JP2002080551A - 活性光線硬化性組成物 - Google Patents
活性光線硬化性組成物Info
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- JP2002080551A JP2002080551A JP2001198940A JP2001198940A JP2002080551A JP 2002080551 A JP2002080551 A JP 2002080551A JP 2001198940 A JP2001198940 A JP 2001198940A JP 2001198940 A JP2001198940 A JP 2001198940A JP 2002080551 A JP2002080551 A JP 2002080551A
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来のものに比べ、硬化性がよく、しかも
基材との密着性の良好な活性光線硬化性組成物を提供す
る。 【解決手段】 ポリジエンポリオール(a1)からなる
ポリオール成分(a)とポリカルボン酸成分(b)から
構成されるポリエステル樹脂(A)および光重合開始剤
(B)からなることを特徴とする活性光線硬化性組成物
を、感光性レジストフィルム、フォトレジスト、感光性
樹脂凸版、感光性フレキソ板、スクリーン板、光接着剤
またはハードコート剤の感光層に用いる。
基材との密着性の良好な活性光線硬化性組成物を提供す
る。 【解決手段】 ポリジエンポリオール(a1)からなる
ポリオール成分(a)とポリカルボン酸成分(b)から
構成されるポリエステル樹脂(A)および光重合開始剤
(B)からなることを特徴とする活性光線硬化性組成物
を、感光性レジストフィルム、フォトレジスト、感光性
樹脂凸版、感光性フレキソ板、スクリーン板、光接着剤
またはハードコート剤の感光層に用いる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は活性光線硬化性組成
物に関する。さらに詳しくは、感光性レジストフイル
ム、フォトレジスト、感光性樹脂凸版、感光性フレキソ
版、スクリーン版、光接着剤、ハードコート剤等の感光
層に好適に用いることのできる活性光線硬化性組成物に
関する。
物に関する。さらに詳しくは、感光性レジストフイル
ム、フォトレジスト、感光性樹脂凸版、感光性フレキソ
版、スクリーン版、光接着剤、ハードコート剤等の感光
層に好適に用いることのできる活性光線硬化性組成物に
関する。
【0002】
【従来の技術】従来、活性光線硬化性組成物としては、
マレイン酸などで不飽和基を導入した不飽和ポリエステ
ル樹脂、繊維強化材および光重合開始剤を含有する光硬
化性複合材料組成物などが知られている(例えば特開平
9−77836号公報)。
マレイン酸などで不飽和基を導入した不飽和ポリエステ
ル樹脂、繊維強化材および光重合開始剤を含有する光硬
化性複合材料組成物などが知られている(例えば特開平
9−77836号公報)。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ものは活性光線を照射したときに硬化が遅いという問題
があった。
ものは活性光線を照射したときに硬化が遅いという問題
があった。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記問題
を解決すべく鋭意検討した結果、ポリジエンポリオール
をポリオール成分に用いたポリエステル樹脂を用いるこ
とにより光硬化性が顕著に改善されることを見出し、本
発明に到達した。
を解決すべく鋭意検討した結果、ポリジエンポリオール
をポリオール成分に用いたポリエステル樹脂を用いるこ
とにより光硬化性が顕著に改善されることを見出し、本
発明に到達した。
【0005】すなわち本発明は、ポリジエンポリオール
(a1)からなるポリオール成分(a)とポリカルボン
酸成分(b)から構成されるポリエステル樹脂(A)お
よび光重合開始剤(B)からなることを特徴とする活性
光線硬化性組成物;該組成物を活性光線で硬化させてな
る硬化樹脂;該組成物を紫外線硬化させてなる硬化樹脂
層を基板上に有するプリント配線板;並びに、基材フィ
ルムに該組成物を塗布・乾燥させた後、塗布層の上に保
護フィルムを設けた感光性レジストフィルムの、保護フ
ィルムを剥がした面を基板上の表面銅層の上に密着さ
せ、配線パターン形成用フィルムを通して紫外線露光し
て露光部を硬化させ、非露光部を除去することにより基
板上に配線パターンを現像した後、銅張層をエッチング
してなるプリント配線板の製造方法である。
(a1)からなるポリオール成分(a)とポリカルボン
酸成分(b)から構成されるポリエステル樹脂(A)お
よび光重合開始剤(B)からなることを特徴とする活性
光線硬化性組成物;該組成物を活性光線で硬化させてな
る硬化樹脂;該組成物を紫外線硬化させてなる硬化樹脂
層を基板上に有するプリント配線板;並びに、基材フィ
ルムに該組成物を塗布・乾燥させた後、塗布層の上に保
護フィルムを設けた感光性レジストフィルムの、保護フ
ィルムを剥がした面を基板上の表面銅層の上に密着さ
せ、配線パターン形成用フィルムを通して紫外線露光し
て露光部を硬化させ、非露光部を除去することにより基
板上に配線パターンを現像した後、銅張層をエッチング
してなるプリント配線板の製造方法である。
【0006】
【発明の実施の形態】本発明におけるポリオール成分
(a)に用いられるポリジエンポリオール(a1)を構
成するジエンとしては、炭素数が4〜10のアルカジエ
ン[共役ジエン(ブタジエン、イソプレン等)、非共役
ジエン(ペンタジエン、ヘキサジエン、オクタジエン
等]、炭素数5〜10の環状ジエン(シクロペンタジエ
ン、ジシクロペンタジエン、エチリデンノルボルネン
等)等が挙げられる。好ましいのは共役アルカジエンで
ある。該(a1)の具体例としてはポリブタジエンポリ
オール、部分水素化(水素化率50%以下)ポリブタジ
エンポリオール、ポリイソプレンポリオール、部分水素
化(水素化率50%以下)ポリイソプレンポリオール等
が挙げられる。
(a)に用いられるポリジエンポリオール(a1)を構
成するジエンとしては、炭素数が4〜10のアルカジエ
ン[共役ジエン(ブタジエン、イソプレン等)、非共役
ジエン(ペンタジエン、ヘキサジエン、オクタジエン
等]、炭素数5〜10の環状ジエン(シクロペンタジエ
ン、ジシクロペンタジエン、エチリデンノルボルネン
等)等が挙げられる。好ましいのは共役アルカジエンで
ある。該(a1)の具体例としてはポリブタジエンポリ
オール、部分水素化(水素化率50%以下)ポリブタジ
エンポリオール、ポリイソプレンポリオール、部分水素
化(水素化率50%以下)ポリイソプレンポリオール等
が挙げられる。
【0007】上記(a1)として例示したもののうち好
ましいものは、ポリブタジエンポリオ−ルであり、特に
好ましいものは、ブタジエン単位の微細構造が1,2−
ビニル体50モル%以上(好ましくは70モル%以上、
特に好ましくは90モル%以上)のポリブタジエンポリ
オールである。
ましいものは、ポリブタジエンポリオ−ルであり、特に
好ましいものは、ブタジエン単位の微細構造が1,2−
ビニル体50モル%以上(好ましくは70モル%以上、
特に好ましくは90モル%以上)のポリブタジエンポリ
オールである。
【0008】(a1)の数平均分子量[GPC法(ポリ
スチレン換算)による、以下同様]は通常500〜5,
000、硬化後の樹脂物性と基材との密着性の観点から
好ましくは600〜4,500、さらに好ましくは70
0〜4,000である。また、(a1)の平均官能基数
は通常1.4〜3.0、製造上の観点から好ましくは
1.5〜2.5、さらに好ましくは1.6〜2.2であ
り、(a1)の不飽和基含量は通常1〜60重量%、重
合性の観点から好ましくは20〜55重量%、さらに好
ましくは30〜50重量%である。
スチレン換算)による、以下同様]は通常500〜5,
000、硬化後の樹脂物性と基材との密着性の観点から
好ましくは600〜4,500、さらに好ましくは70
0〜4,000である。また、(a1)の平均官能基数
は通常1.4〜3.0、製造上の観点から好ましくは
1.5〜2.5、さらに好ましくは1.6〜2.2であ
り、(a1)の不飽和基含量は通常1〜60重量%、重
合性の観点から好ましくは20〜55重量%、さらに好
ましくは30〜50重量%である。
【0009】ポリオール成分(a)中のポリジエンポリ
オール(a1)の含有量は、ポリオール成分(a)の重
量に基づき、通常1重量%以上、硬化後の樹脂物性と基
材との密着性の観点から好ましくは3重量%以上、さら
に好ましくは5重量%以上である。
オール(a1)の含有量は、ポリオール成分(a)の重
量に基づき、通常1重量%以上、硬化後の樹脂物性と基
材との密着性の観点から好ましくは3重量%以上、さら
に好ましくは5重量%以上である。
【0010】ポリオール成分(a)として、(A)の基
材との密着性をさらに向上させる目的で、上記(a1)
と共に有機酸(塩)基含有ポリオール(a2)を併用す
ることが好ましい。(a2)中の有機酸(塩)基の含有
量は(a2)1分子当たり通常1〜3個、好ましくは1
〜2個である。(a2)の平均官能基数は通常1.5〜
3.0、好ましくは1.6〜2.5であり、また、水酸
基当量は通常20〜800、好ましくは100〜600
である。有機酸(塩)基としては、カルボン酸(塩)
基、スルファミン酸(塩)基、スルホン酸(塩)基およ
び燐酸エステル(塩)基が挙げられる。塩としてはアル
カリ金属塩、3級アミン塩および4級アンモニウム塩が
挙げられる。上記アルカリ金属としてはカリウム、ナト
リウム、リチウム等が挙げられる。3級アミンとしては
アルキル基の炭素数1〜8のトリアルキルアミン(トリ
メチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン
等)、ヒドロキシアルキル基の炭素数2〜4のトリアル
カノールアミン(トリエタノールアミン等)等が挙げら
れる。また、第4級アンモニウム基としては、炭素数4
〜10、例えばメチルトリエチルアンモニウム基、メチ
ルトリブチルアンモニウム基が挙げられる。これらのう
ち好ましいものはアルカリ金属であり、特に好ましいも
のはカリウムおよびナトリウムである。
材との密着性をさらに向上させる目的で、上記(a1)
と共に有機酸(塩)基含有ポリオール(a2)を併用す
ることが好ましい。(a2)中の有機酸(塩)基の含有
量は(a2)1分子当たり通常1〜3個、好ましくは1
〜2個である。(a2)の平均官能基数は通常1.5〜
3.0、好ましくは1.6〜2.5であり、また、水酸
基当量は通常20〜800、好ましくは100〜600
である。有機酸(塩)基としては、カルボン酸(塩)
基、スルファミン酸(塩)基、スルホン酸(塩)基およ
び燐酸エステル(塩)基が挙げられる。塩としてはアル
カリ金属塩、3級アミン塩および4級アンモニウム塩が
挙げられる。上記アルカリ金属としてはカリウム、ナト
リウム、リチウム等が挙げられる。3級アミンとしては
アルキル基の炭素数1〜8のトリアルキルアミン(トリ
メチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン
等)、ヒドロキシアルキル基の炭素数2〜4のトリアル
カノールアミン(トリエタノールアミン等)等が挙げら
れる。また、第4級アンモニウム基としては、炭素数4
〜10、例えばメチルトリエチルアンモニウム基、メチ
ルトリブチルアンモニウム基が挙げられる。これらのう
ち好ましいものはアルカリ金属であり、特に好ましいも
のはカリウムおよびナトリウムである。
【0011】該(a2)としては、カルボン酸(塩)基
含有ポリオール(a21)、スルファミン酸(塩)基含
有ポリオール(a22)、スルホン酸(塩)基含有ポリ
オール(a23)および燐酸エステル(塩)基含有ポリ
オール(a24)が挙げられる。
含有ポリオール(a21)、スルファミン酸(塩)基含
有ポリオール(a22)、スルホン酸(塩)基含有ポリ
オール(a23)および燐酸エステル(塩)基含有ポリ
オール(a24)が挙げられる。
【0012】上記(a21)のカルボン酸(塩)基を含
有するポリオールとしては、例えば、アルカン基の炭素
数2〜12のα,α−ジメチロールアルカン酸(α,α
−ジメチロールプロピオン酸、α,α−ジメチロールブ
タン酸、α,α−ジメチロールノナン酸など);炭素数
2〜6のオキシカルボン酸(例えば酒石酸、クエン酸、
リンゴ酸など)のアルキレン(炭素数2〜6)グリコー
ル(たとえばエチレングリコール、プロピレングリコー
ルなど)モノエステル、たとえばクエン酸1モルとエチ
レングリコール1モルとのエステル(分子量240,酸
価468,水酸基価468)、リンゴ酸1モルとエチレ
ングリコール1モルとのエステル(分子量178,酸価
315,水酸基価630);およびこれらの塩が挙げら
れる。これらのうち好ましいものは、α,α−ジメチロ
ールアルカン酸であり、さらに好ましいものはα,α−
ジメチロールプロピオン酸およびα,α−ジメチロール
ブタン酸である。
有するポリオールとしては、例えば、アルカン基の炭素
数2〜12のα,α−ジメチロールアルカン酸(α,α
−ジメチロールプロピオン酸、α,α−ジメチロールブ
タン酸、α,α−ジメチロールノナン酸など);炭素数
2〜6のオキシカルボン酸(例えば酒石酸、クエン酸、
リンゴ酸など)のアルキレン(炭素数2〜6)グリコー
ル(たとえばエチレングリコール、プロピレングリコー
ルなど)モノエステル、たとえばクエン酸1モルとエチ
レングリコール1モルとのエステル(分子量240,酸
価468,水酸基価468)、リンゴ酸1モルとエチレ
ングリコール1モルとのエステル(分子量178,酸価
315,水酸基価630);およびこれらの塩が挙げら
れる。これらのうち好ましいものは、α,α−ジメチロ
ールアルカン酸であり、さらに好ましいものはα,α−
ジメチロールプロピオン酸およびα,α−ジメチロール
ブタン酸である。
【0013】上記スルファミン酸(塩)基を含有するポ
リオール(a22)におけるスルファミン酸(塩)基
は、下記一般式 −N(SO3X)− (1) [式中、Xは水素、アルカリ金属、3級アミンまたは第
4級アンモニウム基を表す。]で示される基である。
リオール(a22)におけるスルファミン酸(塩)基
は、下記一般式 −N(SO3X)− (1) [式中、Xは水素、アルカリ金属、3級アミンまたは第
4級アンモニウム基を表す。]で示される基である。
【0014】該(a22)としては、例えば、N,N
−ジヒドロキシアルキルスルファミン酸(塩)(ヒドロ
キシアルキル基の炭素数2〜4);スルファミン酸
(塩)基含有ポリエーテルポリオール(数平均分子量3
00〜5,000、好ましくは400〜4,000、さ
らに好ましくは500〜3,000)、たとえば上記
の(ポリ)オキシアルキレン(炭素数2〜4)エーテ
ル;スルファミン酸(塩)基含有ポリエステルポリオ
ール(数平均分子量500〜5,000,好ましくは6
00〜4,000)、たとえば上記および/または
とポリカルボン酸[たとえば後述の(b)]とのポリエ
ステル、およびスルファミン酸(塩)基含有ジカルボン
酸(炭素数8〜12、例えば2−スルファミノテレフタ
ル酸、3−スルファミノフタル酸、5−スルファミノイ
ソフタル酸など)とグリコール[たとえば後述の(a3
1)]とのポリエステル;および上記および/また
はのラクトン(炭素数4〜12、たとえばε−カプロ
ラクトンなど)付加物が挙げられる。これらのうち好ま
しいものは、のスルファミン酸(塩)基含有ジオール
およびのスルファミン酸(塩)基含有ポリエーテルポ
リオールである。
−ジヒドロキシアルキルスルファミン酸(塩)(ヒドロ
キシアルキル基の炭素数2〜4);スルファミン酸
(塩)基含有ポリエーテルポリオール(数平均分子量3
00〜5,000、好ましくは400〜4,000、さ
らに好ましくは500〜3,000)、たとえば上記
の(ポリ)オキシアルキレン(炭素数2〜4)エーテ
ル;スルファミン酸(塩)基含有ポリエステルポリオ
ール(数平均分子量500〜5,000,好ましくは6
00〜4,000)、たとえば上記および/または
とポリカルボン酸[たとえば後述の(b)]とのポリエ
ステル、およびスルファミン酸(塩)基含有ジカルボン
酸(炭素数8〜12、例えば2−スルファミノテレフタ
ル酸、3−スルファミノフタル酸、5−スルファミノイ
ソフタル酸など)とグリコール[たとえば後述の(a3
1)]とのポリエステル;および上記および/また
はのラクトン(炭素数4〜12、たとえばε−カプロ
ラクトンなど)付加物が挙げられる。これらのうち好ま
しいものは、のスルファミン酸(塩)基含有ジオール
およびのスルファミン酸(塩)基含有ポリエーテルポ
リオールである。
【0015】上記〜の原料であるスルファミン酸
(塩)としては、スルファミン酸、スルファミン酸ナト
リウム、スルファミン酸トリエチルアミン、スルファミ
ン酸トリエタノールアミン、スルファミン酸メチルトリ
エチルアンモニウム塩等が挙げられる。該の合成方法
としては、例えばスルファミン酸(塩)をエチレンオキ
サイド(以下EOと略記)、ポロピレンオキサイド(以
下POと略記)および/またはブチレンオキサイド中に
混合し、アルカリ性触媒(例えば水酸化カリウム等)の
存在下で常圧もしくは加圧下、徐々に加温し通常80〜
200℃で反応させることにより得る方法が例示でき
る。
(塩)としては、スルファミン酸、スルファミン酸ナト
リウム、スルファミン酸トリエチルアミン、スルファミ
ン酸トリエタノールアミン、スルファミン酸メチルトリ
エチルアンモニウム塩等が挙げられる。該の合成方法
としては、例えばスルファミン酸(塩)をエチレンオキ
サイド(以下EOと略記)、ポロピレンオキサイド(以
下POと略記)および/またはブチレンオキサイド中に
混合し、アルカリ性触媒(例えば水酸化カリウム等)の
存在下で常圧もしくは加圧下、徐々に加温し通常80〜
200℃で反応させることにより得る方法が例示でき
る。
【0016】該のスルファミン酸(塩)基含有ポリエ
ステルポリオールは、公知の方法でエステル化すること
により得ることができる。エステル化に際しての水酸基
とカルボキシル基の当量比(OH/COOH)は、通常
(1.1〜5)/1、好ましくは(1.5〜3)/1で
ある。
ステルポリオールは、公知の方法でエステル化すること
により得ることができる。エステル化に際しての水酸基
とカルボキシル基の当量比(OH/COOH)は、通常
(1.1〜5)/1、好ましくは(1.5〜3)/1で
ある。
【0017】上記スルファミン酸(塩)基含有ジカルボ
ン酸としては、炭素数8〜12のアミノ基含有ジカルボ
ン酸(たとえば2−アミノテレフタル酸、3−アミノフ
タル酸、5−アミノイソフタル酸等)のアミノ基が−N
H−SO3Xに置き換わった構造の化合物が挙げられ
る。その合成方法としては、例えば上記アミノ基含有ジ
カルボン酸をアルカリ水溶液中、温度約0〜40℃でピ
リジン・三酸化イオウ錯体を反応させた後、反応生成物
を溶媒(エタノール、アセトンなど)で再結晶する等の
方法により精製して目的物を得る方法が例示できる。ま
た、グリコールとしては、後述の2価アルコール(a3
1)として例示するものが使用できる。また、必要によ
り後述の3価以上のアルコール(a32)を併用しても
よい。
ン酸としては、炭素数8〜12のアミノ基含有ジカルボ
ン酸(たとえば2−アミノテレフタル酸、3−アミノフ
タル酸、5−アミノイソフタル酸等)のアミノ基が−N
H−SO3Xに置き換わった構造の化合物が挙げられ
