JP2002076274A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JP2002076274A
JP2002076274A JP2000254385A JP2000254385A JP2002076274A JP 2002076274 A JP2002076274 A JP 2002076274A JP 2000254385 A JP2000254385 A JP 2000254385A JP 2000254385 A JP2000254385 A JP 2000254385A JP 2002076274 A JP2002076274 A JP 2002076274A
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wiring
electrically connected
semiconductor device
pads
selector circuit
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Masahiro Tada
正裕 多田
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 TEG(Test Element Group)が形成された
半導体装置において、配線不良の検出に必要なパッド数
を大幅に削減する。 【解決手段】 配線領域11a〜11nの一端に検査パ
ッド12を、他端にセレクタ回路13を、それぞれ電気
的に接続し、セレクタ回路13に検査パッド15及び信
号パッド14a〜14nをそれぞれ電気的に接続し、信
号パッド14a〜14nから入力された選択信号に応
じ、セレクタ回路13によって、特定の配線領域11a
〜11nを検査パッド15と電気的に接続し、その検査
パッド15と電気的に接続された配線領域11a〜11
nの配線不良検出を行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、集積回路が形成さ
れた半導体装置に関し、特に、形成された集積回路の配
線不良を検出するための機能を有する半導体装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】半導体装置における新しい製造プロセス
を立ち上げる場合、或いはその製造プロセスの変更を行
う場合、その半導体装置に構成された集積回路の特性評
価を行うことを目的に、それらの量産試験段階における
半導体装置に、いわゆるTEG(Test Element Group)
と呼ばれるテスト素子群を形成する場合がある。
【0003】図4は、このようなTEGが形成された半
導体装置100を示した平面図である。半導体装置10
0は、集積回路を複数の領域に区分した配線領域101
a〜101n、配線領域101a〜101nの一端と電
気的に接続された測定用共通パッド102、及び測定用
共通パッド102が接続されている側の他端において、
配線領域101a〜101nと電気的に接続される測定
用パッド103a〜103nを有している。
【0004】集積回路の特性評価は、各配線領域101
a〜101n単位で行われ、具体的には、測定用共通パ
ッド102と測定用パッド103a〜103nとの間に
それぞれ電圧を印加し、これにより各配線領域101a
〜101nに流れる電流を観察することで、各配線領域
101a〜101nにおける配線不良の検出を行う。測
定用共通パッド102及び測定用パッド103a〜10
3nへの電圧印加は、複数の導電性のピンを有するプロ
ーブカードを用い、このプローブカードの各ピンを複数
のパッドに同時に押しつけることによって行われる。
【0005】このように各配線領域101a〜101n
ごとに配線不良の検出を行うことにより、集積回路にお
ける配線不良箇所の特定が容易になり、製造プロセスの
改善等の処置が行いやすくなる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし、近年、各電子
機器における機能の複合化、半導体装置への機能の取り
込み等により、半導体装置のチップサイズが大型化して
おり、それに伴い、配線領域の数が増加し、各配線領域
の配線不良を検出する測定用パッドの数も増加してい
る。測定用パッドの数が増加した場合、各測定用パッド
に電圧を印加するプローブカードのピン数も増加するこ
ととなり、この場合、ピンの接触不良やプロービング精
度の悪化といった不具合が生じてしまうという問題点が
ある。これは、ウエハーの大型化等によってウエハーに
反りが生じた場合、特に顕著となる問題点である。
【0007】また、プローブカードのピン数を減らし、
代わりにプロービングの回数を増やすことにより各測定
