JP2002085947A - オゾン水製造方法及び製造装置 - Google Patents
オゾン水製造方法及び製造装置Info
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- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 使用する純水又は超純水の種類に関係なく、
高濃度のオゾン水を安定に製造する。 【解決手段】 オゾン水の製造に使用する純水又は超純
水中のＴＯＣ値が１５ｐｐｂ以下のときに、ＴＯＣ成分
を前記純水又は超純水中にＴＯＣ値が１５ｐｐｂ超２５
０ｐｐｂ以下となるように添加する。或いは、炭酸ガス
を前記純水又は超純水中にその水１Ｌ当たり５〜５００
ｃｃ添加する。
高濃度のオゾン水を安定に製造する。 【解決手段】 オゾン水の製造に使用する純水又は超純
水中のＴＯＣ値が１５ｐｐｂ以下のときに、ＴＯＣ成分
を前記純水又は超純水中にＴＯＣ値が１５ｐｐｂ超２５
０ｐｐｂ以下となるように添加する。或いは、炭酸ガス
を前記純水又は超純水中にその水１Ｌ当たり５〜５００
ｃｃ添加する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、オゾンを純水又は
超純水中に溶解させたオゾン水の製造方法及び製造装置
に関する。
超純水中に溶解させたオゾン水の製造方法及び製造装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体デバイス（液晶表示装置を含む）
の製造プロセスにおいては、基板の表面に付着する有機
物やパーティク等を除去するために、基板に対して洗浄
処理が繰り返される。ここに使用される洗浄液としては
有機溶剤、酸液等が多用されているが、最近では環境面
で問題の少ないオゾン水も使用され始めている。
の製造プロセスにおいては、基板の表面に付着する有機
物やパーティク等を除去するために、基板に対して洗浄
処理が繰り返される。ここに使用される洗浄液としては
有機溶剤、酸液等が多用されているが、最近では環境面
で問題の少ないオゾン水も使用され始めている。
【０００３】半導体デバイスの製造プロセスにおいて使
用されるオゾン水には、反応性の点からオゾン濃度が高
いこと、及び半導体デバイスの性質上、クリーン度が高
く、不純物を含まないことが要求される。これらの要求
に応えるため、そのオゾン水は通常、次のような方法で
製造されている。
用されるオゾン水には、反応性の点からオゾン濃度が高
いこと、及び半導体デバイスの性質上、クリーン度が高
く、不純物を含まないことが要求される。これらの要求
に応えるため、そのオゾン水は通常、次のような方法で
製造されている。
【０００４】４Ｎ以上の高純度酸素ガスを原料ガスとし
て放電式オゾナイザでオゾンガスを生成する。生成した
オゾンガスを純水又は超純水と接触させてオゾンガス中
のオゾンを純水に溶解させる。オゾンガスの製造原料と
して高純度酸素ガスを使用し、オゾン水の製造原料とし
て純水又は超純水を使用するのは、オゾンガスから不純
物を排除し、オゾン水中の不純物量を低減するために他
ならない。
て放電式オゾナイザでオゾンガスを生成する。生成した
オゾンガスを純水又は超純水と接触させてオゾンガス中
のオゾンを純水に溶解させる。オゾンガスの製造原料と
して高純度酸素ガスを使用し、オゾン水の製造原料とし
て純水又は超純水を使用するのは、オゾンガスから不純
物を排除し、オゾン水中の不純物量を低減するために他
ならない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来のオゾン水製造方法には、次のような問題があ
る。
うな従来のオゾン水製造方法には、次のような問題があ
る。
【０００６】オゾン水は単なる洗浄に使用される他、最
近ではレジスト剥離への適用が考えられている。単なる
洗浄に使用されるオゾン水のオゾン濃度は５ｐｐｍ程度
あるのに対し、レジスト剥離に使用されるオゾン水のオ
ゾン濃度は通常５０ｐｐｍ以上であり、１００ｐｐｍに
達する場合もある。
近ではレジスト剥離への適用が考えられている。単なる
洗浄に使用されるオゾン水のオゾン濃度は５ｐｐｍ程度
あるのに対し、レジスト剥離に使用されるオゾン水のオ
ゾン濃度は通常５０ｐｐｍ以上であり、１００ｐｐｍに
達する場合もある。
【０００７】単なる洗浄に使用される低濃度のオゾン水
の場合は問題ないが、レジスト剥離に使用されるような
高濃度のオゾン水の場合は、その濃度に見合う高濃度の
オゾンガスや高性能のオゾン溶解器を使用しても、使用
する純水又は超純水の種類によってはオゾン濃度が十分
に上がらず、所定濃度のオゾン水が製造されないことが
ある。
の場合は問題ないが、レジスト剥離に使用されるような
高濃度のオゾン水の場合は、その濃度に見合う高濃度の
オゾンガスや高性能のオゾン溶解器を使用しても、使用
する純水又は超純水の種類によってはオゾン濃度が十分
に上がらず、所定濃度のオゾン水が製造されないことが
ある。
【０００８】本発明の目的は、使用する純水又は超純水
の種類に関係なく、高濃度のオゾン水を安定に製造でき
るオゾン水製造方法及び製造装置を提供することにあ
る。
の種類に関係なく、高濃度のオゾン水を安定に製造でき
るオゾン水製造方法及び製造装置を提供することにあ
る。
【０００９】
【課題を解決するための手段】オゾン水のオゾン濃度が
十分に上昇しない現象は、使用する純水又は超純水の影
響を受ける。図５（ａ）は、同じ性能を有するオゾン水
製造装置を使用し、且つ、そのオゾン水製造に半導体工
場向けの超純水を使用したときの、オゾン水のオゾン濃
度のバラツキを示す。同図から分かるように、半導体工
場向けの超純水に分類される非常に精製度の高い水を使
用しても、オゾン濃度が上昇する場合と上昇しない場合
がある。
十分に上昇しない現象は、使用する純水又は超純水の影
響を受ける。図５（ａ）は、同じ性能を有するオゾン水
製造装置を使用し、且つ、そのオゾン水製造に半導体工
場向けの超純水を使用したときの、オゾン水のオゾン濃
度のバラツキを示す。同図から分かるように、半導体工