る。その合成方法としては、例えば上記アミノ基含有ジ
カルボン酸をアルカリ水溶液中、温度約0〜40℃でピ
リジン・三酸化イオウ錯体を反応させた後、反応生成物
を溶媒(エタノール、アセトンなど)で再結晶する等の
方法により精製して目的物を得る方法が例示できる。ま
た、グリコールとしては、後述の2価アルコール(a3
1)として例示するものが使用できる。また、必要によ
り後述の3価以上のアルコール(a32)を併用しても
よい。
【0018】スルホン酸(塩)基を含有するポリオール
(a23)としては、スルホン酸(塩)基を含有するジ
カルボン酸とポリオール[例えば後述の(a3)]の1
種以上とのポリエステル(数平均分子量200〜5,0
00、好ましくは250〜3,000)が挙げられる。
(a23)としては、スルホン酸(塩)基を含有するジ
カルボン酸とポリオール[例えば後述の(a3)]の1
種以上とのポリエステル(数平均分子量200〜5,0
00、好ましくは250〜3,000)が挙げられる。
【0019】該スルホン酸(塩)基を含有するジカルボ
ン酸としては、炭素数8〜18、例えば5−スルホイソ
フタル酸、2−スルホテレフタル酸、5−スルホイソフ
タル酸ナトリウム塩、5−スルホイソフタル酸カリウム
塩、2−スルホテレフタル酸ナトリウム塩、2−スルホ
フタル酸カリウム塩などがあげられる。このうち好まし
いものは、5−スルホイソフタル酸ナトリウム塩および
5−スルホイソフタル酸カリウム塩である。(a23)
におけるポリオール成分の水酸基とスルホン酸(塩)基
含有ジカルボン酸のカルボキシル基の当量比(OH/C
OOH)は、通常(1.1〜5)/1、好ましくは
(1.5〜3)/1である。
ン酸としては、炭素数8〜18、例えば5−スルホイソ
フタル酸、2−スルホテレフタル酸、5−スルホイソフ
タル酸ナトリウム塩、5−スルホイソフタル酸カリウム
塩、2−スルホテレフタル酸ナトリウム塩、2−スルホ
フタル酸カリウム塩などがあげられる。このうち好まし
いものは、5−スルホイソフタル酸ナトリウム塩および
5−スルホイソフタル酸カリウム塩である。(a23)
におけるポリオール成分の水酸基とスルホン酸(塩)基
含有ジカルボン酸のカルボキシル基の当量比(OH/C
OOH)は、通常(1.1〜5)/1、好ましくは
(1.5〜3)/1である。
【0020】リン酸エステル(塩)基含有ポリオール
(a24)におけるリン酸エステル(塩)基は、下記一
般式 −O−(O=)P(OR’)−OX (2) [式中、R’は炭素数が1〜24のアルキル基を表し、
Xは前記一般式(1)と同様である。]で表される基で
ある。R’として好ましいのは炭素数3〜18のアルキ
ル基である。Xとして特に好ましいものはカリウムおよ
びナトリウムである。該(a24)としては、トリオー
ルおよび4価以上のアルコール〔後述の(a32)に挙
げるもの、例えばグリセリン、トリメチロールプロパ
ン、トリエタノールアミン、ペンタエリスリトールな
ど)〕および/またはこれらのポリオキシアルキレン
(炭素数2〜4)付加物〔例えば上記トリオールなどの
アルキレンオキサイド(共)付加物〕とモノアルキルリ
ン酸とのエステル(数平均分子量500〜5,000、
好ましくは600〜4,000)が挙げられる。これら
のうち好ましいのは、グリセリンのPO付加物(数平均
分子量250〜1,000またはそれ以上)とモノアル
キルリン酸とのエステルおよびそのナトリウム塩であ
る。上記モノアルキルリン酸としては、アルキルの炭素
数1〜24のモノアルキルホスフェート(例えばモノメ
チルホスフェート、モノブチルホスフェート、モノヘキ
シルホスフェート、モノオクチルホスフェート、モノラ
ウリルホスフェート、モノステアリルホスフェート等)
が挙げられる。
(a24)におけるリン酸エステル(塩)基は、下記一
般式 −O−(O=)P(OR’)−OX (2) [式中、R’は炭素数が1〜24のアルキル基を表し、
Xは前記一般式(1)と同様である。]で表される基で
ある。R’として好ましいのは炭素数3〜18のアルキ
ル基である。Xとして特に好ましいものはカリウムおよ
びナトリウムである。該(a24)としては、トリオー
ルおよび4価以上のアルコール〔後述の(a32)に挙
げるもの、例えばグリセリン、トリメチロールプロパ
ン、トリエタノールアミン、ペンタエリスリトールな
ど)〕および/またはこれらのポリオキシアルキレン
(炭素数2〜4)付加物〔例えば上記トリオールなどの
アルキレンオキサイド(共)付加物〕とモノアルキルリ
ン酸とのエステル(数平均分子量500〜5,000、
好ましくは600〜4,000)が挙げられる。これら
のうち好ましいのは、グリセリンのPO付加物(数平均
分子量250〜1,000またはそれ以上)とモノアル
キルリン酸とのエステルおよびそのナトリウム塩であ
る。上記モノアルキルリン酸としては、アルキルの炭素
数1〜24のモノアルキルホスフェート(例えばモノメ
チルホスフェート、モノブチルホスフェート、モノヘキ
シルホスフェート、モノオクチルホスフェート、モノラ
ウリルホスフェート、モノステアリルホスフェート等)
が挙げられる。
【0021】上記および以下においてアルキレンオキサ
イドとしては、炭素数2〜4のアルキレンオキサイド、
例えばEO、PO、1,2−、2,3−、1,3−もし
くは1,4−ブチレンオキサイドおよびこれらの2種以
上の併用(ランダムおよび/またはブロック付加)が用
いられる。好ましいものはEO、POおよびこれらの併
用(ブロックおよび/またはランダム付加)である。
イドとしては、炭素数2〜4のアルキレンオキサイド、
例えばEO、PO、1,2−、2,3−、1,3−もし
くは1,4−ブチレンオキサイドおよびこれらの2種以
上の併用(ランダムおよび/またはブロック付加)が用
いられる。好ましいものはEO、POおよびこれらの併
用(ブロックおよび/またはランダム付加)である。
【0022】該(a24)の合成方法としては、ポリオ
ール(例えばグリセリンのPO1〜5モル、好ましくは
1.2〜4モル付加物)1モルとモノアルキルリン酸
(例えばモノブチルホスフェート)1モルを、双方に対
して不活性な溶剤(例えばメチルエチルケトンなど)中
または無溶剤下で加熱反応させる方法が例示できる。反
応温度は通常40〜160℃である。
ール(例えばグリセリンのPO1〜5モル、好ましくは
1.2〜4モル付加物)1モルとモノアルキルリン酸
(例えばモノブチルホスフェート)1モルを、双方に対
して不活性な溶剤(例えばメチルエチルケトンなど)中
または無溶剤下で加熱反応させる方法が例示できる。反
応温度は通常40〜160℃である。
【0023】上記で例示した(a2)[(a21)〜
(a24)]は2種以上を併用してもよい。該(a2)
として好ましいものは(a21)および(a22)であ
る。
(a24)]は2種以上を併用してもよい。該(a2)
として好ましいものは(a21)および(a22)であ
る。
【0024】これらの有機酸(塩)基をポリエステル樹
脂(A)中に導入することにより、基材との密着性がさ
らに向上する。(A)中の有機酸(塩)基の含有量(測
定法:C13−NMR)は、該(A)106g当たり3,
000当量以下が好ましく、さらに700〜3,000
当量、とくに1,000〜2,900当量が好ましい。
脂(A)中に導入することにより、基材との密着性がさ
らに向上する。(A)中の有機酸(塩)基の含有量(測
定法:C13−NMR)は、該(A)106g当たり3,
000当量以下が好ましく、さらに700〜3,000
当量、とくに1,000〜2,900当量が好ましい。
【0025】本発明におけるポリオール成分(a)は、
ポリジエンポリオール(a1)または(a1)および有
機酸(塩)基含有ポリオール(a2)とともに必要によ
りその他のポリオール(a3)(水酸基価50〜1,9
00)を併用することができる。該(a3)としては、
2価アルコール(a31)および3価以上のアルコール
(a32)が挙げられる。2価アルコール(a31)と
しては、(1)炭素数2〜12のアルキレングリコール
(エチレングリコール、1,2−プロピレングリコー
ル、1,3−プロピレングリコール、1,4−ブタンジ
オール、ネオペンチルグリコール、1,5−ペンタンジ
オール、1,6−ヘキサンジオールなど);(2)ポリ
アルキレンエーテルグリコール〔ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコー
ル、ポリエチレングリコール(数平均分子量150〜
2,000)、ポリプロピレングリコール(数平均分子
量180〜2,000)、ポリテトラメチレングリコー
ル(数平均分子量300〜2,000)など〕;(3)
炭素数6〜30の脂環式ジオール(1,4−シクロヘキ
サンジメタノール、水素添加ビスフェノールAなど);
(4)ビスフェノール(ビスフェノールA、ビスフェノ
ールF、ビスフェノールSなど)のアルキレンオキサイ
ド2〜8モル付加物;およびこれらの2種以上の混合物
が挙げられる。これらのうち好ましいものは(1)、
(3)および(4)である。
ポリジエンポリオール(a1)または(a1)および有
機酸(塩)基含有ポリオール(a2)とともに必要によ
りその他のポリオール(a3)(水酸基価50〜1,9
00)を併用することができる。該(a3)としては、
2価アルコール(a31)および3価以上のアルコール
(a32)が挙げられる。2価アルコール(a31)と
しては、(1)炭素数2〜12のアルキレングリコール
(エチレングリコール、1,2−プロピレングリコー
ル、1,3−プロピレングリコール、1,4−ブタンジ
オール、ネオペンチルグリコール、1,5−ペンタンジ
オール、1,6−ヘキサンジオールなど);(2)ポリ
アルキレンエーテルグリコール〔ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコー
ル、ポリエチレングリコール(数平均分子量150〜
2,000)、ポリプロピレングリコール(数平均分子
量180〜2,000)、ポリテトラメチレングリコー
ル(数平均分子量300〜2,000)など〕;(3)
炭素数6〜30の脂環式ジオール(1,4−シクロヘキ
サンジメタノール、水素添加ビスフェノールAなど);
(4)ビスフェノール(ビスフェノールA、ビスフェノ
ールF、ビスフェノールSなど)のアルキレンオキサイ
ド2〜8モル付加物;およびこれらの2種以上の混合物
が挙げられる。これらのうち好ましいものは(1)、
(3)および(4)である。
【0026】3価以上のアルコール(a32)として
は、(1)炭素数3〜20の脂肪族多価アルコール[3
価アルコール(例えば1,2,4−ブタントリオール、
1,2,5−ペンタントリオール、グリセリン、2−メ
チルプロパントリオール、2−メチルー1,2,4−ブ
タントリオール、トリメチロ−ルエタン、トリメチロー
ルプロパン、トリエタノールアミン、トリイソプロパノ
ールアミンなど);4価アルコール(例えば1,2,
3,6−ヘキサンテトラオール、1,4−ソルビタン、
ペンタエリスリトール、メチルグルコキシドなど);6
価アルコール(例えばソルビトール、ジペンタエリスリ
トールなど);8価〜10価またはそれ以上のアルコー
ル(例えばトリペンタエリスリトール、ショ糖、ポリグ
リセリンなど)];(2)上記(1)のアルキレンオキ
サイド付加物;(3)ノボラック型フェノール樹脂のア
ルキレンオキサイド付加物;(4)イソシアヌル酸など
の分子中に2個以上の活性水素を有する複素環式化合物
のアルキレンオキサイド付加物などが挙げられる。本発
明におけるポリオール成分(a)中の(a2)の含有量
は通常10〜80重量%、好ましくは20〜60重量
%、(a3)の含有量は通常1〜30重量%、好ましく
は1〜10重量%である。
は、(1)炭素数3〜20の脂肪族多価アルコール[3
価アルコール(例えば1,2,4−ブタントリオール、
1,2,5−ペンタントリオール、グリセリン、2−メ
チルプロパントリオール、2−メチルー1,2,4−ブ
タントリオール、トリメチロ−ルエタン、トリメチロー
ルプロパン、トリエタノールアミン、トリイソプロパノ
ールアミンなど);4価アルコール(例えば1,2,
3,6−ヘキサンテトラオール、1,4−ソルビタン、
ペンタエリスリトール、メチルグルコキシドなど);6
価アルコール(例えばソルビトール、ジペンタエリスリ
トールなど);8価〜10価またはそれ以上のアルコー
ル(例えばトリペンタエリスリトール、ショ糖、ポリグ
リセリンなど)];(2)上記(1)のアルキレンオキ
サイド付加物;(3)ノボラック型フェノール樹脂のア
ルキレンオキサイド付加物;(4)イソシアヌル酸など
の分子中に2個以上の活性水素を有する複素環式化合物
のアルキレンオキサイド付加物などが挙げられる。本発
明におけるポリオール成分(a)中の(a2)の含有量
は通常10〜80重量%、好ましくは20〜60重量
%、(a3)の含有量は通常1〜30重量%、好ましく
は1〜10重量%である。
【0027】本発明においてポリカルボン酸成分(b)
としては、ジカルボン酸類(b1)および3価以上のポ
リカルボン酸(b2)が挙げられる。(b1)として
は、(1)炭素数2〜20の脂肪族ジカルボン酸(マレ
イン酸、フマール酸、コハク酸、アジピン酸、セバチン
酸、マロン酸、アゼライン酸、メサコン酸、シトラコン
酸、グルタコン酸など);(2)炭素数8〜20の脂環
式ジカルボン酸(シクロヘキサンジカルボン酸、メチル
メジック酸など);(3)炭素数8〜20の芳香族ジカ
ルボン酸(フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ト
ルエンジカルボン酸、ナフタレンジカルボン酸など);
(4)炭素数8〜40のアルキルもしくはアルケニルコ
ハク酸[ドデシルコハク酸、ペンタドデセニルコハク酸
など]などが挙げられる。これらのうちで好ましいもの
は(1)、(3)および(4)である。
としては、ジカルボン酸類(b1)および3価以上のポ
リカルボン酸(b2)が挙げられる。(b1)として
は、(1)炭素数2〜20の脂肪族ジカルボン酸(マレ
イン酸、フマール酸、コハク酸、アジピン酸、セバチン
酸、マロン酸、アゼライン酸、メサコン酸、シトラコン
酸、グルタコン酸など);(2)炭素数8〜20の脂環
式ジカルボン酸(シクロヘキサンジカルボン酸、メチル
メジック酸など);(3)炭素数8〜20の芳香族ジカ
ルボン酸(フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ト
ルエンジカルボン酸、ナフタレンジカルボン酸など);
(4)炭素数8〜40のアルキルもしくはアルケニルコ
ハク酸[ドデシルコハク酸、ペンタドデセニルコハク酸
など]などが挙げられる。これらのうちで好ましいもの
は(1)、(3)および(4)である。
【0028】(b2)としては、(1)炭素数7〜20
の脂肪族ポリカルボン酸(1,2,4−ブタントリカル
ボン酸、1,2,5−ヘキサントリカルボン酸、1,3
−ジカルボキシル−2−メチル−2−メチレンカルボキ
シプロパン、テトラ(メチレンカルボキシル)メタン、
1,2,7,8−オクタンテトラカルボン酸など);
(2)炭素数9〜20の脂環式ポリカルボン酸(1,
2,4−シクロヘキサントリカルボン酸など);(3)
炭素数9〜20の芳香族ポリカルボン酸(1,2,4−
ベンゼントリカルボン酸、1,2,5−ベンゼントリカ
ルボン酸、2,5,7−ナフタレントリカルボン酸およ
び1,2,4−ナフタレントリカルボン酸、ピロメリッ
ト酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸など)などが挙
げられる。これらのうちで好ましいものは(3)であ
る。
の脂肪族ポリカルボン酸(1,2,4−ブタントリカル
ボン酸、1,2,5−ヘキサントリカルボン酸、1,3
−ジカルボキシル−2−メチル−2−メチレンカルボキ
シプロパン、テトラ(メチレンカルボキシル)メタン、
1,2,7,8−オクタンテトラカルボン酸など);
(2)炭素数9〜20の脂環式ポリカルボン酸(1,
2,4−シクロヘキサントリカルボン酸など);(3)
炭素数9〜20の芳香族ポリカルボン酸(1,2,4−
ベンゼントリカルボン酸、1,2,5−ベンゼントリカ
ルボン酸、2,5,7−ナフタレントリカルボン酸およ
び1,2,4−ナフタレントリカルボン酸、ピロメリッ
ト酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸など)などが挙
げられる。これらのうちで好ましいものは(3)であ
る。
【0029】ポリカルボン酸成分(b)は、(b1)単
独でもよく、(b1)と(b2)の併用であってもよ
い。併用する場合の(b2)の量は(b)全量に基づい
て通常5モル%以下である。また、前記(a22)、
(a23)の原料として例示したスルファミン酸(塩)
基含有ジカルボン酸、スルホン酸(塩)基含有ジカルボ
ン酸を(b)の一部または全部として用いてもよい。
独でもよく、(b1)と(b2)の併用であってもよ
い。併用する場合の(b2)の量は(b)全量に基づい
て通常5モル%以下である。また、前記(a22)、
(a23)の原料として例示したスルファミン酸(塩)
基含有ジカルボン酸、スルホン酸(塩)基含有ジカルボ
ン酸を(b)の一部または全部として用いてもよい。
【0030】ポリエステル樹脂(A)は(a1)および
必要により(a2)および/または(a3)からなる
(a)と、(b)またはそのエステル形成性誘導体[無
水物、低級アルキル(炭素数1〜4)エステル等]とを
反応させることにより製造される。ポリエステル化反応
は通常触媒の存在下で、通常150〜300℃、好まし
くは170〜280℃、さらに好ましくは200〜26
0℃の温度条件下で行われる。反応は常圧下、減圧下も
しくは加圧下で行うことができるが、所定のポリエステ
ル化反応率(例えば30〜90%)に到達後は、反応系
を200mmHg以下、好ましくは50mmHg以下に
減圧し、さらにポリエステル化反応を行うのが望まし
い。
必要により(a2)および/または(a3)からなる
(a)と、(b)またはそのエステル形成性誘導体[無
水物、低級アルキル(炭素数1〜4)エステル等]とを
反応させることにより製造される。ポリエステル化反応
は通常触媒の存在下で、通常150〜300℃、好まし
くは170〜280℃、さらに好ましくは200〜26
0℃の温度条件下で行われる。反応は常圧下、減圧下も
しくは加圧下で行うことができるが、所定のポリエステ
ル化反応率(例えば30〜90%)に到達後は、反応系
を200mmHg以下、好ましくは50mmHg以下に
減圧し、さらにポリエステル化反応を行うのが望まし
い。
【0031】ポリエステル樹脂(A)を構成するポリオ
ール成分(a)とポリカルボン酸成分(b)との比率
は、アルコール性水酸基/カルボキシル基の当量比で、
通常0.6〜1.5、好ましくは0.7〜1.4、さら
に好ましくは0.8〜1.3である。
ール成分(a)とポリカルボン酸成分(b)との比率
は、アルコール性水酸基/カルボキシル基の当量比で、
通常0.6〜1.5、好ましくは0.7〜1.4、さら
に好ましくは0.8〜1.3である。
【0032】反応に際して用いられる触媒としては、例
えばスズ、チタン、アンチモン、マンガン、ニッケル、
亜鉛、鉛、鉄、マグネシウム、カルシウム、ゲルマニウ
ムなどの金属;およびこれら金属含有化合物(ジブチル
チンオキサイド、オルソジブチルチタネート、テトラブ
チルチタネート、酢酸亜鉛、酢酸鉛、酢酸コバルト、酢
酸ナトリウム、三酸化アンチモンなど)が挙げられる。
触媒の使用量は(a)と(b)の合計重量に基づいて通
常0.01〜0.1重量%、好ましくは0.02〜0.
