構成図、図2は
同じく他の実施例を示す装置構成図である。
【0008】図1に示す揮発性汚染物質の浄化処理装置
は、土壌の間隙中及び地下水に、有機塩素化合物などの
揮発性汚染物質が存在する地盤1中に挿入して固定され
た多孔管2と、この多孔管2の内部に挿入され、該多孔
管2の底部近くまで設けられた揚水管3と、前記揚水管
3を通して地下水を地表面上に汲上げる揚水ポンプ4
と、汲上げた地下水を貯留する原水槽6、前記多孔管2
から土壌中の気体(汚染ガス)を送気管21を介して真
空吸引する吸引ブロワー5とを有し、さらに吸引ブロワ
ー5で吸引した気体中に含まれる液体の飛沫を除去する
気液分離槽8と、この気液分離槽8に送気管22を介し
て接続され、前記気液分離槽8を通った気体と、前記原
水槽6から曝気ポンプ7により汲上げられた地下水が送
水管25を介して導入される分解−曝気装置9を備え、
送水管43を介して分解−曝気処理後の処理水を系外に
排水する排水ポンプ41と、前記分解−曝気装置9に送
気管26、27を介して接続される気液分離槽11と、
この気液分離槽11を通った気体が送気管28を介して
導入される活性炭槽12とを有している。
【0009】上記装置における多孔管2は土壌中に掘削
された井戸穴1−1に挿入し、井戸の周壁との間に礫な
どを投入しつつ、井戸掘削時のケーシングを引き抜いて
固定されるものである。この多孔管2は例えば、径が1
00mmから150mm程度のポリ塩化ビニル管からな
り、地下水面の上方から下端にかけて多数の開孔が設け
られている。そして前記揚水管3は、前記多孔管2の上
端付近から貫入され、多孔管2の下端付近に至るまで挿
入されており、この揚水管3の下流側には揚水ポンプ4
が取り付けられて地下水を地表面上に汲上げることが可
能になっている。
【0010】吸引ブロワー5は、気体の搬送方向におけ
る分解−曝気装置9より下流側に設けられ、これより上
流側に減圧状態を形成して多孔管2内の気体を吸引する
ことができるものである。
【0011】原水槽6は、汲上げられた地下水を一旦貯
留してpHを調整するためのものであり、pHをアルカ
リに調整するpH調整装置30を備えている。原水槽6
中のpHをアルカリに調整することで後述する汚染ガス
の分解時に生成する酸性ガスを除害することが可能にな
る。pHは汚染ガス分解時に生成する酸性ガスの濃度に
よって変化し、酸性ガスと接触した排水のpHが8.6
以下になるように制御することが望ましいが、酸性ガス
と接触後の排水のpHを調整する設備を追加させても問
題はない。
【0012】前記pH調整装置30はpH検出器30−
1と、pH制御器30−2および薬剤槽30−3で構成
され、pH検出器30−1としては一般にpH電極が使
用でき、この値によりpH制御器30−2が薬剤槽30
−3中の薬剤の添加量を制御することとなる。前記薬剤
槽30−3に充填する薬剤としては水酸化ナトリウム溶
液や水酸化カリウム溶液などを用いることができる。
【0013】また分解−曝気装置9は、送気管22との
接続口付近に当該送気管22より導入される汚染ガスに
対し紫外線を照射する紫外線照射装置51と、その上部
に多数の充填材10と、排水ポンプ41を制御する液面
センサー42を備えている。
【0014】紫外線照射装置51は、紫外線透過性保護
管、紫外線照射ランプ、点灯装置で構成され、紫外線透
過性保護管は、ピーク波長が254±10nm以下の紫
外線に対する透過性が高い材料からなり、例えば透明石
英管や透明テフロン(登録商標)などが用いられ、紫外
線照射ランプは、ピーク波長254±10nm以下の波
長を照射する低圧水銀ランプや中圧水銀ランプが利用で
きる。これら紫外線の光化学作用により汚染ガス中の揮
発性汚染物質は分解除去され、またこの時に塩化水素な
どの酸性ガスが生成するが、前記したようにpH調整さ
れた汚染水と接触することで中和され除外される。