用パッドへの電圧の印加を行った場合、プロービング回
数の増加によって、配線不良検出時における作業時間が
増加してしまうという問題点がある。
【0008】さらに、この場合、プロービング回数の増
加によってプローブカードの摩耗が早まり、その摩耗に
よって、ピンの接触不良やプロービング精度の悪化とい
った不具合が生じてしまうという問題点がある。
【0009】本発明はこのような点に鑑みてなされたも
のであり、配線不良の検出に必要なパッドの数を大幅に
削減し、ピン数が少ないプローブカードを用いた配線不
良検出を可能とし、配線不良検出時におけるピンの接触
不良やプロービング精度の悪化といった不具合を大幅に
低減させることが可能な半導体装置を提供することを目
的とする。
【0010】また、本発明の他の目的は、配線不良の検
出に必要なパッドの数を大幅に削減し、プロービング回
数を低減させることにより、配線不良検出時における作
業時間を低減させることが可能な半導体装置を提供する
ことである。
【0011】さらに、本発明の他の目的は、配線不良の
検出に必要なパッドの数を大幅に削減し、プロービング
回数を低減させることにより、プローブカードの摩耗を
抑制し、摩耗によって生じるピンの接触不良やプロービ
ング精度の悪化といった不具合を低減させることが可能
な半導体装置を提供することである。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明では上記課題を解
決するために、形成された集積回路の配線不良を検出す
るための機能を有する半導体装置において、前記集積回
路を複数の領域に区分した配線領域と、前記配線領域の
一端と電気的に接続される第1の検査パッドと、前記第
1の検査パッドが接続されている側の他端において前記
配線領域と電気的に接続され、電流の供給を行う前記配
線領域の選択を行うセレクタ回路と、前記セレクタ回路
と電気的に接続され、前記電流の供給を行う前記配線領
域の選択を指示する選択信号を前記セレクタ回路に供給
する信号パッドと、前記セレクタ回路と電気的に接続さ
れ、前記セレクタ回路によって選択された前記配線領域
と電気的に接続される第2の検査パッドとを有すること
を特徴とする半導体装置が提供される。
【0013】ここで、配線領域は、集積回路を複数の領
域に区分し、信号パッドは、セレクタ回路に対し、電流
の供給を行う前記配線領域の選択を指示する選択信号を
供給し、セレクタ回路は、信号パッドから供給された選
択信号に応じ、電流の供給を行う配線領域を選択し、第
1の検査パッド及び第2の検査パッドは、セレクタ回路
によって選択された配線領域に対し、配線不良検出のた
めの電流を供給する。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。図1は、本形態における半導体装
置10の構成を示した概念図である。
【0015】半導体装置10は、集積回路を複数の領域
に区分した配線領域11a〜11n、配線領域11a〜
11nの一端と電気的に接続される第1の検査パッドで
ある検査パッド12、第1の検査パッドが接続されてい
る側の他端において配線領域11a〜11nと電気的に
接続され、電流の供給を行う配線領域11a〜11nの
選択を行うセレクタ回路13、セレクタ回路13と電気
的に接続され、電流の供給を行う配線領域11a〜11
nの選択を指示する選択信号をセレクタ回路13に供給
する信号パッド14a〜14n、及びセレクタ回路13
と電気的に接続され、セレクタ回路13によって選択さ
れた配線領域11a〜11nと電気的に接続される第2
の検査パッドである検査パッド15を有している。
【0016】上述のように、配線領域11a〜11n
は、半導体装置10に形成された集積回路を複数に区分
した各領域である。この集積回路の区分は、例えば、集
積回路内における機能ブロック単位で行われ、各配線領
域11a〜11nの一端は、すべて検査パッド12と電
気的に接続される。検査パッド12は、半導体装置10
の表面に形成された導体層であり、この検査パッド12
には、配線領域11a〜11nの配線不良検出時、前述
のプローブカードのピンが押しつけられ、配線不良を検
出するための電流が供給される。セレクタ回路13は、
半導体装置10の表面に形成されるロジックであり、配
線領域11a〜11nにおいて検査パッド12が電気的
に接続されていない側の一端(以下他端)と電気的に接
続され、検査パッド15から供給された配線不良を検出
するための電流を、選択した配線領域11a〜11nに
対して供給する。検査パッド15は、半導体装置10の
表面に形成された導体層であり、この検査パッド15に
は、配線領域11a〜11nの配線不良検出時、前述の
プローブカードのピンが押しつけられ、配線不良を検出