08重量%である。反応物の性質(例えば極限粘度、酸
価、軟化点等)が所定の値に到達した時点で反応を停止
させることによって(A)を得ることができる。
えばスズ、チタン、アンチモン、マンガン、ニッケル、
亜鉛、鉛、鉄、マグネシウム、カルシウム、ゲルマニウ
ムなどの金属;およびこれら金属含有化合物(ジブチル
チンオキサイド、オルソジブチルチタネート、テトラブ
チルチタネート、酢酸亜鉛、酢酸鉛、酢酸コバルト、酢
酸ナトリウム、三酸化アンチモンなど)が挙げられる。
触媒の使用量は(a)と(b)の合計重量に基づいて通
常0.01〜0.1重量%、好ましくは0.02〜0.
08重量%である。反応物の性質(例えば極限粘度、酸
価、軟化点等)が所定の値に到達した時点で反応を停止
させることによって(A)を得ることができる。
【0033】該(A)は、通常20以下、樹脂物性の観
点から好ましくは15以下[ただし、(a2)として有
機酸(塩)基含有ポリオールを用いる場合、(b)とし
てスルファミン酸(塩)基含有ジカルボン酸、またはス
ルホン酸(塩)基含有ジカルボン酸を用いる場合は、通
常200以下、好ましくは150以下]の酸価と、通常
25以下、樹脂物性の観点から好ましくは20以下、さ
らに好ましくは15以下の水酸基価を有している。
点から好ましくは15以下[ただし、(a2)として有
機酸(塩)基含有ポリオールを用いる場合、(b)とし
てスルファミン酸(塩)基含有ジカルボン酸、またはス
ルホン酸(塩)基含有ジカルボン酸を用いる場合は、通
常200以下、好ましくは150以下]の酸価と、通常
25以下、樹脂物性の観点から好ましくは20以下、さ
らに好ましくは15以下の水酸基価を有している。
【0034】本発明におけるポリエステル樹脂(A)中
のポリジエンポリオール(a1)の含有量は通常1〜8
0重量%、硬化樹脂物性の観点から好ましくは2〜60
重量%である。(A)中の(a1)の含有量が上記範囲
を満足する限りは、本発明におけるポリエステル樹脂
(A)は、ポリジエンポリオール(a1)とポリカルボ
ン酸成分(b)のみから得られるものであってもよい
し、(a1)と(b)のみから得られるものと、(a
1)を含まないポリオール成分(a)と(b)から得ら
れるものとの混合物であってもよい。また、ポリエステ
ル樹脂(A)には、Aをさらに変性したもの、例えば、
ラクトン付加変性、ウレタン変性、エポキシ変性または
ジハライドによるポリエステル結合変性したものも含め
ることができる。ラクトン付加変性ポリエステル樹脂と
しては、ポリエステル樹脂のラクトン[炭素数4〜1
0、例えばε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、
γ−バレロラクトンなど](1〜10モル)付加物など
が挙げられる。ウレタン変性ポリエステル樹脂として
は、末端水酸基のポリエステル樹脂をポリ(2〜3)イ
ソシアネート[例えば、トリレンジイソシアネート(T
DI)、ジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネー
ト(MDI)、イソホロンジイソシアネート(IPD
I)など]で結合したものなどが挙げられる。ジハライ
ドによる変性ポリエステル樹脂としては、末端水酸基の
ポリエステル樹脂とアルキレンジハライド(炭素数1〜
4、例えば、塩化メチレンなど)を反応させてポリエス
テル樹脂を結合したものなどが挙げられる。
のポリジエンポリオール(a1)の含有量は通常1〜8
0重量%、硬化樹脂物性の観点から好ましくは2〜60
重量%である。(A)中の(a1)の含有量が上記範囲
を満足する限りは、本発明におけるポリエステル樹脂
(A)は、ポリジエンポリオール(a1)とポリカルボ
ン酸成分(b)のみから得られるものであってもよい
し、(a1)と(b)のみから得られるものと、(a
1)を含まないポリオール成分(a)と(b)から得ら
れるものとの混合物であってもよい。また、ポリエステ
ル樹脂(A)には、Aをさらに変性したもの、例えば、
ラクトン付加変性、ウレタン変性、エポキシ変性または
ジハライドによるポリエステル結合変性したものも含め
ることができる。ラクトン付加変性ポリエステル樹脂と
しては、ポリエステル樹脂のラクトン[炭素数4〜1
0、例えばε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、
γ−バレロラクトンなど](1〜10モル)付加物など
が挙げられる。ウレタン変性ポリエステル樹脂として
は、末端水酸基のポリエステル樹脂をポリ(2〜3)イ
ソシアネート[例えば、トリレンジイソシアネート(T
DI)、ジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネー
ト(MDI)、イソホロンジイソシアネート(IPD
I)など]で結合したものなどが挙げられる。ジハライ
ドによる変性ポリエステル樹脂としては、末端水酸基の
ポリエステル樹脂とアルキレンジハライド(炭素数1〜
4、例えば、塩化メチレンなど)を反応させてポリエス
テル樹脂を結合したものなどが挙げられる。
【0035】(A)の数平均分子量は、通常5,000
〜80,000、樹脂物性と組成物の粘度の観点から好
ましくは8,000〜50,000である。
〜80,000、樹脂物性と組成物の粘度の観点から好
ましくは8,000〜50,000である。
【0036】また該(A)の極限粘度(測定法:ウベロ
ーデ法、テトラヒドロフラン0.5%溶液,20℃)
は、通常0.05〜1、好ましくは0.1〜0.5であ
る。(A)の軟化点は環球法にて測定されるものであ
り、通常30〜150℃、硬化樹脂物性の観点から好ま
しくは50〜100℃である。
ーデ法、テトラヒドロフラン0.5%溶液,20℃)
は、通常0.05〜1、好ましくは0.1〜0.5であ
る。(A)の軟化点は環球法にて測定されるものであ
り、通常30〜150℃、硬化樹脂物性の観点から好ま
しくは50〜100℃である。
【0037】本発明における光重合開始剤(B)として
は、例えばベンゾインアルキルエーテル、ベンジルメチ
ルケタノール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニル
ケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1フェニルプロ
パン−1−オン、ベンゾフェノン、メチルベンゾイルフ
ォーメ−ト、イソプロピルチオキトサン、米国特許第2
367661号明細書に記載のα−カルボニル化合物、
米国特許第2448828号明細書に記載のアシロイン
エーテル、米国特許第2722512号明細書に記載の
α−炭化水素置換された芳香族アシロイン化合物、米国
特許第3046427号明細書に記載の多核キノン化合
物、米国特許第3549367号明細書に記載のトリア
リールビイミダゾール・p−アミノフェニルケトン、米
国特許第4239850号明細書に記載のトリハロメチ
ル−s−トリアジン系化合物、米国特許第421297
0号明細書に記載のオキサジアゾール系化合物、米国特
許第3751259号明細書に記載のアクリジンおよび
フェナジン化合物、特公昭51−48516号公報に記
載のベンゾチアゾール系化合物等が挙げられる。これら
の光重合開始剤は2種以上を併用してもよい。
は、例えばベンゾインアルキルエーテル、ベンジルメチ
ルケタノール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニル
ケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1フェニルプロ
パン−1−オン、ベンゾフェノン、メチルベンゾイルフ
ォーメ−ト、イソプロピルチオキトサン、米国特許第2
367661号明細書に記載のα−カルボニル化合物、
米国特許第2448828号明細書に記載のアシロイン
エーテル、米国特許第2722512号明細書に記載の
α−炭化水素置換された芳香族アシロイン化合物、米国
特許第3046427号明細書に記載の多核キノン化合
物、米国特許第3549367号明細書に記載のトリア
リールビイミダゾール・p−アミノフェニルケトン、米
国特許第4239850号明細書に記載のトリハロメチ
ル−s−トリアジン系化合物、米国特許第421297
0号明細書に記載のオキサジアゾール系化合物、米国特
許第3751259号明細書に記載のアクリジンおよび
フェナジン化合物、特公昭51−48516号公報に記
載のベンゾチアゾール系化合物等が挙げられる。これら
の光重合開始剤は2種以上を併用してもよい。
【0038】本発明の組成物における(B)の量は、光
重合性および保存安定性の観点から(A)と(B)の合
計重量に基づいて通常0.1〜20重量%、好ましくは
1〜10重量%である。
重合性および保存安定性の観点から(A)と(B)の合
計重量に基づいて通常0.1〜20重量%、好ましくは
1〜10重量%である。
【0039】本発明において、該(A)および(B)と
共に、必要により(A)の重量に基づいて400重量%
を越えない量の付加重合可能なエチレン性不飽和化合物
(C)を併用することができる。該(C)は、分子中に
少なくとも1個、好ましくは2個以上、さらに好ましく
は4個以上の付加重合可能なエチレン性不飽和基を含有
するビニル系単量体(モノマー)もしくはオリゴマーで
ある。
共に、必要により(A)の重量に基づいて400重量%
を越えない量の付加重合可能なエチレン性不飽和化合物
(C)を併用することができる。該(C)は、分子中に
少なくとも1個、好ましくは2個以上、さらに好ましく
は4個以上の付加重合可能なエチレン性不飽和基を含有
するビニル系単量体(モノマー)もしくはオリゴマーで
ある。
【0040】組成物が該(A)、(B)および(C)か
らなる場合、各成分は(A)、(B)および(C)の合
計重量に基づいて、通常(A)は20〜98%、(B)
は0.05〜5%、および(C)は1.95〜79.9
5%、硬化樹脂物性の観点から好ましくは、(A)は4
0〜98%、(B)は0.05〜5%、および(C)は
1.95〜59.95%である。
らなる場合、各成分は(A)、(B)および(C)の合
計重量に基づいて、通常(A)は20〜98%、(B)
は0.05〜5%、および(C)は1.95〜79.9
5%、硬化樹脂物性の観点から好ましくは、(A)は4
0〜98%、(B)は0.05〜5%、および(C)は
1.95〜59.95%である。
【0041】該(C)としては、たとえば、芳香族炭化