場向けの超純水に分類される非常に精製度の高い水を使
用しても、オゾン濃度が上昇する場合と上昇しない場合
がある。
【００１０】その原因を見つけるために、本発明者ら
は、使用する純水又は超純水の水質とオゾン水濃度との
関係を、主に高濃度領域について詳細に調査した。その
結果、水質項目のうちの特にＴＯＣ量が、製造される高
濃度オゾン水の濃度に深く関係することを知見した。
は、使用する純水又は超純水の水質とオゾン水濃度との
関係を、主に高濃度領域について詳細に調査した。その
結果、水質項目のうちの特にＴＯＣ量が、製造される高
濃度オゾン水の濃度に深く関係することを知見した。
【００１１】即ち、液晶を含む半導体製造用の純水又は
超純水の水質項目としては、比抵抗、微粒子量、生菌
量、ＴＯＣ量、シリカ量、溶存酸素量、Ｎａ量、Ｃｌ量
などがある。これらの項目の基準値は液晶工場向けと半
導体工場向けとで異なり、統一的な水質基準は存在しな
い。例えば、半導体工場向けの超純水の要求水質と集積
度の関係は表１のとおりである。
超純水の水質項目としては、比抵抗、微粒子量、生菌
量、ＴＯＣ量、シリカ量、溶存酸素量、Ｎａ量、Ｃｌ量
などがある。これらの項目の基準値は液晶工場向けと半
導体工場向けとで異なり、統一的な水質基準は存在しな
い。例えば、半導体工場向けの超純水の要求水質と集積
度の関係は表１のとおりである。
【００１２】
【表１】
【００１３】図５（ｂ）は、図５（ａ）に示した４種類
の超純水中のＴＯＣ量と、各超純水を使用して製造した
オゾン水のオゾン濃度との関係を示す。同図から分かる
ように、また後述する図６との比較から分かるように、
製造されるオゾン水のオゾン濃度は、その製造に使用さ
れる純水又は超純水中のＴＯＣ量に実質的に依存してお
り、ＴＯＣ量が１５ｐｐｂ以下になると急激に低下する
が、１５ｐｐｂを超える領域では、ＴＯＣ量によらず、
また他の水質項目に関係なく、この低下を生じない。
の超純水中のＴＯＣ量と、各超純水を使用して製造した
オゾン水のオゾン濃度との関係を示す。同図から分かる
ように、また後述する図６との比較から分かるように、
製造されるオゾン水のオゾン濃度は、その製造に使用さ
れる純水又は超純水中のＴＯＣ量に実質的に依存してお
り、ＴＯＣ量が１５ｐｐｂ以下になると急激に低下する
が、１５ｐｐｂを超える領域では、ＴＯＣ量によらず、
また他の水質項目に関係なく、この低下を生じない。
【００１４】これは、オゾン溶解器で製造されるオゾン
水のオゾン濃度が上昇しない原因が、溶存オゾンの連鎖
反応的な自己分解にあり、１５ｐｐｂというＴＯＣ量
が、この連鎖反応の臨界値であるためと考えられる。
水のオゾン濃度が上昇しない原因が、溶存オゾンの連鎖
反応的な自己分解にあり、１５ｐｐｂというＴＯＣ量
が、この連鎖反応の臨界値であるためと考えられる。
【００１５】即ち、使用する純水又は超純水中のＴＯＣ
量が１５ｐｐｂ以下のときは、溶存オゾンが分解する際
に生成するヒドラキシラジカル等が溶存オゾンと連鎖反
応的に反応するため、オゾンの分解速度が大きくなる
が、ＴＯＣ量が１５ｐｐｂを超えると、溶存オゾンの分
解によって生成するヒドラキシラジカル等は溶存オゾン
と反応する前にＴＯＣ成分と反応し消費されるために、
溶存オゾンの分解が抑制されるためと考えられる。
量が１５ｐｐｂ以下のときは、溶存オゾンが分解する際
に生成するヒドラキシラジカル等が溶存オゾンと連鎖反
応的に反応するため、オゾンの分解速度が大きくなる
が、ＴＯＣ量が１５ｐｐｂを超えると、溶存オゾンの分
解によって生成するヒドラキシラジカル等は溶存オゾン
と反応する前にＴＯＣ成分と反応し消費されるために、
溶存オゾンの分解が抑制されるためと考えられる。
【００１６】本発明のオゾン水製造方法及び製造装置
は、かかる知見に基づいて開発されたものであり、その
第１の製造方法は、オゾナイザにより発生させたオゾン
を純水又は超純水中に溶解させてオゾン濃度が１０ｐｐ
ｍ以上のオゾン水を製造する際に、前記純水又は超純水
中のＴＯＣ値が１５ｐｐｂ以下のときに、ＴＯＣ成分を
前記純水又は超純水中にＴＯＣ値が１５ｐｐｂ超２５０
ｐｐｂ以下となるように添加するものである。
は、かかる知見に基づいて開発されたものであり、その
第１の製造方法は、オゾナイザにより発生させたオゾン
を純水又は超純水中に溶解させてオゾン濃度が１０ｐｐ
ｍ以上のオゾン水を製造する際に、前記純水又は超純水
中のＴＯＣ値が１５ｐｐｂ以下のときに、ＴＯＣ成分を
前記純水又は超純水中にＴＯＣ値が１５ｐｐｂ超２５０
ｐｐｂ以下となるように添加するものである。
【００１７】また、第２の製造方法は、オゾナイザによ
り発生させたオゾンを純水又は超純水中に溶解させてオ
ゾン濃度が１０ｐｐｍ以上のオゾン水を製造する際に、
前記純水又は超純水中のＴＯＣ値が１５ｐｐｂ以下のと
きに、炭酸ガスを前記純水又は超純水中にその水１Ｌ当
たり５〜５００ｃｃ添加するものである。
り発生させたオゾンを純水又は超純水中に溶解させてオ
ゾン濃度が１０ｐｐｍ以上のオゾン水を製造する際に、
前記純水又は超純水中のＴＯＣ値が１５ｐｐｂ以下のと
きに、炭酸ガスを前記純水又は超純水中にその水１Ｌ当
たり５〜５００ｃｃ添加するものである。
【００１８】また、第１の製造装置は、オゾナイザによ
り発生させたオゾンを純水又は超純水中に溶解させてオ
ゾン水を製造する手段と、前記純水又は超純水中のＴＯ
Ｃ量を測定する手段と、前記純水又は超純水中へＴＯＣ
成分を添加する手段と、測定されたＴＯＣ量に基づいて
前記純水又は超純水中へのＴＯＣ成分の添加量を制御す
る手段とを具備している。
り発生させたオゾンを純水又は超純水中に溶解させてオ
ゾン水を製造する手段と、前記純水又は超純水中のＴＯ
Ｃ量を測定する手段と、前記純水又は超純水中へＴＯＣ
成分を添加する手段と、測定されたＴＯＣ量に基づいて
前記純水又は超純水中へのＴＯＣ成分の添加量を制御す
る手段とを具備している。
【００１９】また、第２の製造装置は、オゾナイザによ
り発生させたオゾンを純水又は超純水中に溶解させてオ
ゾン水を製造する手段と、前記純水又は超純水中のＴＯ