【0015】このように従来の曝気装置に分解機能と除
害機能を付加することで通常必要となる分解装置や除害
装置のスペースを省略することが可能となる。また活性
炭槽12は、円筒状の槽内に粒状活性炭や活性炭素繊維
などを充填したものであり、処理される気体は送気管2
8を通って活性炭槽12の下部から導入され、活性炭に
接触された後に上部から排出されるようになっている。
【0016】上記図1に示す揮発性汚染物質の浄化処理
装置において、地盤1中に挿入して固定された多孔管2
内に挿入された揚水管3を通して揚水ポンプ4により汲
上げられた揮発性汚染物質を含有する地下水(汚染水)
は、一旦原水槽6に貯溜され、ここでpH調整装置30
によりアルカリに調整された後、曝気ポンプ7により送
水管25を介して分解−曝気装置9へ導入され、充填材
10を通過して分解−曝気処理されて当該分解−曝気装
置の下部に溜り、送水管43を介して排水ポンプ41に
より系外に排水される。一方、吸引ブロワー5で吸引さ
れた揮発性汚染物質を含有する気体(汚染ガス)は、送
気管21を介して気液分離槽8に導入され、ここで該気
体中に含まれる液体の飛沫が除去されて送気管22より
分解−曝気装置9へ導入される。分解−曝気装置9へ導
入された気体は、紫外線照射装置51により紫外線が照
射されることにより、紫外線の光化学作用により汚染ガ
ス中の揮発性汚染物質が分解除去されると同時に、曝気
ポンプ7により該分解−曝気装置9へ導入されたpH調
整された地下水と接触することにより、塩化水素などの
酸性ガスが中和され除外された後、吸引ブロワ5にて送
気管26、27を介して気液分離槽11へ導入され、こ
こで該気体中に含まれる液体の飛沫が除去された後、送
気管28より活性炭槽へ導入されて当該気体中に含有さ
れている揮発性汚染物質が活性炭に吸着除去されて系外
に放出される。
【0017】つぎに、図2に示す本発明の他の実施例装
置について説明すると、この装置は前記図1に示す装置
に加え、揮発性汚染物質を含有する地下水(汚染水)に
オゾンガスを添加するオゾン混合装置53と、オゾン混
合後の地下水に紫外線を照射する紫外線照射装置56を
付設したものである。
【0018】前記オゾン混合装置53は、オゾンガス発
生装置53−1と原料ガス生成装置53−2および混合
器53−3を備えているが、その混合方式は、本発明が
主に対象としている修復規模では、汚染水は毎時2m3
以下の流量で分解−曝気装置9に導入され、このような
条件で効率よくオゾンガスを混合できる方式として、例
えばノズルから噴出させるエジェクター方式、渦流ポン
プを用いて被処理水中にオゾンを混合させるターボミキ
シング方式などが望ましい。
【0019】前記オゾンガス発生装置53−1は、原料
ガスを生成する原料ガス発生装置53−2を備えてお
り、このオゾンガス発生装置53−1は送気管55を介
して混合器53−3と接続されている。このオゾンガス
発生装置53−1は、オゾンガス濃度25g/Nm3以
下の比較的低濃度のオゾンガスを発生する小型の装置を
使用することができ、消費電力が500W以下程度の低
電力消費型のものが経済的に望ましい。この程度の小規
模のオゾン発生装置であっても、揚水規摸で毎時2m3
以下のような小規模揚水の修復で活性炭吸着の捕助的な
機能として用いるには十分な能力が期待できる。なおオ
ゾンガス発生装置53−1では酸素ガスを用いることが
望ましいが、酸素ボンベを使用すると交換などの保守に
関わる手間が加わるため、圧力スッチング吸着法(PS
A)などにより酸素を生成させるものが望ましい。
【0020】オゾン混合後の地下水に紫外線を照射する
紫外線照射装置56としては、内部照射型と外部照射型
の2種類の方法を用いることができ、内部照射型は2重
構造をとり、最内部に紫外線ランプとその周りに透過性
保護管とさらにその周りに外壁があり、保護管と外壁の
間に被処理水が流れる構成となっている。一方、外部照