するための電流が供給される。
【0017】図2は、半導体装置10の詳細構成例を示
した図である。図2の例の半導体装置10では、配線領
域11a〜11c、検査パッド12、14a、14b、
セレクタ回路13及び検査パッド15を有しており、セ
レクタ回路13は、インバータ13aa、13ab、N
AND回路13ba〜13bg、FET等のスイッチ1
3ca〜13ccを有している。
【0018】信号パッド14aは、インバータ13aa
及びNAND回路13bc、13bdの入力端子に、信
号パッド14bは、インバータ13ab及びNAND回
路13bb、13bdの入力端子に、それぞれ電気的に
接続されており、インバータ13aaの出力端子は、N
AND回路13ba、13bbの入力端子に、インバー
タ13ab出力端子は、NAND回路13ba、13b
cの入力端子に、それぞれ電気的に接続されている。ま
た、NAND回路13baの出力端子は、NAND回路
13be、13bf、13bgの入力端子に、NAND
回路13bbの出力端子は、NAND回路13beの入
力端子に、NAND回路13bcの出力端子は、NAN
D回路13bfの入力端子に、NAND回路13bdの
出力端子は、NAND回路13bgの入力端子に、それ
ぞれ電気的に接続される。さらに、NAND回路13b
eの出力端子は、スイッチ13caの制御端子に、NA
ND回路13bfの出力端子は、スイッチ13cbの制
御端子に、NAND回路13bgの出力端子は、スイッ
チ13ccの制御端子に、それぞれ電気的に接続され
る。また、検査パッド12には、配線領域11a〜11
cの一端が、配線領域11a〜11cの他端には、スイ
ッチ13ca〜13ccの入出力端子が、それぞれ電気
的に接続され、配線領域11a〜11cが接続されてい
ない側におけるスイッチ13ca〜13ccの入出力端
子には、検査パッド15が電気的に接続される。
【0019】次に、図1及び図2を用い、半導体装置1
0の配線不良検出動作について説明する。まず、図1を
用い、配線不良検出時における全体動作について説明す
る。
【0020】配線不良の検出は、プローブカードに設け
られた複数のピンを検査パッド12、検査パッド15及
び信号パッド14a〜14nに押しつけ、検査パッド1
2、15に配線領域11a〜11nの配線不良を検出す
るための電流を、信号パッド14a〜14nに配線不良
の検出を行う配線領域11a〜11nを選択するための
選択信号をそれぞれ供給することによって行う。ここ
で、検査パッド12、15への電流の供給は、検査パッ
ド12、15に対し、検査パッド12が検査パッド15
よりも高電位となるように電圧を印加して行うこととし
てもよく、逆に、検査パッド12が検査パッド15より
も低電位となるように電圧を印加して行うこととしても
よい。また、信号パッド14a〜14nに供給される選
択信号は、それぞれ2進数を示す信号であり、配線不良
の検査を行う配線領域11a〜11nの選択は、各信号
パッド14a〜14nに供給されるこの2進数の信号の
組み合わせによって行われる。
【0021】信号パッド14a〜14nすべてに対し、
2進数の“0”を示す選択信号が供給された場合、セレ
クタ回路13は、すべての配線領域11a〜11nの他
端を検査パッド15に電気的に接続する。これにより、
配線領域11a〜11nすべてに対して電流が供給され
ることとなり、配線領域11a〜11nすべてを検査対
象として配線不良の検出を行うことができる。
【0022】ここで、配線不良が検出されなかった場
合、半導体装置10が有するすべての配線領域11a〜
11nに配線不良が存在しないこととなり、そのチップ
についてのこれ以上の詳細な検査は不要となる。そのた
め、そのチップについての検査を終了し、別のチップに
ついての検査に進む。
【0023】一方、配線不良が検出された場合、半導体
装置10が有するいずれかの配線領域11a〜11nに
おいて、配線不良が存在することとなり、次の検査ステ
ップとして各配線領域11a〜11nごとの配線不良検
出を行っていく。各配線領域11a〜11nごとの配線
不良検出は、各信号パッド14a〜14nへ入力する選
択信号の組み合わせを変えることにより、検出を行う配
線領域11a〜11nを順次選択し、選択した配線領域
11a〜11nに検査パッド12、15から電流を供給
していくことにより行う。このようにすることにより、
配線不良を有する配線領域11a〜11nを特定するこ
とが容易となり、そのメンテナンス等が容易になる。
【0024】次に、図2の具体例を用い、半導体装置1
0の配線不良検出動作の詳細について説明する。配線領
域11a〜11cすべてを検査対象として配線不良の検
出を行う場合、信号パッド14a、14bには、2進数