Ｃ量を測定する手段と、前記純水又は超純水中へ炭酸ガ
スを添加する手段と、測定されたＴＯＣ量に基づいて前
記純水又は超純水中への炭酸ガスの添加量を制御する手
段とを具備している。
り発生させたオゾンを純水又は超純水中に溶解させてオ
ゾン水を製造する手段と、前記純水又は超純水中のＴＯ
Ｃ量を測定する手段と、前記純水又は超純水中へ炭酸ガ
スを添加する手段と、測定されたＴＯＣ量に基づいて前
記純水又は超純水中への炭酸ガスの添加量を制御する手
段とを具備している。
【００２０】第１及び第２の製造装置においては、純水
又は超純水中のＴＯＣ量を測定する代わりに、製造され
るオゾン水のオゾン濃度を測定し、測定されたオゾン濃
度に基づいて純水又は超純水中へのＴＯＣ成分や炭酸ガ
スの添加量を制御することができる。
又は超純水中のＴＯＣ量を測定する代わりに、製造され
るオゾン水のオゾン濃度を測定し、測定されたオゾン濃
度に基づいて純水又は超純水中へのＴＯＣ成分や炭酸ガ
スの添加量を制御することができる。
【００２１】第２の製造方法及び第２の製造装置におい
て、純水又は超純水中へ炭酸ガスを添加する場合、オゾ
ナイザに原料ガスとして供給する酸素ガス及び／又はオ
ゾナイザで生成したオゾンガスに対して炭酸ガスを添加
することにより、これらのガスを介して純水又は超純水
中への炭酸ガスの添加を行うことができる。
て、純水又は超純水中へ炭酸ガスを添加する場合、オゾ
ナイザに原料ガスとして供給する酸素ガス及び／又はオ
ゾナイザで生成したオゾンガスに対して炭酸ガスを添加
することにより、これらのガスを介して純水又は超純水
中への炭酸ガスの添加を行うことができる。
【００２２】製造するオゾン水の濃度が１０ｐｐｍ未満
の場合は、使用する純水又は超純水中のＴＯＣ成分量が
１５ｐｐｂ以下であっても、オゾン溶解器でのオゾン水
濃度の低下は殆ど生じない。一方、製造するオゾン水の
濃度が１０ｐｐｍ以上であっても、使用する純水又は超
純水中のＴＯＣ量が１５ｐｐｂを超えていれば、オゾン
溶解器でのオゾン水濃度の低下は僅かである。この現象
は、オゾン水濃度が２０ｐｐｍ以上の場合に特に顕著で
ある。
の場合は、使用する純水又は超純水中のＴＯＣ成分量が
１５ｐｐｂ以下であっても、オゾン溶解器でのオゾン水
濃度の低下は殆ど生じない。一方、製造するオゾン水の
濃度が１０ｐｐｍ以上であっても、使用する純水又は超
純水中のＴＯＣ量が１５ｐｐｂを超えていれば、オゾン
溶解器でのオゾン水濃度の低下は僅かである。この現象
は、オゾン水濃度が２０ｐｐｍ以上の場合に特に顕著で
ある。
【００２３】このように、ケースバイケースで発生する
オゾン水濃度の低下を阻止するためには、使用する純水
又は超純水中にＴＯＣ成分を添加するのが有効である
が、ＴＯＣ成分は純水又は超純水の水質を低下させ、オ
ゾン水のクリーン度を低下させる原因になる。このた
め、ＴＯＣ成分を添加する場合は、純水又は超純水中の
ＴＯＣ量が２５０ｐｐｂを超えないように注意すること
が重要となる。特に好ましいＴＯＣ量の管理範囲は５０
〜１００ｐｐｂである。
オゾン水濃度の低下を阻止するためには、使用する純水
又は超純水中にＴＯＣ成分を添加するのが有効である
が、ＴＯＣ成分は純水又は超純水の水質を低下させ、オ
ゾン水のクリーン度を低下させる原因になる。このた
め、ＴＯＣ成分を添加する場合は、純水又は超純水中の
ＴＯＣ量が２５０ｐｐｂを超えないように注意すること
が重要となる。特に好ましいＴＯＣ量の管理範囲は５０
〜１００ｐｐｂである。
【００２４】ＴＯＣ成分の添加に用いる物質としてはＩ
ＰＡ（イソプロピルアルコール）、メタノール、酢酸
等、オゾンと反応しにくい有機物が好ましい。オゾンと
反応しやすい有機物ではかえってオゾンと反応し、オゾ
ン水濃度が低下するからである。なかでも特に、被洗浄
物等に悪影響を与えるおそれがないＩＰＡ、酢酸が好ま
しい。また、これらに代えて、或いはこれらと共に、Ｔ
ＯＣ成分を比較的多量に含む、精製度の比較的低い純水
を用いることもできる。
ＰＡ（イソプロピルアルコール）、メタノール、酢酸
等、オゾンと反応しにくい有機物が好ましい。オゾンと
反応しやすい有機物ではかえってオゾンと反応し、オゾ
ン水濃度が低下するからである。なかでも特に、被洗浄
物等に悪影響を与えるおそれがないＩＰＡ、酢酸が好ま
しい。また、これらに代えて、或いはこれらと共に、Ｔ
ＯＣ成分を比較的多量に含む、精製度の比較的低い純水
を用いることもできる。
【００２５】一方、純水又は超純水中への炭酸ガスの添
加も、低ＴＯＣ条件下でのオゾン水濃度の低下の防止に
有効である。これは、溶存オゾンの分解によって生成す
るヒドラキシラジカル等が、溶存オゾンと反応する前に
炭酸イオンと反応し消費されるためと考えられる。
加も、低ＴＯＣ条件下でのオゾン水濃度の低下の防止に
有効である。これは、溶存オゾンの分解によって生成す
るヒドラキシラジカル等が、溶存オゾンと反応する前に
炭酸イオンと反応し消費されるためと考えられる。
【００２６】炭酸ガスの添加は純水又は超純水中、ひい
てはオゾン水中に炭酸を生じるが、その炭酸はＴＯＣ成
分に比べて有害性が低く、オゾン水のクリーン度低下に
つながらない。従って、ＴＯＣ成分の添加よりも炭酸ガ
スの添加の方が好ましい。
てはオゾン水中に炭酸を生じるが、その炭酸はＴＯＣ成
分に比べて有害性が低く、オゾン水のクリーン度低下に
つながらない。従って、ＴＯＣ成分の添加よりも炭酸ガ
スの添加の方が好ましい。
【００２７】純水又は超純水中への炭酸ガスの添加量は
水１Ｌ当たり５〜５００ｃｃとする。５ｃｃ／Ｌ未満で
は、低ＴＯＣ条件下でのオゾン水濃度の低下を防止する
効果が不十分である。５００ｃｃ／Ｌを超えると、オゾ
ン水濃度が飽和し、使用する炭酸ガスが無駄になる。特
に好ましい炭酸ガスの添加量は１０〜３００ｃｃ／Ｌで
ある。
水１Ｌ当たり５〜５００ｃｃとする。５ｃｃ／Ｌ未満で
は、低ＴＯＣ条件下でのオゾン水濃度の低下を防止する
効果が不十分である。５００ｃｃ／Ｌを超えると、オゾ
ン水濃度が飽和し、使用する炭酸ガスが無駄になる。特
に好ましい炭酸ガスの添加量は１０〜３００ｃｃ／Ｌで
ある。