水素系単量体(C1)(スチレン、α−メチルスチレ
ン、ビニルトルエン、ジビニルベンゼン等);カルボキ
シル基含有ビニル系単量体(C2)[不飽和カルボン酸
(無水物)、たとえば(メタ)アクリル酸、(無水)マ
レイン酸、(無水)イタコン酸、クロトン酸等];脂肪
族もしくは芳香族スルホン酸(塩)基含有ビニル系単量
体(C3)[ビニルスルホン酸(塩)、スチレンスルホ
ン酸(塩)等];ヒドロキシル基含有ビニル系単量体
(C4)[ヒドロキシアルキル(炭素数2〜4)(メ
タ)アクリレート、たとえばヒドロキシエチル(メタ)
アクリレート、4−ヒドロキシスチレン等];含窒素ビ
ニル単量体(C5)[N−ジアルキル(炭素数1〜4)
アミノエチル(メタ)アクリレート、ビニルピロリド
ン、(メタ)アクリロニトリル等];エポキシ基含有ビ
ニル系単量体(C6)[グリシジル(メタ)アクリレー
ト等];ハロゲン含有ビニル系単量体(C7)(塩化ビ
ニル等);炭素数3〜10のビニルエステル系単量体
(C8)(酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等);ビニ
ルエーテル系単量体(C9)(アルキル基の炭素数1〜
10のビニルアルキルエーテル、たとえばビニルエチル
エーテル、ビニルブチルエーテル等)、ビニルケトン系
単量体(C10)(ビニルエチルケトン等);アルキル
(メタ)アクリレート(C11)[アルキル基の炭素数
1〜20のアルキル(メタ)アクリレート、たとえばメ
チル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレー
ト、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル
(メタ)アクリレート等];ポリオキシアルキレン鎖を
有するビニル系単量体(C12)[ポリエチレングリコ
ール(重合度2〜10)モノ(メタ)アクリレート
等];多官能(メタ)アクリレート類(C13){2官
能(メタ)アクリレート[前記(a31)もしくは(a
32)のジ(メタ)アクリレート、例えばエチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、1,2−および1,3
−プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,
6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペ
ンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロ
ールプロパンのジ(メタ)アクリレート、ビスフェノー
ル(ビスフェノールA、ビスフェノールS、ビスフェノ
ールF等)のアルキレンオキサイド(炭素数2〜4)付
加物(付加モル数2〜10)のジ(メタ)アクリレー
ト、ポリエチレングリコール(重合度2〜10)ジ(メ
タ)アクリレート等]、3官能(メタ)アクリレート
[前記(a32)のトリ(メタ)アクリレート、例えば
グリセリンのトリ(メタ)アクリレート、トリメチロー
ルプロパンのトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリス
トールのトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスト
ールのトリ(メタ)アクリレート、アルキレンオキサイ
ド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト等]および4官能以上の(メタ)アクリレート[ペン
タエリストールのテトラ(メタ)アクリレート、ジペン
タエリストールのテトラ−、ペンタ−およびヘキサ(メ
タ)アクリレート、オキシアルキレン変性ペンタエリス
トールテトラ(メタ)アクリレート、オキシアルキレン
変性ジペンタエリストールヘキサ(メタ)アクリレート
等]}、ウレタン変性(メタ)アクリレート(C14)
(例えば、特開昭51−37193号、特公平2−32
293号、特公平2−16765号各公報に記載のもの
等)等が挙げられる。
水素系単量体(C1)(スチレン、α−メチルスチレ
ン、ビニルトルエン、ジビニルベンゼン等);カルボキ
シル基含有ビニル系単量体(C2)[不飽和カルボン酸
(無水物)、たとえば(メタ)アクリル酸、(無水)マ
レイン酸、(無水)イタコン酸、クロトン酸等];脂肪
族もしくは芳香族スルホン酸(塩)基含有ビニル系単量
体(C3)[ビニルスルホン酸(塩)、スチレンスルホ
ン酸(塩)等];ヒドロキシル基含有ビニル系単量体
(C4)[ヒドロキシアルキル(炭素数2〜4)(メ
タ)アクリレート、たとえばヒドロキシエチル(メタ)
アクリレート、4−ヒドロキシスチレン等];含窒素ビ
ニル単量体(C5)[N−ジアルキル(炭素数1〜4)
アミノエチル(メタ)アクリレート、ビニルピロリド
ン、(メタ)アクリロニトリル等];エポキシ基含有ビ
ニル系単量体(C6)[グリシジル(メタ)アクリレー
ト等];ハロゲン含有ビニル系単量体(C7)(塩化ビ
ニル等);炭素数3〜10のビニルエステル系単量体
(C8)(酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等);ビニ
ルエーテル系単量体(C9)(アルキル基の炭素数1〜
10のビニルアルキルエーテル、たとえばビニルエチル
エーテル、ビニルブチルエーテル等)、ビニルケトン系
単量体(C10)(ビニルエチルケトン等);アルキル
(メタ)アクリレート(C11)[アルキル基の炭素数
1〜20のアルキル(メタ)アクリレート、たとえばメ
チル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレー
ト、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル
(メタ)アクリレート等];ポリオキシアルキレン鎖を
有するビニル系単量体(C12)[ポリエチレングリコ
ール(重合度2〜10)モノ(メタ)アクリレート
等];多官能(メタ)アクリレート類(C13){2官
能(メタ)アクリレート[前記(a31)もしくは(a
32)のジ(メタ)アクリレート、例えばエチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、1,2−および1,3
−プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,
6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペ
ンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロ
ールプロパンのジ(メタ)アクリレート、ビスフェノー
ル(ビスフェノールA、ビスフェノールS、ビスフェノ
ールF等)のアルキレンオキサイド(炭素数2〜4)付
加物(付加モル数2〜10)のジ(メタ)アクリレー
ト、ポリエチレングリコール(重合度2〜10)ジ(メ
タ)アクリレート等]、3官能(メタ)アクリレート
[前記(a32)のトリ(メタ)アクリレート、例えば
グリセリンのトリ(メタ)アクリレート、トリメチロー
ルプロパンのトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリス
トールのトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスト
ールのトリ(メタ)アクリレート、アルキレンオキサイ
ド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト等]および4官能以上の(メタ)アクリレート[ペン
タエリストールのテトラ(メタ)アクリレート、ジペン
タエリストールのテトラ−、ペンタ−およびヘキサ(メ
タ)アクリレート、オキシアルキレン変性ペンタエリス
トールテトラ(メタ)アクリレート、オキシアルキレン
変性ジペンタエリストールヘキサ(メタ)アクリレート
等]}、ウレタン変性(メタ)アクリレート(C14)
(例えば、特開昭51−37193号、特公平2−32
293号、特公平2−16765号各公報に記載のもの
等)等が挙げられる。
【0042】上記で例示した(C)[(C1)〜(C1
3)]は2種以上併用してもよい。該(C)として好ま
しいものは(C12)および(C13)であり、さらに
好ましくは(C13)であり、特に好ましくは(C1
3)のうちの4官能以上の(メタ)アクリレートであ
る。
3)]は2種以上併用してもよい。該(C)として好ま
しいものは(C12)および(C13)であり、さらに
好ましくは(C13)であり、特に好ましくは(C1
3)のうちの4官能以上の(メタ)アクリレートであ
る。
【0043】また、本発明の組成物には、必要により光
増感剤(トリエタノールアミンなど)、熱重合禁止剤
(ハイドロキノンなど)、消泡剤(イソプロピルアルコ
ールなど)、レベリング剤(エチレングリコールモノブ
チルエーテルなど)、カップリング剤(シランカップリ
ング剤など)、溶媒(アセトンなど)などの公知の添加
剤を含有させることができる。これらの添加剤の使用量
は、(A)と(B)の合計重量または(A)、(B)お
よび(C)の合計重量に基づいて、光増感剤は通常10
%以下、好ましくは2〜8%、熱重合禁止剤は通常5%
以下、好ましくは0.01〜1%、消泡剤は通常5%以
下、好ましくは0.1〜3%、レベリング剤は通常5%
以下、好ましくは1〜3%、カップリング剤は通常5%
以下、好ましくは1〜3%、溶媒は通常50%以下、好
ましくは5〜30%である。
増感剤(トリエタノールアミンなど)、熱重合禁止剤
(ハイドロキノンなど)、消泡剤(イソプロピルアルコ
ールなど)、レベリング剤(エチレングリコールモノブ
チルエーテルなど)、カップリング剤(シランカップリ
ング剤など)、溶媒(アセトンなど)などの公知の添加
剤を含有させることができる。これらの添加剤の使用量
は、(A)と(B)の合計重量または(A)、(B)お
よび(C)の合計重量に基づいて、光増感剤は通常10
%以下、好ましくは2〜8%、熱重合禁止剤は通常5%
以下、好ましくは0.01〜1%、消泡剤は通常5%以
下、好ましくは0.1〜3%、レベリング剤は通常5%
以下、好ましくは1〜3%、カップリング剤は通常5%
以下、好ましくは1〜3%、溶媒は通常50%以下、好
ましくは5〜30%である。
【0044】本発明の組成物は、感光性レジストフイル