射型は紫外線ランプと内側に被処理水が流れる透過性保
護管があり、その周りに紫外線ランプが配置されてい
る。透過性保護管は紫外線透過性の高い材料からなり、
例えば石英、透明テフロン、パイレックス(登録商標)
などが用いられる。
【0021】紫外線ランプは、ピーク波長が185±1
0nm、254±10nmまたは360±10nmの紫
外線を照射するものが利用できるが、オゾンのラジカル
化に有効に作用するとともに、設置コストが低くて消費
電力の少ない、254±10nmのピーク波長を持つ低
圧水銀ランプを用いるのが望ましい。このような構成を
することにより、設置費用や照射管の点灯に要する電力
は、他の種類の紫外線ランプ、例えば中圧水銀ランプに
比べてかなり低減することができる。
【0022】上記図2に示す揮発性汚染物質の浄化処理
装置の場合は、地盤1中に挿入して固定された多孔管2
内に挿入された揚水管3を通して揚水ポンプ4により汲
上げられた揮発性汚染物質を含有する地下水(汚染水)
は、一旦原水槽6に貯溜され、ここでpH調整装置30
によりアルカリに調整された後、曝気ポンプ7により分
解−曝気装置9へ導入される前に、オゾン混合装置53
の混合器53−3によりpH調整された地下水にオゾン
が添加され、さらに紫外線照射装置56によりオゾン混
合後の地下水に紫外線が照射される。汚染水中の揮発性
汚染物質は、オゾンとUVの作用により生成したヒドロ
キシルラジカルにより分解除去され、また前記したよう
に原水槽中のpHをアルカリにすることで分解性能は向
上する。例えば、pH7からpH8にすることで分解速
度は約1.1倍に増加し、またpH6からpH8にすれ
ば、約1.7倍に増加する。ただし、pHを8以上にし
ても反応速度はほとんど変化しない。また紫外線照射装
置56により紫外線が照射されることにより、汚染水中
の揮発性汚染物質が分解除去される。
【0023】曝気ポンプ7により送気管25を介して分
解−曝気装置9へ導入された地下水は、充填材10を通
過して分解−曝気処理されて当該分解−曝気装置の下部
に溜り、送水管43を介して排水ポンプ41により系外
に排水される。一方、吸引ブロワー5で吸引された揮発
性汚染物質を含有する気体(汚染ガス)は、送気管21
を介して気液分離槽8に導入され、ここで該気体中に含
まれる液体の飛沫が除去されて送気管22より分解−曝
気装置9へ導入される。分解−曝気装置9へ導入された
気体は、紫外線照射装置51により紫外線が照射される
ことにより、紫外線の光化学作用により汚染ガス中の揮
発性汚染物質が分解除去されると同時に、曝気ポンプ7
により該分解−曝気装置9へ導入されたpH調整された
地下水と接触することにより、塩化水素などの酸性ガス
が中和され除外された後、吸引ブロワ5にて送気管2
6、27を介して気液分離槽11へ導入され、ここで該
気体中に含まれる液体の飛沫が除去された後、送気管2
8より活性炭槽へ導入されて当該気体中に含有されてい
る揮発性汚染物質が活性炭に吸着除去されて系外に放出
される。
【0024】
【発明の効果】以上説明したごとく、本発明装置によれ
ば、活性炭吸着される有機塩素化合物の量が早期に蓄積
されて活性炭交換寿命が短期間で終わってしまうのを抑
制することができ、その結果活性炭交換のための費用や
作業工数を節約することが可能であり、また小型修復装
置に見合った大きさの範囲内で設置が可能で、クリーニ
ング店周辺での地下汚染水修復向けとしての省スペース
性を維持できることや日頃のメインテナンスが容易であ
るなどの効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る揮発性汚染物質の浄化処理装置の
一実施例を概略的に示す装置構成図である。
【図2】同じく本発明の他の実施例を概略的に示す装置
構成図である。
【符号の説明】