【００２８】この炭酸ガスは、純水又は超純水中に直接
添加することができるが、放電式のオゾナイザに原料ガ
スとして供給される酸素ガスや、放電式又は電解式のオ
ゾンナイザで生成されるオゾンガスを介して、純水又は
超純水中に添加することもできる。即ち、原料ガスとし
ての酸素ガスに炭酸ガスを添加すると、炭酸ガスを含む
オゾンガスが生成され、これが純水又は超純水中に注入
されることにより、純水又は超純水中への炭酸ガスの添
加が可能となる。オゾンガスに炭酸ガスを添加した場合
も、これが純水又は超純水中に注入されることにより、
純水又は超純水中への炭酸ガスの添加が可能となる。
添加することができるが、放電式のオゾナイザに原料ガ
スとして供給される酸素ガスや、放電式又は電解式のオ
ゾンナイザで生成されるオゾンガスを介して、純水又は
超純水中に添加することもできる。即ち、原料ガスとし
ての酸素ガスに炭酸ガスを添加すると、炭酸ガスを含む
オゾンガスが生成され、これが純水又は超純水中に注入
されることにより、純水又は超純水中への炭酸ガスの添
加が可能となる。オゾンガスに炭酸ガスを添加した場合
も、これが純水又は超純水中に注入されることにより、
純水又は超純水中への炭酸ガスの添加が可能となる。
【００２９】放電式のオゾナイザで、原料ガスとして高
純度の酸素ガスを使用すると、オゾナイザの所期の性能
が発揮されず、生成されるオゾンガス中のオゾン濃度が
著しく低下するという問題がある。このオゾナイザにお
けるオゾンガス濃度の低下に対しては、従来より、原料
ガスとしての高純度酸素ガスに、少量の窒素ガスを添加
することが行われている。しかしながら、窒素ガスの添
加を行うと、オゾン水中に硝酸が生成され、オゾン水の
クリーン度が低下するという二次的な問題が生じる。
純度の酸素ガスを使用すると、オゾナイザの所期の性能
が発揮されず、生成されるオゾンガス中のオゾン濃度が
著しく低下するという問題がある。このオゾナイザにお
けるオゾンガス濃度の低下に対しては、従来より、原料
ガスとしての高純度酸素ガスに、少量の窒素ガスを添加
することが行われている。しかしながら、窒素ガスの添
加を行うと、オゾン水中に硝酸が生成され、オゾン水の
クリーン度が低下するという二次的な問題が生じる。
【００３０】酸素ガスに炭酸ガスを添加すると、オゾナ
イザにおけるオゾンガス濃度の低下が抑制され、窒素ガ
スの添加が不要になる。また、窒素ガスの添加量を大幅
に低減することが可能になる。これらにより、オゾン水
のクリーン度が向上する。
イザにおけるオゾンガス濃度の低下が抑制され、窒素ガ
スの添加が不要になる。また、窒素ガスの添加量を大幅
に低減することが可能になる。これらにより、オゾン水
のクリーン度が向上する。
【００３１】酸素ガスについては、４Ｎ以上の高純度酸
素ガスが、オゾンガス及びオゾン水のクリーン度を高め
るために好ましい。同様の理由から、炭酸ガス及び窒素
ガスの純度も４Ｎ以上が好ましい。
素ガスが、オゾンガス及びオゾン水のクリーン度を高め
るために好ましい。同様の理由から、炭酸ガス及び窒素
ガスの純度も４Ｎ以上が好ましい。
【００３２】オゾンガス濃度については、オゾン水濃度
を高めるために１００ｇ／ｍ3 （Ｎ）以上が好ましく、
２００ｇ／ｍ3 （Ｎ）以上が特に好ましい。
を高めるために１００ｇ／ｍ3 （Ｎ）以上が好ましく、
２００ｇ／ｍ3 （Ｎ）以上が特に好ましい。
【００３３】炭酸ガスを酸素ガスに添加する場合の窒素
ガスの添加量は１ｖｏｌ％以下に抑制するのがよく、
０．２ｖｏｌ％以下が特に好ましい。このような少量の
添加でも、炭酸ガスの存在下ではオゾンガス濃度の低下
抑制に大きな効果がある。窒素ガスの添加量の下限につ
いては、０、即ち炭酸ガスの単独添加でもオゾンガス濃
度の低下が抑制されるので、特に規定しない。
ガスの添加量は１ｖｏｌ％以下に抑制するのがよく、
０．２ｖｏｌ％以下が特に好ましい。このような少量の
添加でも、炭酸ガスの存在下ではオゾンガス濃度の低下
抑制に大きな効果がある。窒素ガスの添加量の下限につ
いては、０、即ち炭酸ガスの単独添加でもオゾンガス濃
度の低下が抑制されるので、特に規定しない。
【００３４】純水又は超純水中へのＴＯＣ成分や炭酸ガ
スの添加量を制御する場合の判断基準となる因子は、純
水又は超純水中のＴＯＣ量であり、このＴＯＣ量に基づ
いて添加量を制御するが、製造されるオゾン水のオゾン
濃度をこの因子として用いることも可能である。即ち、
オゾン水のオゾン濃度は、使用する純水又は超純水中の
ＴＯＣ量に依存するので、このオゾン濃度に基づいて添
加量の制御を行うことが可能である。
スの添加量を制御する場合の判断基準となる因子は、純
水又は超純水中のＴＯＣ量であり、このＴＯＣ量に基づ
いて添加量を制御するが、製造されるオゾン水のオゾン
濃度をこの因子として用いることも可能である。即ち、
オゾン水のオゾン濃度は、使用する純水又は超純水中の
ＴＯＣ量に依存するので、このオゾン濃度に基づいて添
加量の制御を行うことが可能である。
【００３５】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。図１（ａ）（ｂ）は本発明の第１実
施形態を示すオゾン水製造装置の構成図である。
基づいて説明する。図１（ａ）（ｂ）は本発明の第１実
施形態を示すオゾン水製造装置の構成図である。
【００３６】図１（ａ）のオゾン水製造装置は、放電式
のオゾナイザ１と、オゾナイザ１で発生させたオゾンを
純水又は超純水中に溶解するオゾン溶解器２とを備えて
いる。純水又は超純水は、純水製造装置で製造され、純
水供給系を通って、オゾン溶解器２に供給される。
のオゾナイザ１と、オゾナイザ１で発生させたオゾンを
純水又は超純水中に溶解するオゾン溶解器２とを備えて
いる。純水又は超純水は、純水製造装置で製造され、純
水供給系を通って、オゾン溶解器２に供給される。
【００３７】純水供給系には、ＴＯＣ計３が設けられる
と共に、その下流側に位置して薬液注入器４が設けられ
ている。ＴＯＣ計３は、薬液注入器４を介してオゾン溶
解器２に供給される純水又は超純水中のＴＯＣ量を測定
する。ＴＯＣ計３としては、例えば連続測定が可能な紫