ム、フォトレジスト、感光性樹脂凸版、感光性フレキソ
版、スクリーン版、光接着剤またはハードコート剤等の
感光層として好適に用いることができる。
ム、フォトレジスト、感光性樹脂凸版、感光性フレキソ
版、スクリーン版、光接着剤またはハードコート剤等の
感光層として好適に用いることができる。
【0045】本発明の組成物は、活性光線(可視光線、
紫外線、レーザー光線等)を照射することにより硬化す
る。光線源としては、太陽光、高圧水銀灯、低圧水銀
灯、メタルハライドランプ、半導体レーザー等が挙げら
れる。
紫外線、レーザー光線等)を照射することにより硬化す
る。光線源としては、太陽光、高圧水銀灯、低圧水銀
灯、メタルハライドランプ、半導体レーザー等が挙げら
れる。
【0046】上記に例示したように組成物が適用された
感光層に、上記の活性光線を照射することにより硬化樹
脂が得られる。
感光層に、上記の活性光線を照射することにより硬化樹
脂が得られる。
【0047】本発明の組成物の使用法を例示すると、例
えば感光性レジストフイルムは、基材フィルム(例えば
厚さ30〜100μmのポリエステルフイルム等)に本
発明の組成物を塗布・乾燥させた後、塗布層(塗布層の
膜厚5〜100μm)の上に保護フイルム(例えば厚さ
10〜50μmのポリエチレンフイルム等)を設けたフ
イルム状のものである。これを用いてプリント配線板を
製造する際、基板上の表面銅層の上に該感光性レジスト
フイルムの保護フイルムを剥がした面を密着させ、配線
パターン形成用フイルムを通して紫外線露光(露光量1
00〜1,000mJ/cm2)して露光部を硬化さ
せ、非露光部を希アルカリ水溶液で除去することによ
り、基板上に配線パターンが現像される。現像後、銅張
層をエッチングして最終的にプリント配線板が得られ
る。
えば感光性レジストフイルムは、基材フィルム(例えば
厚さ30〜100μmのポリエステルフイルム等)に本
発明の組成物を塗布・乾燥させた後、塗布層(塗布層の
膜厚5〜100μm)の上に保護フイルム(例えば厚さ
10〜50μmのポリエチレンフイルム等)を設けたフ
イルム状のものである。これを用いてプリント配線板を
製造する際、基板上の表面銅層の上に該感光性レジスト
フイルムの保護フイルムを剥がした面を密着させ、配線
パターン形成用フイルムを通して紫外線露光(露光量1
00〜1,000mJ/cm2)して露光部を硬化さ
せ、非露光部を希アルカリ水溶液で除去することによ
り、基板上に配線パターンが現像される。現像後、銅張
層をエッチングして最終的にプリント配線板が得られ
る。
【0048】本発明の組成物の他の用途においても、基
本的には上記感光性レジストと同様なシステムにより感
光層を基材に塗布・乾燥した後に活性光線を照射するこ
とにより、目的の硬化樹脂が得られる。
本的には上記感光性レジストと同様なシステムにより感
光層を基材に塗布・乾燥した後に活性光線を照射するこ
とにより、目的の硬化樹脂が得られる。
【0049】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。以下にお
いて、部は重量部を示す。
が、本発明はこれに限定されるものではない。以下にお
いて、部は重量部を示す。
【0050】実施例1 温度計、トルク検出器の付いた撹拌機、冷却器および窒
素導入管の付いた反応槽に、テレフタル酸1826部、
ジメチロールプロピオン酸(DMPA)938部、ネオ
ペンチルグリコール104部、ポリブタジエンポリオー
ル(数平均分子量1,350、水酸基価74、ブタジエ
ン単位の微細構造が1,2−ビニル体90モル%以上)
(a1−1)4050部およびジブチルチンオキサイド
2部を入れて210℃でポリエステル化反応をさせた。
反応物に透明感が出た時点から減圧下でポリエステル化
反応を進め、極限粘度が0.4の時点で反応を停止し、
反応物を取り出し、本発明におけるポリエステル樹脂
(A−1)を得た。該(A−1)の数平均分子量は2
1,000、カルボン酸基の含有量は、樹脂106g当
たり1,073当量であった。この(A−1)を用いて
以下の処方により感光液(D−1)を調製した。 ポリエステル樹脂(A−1) 15 部 ジペンタエリストールヘキサアクリレート 10 部 2−(4−スチリルフェニル−4,6−ビス (トリクロロメチル)−s−トリアジン 0.5部 該(D−1)をアルミ板にアプリケータで厚さが10ミ
クロンになるように塗布・乾燥した後、高圧水銀灯(5
kW)を用いて紫外線を照射(5秒、10秒および20
秒)して硬化膜(E−1)を得た。
素導入管の付いた反応槽に、テレフタル酸1826部、
ジメチロールプロピオン酸(DMPA)938部、ネオ
ペンチルグリコール104部、ポリブタジエンポリオー
ル(数平均分子量1,350、水酸基価74、ブタジエ
ン単位の微細構造が1,2−ビニル体90モル%以上)
(a1−1)4050部およびジブチルチンオキサイド
2部を入れて210℃でポリエステル化反応をさせた。
反応物に透明感が出た時点から減圧下でポリエステル化
反応を進め、極限粘度が0.4の時点で反応を停止し、
反応物を取り出し、本発明におけるポリエステル樹脂
(A−1)を得た。該(A−1)の数平均分子量は2
1,000、カルボン酸基の含有量は、樹脂106g当
たり1,073当量であった。この(A−1)を用いて
以下の処方により感光液(D−1)を調製した。 ポリエステル樹脂(A−1) 15 部 ジペンタエリストールヘキサアクリレート 10 部 2−(4−スチリルフェニル−4,6−ビス (トリクロロメチル)−s−トリアジン 0.5部 該(D−1)をアルミ板にアプリケータで厚さが10ミ
クロンになるように塗布・乾燥した後、高圧水銀灯(5
kW)を用いて紫外線を照射(5秒、10秒および20
秒)して硬化膜(E−1)を得た。
【0051】実施例2 実施例1と同様の反応容器に、アジピン酸1183部、
DMPA804部、ネオペンチルグリコール208部、
(a1−1)135部およびジブチルチンオキサイド2
部を入れて210℃でポリエステル化反応をさせた。反
応物に透明感が出た時点から減圧下でポリエステル化反
応を進め、極限粘度が0.5の時点で反応を停止して反
応物を取り出し、本発明におけるポリエステル樹脂(A
−2)を得た。該(A−2)の数平均分子量は28,0
00、カルボン酸基の含有量は樹脂106g当たり28
00当量であった。(A−1)に代えてこの(A−2)
を用いる以外は実施例1と同様の処方により感光液(D
−2)を調製した。該(D−2)をアルミ板にアプリケ
ータで厚さが10ミクロンになるように塗布・乾燥した
後、実施例1と同様に紫外線を照射して硬化膜(E−
2)を得た。
DMPA804部、ネオペンチルグリコール208部、
(a1−1)135部およびジブチルチンオキサイド2
部を入れて210℃でポリエステル化反応をさせた。反
応物に透明感が出た時点から減圧下でポリエステル化反
応を進め、極限粘度が0.5の時点で反応を停止して反
応物を取り出し、本発明におけるポリエステル樹脂(A
−2)を得た。該(A−2)の数平均分子量は28,0
00、カルボン酸基の含有量は樹脂106g当たり28
00当量であった。(A−1)に代えてこの(A−2)
を用いる以外は実施例1と同様の処方により感光液(D
−2)を調製した。該(D−2)をアルミ板にアプリケ
ータで厚さが10ミクロンになるように塗布・乾燥した
後、実施例1と同様に紫外線を照射して硬化膜(E−
2)を得た。
【0052】製造例1[スルファミン酸塩基含有ポリエ
ーテルポリオールの製造] 攪拌機および温度計を備えた加圧反応容器に、水酸化カ
リウム6部、スルファミン酸カリウム135部(1モ
ル)およびキシレン600部を仕込み、スラリー状に混
合分散させた。この分散液を徐々に加温して130℃で
EO176部(4モル)を約10時間かけて圧入し反応
を行った。さらにこの温度でPO464部(8モル)を
約20時間かけて圧入し反応を行った。反応混合物に合
成珪酸アルミニウム30部を加えて約80℃で約1時間
かけて触媒の水酸化カリウムを吸着させた後濾過した。
濾液を減圧下、約100℃で脱溶剤を行い生成物(a2
2−1)744部を得た。該(a22−1)の構造は、
NMR分析により [H−〔OCH(CH3)CH2〕4(OCH2CH2)2]
2NSO3K であることを確認した。該(a22−1)の水酸基価は
145(分子量774)、収率は96%であった。
ーテルポリオールの製造] 攪拌機および温度計を備えた加圧反応容器に、水酸化カ
リウム6部、スルファミン酸カリウム135部(1モ
ル)およびキシレン600部を仕込み、スラリー状に混
合分散させた。この分散液を徐々に加温して130℃で
EO176部(4モル)を約10時間かけて圧入し反応
を行った。さらにこの温度でPO464部(8モル)を
約20時間かけて圧入し反応を行った。反応混合物に合
成珪酸アルミニウム30部を加えて約80℃で約1時間
かけて触媒の水酸化カリウムを吸着させた後濾過した。
濾液を減圧下、約100℃で脱溶剤を行い生成物(a2
2−1)744部を得た。該(a22−1)の構造は、
NMR分析により [H−〔OCH(CH3)CH2〕4(OCH2CH2)2]
2NSO3K であることを確認した。該(a22−1)の水酸基価は
145(分子量774)、収率は96%であった。
【0053】実施例3 実施例1と同様の反応容器に、テレフタル酸1328
部、製造例1で得られた(a22−1)2322部、ネ
オペンチルグリコール312部、(a1−1)2700
部およびジブチルチンオキサイド2部を入れて210℃
でポリエステル化反応をさせた。反応物に透明感が出た
時点から減圧下でポリエステル化反応を進め、極限粘度
が0.4の時点で反応を停止して反応物を取り出し、本
発明におけるポリエステル樹脂(A−3)を得た。該
(A−3)の数平均分子量は23,000、スルファミ
ン酸(塩)基の含有量は、樹脂106g当たり470当
量であった。(A−1)に代えてこの(A−3)を用い
る以外は実施例1と同様の処方により感光液(D−3)
を調製した。該(D−3)をアルミ板にアプリケータで
厚さが10ミクロンになるように塗布・乾燥した後、実
施例1と同様に紫外線を照射して硬化膜(E−3)を得
た。
部、製造例1で得られた(a22−1)2322部、ネ
オペンチルグリコール312部、(a1−1)2700
部およびジブチルチンオキサイド2部を入れて210℃
でポリエステル化反応をさせた。反応物に透明感が出た
時点から減圧下でポリエステル化反応を進め、極限粘度
が0.4の時点で反応を停止して反応物を取り出し、本
