JP2002066336A - 有機ハロゲン化合物分解触媒、その製造方法、および用途 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 有機ハロゲン化合物の除去性能に一層優れ、
排ガス中の有機ハロゲン化合物を除去するのに好適な触
媒、その製造方法および有機ハロゲン化合物の除去方法
を提供する。 【解決手段】 本発明に係る有機ハロゲン化合物分解触
媒は、チタン酸化物とバナジウム酸化物、更に必要によ
りモリブデン酸化物を含有する有機ハロゲン化合物の分
解触媒であって、窒素ガス吸着法で測定した細孔径分布
が、３０〜１５０Åの範囲内にピークを有し、かつ、３
０〜１５０Åの範囲内の細孔容積が０．１ｃｃ／ｇ以上
であることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ダイオキシン類な
どの有機ハロゲン化合物の分解触媒、その製造方法、お
よび用途に関する。

【０００２】

【従来の技術】産業廃棄物や都市廃棄物を処理する焼却
施設から発生する排ガス中には、ダイオキシン類、ＰＣ
Ｂ、クロロフェノールなどの極微量の毒性有機ハロゲン
化合物が含まれており、特にダイオキシン類は微量であ
ってもきわめて有毒であり、人体に重大な影響を及ぼす
ため、その除去技術が早急に求められている。一般に有
機ハロゲン化合物は化学的にきわめて安定であり、特に
ダイオキシン類においては自然界では半永久的に残存す
ると言われているほど分解しにくい物質であるのに加
え、排ガス中でのその含有量が非常に低いため、これを
効率良く除去することは従来の排ガス処理触媒では困難
であった。

【０００３】このような事情に鑑み、本出願人は、チタ
ンの酸化物を含有する触媒が基本的に有効であることを
確認した上で、細孔分布、細孔容積、比表面積などの物
理特性に改良を加えることにより、排ガス中の希薄成分
の拡散を向上させ、分解効率を促進することを見出し、
この知見に基づいて、特願平９−３５８１４６号（特開
平１０−２３５１９１号公報）、特願２０００−９９５
９３号を既に出願している。これらの触媒は優れた有機
ハロゲン化合物分解活性を有しているが、さらに高い活
性を有する有機ハロゲン化合物除去用触媒が出現するこ
とは好ましいことである。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明の課題
は、有機ハロゲン化合物の除去性能に一層優れ、排ガス
中の有機ハロゲン化合物を除去するのに好適な触媒、そ
の製造方法および有機ハロゲン化合物の除去方法を提供
することである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題を
解決するべく鋭意検討を行った。そして、チタンの酸化
物を含有する触媒の物理特性をより詳細に調査した結
果、チタン酸化物に加えてバナジウム酸化物をも含有
し、さらに、窒素吸着法により測定される細孔径分布が
特定範囲内にピークを有し、かつ、細孔径分布が当該特
定範囲内の場合における細孔容積が一定以上である触媒
が、有機ハロゲン化合物の除去に有効であることを見出
し、本発明を完成させた。すなわち、本発明に係る有機
ハロゲン化合物分解触媒は、チタン酸化物とバナジウム
酸化物、更に必要によりモリブデン酸化物を含有する有
機ハロゲン化合物の分解触媒であって、窒素ガス吸着法
で測定した細孔径分布が、３０〜１５０Åの範囲内にピ
ークを有し、かつ、３０〜１５０Åの範囲内の細孔容積
が０．１ｃｃ／ｇ以上であることを特徴とする。

【０００６】また、本発明に係る有機ハロゲン化合物分
解触媒の製造方法は、チタン酸化物にバナジウム化合物
を添加した後、４００℃に到達するまでの昇温速度が１
℃／ｍｉｎ以下で、且つ、最終焼成温度が４００〜５５
０℃となるように焼成することを特徴とする。また、本
発明に係る有機ハロゲン化合物の除去方法は、有機ハロ
ゲン化合物を含有する排ガスを、本発明の有機ハロゲン
化合物分解触媒に接触させて処理することを特徴とす
る。

【０００７】

【発明の実施の形態】本発明に係る有機ハロゲン化合物
分解触媒は、チタン酸化物とバナジウム酸化物を必須成
分として含有し、好ましくはモリブデン酸化物をも含有
する。さらに、本発明に係る有機ハロゲン化合物分解触
媒は、前記酸化物の少なくとも一部が複合酸化物の形態
を有していてもよい。すなわち、単純酸化物（Ｔｉ
Ｏ ₂ 、Ｖ₂ Ｏ₅ 、ＭｏＯ₃ など）に加えて、複合酸化物
を含有していてもよい。特に、チタンとシリカおよび／
またはモリブデンの複合酸化物である、チタニア−シリ
カ複合酸化物、チタニア−モリブデン複合酸化物、チタ
ニア−シリカ−モリブデン複合酸化物などの複合酸化物
は、チタン酸化物の高比表面積化、高細孔容積化に効果
があるため好ましい。