外線酸化方式のものなどを使用することができる。薬液
注入器４は、ＴＯＣ成分としてのＩＰＡ、酢酸等を純水
又は超純水中に添加する。その添加量は、ＴＯＣ計３で
測定されたＴＯＣ量に基づいて制御される。即ち、測定
されたＴＯＣ量が１５ｐｐｂ以下のとき、そのＴＯＣ量
が１５ｐｐｂを超えるように、純水又は超純水中へのＴ
ＯＣ成分の添加量が制御される。
と共に、その下流側に位置して薬液注入器４が設けられ
ている。ＴＯＣ計３は、薬液注入器４を介してオゾン溶
解器２に供給される純水又は超純水中のＴＯＣ量を測定
する。ＴＯＣ計３としては、例えば連続測定が可能な紫
外線酸化方式のものなどを使用することができる。薬液
注入器４は、ＴＯＣ成分としてのＩＰＡ、酢酸等を純水
又は超純水中に添加する。その添加量は、ＴＯＣ計３で
測定されたＴＯＣ量に基づいて制御される。即ち、測定
されたＴＯＣ量が１５ｐｐｂ以下のとき、そのＴＯＣ量
が１５ｐｐｂを超えるように、純水又は超純水中へのＴ
ＯＣ成分の添加量が制御される。
【００３８】ＴＯＣ量が１５ｐｐｂを超えていると、オ
ゾン溶解器２で製造されるオゾン水のオゾン濃度は、定
格値又はその近傍に維持される。このＴＯＣ値が１５ｐ
ｐｂ以下になると、オゾン水のオゾン濃度は定格値から
大きく低下する。このときに、そのＴＯＣ量が１５ｐｐ
ｂを超えるように、純水又は超純水中へのＴＯＣ成分の
添加量が制御されることにより、オゾン水のオゾン濃度
は、定格値又はその近傍まで上昇する。
ゾン溶解器２で製造されるオゾン水のオゾン濃度は、定
格値又はその近傍に維持される。このＴＯＣ値が１５ｐ
ｐｂ以下になると、オゾン水のオゾン濃度は定格値から
大きく低下する。このときに、そのＴＯＣ量が１５ｐｐ
ｂを超えるように、純水又は超純水中へのＴＯＣ成分の
添加量が制御されることにより、オゾン水のオゾン濃度
は、定格値又はその近傍まで上昇する。
【００３９】図１（ｂ）のオゾン水製造装置では、薬液
注入器４を制御するために、オゾン溶解器２の下流側
で、製造されるオゾン水のオゾン濃度がオゾン水濃度計
５により測定される。
注入器４を制御するために、オゾン溶解器２の下流側
で、製造されるオゾン水のオゾン濃度がオゾン水濃度計
５により測定される。
【００４０】オゾン溶解器２に供給される純水又は超純
水中のＴＯＣ量が１５ｐｐｂを超えている場合、オゾン
水濃度計５により測定されるオゾン水のオゾン濃度は、
定格値又はその近傍となるが、純水又は超純水中のＴＯ
Ｃ量が１５ｐｐｂ以下になると、このオゾン水濃度は定
格値から大きく低下する。従って、オゾン水濃度を監視
することによっても、純水又は超純水中のＴＯＣ量が１
５ｐｐｂ以下か否かが分かり、オゾン水濃度が定格値か
ら大きく低下した場合に、薬液注入器４を制御して、例
えばＴＯＣ値で１５ｐｐｂを超えるように、ＴＯＣ成分
を純水又は超純水中に添加することにより、オゾン水の
オゾン濃度は、定格値又はその近傍まで上昇する。
水中のＴＯＣ量が１５ｐｐｂを超えている場合、オゾン
水濃度計５により測定されるオゾン水のオゾン濃度は、
定格値又はその近傍となるが、純水又は超純水中のＴＯ
Ｃ量が１５ｐｐｂ以下になると、このオゾン水濃度は定
格値から大きく低下する。従って、オゾン水濃度を監視
することによっても、純水又は超純水中のＴＯＣ量が１
５ｐｐｂ以下か否かが分かり、オゾン水濃度が定格値か
ら大きく低下した場合に、薬液注入器４を制御して、例
えばＴＯＣ値で１５ｐｐｂを超えるように、ＴＯＣ成分
を純水又は超純水中に添加することにより、オゾン水の
オゾン濃度は、定格値又はその近傍まで上昇する。
【００４１】図２（ａ）（ｂ）は本発明の第２実施形態
を示すオゾン水製造装置の構成図である。第２実施形態
のオゾン水製造装置では、オゾン溶解器２に供給される
純水又は超純水中にＴＯＣ成分を添加する代わりに、そ
の純水又は超純水中に炭酸ガスを溶解器６により添加す
る。この添加量は、図１（ａ）のオゾン水製造装置と同
様、ＴＯＣ計３で測定される純水又は超純水中のＴＯＣ
量（図２（ａ））、又はオゾン水濃度計５で測定される
オゾン水のオゾン濃度（図２（ｂ））に基づいて流量制
御器７が操作されることにより制御される。
を示すオゾン水製造装置の構成図である。第２実施形態
のオゾン水製造装置では、オゾン溶解器２に供給される
純水又は超純水中にＴＯＣ成分を添加する代わりに、そ
の純水又は超純水中に炭酸ガスを溶解器６により添加す
る。この添加量は、図１（ａ）のオゾン水製造装置と同
様、ＴＯＣ計３で測定される純水又は超純水中のＴＯＣ
量（図２（ａ））、又はオゾン水濃度計５で測定される
オゾン水のオゾン濃度（図２（ｂ））に基づいて流量制
御器７が操作されることにより制御される。
【００４２】即ち、ＴＯＣ計３で測定される純水又は超
純水中のＴＯＣ値が１５ｐｐｂ以下になったとき、又は
オゾン水濃度計５で測定されるオゾン水のオゾン濃度が
定格値から大きく低下したときに、溶解器６によって純
水又は超純水中に所定量の炭酸ガスを添加する。添加量
は、純水又は超純水１Ｌ当たり５ｃｃ以上であり、ＴＯ
Ｃ値又はオゾン水濃度の大きさによって変化させること
も可能である。
純水中のＴＯＣ値が１５ｐｐｂ以下になったとき、又は
オゾン水濃度計５で測定されるオゾン水のオゾン濃度が
定格値から大きく低下したときに、溶解器６によって純
水又は超純水中に所定量の炭酸ガスを添加する。添加量
は、純水又は超純水１Ｌ当たり５ｃｃ以上であり、ＴＯ
Ｃ値又はオゾン水濃度の大きさによって変化させること
も可能である。
【００４３】純水又は超純水中にＴＯＣ成分を添加する
代わりに、その純水又は超純水中に炭酸ガスを添加する
ことによっても、純水又は超純水中のＴＯＣ成分の不足
によるオゾン水濃度の低下を阻止できることは、前述の
とおりである。
代わりに、その純水又は超純水中に炭酸ガスを添加する
ことによっても、純水又は超純水中のＴＯＣ成分の不足
によるオゾン水濃度の低下を阻止できることは、前述の
とおりである。
【００４４】図３（ａ）（ｂ）は本発明の第３実施形態
を示すオゾン水製造装置の構成図である。第３実施形態
のオゾン水製造装置では、オゾナイザ１に原料ガスとし