発明におけるポリエステル樹脂(A−3)を得た。該
(A−3)の数平均分子量は23,000、スルファミ
ン酸(塩)基の含有量は、樹脂106g当たり470当
量であった。(A−1)に代えてこの(A−3)を用い
る以外は実施例1と同様の処方により感光液(D−3)
を調製した。該(D−3)をアルミ板にアプリケータで
厚さが10ミクロンになるように塗布・乾燥した後、実
施例1と同様に紫外線を照射して硬化膜(E−3)を得
た。
【0054】比較例1 実施例1と同様の反応容器に、テレフタル酸1826
部、無水マレイン酸196部、ネオペンチルグリコール
520部、1,4−ブタンジオール270部およびジブ
チルチンオキサイド2部を入れて210℃でポリエステ
ル化反応させた。反応物に透明感が出た時点から減圧下
でポリエステル化反応を進め、極限粘度が0.4の時点
で反応を停止して反応物を取り出し、比較のためのポリ
エステル樹脂(A−4)を得た。該(A−4)の数平均
分子量は30,000、カルボン酸基の含有量は、樹脂
106g当たり20当量であった。(A−1)に代えて
この(A−4)を用いる以外は実施例1と同様の処方に
より感光液(D−4)を調製した。該(D−4)をアル
ミ板にアプリケータで厚さが10ミクロンになるように
塗布・乾燥した後、実施例1と同様に紫外線を照射して
硬化膜(E−4)を得た。
部、無水マレイン酸196部、ネオペンチルグリコール
520部、1,4−ブタンジオール270部およびジブ
チルチンオキサイド2部を入れて210℃でポリエステ
ル化反応させた。反応物に透明感が出た時点から減圧下
でポリエステル化反応を進め、極限粘度が0.4の時点
で反応を停止して反応物を取り出し、比較のためのポリ
エステル樹脂(A−4)を得た。該(A−4)の数平均
分子量は30,000、カルボン酸基の含有量は、樹脂
106g当たり20当量であった。(A−1)に代えて
この(A−4)を用いる以外は実施例1と同様の処方に
より感光液(D−4)を調製した。該(D−4)をアル
ミ板にアプリケータで厚さが10ミクロンになるように
塗布・乾燥した後、実施例1と同様に紫外線を照射して
硬化膜(E−4)を得た。
【0055】試験例1 実施例1〜3および比較例1で得られた硬化膜(E−
1)〜(E−4)の表面タックを調べた。表面タックの
あるものは、硬化が遅いことを示す。
1)〜(E−4)の表面タックを調べた。表面タックの
あるものは、硬化が遅いことを示す。
【0056】
【表1】
【0057】試験例2 実施例1〜3および比較例1で得られた硬化膜(E−
1)〜(E−4)の密着性(ゴバン目試験:JIS K
5400-1990に準拠)を調べた(サンプルは、照
射時間20秒のものを使用)。セロハン粘着テープ剥離
したとき剥がれないで残った数の多いものほど密着性が
良い。
1)〜(E−4)の密着性(ゴバン目試験:JIS K
5400-1990に準拠)を調べた(サンプルは、照
射時間20秒のものを使用)。セロハン粘着テープ剥離
したとき剥がれないで残った数の多いものほど密着性が
良い。
【0058】
【表2】
【0059】
【発明の効果】本発明の活性光線硬化性組成物は、下記
の効果を奏する。 (1)硬化性に優れ、低エネルギーでの硬化が可能であ
る。 (2)基材との密着性がよく、耐久性の良い硬化塗膜が
得られる。 上記効果を奏することから本発明の活性光線硬化性組成
物は、感光性レジストフイルム、フォトレジスト、感光
性樹脂凸版、感光性フレキソ版、スクリーン版、光接着
剤、ハードコート剤等の感光層として極めて有用であ
る。
の効果を奏する。 (1)硬化性に優れ、低エネルギーでの硬化が可能であ
る。 (2)基材との密着性がよく、耐久性の良い硬化塗膜が
得られる。 上記効果を奏することから本発明の活性光線硬化性組成
物は、感光性レジストフイルム、フォトレジスト、感光
性樹脂凸版、感光性フレキソ版、スクリーン版、光接着
剤、ハードコート剤等の感光層として極めて有用であ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03F 7/00 502 G03F 7/00 502 7/004 512 7/004 512 7/027 7/027 7/028 7/028 7/032 502 7/032 502 7/038 501 7/038 501 7/12 7/12 H01L 21/027 H01L 21/30 502R Fターム(参考) 2H025 AA00 AA14 AB02 AB06 AB11 AB15 AB20 AC01 AC08 AD01 BC32 BC42 BC64 BC84 CA01 CA28 CB20 CB42 FA03 2H096 AA00 AA02 AA19 AA26 AA30 BA05 BA06 BA20 EA02 EA04 GA08 4J027 AB09 AB23 AB24 AB25 AB26 AB32 CB10 CC03 CD10 4J029 AA07 AB01 AC01 AC02 AD01 AE18 BH02 BH03 CA02 CA09 CB04A CB05A CB06A CD03 DB02 DC07 EF02 EF03 GA02 GA13 GA14 GA15 GA16
Claims (11)
- 【請求項1】 ポリジエンポリオール(a1)からなる
ポリオール成分(a)とポリカルボン酸成分(b)から
構成されるポリエステル樹脂(A)および光重合開始剤
(B)からなることを特徴とする活性光線硬化性組成
物。 - 【請求項2】 (a1)が数平均分子量500〜5,0
00のポリブタジエンポリオールであり、かつポリブタ
ジエンポリオール中のブタジエン単位の微細構造が1,
2−ビニル体50モル%以上である請求項1記載の組成
物。 - 【請求項3】 (a)が、さらに有機酸(塩)基含有ポ
リオール(a2)を含有する請求項1または2記載の組
成物。 - 【請求項4】 (a2)中の有機酸(塩)基が、カルボ
ン酸(塩)基、スルファミン酸(塩)基、スルホン酸
(塩)基および燐酸エステル(塩)基からなる群から選
ばれる少なくとも1種である請求項3記載の組成物。 - 【請求項5】 さらに、付加重合可能なエチレン性不飽
和化合物(C)を含有する請求項1〜4のいずれか記載
の組成物。 - 【請求項6】 組成物の重量に基づいて、20〜98%
の(A)、0.05〜5%の(B)、および(A)の重
量に基づいて400%を越えない量の(C)を含有する
請求項5記載の組成物。 - 【請求項7】 感光性レジストフイルム、フォトレジス
ト、感光性樹脂凸版、感光性フレキソ版、スクリーン
版、光接着剤またはハードコート剤の感光層に用いられ
る請求項1〜6のいずれか記載の組成物。 - 【請求項8】 請求項1〜7のいずれか記載の組成物を
活性光線で硬化させてなる硬化樹脂。 - 【請求項9】 請求項1〜7のいずれか記載の組成物
を、可視光線、紫外線およびレーザー光線からなる群か
ら選ばれる少なくとも1種の活性光線で硬化させること
からなる硬化樹脂を製造する方法。 - 【請求項10】 請求項1〜7のいずれか記載の組成物
を紫外線硬化させてなる硬化樹脂層を基板上に有するプ
リント配線板。 - 【請求項11】 基材フィルムに請求項1〜7のいずれ
か記載の組成物を塗布・乾燥させた後、塗布層の上に保
護フィルムを設けた感光性レジストフィルムの、保護フ
ィルムを剥がした面を基板上の表面銅層の上に密着さ
せ、配線パターン形成用フィルムを通して紫外線露光し
て露光部を硬化させ、非露光部を除去することにより基
板上に配線パターンを現像した後、銅張層をエッチング
してなるプリント配線板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001198940A JP2002080551A (ja) | 2000-06-30 | 2001-06-29 | 活性光線硬化性組成物 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000197668 | 2000-06-30 | ||
JP2000-197668 | 2000-06-30 | ||
JP2001198940A JP2002080551A (ja) | 2000-06-30 | 2001-06-29 | 活性光線硬化性組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002080551A true JP2002080551A (ja) | 2002-03-19 |
Family
ID=26595053
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2001198940A Pending JP2002080551A (ja) | 2000-06-30 | 2001-06-29 | 活性光線硬化性組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002080551A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009001581A (ja) * | 2002-08-30 | 2009-01-08 | Mitsubishi Chemicals Corp | 縮合系共重合体 |
WO2014141969A1 (ja) * | 2013-03-12 | 2014-09-18 | 日産化学工業株式会社 | めっきレジスト用樹脂組成物およびそれを用いた基板の製造方法 |
-
2001
- 2001-06-29 JP JP2001198940A patent/JP2002080551A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009001581A (ja) * | 2002-08-30 | 2009-01-08 | Mitsubishi Chemicals Corp | 縮合系共重合体 |
WO2014141969A1 (ja) * | 2013-03-12 | 2014-09-18 | 日産化学工業株式会社 | めっきレジスト用樹脂組成物およびそれを用いた基板の製造方法 |
JPWO2014141969A1 (ja) * | 2013-03-12 | 2017-02-16 | 日産化学工業株式会社 | めっきレジスト用樹脂組成物およびそれを用いた基板の製造方法 |
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