1 地盤 1−1 井戸穴 2 多孔管 3 揚水管 4 揚水ポンプ 5 吸引ブロワー 6 原水槽 7 曝気ポンプ 8、11 気液分離槽 9 分解−曝気装置 10 充填材 12 活性炭槽 21、22、26、27、28 送気管 25、43 送水管 30 pH調整装置 30−1 pH検出器 30−2 pH制御器 30−3 薬剤槽 41 排水ポンプ 42 液面センサー 51、56 紫外線照射装置 53 オゾン混合装置 53−1 オゾンガス発生装置 53−2 原料ガス生成装置 53−3 混合器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B01D 53/34 ZAB C02F 1/32 4D037 53/70 1/78 4D050 53/68 B09B 5/00 S 53/77 B01D 53/34 ZAB C02F 1/20 134E 1/32 134B 1/78 (72)発明者 牛尾 亮三 千葉県市川市中国分3−18−5 住友金属 鉱山株式会社中央研究所内 Fターム(参考) 2E191 BA15 BB00 BB01 BD11 BD17 4D002 AA19 AA21 AC10 BA02 BA04 BA09 CA01 CA07 DA41 DA70 EA02 4D004 AA41 AB06 AC07 CA35 CA36 CA43 CA47 CA50 CB05 CC01 4D011 AA15 AA16 AD03 4D020 AA10 BA30 BB03 CB08 CD01 CD03 4D037 AA05 AB14 BA18 BA23 BA24 CA01 CA12 4D050 AA02 AB19 BB02 BC09 CA07 CA13

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 揮発性汚染物質を含有する汚染水にアル
    カリ溶剤を添加して該汚染水のpHをアルカリに調整す
    るpH調整装置と、揮発性汚染物質を含有する汚染ガス
    を真空吸引するガス吸引装置と、前記汚染ガス中の揮発
    性汚染物質を分解せしめ、分解処理後の汚染ガスを、前
    記pH調整装置によりpH調整した汚染水と接触させ、
    該汚染水中に含有する揮発性汚染物質を前記処理ガス中
    に気化させるとともに分解処理後の汚染ガス中の酸性物
    質を該汚染水中に溶解させ、除害する分解−曝気装置
    と、前記分解−曝気装置から排出される気体が導入さ
    れ、該気体中に含有する揮発性汚染物質を吸着させて除
    去する活性炭槽とを有することを特徴とする揮発性汚染
    物質の浄化装置。
  2. 【請求項2】 前記分解−曝気装置は、その下部より導
    入される汚染ガスに紫外線を照射する紫外線照射装置を
    備えていることを特徴とする請求項1記載の揮発性汚染
    物質の浄化処理装置。
  3. 【請求項3】 揮発性汚染物質を含有する汚染水にアル
    カリ溶剤を添加してpHを調整した当該汚染水にオゾン
    を導入するオゾン混合装置と、該汚染水に紫外線を照射
    する紫外線照射装置を付設したことを特徴とする請求項
    1または2記載の揮発性汚染物質の浄化処理装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013255906A (ja) * 2012-06-14 2013-12-26 Showa:Kk 光触媒材料による土壌汚染水の処理方法
CN111875159A (zh) * 2020-07-20 2020-11-03 蜡笔小新(福建)食品工业有限公司 一种污水处理系统及其处理工艺
CN112263903A (zh) * 2020-09-25 2021-01-26 唐山中润煤化工有限公司 一种化工污水的恶臭气体收集处理系统

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