て供給される酸素ガスに、流量制御器７によって炭酸ガ
スが添加される。この添加量は、他の実施形態と同様、
ＴＯＣ計３で測定される純水又は超純水中のＴＯＣ量
（図３（ａ））、又はオゾン水濃度計５で測定されるオ
ゾン水のオゾン濃度（図３（ｂ））に基づいて制御され
る。
を示すオゾン水製造装置の構成図である。第３実施形態
のオゾン水製造装置では、オゾナイザ１に原料ガスとし
て供給される酸素ガスに、流量制御器７によって炭酸ガ
スが添加される。この添加量は、他の実施形態と同様、
ＴＯＣ計３で測定される純水又は超純水中のＴＯＣ量
（図３（ａ））、又はオゾン水濃度計５で測定されるオ
ゾン水のオゾン濃度（図３（ｂ））に基づいて制御され
る。
【００４５】即ち、ＴＯＣ計３で測定される純水又は超
純水中のＴＯＣ値が１５ｐｐｂ以下になったとき、又は
オゾン水濃度計５で測定されるオゾン水のオゾン濃度が
定格値から大きく低下したときに、酸素ガス中に所定量
の炭酸ガスが添加される。
純水中のＴＯＣ値が１５ｐｐｂ以下になったとき、又は
オゾン水濃度計５で測定されるオゾン水のオゾン濃度が
定格値から大きく低下したときに、酸素ガス中に所定量
の炭酸ガスが添加される。
【００４６】酸素ガス中に添加された炭酸ガスは、オゾ
ナイザ１で生成されるオゾンガスにもそのまま含まれ、
オゾン溶解器２内で純水又は超純水中に添加される。こ
れにより、純水又は超純水中のＴＯＣ成分の不足による
オゾン水濃度の低下を阻止することができる。酸素ガス
中への炭酸ガスの添加量は、純水又は超純水１Ｌ当たり
の添加量が５ｃｃ以上となるように調整され、ＴＯＣ値
又はオゾン水濃度の大きさによって変化させることも可
能である。
ナイザ１で生成されるオゾンガスにもそのまま含まれ、
オゾン溶解器２内で純水又は超純水中に添加される。こ
れにより、純水又は超純水中のＴＯＣ成分の不足による
オゾン水濃度の低下を阻止することができる。酸素ガス
中への炭酸ガスの添加量は、純水又は超純水１Ｌ当たり
の添加量が５ｃｃ以上となるように調整され、ＴＯＣ値
又はオゾン水濃度の大きさによって変化させることも可
能である。
【００４７】炭酸ガスを酸素ガス中に添加することによ
り、オゾナイザ１で生成されるオゾンガスのオゾン濃度
が上昇し、その上昇のために添加する窒素ガスの添加量
を低減できることは前述したとおりである。
り、オゾナイザ１で生成されるオゾンガスのオゾン濃度
が上昇し、その上昇のために添加する窒素ガスの添加量
を低減できることは前述したとおりである。
【００４８】図４（ａ）（ｂ）は本発明の第４実施形態
を示すオゾン水製造装置の構成図である。第４実施形態
のオゾン水製造装置では、オゾナイザ１で生成されるオ
ゾンガスに、流量制御器７によって炭酸ガスが添加され
る。この添加量は、他の実施形態と同様、ＴＯＣ計３で
測定される純水又は超純水中のＴＯＣ量（図４
（ａ））、又はオゾン水濃度計５で測定されるオゾン水
のオゾン濃度（図４（ｂ））に基づいて制御される。
を示すオゾン水製造装置の構成図である。第４実施形態
のオゾン水製造装置では、オゾナイザ１で生成されるオ
ゾンガスに、流量制御器７によって炭酸ガスが添加され
る。この添加量は、他の実施形態と同様、ＴＯＣ計３で
測定される純水又は超純水中のＴＯＣ量（図４
（ａ））、又はオゾン水濃度計５で測定されるオゾン水
のオゾン濃度（図４（ｂ））に基づいて制御される。
【００４９】即ち、ＴＯＣ計３で測定される純水又は超
純水中のＴＯＣ値が１５ｐｐｂ以下になったとき、又は
オゾン水濃度計５で測定されるオゾン水のオゾン濃度が
定格値から大きく低下したときに、オゾンガス中に所定
量の炭酸ガスが添加される。オゾンガス中に添加された
炭酸ガスは、オゾンガスと共にオゾン溶解器２に送ら
れ、ここで純水又は超純水中に添加される。これによ
り、純水又は超純水中のＴＯＣ成分の不足によるオゾン
水濃度の低下を阻止することができる。オゾンガス中へ
の炭酸ガスの添加量は、純水又は超純水１Ｌ当たりの添
加量が５ｃｃ以上となるように調整され、ＴＯＣ値又は
オゾン水濃度の大きさによって変化させることも可能で
ある。
純水中のＴＯＣ値が１５ｐｐｂ以下になったとき、又は
オゾン水濃度計５で測定されるオゾン水のオゾン濃度が
定格値から大きく低下したときに、オゾンガス中に所定
量の炭酸ガスが添加される。オゾンガス中に添加された
炭酸ガスは、オゾンガスと共にオゾン溶解器２に送ら
れ、ここで純水又は超純水中に添加される。これによ
り、純水又は超純水中のＴＯＣ成分の不足によるオゾン
水濃度の低下を阻止することができる。オゾンガス中へ
の炭酸ガスの添加量は、純水又は超純水１Ｌ当たりの添
加量が５ｃｃ以上となるように調整され、ＴＯＣ値又は
オゾン水濃度の大きさによって変化させることも可能で
ある。
【００５０】図６は、オゾン水の製造に使用される超純
水中のＴＯＣ量と、製造されるオゾン水のオゾン濃度と
の関係について調査した結果を示すグラフである。
水中のＴＯＣ量と、製造されるオゾン水のオゾン濃度と
の関係について調査した結果を示すグラフである。
【００５１】調査では、超純水を１Ｌ／ｍｉｎでオゾン
溶解器に供給して、定格濃度が５０ｐｐｍのオゾン水を
製造する。超純水としては、ＴＯＣ量を６ｐｐｂに低減
したものを使用した。オゾンガスとしては、放電式のオ
ゾナイザで生成したオゾン濃度２５０ｇ／ｍ3 （Ｎ）の
高濃度オゾンガスを用いた。オゾンガスの生成には、６
Ｎの高純度酸素ガス（２Ｌ／ｍｉｎ）と、同じく６Ｎの
高純度窒素ガス（２０ｍＬ／ｍｉｎ）とを用いた。ＴＯ
Ｃ成分として種々の量のＩＰＡ、酢酸を超純水中へ添加
して、超純水中のＴＯＣ値を変化させたときの、ＴＯＣ
値とオゾン水のオゾン濃度との関係を示したのが図６で
ある。なお、ＴＯＣ値の測定には燃料式ＴＯＣ計を用
い、添加量との相違がないことを確認している。
溶解器に供給して、定格濃度が５０ｐｐｍのオゾン水を
製造する。超純水としては、ＴＯＣ量を６ｐｐｂに低減
したものを使用した。オゾンガスとしては、放電式のオ
ゾナイザで生成したオゾン濃度２５０ｇ／ｍ3 （Ｎ）の
高濃度オゾンガスを用いた。オゾンガスの生成には、６