【０００８】本発明に係る有機ハロゲン化合物分解触媒
の調製方法としては、例えば、チタン酸化物の粉末に、
活性成分であるバナジウム（通常は、供給源としてバナ
ジウムの塩類などのバナジウム化合物）を、溶液もしく
は粉体の状態で添加後、成形、焼成する方法やチタン酸
化物の成形体に活性成分を含浸担持する方法が挙げられ
る。この時、従来通常の方法を用い、チタン酸化物と活
性成分を混在して焼成すると、酸化チタンの結晶化が促
進され、比表面積や細孔容積が低下するが、細孔径が２
００Å以下のものが顕著に減少してしまうという問題が
あった。そこで、本発明者は、細孔径が２００Å以下の
ごく小さい細孔を保持する調製条件を検討した結果、チ
タン酸化物に活性成分源としてのバナジウム化合物を添
加した後、４００℃に到達するまでの昇温速度を１℃／
ｍｉｎ以内とし、且つ、最終焼成温度が４００〜５５０
℃となるように、徐々に熱を加えることにより、酸化チ
タンの結晶化を抑制し、細孔径が２００Å以下のごく小
さい細孔の減少を防止することができることを見い出し
た。

【０００９】チタン酸化物としては、酸化チタン（Ｔｉ
Ｏ₂ ）の他、予めチタンにシリカおよび／またはモリブ
デンを添加して調製したチタニア−シリカ複合酸化物、
チタニア−モリブデン複合酸化物、チタニア−シリカ−
モリブデン複合酸化物を用いることができる。これらの
チタン酸化物は、シリカおよび／またはモリブデンを添
加することにより、より高比表面積化、高細孔容積化し
た複合酸化物であって、より好適に用いられる。上記複
合酸化物の供給原料は、チタン源としては、可溶性の無
機および有機のいずれの化合物も使用することができ、
例えば、四塩化チタン、硫酸チタン、蓚酸チタン、テト
ライソプロピルチタネートなどを用いることができる。
また、シリカ源としては、コロイド状シリカ、水ガラ
ス、微粒子ケイ素、テトラエチルシリケートなどから適
宜選択して使用できる。さらに、モリブデン源として
は、パラモリブデン酸アンモニウム、モリブデン酸など
が使用できる。

【００１０】これら複合酸化物は、例えば、次のように
調製することができる。チタニア−シリカ複合酸化物の
場合は、シリカゾルとアンモニア水を混合し均一溶液と
し、硫酸チタンの硫酸水溶液を添加して沈澱を生じさ
せ、得られた沈澱物を洗浄・乾燥し、次いで４００〜７
００℃で焼成する。チタニア−モリブデン複合酸化物の
場合は、パラモリブデン酸アンモニウムとアンモニア水
を均一溶液として調製する。チタニア−シリカ−モリブ
デン複合酸化物の場合は、シリカゾルとパラモリブデン
酸アンモニウムとアンモニア水を均一溶液として調製す
ることができる。

【００１１】本発明の触媒の組成は、特に限定されない
が、チタン酸化物が５０〜９９．９重量％、バナジウム
酸化物が０．１〜２５重量％、モリブデン酸化物が０〜
２５重量％である。より好ましくは、チタン酸化物が７
０〜９８．５重量％、バナジウム酸化物が０．５〜１５
重量％、モリブデン酸化物が１〜１５重量％である。チ
タン酸化物の含有量が５０重量％未満であると、目的の
細孔径分布、および、細孔容積が得られないために好ま
しくなく、９９．９重量％より大きいと、活性が低下す
るために好ましくない。バナジウム酸化物の含有量が、
０．１重量％より少ない場合は、触媒活性が低下し、２
５重量％を超える場合は、コストが高くなり、増加量に
対して活性の向上が得られないため好ましくない。