の“0”を示す選択信号が供給される。
【0025】信号パッド14a、14bに“0”を示す
選択信号が供給された場合、インバータ13aa、13
abの出力信号は“1”となり、NAND回路13ba
の出力信号は“0”に、NAND回路13bb、13b
c、13bdの出力信号は“1”になる。また、NAN
D回路13be、13bf、13bgの出力信号はすべ
て“1”となるため、すべてのスイッチ13ca〜13
ccがオンとなり、検査パッド12、15から供給され
た電流がすべての配線領域11a〜11cに供給され
る。ここで、供給された電流を観察して配線領域11a
〜11c全体の配線不良の検出を行い、この検出の結
果、配線不良が検出されなかった場合には、そのチップ
についての検出処理を終了し、別のチップの配線不良検
出処理へ移る。一方、配線不良が検出された場合には、
配線領域11a〜11cごとの配線不良検出を順次行っ
ていく。
【0026】配線領域11aのみの配線不良検出を行う
場合、信号パッド14aへ供給する選択信号を“0”と
し、信号パッド14bへ供給する選択信号を“1”とす
る。この場合、インバータ13aaの出力信号は
“1”、インバータ13abの出力信号は“0”とな
り、NAND回路13ba、13bc、13bdの出力
信号は“1”に、NAND回路13bbの出力信号は
“0”になる。また、NAND回路13beの出力信号
は“1”となり、NAND回路13bf、13bgの出
力信号は“0”となるため、スイッチ13caのみがオ
ンとなり、検査パッド12、15から供給された電流は
配線領域11aのみに供給される。これにより、配線領
域11aについてのみの配線不良の検出を行うことがで
きる。
【0027】配線領域11bのみの配線不良検出を行う
場合、信号パッド14aへ供給する選択信号を“1”と
し、信号パッド14bへ供給する選択信号を“0”とす
る。この場合、インバータ13aaの出力信号は
“0”、インバータ13abの出力信号は“1”とな
り、NAND回路13ba、13bb、13bdの出力
信号は“1”に、NAND回路13bcの出力信号は
“0”になる。また、NAND回路13bfの出力信号
は“1”となり、NAND回路13be、13bgの出
力信号は“0”となるため、スイッチ13cbのみがオ
ンとなり、検査パッド12、15から供給された電流は
配線領域11bのみに供給される。これにより、配線領
域11bについてのみの配線不良の検出を行うことがで
きる。
【0028】配線領域11cのみの配線不良検出を行う
場合、信号パッド14a、14bへ供給する選択信号を
“1”とする。この場合、インバータ13aa、13a
bの出力信号は“0”となり、NAND回路13ba、
13bb、13bcの出力信号は“1”に、NAND回
路13bdの出力信号は“0”になる。また、NAND
回路13bgの出力信号は“1”となり、NAND回路
13be、13bfの出力信号は“0”となるため、ス
イッチ13ccのみがオンとなり、検査パッド12、1
5から供給された電流は配線領域11cのみに供給され
る。これにより、配線領域11cについてのみの配線不
良の検出を行うことができる。
【0029】以上のような配線不良検出を行うことによ
り、配線不良を有する配線領域11a〜11nを検出
し、集積回路中の配線不良個所の検出を行っていく。な
お、本形態の半導体装置10において、検査パッド1
2、15、信号パッド14a〜14n及びインバータや
NAND回路の電源用及びGND用パッド2個を含めた
パッドの数と、そのパッド数によって分割可能な配線領
域の数である分割可能数との関係は、以下の数式によっ
て示される。
【0030】
【数1】Dbc=2(n-4)−1 (n≧5) Dbc:分割可能数 n :パッド数 図3は、パッド数と、分割可能数との関係を示した表で
ある。この表において正方形のドットによって記された
グラフは、本発明の半導体装置10におけるパッド数と
分割可能数との関係を示しており、菱形のドットによっ
て示されたグラフは、図4に示した従来技術の半導体装
置100におけるパッド数と分割可能数との関係を示し
ている。
【0031】図3に示すように、本発明は、パッド数が
5以上の場合に使用可能であり、7以上の場合に従来技
術に比べパッド数を削減することができる。このよう
に、本形態では、配線領域11a〜11nの一端に検査
パッド12を、他端にセレクタ回路13を、それぞれ電
気的に接続し、セレクタ回路13に検査パッド15及び
信号パッド14a〜14nをそれぞれ電気的に接続し、
信号パッド14a〜14nから入力された選択信号に応
じ、セレクタ回路13によって、特定の配線領域11a
〜11nを検査パッド15と電気的に接続し、その検査
パッド15と電気的に接続された配線領域11a〜11