Ｎの高純度酸素ガス（２Ｌ／ｍｉｎ）と、同じく６Ｎの
高純度窒素ガス（２０ｍＬ／ｍｉｎ）とを用いた。ＴＯ
Ｃ成分として種々の量のＩＰＡ、酢酸を超純水中へ添加
して、超純水中のＴＯＣ値を変化させたときの、ＴＯＣ
値とオゾン水のオゾン濃度との関係を示したのが図６で
ある。なお、ＴＯＣ値の測定には燃料式ＴＯＣ計を用
い、添加量との相違がないことを確認している。
【００５２】図６から分かるように、超純水中のＴＯＣ
値が６ｐｐｂのため、ＴＯＣ成分を添加しない場合は、
オゾン水濃度は約２０ｐｐｍに過ぎない。ＴＯＣ成分の
添加によってＴＯＣ値を上げることにより、オゾン水濃
度が急激に上昇し、超純水中のＴＯＣ量が１５ｐｐｂを
超える領域では、ＴＯＣ量に殆ど関係なく、オゾン水濃
度としてほぼ定格値が得られる。この結果は、今まで半
導体工場から供給される純水中のＴＯＣ値によって決ま
っていた到達オゾン濃度〔図５（ｂ）〕を、ＴＯＣ値が
低い超純水中にＴＯＣ成分を添加することによってコン
トロールできることを示している。
値が６ｐｐｂのため、ＴＯＣ成分を添加しない場合は、
オゾン水濃度は約２０ｐｐｍに過ぎない。ＴＯＣ成分の
添加によってＴＯＣ値を上げることにより、オゾン水濃
度が急激に上昇し、超純水中のＴＯＣ量が１５ｐｐｂを
超える領域では、ＴＯＣ量に殆ど関係なく、オゾン水濃
度としてほぼ定格値が得られる。この結果は、今まで半
導体工場から供給される純水中のＴＯＣ値によって決ま
っていた到達オゾン濃度〔図５（ｂ）〕を、ＴＯＣ値が
低い超純水中にＴＯＣ成分を添加することによってコン
トロールできることを示している。
【００５３】図７は、超純水中への炭酸ガスの添加量と
オゾン水濃度の関係を調査した結果を示すグラフであ
る。
オゾン水濃度の関係を調査した結果を示すグラフであ
る。
【００５４】調査では、超純水中にＴＯＣ成分を添加す
る代わりに、炭酸ガスを添加した。超純水中のＴＯＣ値
が６ｐｐｂのため、炭酸ガスを添加しない場合は、オゾ
ン水濃度は約２５ｐｐｍに過ぎない。しかし、炭酸ガス
を添加することにより、超純水中のＴＯＣ値が６ｐｐｂ
のままであるにもかかわらず、オゾン水濃度が急激に上
昇し、超純水１Ｌ当たり１０ｃｃ以上の添加では、その
添加量に殆ど関係なく、オゾン水濃度としてほぼ定格値
が得られる。
る代わりに、炭酸ガスを添加した。超純水中のＴＯＣ値
が６ｐｐｂのため、炭酸ガスを添加しない場合は、オゾ
ン水濃度は約２５ｐｐｍに過ぎない。しかし、炭酸ガス
を添加することにより、超純水中のＴＯＣ値が６ｐｐｂ
のままであるにもかかわらず、オゾン水濃度が急激に上
昇し、超純水１Ｌ当たり１０ｃｃ以上の添加では、その
添加量に殆ど関係なく、オゾン水濃度としてほぼ定格値
が得られる。
【００５５】図８及び図９は、オゾンガスを生成するた
めの原料ガス（酸素ガス）中へ炭酸ガスを添加したとき
の、炭酸ガスの添加量がオゾンガス濃度及びオゾン水濃
度に与える影響を調査した結果を示すグラフである。
めの原料ガス（酸素ガス）中へ炭酸ガスを添加したとき
の、炭酸ガスの添加量がオゾンガス濃度及びオゾン水濃
度に与える影響を調査した結果を示すグラフである。
【００５６】炭酸ガスの添加量としては、酸素ガス中へ
の添加量と、超純水中への添加量に換算したものとを示
す。酸素ガス中への炭酸ガスの添加に伴い、酸素ガス中
への窒素ガスの添加量は、図８では２０ｍＬ／ｍｉｎ
（１ｖｏｌ％）から０ｍＬ／ｍｉｎに減らし、図９では
２０ｍＬ／ｍｉｎ（１ｖｏｌ％）から２ｍＬ／ｍｉｎ
（０．１ｖｏｌ％）に減らした。
の添加量と、超純水中への添加量に換算したものとを示
す。酸素ガス中への炭酸ガスの添加に伴い、酸素ガス中
への窒素ガスの添加量は、図８では２０ｍＬ／ｍｉｎ
（１ｖｏｌ％）から０ｍＬ／ｍｉｎに減らし、図９では
２０ｍＬ／ｍｉｎ（１ｖｏｌ％）から２ｍＬ／ｍｉｎ
（０．１ｖｏｌ％）に減らした。
【００５７】図８では、窒素ガスを無添加としたことに
より、炭酸ガスを添加しない場合は、オゾンガス濃度が
２５０ｇ／ｍ3 （Ｎ）から１００ｇ／ｍ3 （Ｎ）へ減少
する。加えて、超純水中のＴＯＣ値が６ｐｐｂと低位で
あるため、炭酸ガスを添加しない場合のオゾン水濃度は
約２０ｐｐｍである。しかし、炭酸ガスを添加すること
により、オゾンガス濃度も上昇して、オゾン水濃度が急
激に上昇し、超純水１Ｌ当たり５０ｃｃ以上の添加で
は、その添加量に殆ど関係なく、オゾンガス濃度及びオ
ゾン水濃度として定格値に近い２００ｇ／ｍ3 （Ｎ）及
び４５ｐｐｍが得られる。
より、炭酸ガスを添加しない場合は、オゾンガス濃度が
２５０ｇ／ｍ3 （Ｎ）から１００ｇ／ｍ3 （Ｎ）へ減少
する。加えて、超純水中のＴＯＣ値が６ｐｐｂと低位で
あるため、炭酸ガスを添加しない場合のオゾン水濃度は
約２０ｐｐｍである。しかし、炭酸ガスを添加すること
により、オゾンガス濃度も上昇して、オゾン水濃度が急
激に上昇し、超純水１Ｌ当たり５０ｃｃ以上の添加で
は、その添加量に殆ど関係なく、オゾンガス濃度及びオ
ゾン水濃度として定格値に近い２００ｇ／ｍ3 （Ｎ）及
び４５ｐｐｍが得られる。
【００５８】図９では、窒素ガスの添加量を２０ｍＬ／
ｍｉｎ（１ｖｏｌ％）から２ｍＬ／ｍｉｎ（０．１ｖｏ
ｌ％）に減らしている。酸素ガス中に炭酸ガスを添加す
ることにより、窒素ガスの添加量を１／１０に減らした
にもかかわらず、オゾンガス濃度として定格値が得ら
れ、オゾン水濃度についても超純水１Ｌ当たり１０ｃｃ
以上の添加で定格値が得られる。
ｍｉｎ（１ｖｏｌ％）から２ｍＬ／ｍｉｎ（０．１ｖｏ
ｌ％）に減らしている。酸素ガス中に炭酸ガスを添加す
ることにより、窒素ガスの添加量を１／１０に減らした
にもかかわらず、オゾンガス濃度として定格値が得ら
れ、オゾン水濃度についても超純水１Ｌ当たり１０ｃｃ
以上の添加で定格値が得られる。
【００５９】
【発明の効果】以上に説明したとおり、本発明のオゾン
水製造方法及び製造装置は、レジスト剥離に使用される
ような高濃度のオゾン水を製造する場合に、その濃度が
上がらなくなる現象を簡単に防止することができ、これ
により高濃度のオゾン水を経済的に製造することができ
る。
水製造方法及び製造装置は、レジスト剥離に使用される