【００１２】バナジウム酸化物やモリブデン酸化物の供
給原料としては、各々の酸化物自体のほかに、焼成によ
ってこれらの酸化物を生成するものであれば無機および
有機のいずれの化合物（これらをバナジウム化合物ある
いはモリブデン化合物と称することがある）も用いるこ
とができる。例えば、各々の金属を含む水酸化物、アン
モニウム塩、蓚酸塩、ハロゲン化物、硫酸塩などを用い
ることができる。本発明に係る有機ハロゲン化合物分解
触媒は、さらに、窒素ガス吸着法で測定した細孔径分布
が、３０〜１５０Åの範囲内にピークを有し、かつ、３
０〜１５０Åの範囲内の細孔容積が０．１ｃｃ／ｇ以上
であることを特徴とする。

【００１３】窒素吸着法により測定される細孔径分布が
上記範囲内にピークを有し、かつ、細孔径分布が当該特
定範囲内の場合における細孔容積が上記数値以上である
ことにより、本発明の効果、すなわち、有機ハロゲン化
合物の除去性能に一層優れ、排ガス中の有機ハロゲン化
合物を除去するのに好適な触媒を提供することができ
る。上記窒素吸着法により測定される細孔径分布が３０
〜１５０Åの範囲内にピークを有さない場合には、活性
が低下するために好ましくなく、また、上記細孔径分布
が３０〜１５０Åの範囲内の細孔容積が０．１ｃｃ／ｇ
未満の場合にも、活性が低下するために好ましくない。

【００１４】本発明の触媒は、任意の方法で調製するこ
とができる。以下にその一例を示すが、本発明の触媒の
調製方法はこれらに限定されない。本発明の触媒の調製
方法としては、たとえば、チタン酸化物の粉体に、バナ
ジウム化合物、例えば、バナジウムの塩類またはその溶
液を添加して調製することができる。また、チタン酸化
物の成形体に、バナジウムの塩類またはその溶液を含浸
担持してもよい。また、本発明の触媒にモリブデン酸化
物をも含有させる場合には、別の調製方法として、例え
ば、チタン酸化物とバナジウムの塩類の混合物に、モリ
ブデン源を添加する方法や、チタンの酸化物とモリブデ
ンの塩類の混合物にバナジウム源を添加する方法を挙げ
ることができる。

【００１５】本発明の触媒の形状としては特に制限はな
く、板状、波板状、網状、ハニカム状、円柱状、円筒
状、球状などのうちから選んだ所望の形状で用いてもよ
く、また、アルミナ、シリカ、コーディライト、チタニ
ア、ステンレス金属などよりなる板状、波板状、網状、
ハニカム状、円柱状、円筒状、球状などのうちから選ん
だ所望の形状の担体に担持して使用してもよい。この
内、ハニカム形状のものがより好適に用いられる。チタ
ン酸化物に、バナジウム化合物を添加したあとの焼成方
法としては、空気雰囲気下で、最終到達温度を４００〜
５５０℃で１〜１０時間、好ましくは２〜６時間であ
る。この範囲より短い場合は、活性成分の酸化が不十分
となり活性が低下し、この範囲より長い場合は、熱によ
りチタンの結晶化が進行するため、目的の細孔が減少す
るため好ましくない。また、焼成工程における昇温速度
については、４００℃に到達するまでの昇温速度を１℃
／ｍｉｎ以下とし、好ましくは、０．０５〜０．６℃／
ｍｉｎである。昇温速度が１℃／ｍｉｎより大きい場合
は、急激な温度変化によって、チタンの結晶化が進行し
易くなり、目的の細孔容積が得られない。また、昇温速
度が０．０５℃／ｍｉｎより小さい場合は、製造工程と
して非効率となり、好ましくない。

【００１６】本発明の触媒は、有機ハロゲン化合物除去
用に用いられ、例えば、産業廃棄物や都市廃棄物を処理
する焼却施設から発生する、有機ハロゲン化合物を含有
する排ガスの処理に好適に用いられる。中でも、有機ハ
ロゲン化合物として、ポリハロゲン化ジベンゾダイオキ
シン、ポリハロゲン化ジベンゾフラン、ポリハロゲン化
ビフェニルのうち少なくとも１種（いわゆるダイオキシ
ン類）を含む排ガスの処理に好適に有用である。本発明
の触媒を用いて有機ハロゲン化合物の除去を行うには、
本発明の触媒を排ガスと接触させ、排ガス中の有機ハロ
ゲン化合物を分解除去する。この際の条件については特
に制限はなく、この種の反応に一般的に用いられている
条件で実施することができる。具体的には、排ガスの種
類、性状、要求される有機ハロゲン化合物の分解率など
を考慮して適宜決定すればよい。