nの配線不良検出を行うこととしたため、配線不良の検
出に必要なパッドの数を大幅に削減し、ピン数が少ない
プローブカードを用いた配線不良検出を可能とし、配線
不良検出時におけるピンの接触不良やプロービング精度
の悪化といった不具合を大幅に低減させることが可能と
なる。
【0032】また、配線不良の検出に必要なパッドの数
を大幅に削減し、プロービング回数を低減させることに
より、配線不良検出時における作業時間を低減させるこ
とが可能となる。
【0033】さらに、プロービング回数を低減させるこ
とにより、プローブカードの摩耗を抑制し、摩耗によっ
て生じるピンの接触不良やプロービング精度の悪化とい
った不具合を低減させることが可能となる。
【0034】
【発明の効果】以上説明したように本発明では、配線領
域の一端に第1の検査パッドを、他端にセレクタ回路
を、それぞれ電気的に接続し、セレクタ回路に第2の検
査パッド及び信号パッドをそれぞれ電気的に接続し、信
号パッドから入力された選択信号に応じ、特定の配線領
域を第2の検査パッドと電気的に接続し、その第2の検
査パッドと電気的に接続された配線領域の配線不良検出
を行うこととしたため、配線不良の検出に必要なパッド
の数を大幅に削減し、ピン数が少ないプローブカードを
用いた配線不良検出を可能とし、配線不良検出時におけ
るピンの接触不良やプロービング精度の悪化といった不
具合を大幅に低減させることが可能となる。
【0035】また、配線不良の検出に必要なパッドの数
を大幅に削減し、プロービング回数を低減させることに
より、配線不良検出時における作業時間を低減させるこ
とが可能となる。
【0036】さらに、プロービング回数を低減させるこ
とにより、プローブカードの摩耗を抑制し、摩耗によっ
て生じるピンの接触不良やプロービング精度の悪化とい
った不具合を低減させることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】半導体装置の構成を示した概念図である。
【図2】半導体装置の詳細構成例を示した図である。
【図3】パッド数と、そのパッド数によって分割可能な
配線領域の数である分割可能数との関係を示した表であ
る。
【図4】従来技術における半導体装置を示した平面図で
ある。
【符号の説明】
10…半導体装置、11a〜11n…配線領域、12、
15…検査パッド、13…セレクタ回路、13aa、1
3ab…インバータ、13ba〜13bg…NAND回
路、13ca〜13cc…スイッチ、14a〜14n…
信号パッド
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 21/66 G01R 31/28 V

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 形成された集積回路の配線不良を検出す
    るための機能を有する半導体装置において、 前記集積回路を複数の領域に区分した配線領域と、 前記配線領域の一端と電気的に接続される第1の検査パ
    ッドと、 前記第1の検査パッドが接続されている側の他端におい
    て前記配線領域と電気的に接続され、電流の供給を行う
    前記配線領域の選択を行うセレクタ回路と、 前記セレクタ回路と電気的に接続され、前記電流の供給
    を行う前記配線領域の選択を指示する選択信号を前記セ
    レクタ回路に供給する信号パッドと、 前記セレクタ回路と電気的に接続され、前記セレクタ回
    路によって選択された前記配線領域と電気的に接続され
    る第2の検査パッドと、 を有することを特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】 前記選択信号は、2進数を示す信号であ
    ることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
  3. 【請求項3】 前記セレクタ回路は、前記信号パッドに
    供給されるすべての前記選択信号が“0”を示す信号で
    あった場合、すべての前記配線領域を選択することを特
    徴とする請求項2記載の半導体装置。
  4. 【請求項4】 7個以上の前記信号パッドを有し、前記
    セレクタ回路は、7箇所以上の前記配線領域から前記電
    流の供給を行う前記配線領域の選択を行うことを特徴と
    する請求項1記載の半導体装置。
  5. 【請求項5】 前記配線不良の検出時、前記第1の検査
    パッドと前記第2の検査パッドとの間には、所定の電圧
    が印加されることを特徴とする請求項1記載の半導体装
    置。
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