ような高濃度のオゾン水を製造する場合に、その濃度が
上がらなくなる現象を簡単に防止することができ、これ
により高濃度のオゾン水を経済的に製造することができ
る。
【図１】本発明の第１実施形態を示すオゾン水製造装置
の構成図である。
の構成図である。
【図２】本発明の第２実施形態を示すオゾン水製造装置
の構成図である。
の構成図である。
【図３】本発明の第３実施形態を示すオゾン水製造装置
の構成図である。
の構成図である。
【図４】本発明の第４実施形態を示すオゾン水製造装置
の構成図である。
の構成図である。
【図５】（ａ）はオゾン水の製造に使用される超純水の
水質によるオゾン水濃度のバラツキを示すグラフ、
（ｂ）はその水質中のＴＯＣ量がオゾン水濃度に与える
影響を示すグラフである。
水質によるオゾン水濃度のバラツキを示すグラフ、
（ｂ）はその水質中のＴＯＣ量がオゾン水濃度に与える
影響を示すグラフである。
【図６】オゾン水の製造に使用される超純水中へＴＯＣ
成分を添加して、超純水中のＴＯＣ値を変化させたとき
の、ＴＯＣ値と製造されるオゾン水のオゾン濃度との関
係を示すグラフである。
成分を添加して、超純水中のＴＯＣ値を変化させたとき
の、ＴＯＣ値と製造されるオゾン水のオゾン濃度との関
係を示すグラフである。
【図７】オゾン水の製造に使用される超純水中への炭酸
ガスの添加量と、製造されるオゾン水のオゾン濃度との
関係を示すグラフである。
ガスの添加量と、製造されるオゾン水のオゾン濃度との
関係を示すグラフである。
【図８】酸素ガス中への炭酸ガスの添加量がオゾンガス
濃度及びオゾン水濃度に与える影響度を示すグラフであ
る。
濃度及びオゾン水濃度に与える影響度を示すグラフであ
る。
【図９】酸素ガス中への炭酸ガスの添加量がオゾンガス
濃度及びオゾン水濃度に与える影響度を示すグラフであ
る。
濃度及びオゾン水濃度に与える影響度を示すグラフであ
る。
１ オゾナイザ ２ オゾン溶解器 ３ ＴＯＣ計 ４ 薬液注入器 ５ オゾン水濃度計 ６ 炭酸ガス溶解器 ７ 流量制御器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 竹内 和則 兵庫県尼崎市扶桑町１番10号 住友精密工 業株式会社内 Ｆターム(参考） 4D050 BB02 BD04 4G035 AA01 AE01 4G042 CE01 CE04
Claims (8)
- 【請求項１】 オゾナイザにより発生させたオゾンを純
水又は超純水中に溶解させてオゾン濃度が１０ｐｐｍ以
上のオゾン水を製造する際に、前記純水又は超純水中の
ＴＯＣ値が１５ｐｐｂ以下のときに、ＴＯＣ成分を前記
純水又は超純水中にＴＯＣ値が１５ｐｐｂ超２５０ｐｐ
ｂ以下となるように添加することを特徴とするオゾン水
製造方法。 - 【請求項２】 オゾナイザにより発生させたオゾンを純
水又は超純水中に溶解させてオゾン濃度が１０ｐｐｍ以
上のオゾン水を製造する際に、前記純水又は超純水中の
ＴＯＣ値が１５ｐｐｂ以下のときに、炭酸ガスを前記純
水又は超純水中にその水１Ｌ当たり５〜５００ｃｃ添加
することを特徴とするオゾン水製造方法。 - 【請求項３】 オゾナイザに原料ガスとして供給する酸
素ガス及び／又はオゾナイザで生成したオゾンガスに対
して炭酸ガスの添加を行うことにより、炭酸ガスを純水
又は超純水中に１Ｌ当たり５〜５００ｃｃ添加すること
を特徴とする請求項２に記載のオゾン水製造方法。 - 【請求項４】 オゾナイザにより発生させたオゾンを純
水又は超純水中に溶解させてオゾン水を製造する手段
と、製造されるオゾン水のオゾン濃度を測定する手段
と、前記純水又は超純水中へＴＯＣ成分を添加する手段
と、測定されたオゾン濃度に基づいて前記純水又は超純
水中へのＴＯＣ成分の添加量を制御する手段とを具備す
ることを特徴とするオゾン水製造装置。 - 【請求項５】 オゾナイザにより発生させたオゾンを純
水又は超純水中に溶解させてオゾン水を製造する手段
と、前記純水又は超純水中のＴＯＣ量を測定する手段
と、前記純水又は超純水中へＴＯＣ成分を添加する手段
と、測定されたＴＯＣ量に基づいて前記純水又は超純水
中へのＴＯＣ成分の添加量を制御する手段とを具備する
ことを特徴とするオゾン水製造装置。 - 【請求項６】 オゾナイザにより発生させたオゾンを純
水又は超純水中に溶解させてオゾン水を製造する手段
と、製造されるオゾン水のオゾン濃度を測定する手段
と、前記純水又は超純水中へ炭酸ガスを添加する手段
と、測定されたオゾン濃度に基づいて前記純水又は超純
水中への炭酸ガスの添加量を制御する手段とを具備する
ことを特徴とするオゾン水製造装置。 - 【請求項７】 オゾナイザにより発生させたオゾンを純
水又は超純水中に溶解させてオゾン水を製造する手段
と、前記純水又は超純水中のＴＯＣ量を測定する手段
と、前記純水又は超純水中へ炭酸ガスを添加する手段
と、測定されたＴＯＣ量に基づいて前記純水又は超純水
中への炭酸ガスの添加量を制御する手段とを具備するこ
とを特徴とするオゾン水製造装置。 - 【請求項８】 前記純水又は超純水中へ炭酸ガスを添加
する手段は、前記オゾナイザに原料ガスとして供給する
酸素ガス及び／又はオゾナイザで生成したオゾンガス中
へ炭酸ガスを添加することにより、純水又は超純水中へ
の炭酸ガスの添加を行うことを特徴とする請求項６又は
７に記載のオゾン水製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000282263A JP4827286B2 (ja) | 2000-09-18 | 2000-09-18 | オゾン水製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000282263A JP4827286B2 (ja) | 2000-09-18 | 2000-09-18 | オゾン水製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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