【００１７】排ガスの空間速度は、通常、１００〜１０
００００ｈｒ^-1（ＳＴＰ）であり、好ましくは２００〜
５００００ｈｒ^-1（ＳＴＰ）である。１００ｈｒ^-1未満
では、処理装置が大きくなりすぎ非効率となり、一方、
１０００００ｈｒ^-1を超えると、分解率が低下する。ま
た、その際の温度は、１３０〜４５０℃であることが好
ましい。排ガス温度が１３０℃より低いと分解率が低下
し、４５０℃を超えると活性成分のシンタリングなどの
問題が起こる。なお、本発明の有機ハロゲン化合物除去
用触媒を用いて、排ガス中にアンモニアなどの還元剤を
添加することにより、有機ハロゲン化合物と窒素酸化物
を同時に除去することもできる。

【００１８】

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を更に具体的に
説明するが、本発明はこれら実施例になんら限定される
ものではない。なお、細孔径分布および細孔容積の測定
方法は、一般には、水銀圧入法やガス吸着法が用いられ
るが、本発明において重要な細孔径３００Å以下の細孔
径分布の測定に適しているＫｅｌｖｉｎ式によるガス吸
着法によって測定を行った。また、使用するガスは、一
般的な窒素ガスを用いた。 （実施例１）市販の酸化チタン粉体（ＤＴ−５１（商品
名）、ミレニアム社製）１７．６ｋｇに、メタバナジン
酸アンモニウム１．８ｋｇ、蓚酸２．１６ｋｇを水５リ
ットルに溶解させた溶液と、パラモリブデン酸アンモニ
ウム１．２３ｋｇおよびモノエタノールアミン０．４８
ｋｇを水３リットルに溶解させた溶液とを加え、さらに
成形助剤としてのデンプン０．４５ｋｇとを加えて混合
し、ニーダーで混錬りした後、押出成形機で外形８０ｍ
ｍ角、目開き４．０ｍｍ、肉厚１．０ｍｍ、長さ５００
ｍｍのハニカム状に成形した。次いで、１００℃で乾燥
した後、室温から４００℃までの昇温速度を０．３℃／
ｍｉｎに設定し、４００℃から４５０℃までの昇温時間
を１時間とし、最終焼成温度を４５０℃として５時間空
気雰囲気下、焼成して触媒（１）を得た。この触媒
（１）の組成は、Ｖ₂ Ｏ₅ ：ＭｏＯ₃：ＴｉＯ₂ ＝７：
５：８８（酸化物換算重量％）であった。

【００１９】この触媒（１）をＣＯＵＬＴＥＲ社製ＯＭ
ＮＩＳＯＲＰ−３６０を用いて、窒素吸着法により細孔
径分布および細孔容積を測定した。その結果、細孔径８
０Åにピークを有する細孔径分布が確認され、細孔径３
０〜１５０Åの範囲の細孔容積は、０．１８ｃｃ／ｇで
あった。 （実施例２）まず、チタニア−シリカ複合酸化物を次の
ように調製した。２５重量％アンモニア水８３リットル
とスノーテックス−２０（日産化学（株）製シリカゾ
ル、約２０重量％のＳｉＯ₂ 含有）２０ｋｇと水５０リ
ットルを混合後、攪拌し、均一溶液とした後、硫酸チタ
ニルの硫酸溶液（ＴｉＯ₂ として１２５ｇ／リットル、
硫酸濃度５５０ｇ／リットル）１００リットルを攪拌し
なが徐々に滴下した。得られたゲルを１２時間放置した
後、ろ過、水洗し、続いて１２０℃で１時間乾燥した。
これを空気雰囲気下、５５０℃で２時間焼成し、更にハ
ンマーミルを用いて粉砕し、分級機で分級して平均粒子
径１０μm の粉体を得た。得られた粉体の組成はＴｉＯ
₂ ：ＳｉＯ₂ ＝７：３（モル比）であった。

【００２０】上記チタニア−シリカ粉体１７．６ｋｇ
に、メタバナジン酸アンモニウム１．８ｋｇ、蓚酸２．
１６ｋｇを水５リットルに溶解させた溶液と、パラモリ
ブデン酸アンモニウム１．２３ｋｇおよびモノエタノー
ルアミン０．４８ｋｇを水３リットルに溶解させた溶液
とを加え、さらに成形助剤としてのデンプン０．４５ｋ
ｇとを加えて混合し、ニーダーで混錬りした後、押出成
形機で外形８０ｍｍ角、目開き４．０ｍｍ、肉厚１．０
ｍｍ、長さ５００ｍｍのハニカム状に成形した。次い
で、１００℃で乾燥した後、室温から４００℃までの昇
温速度を０．３℃／ｍｉｎに設定し、４００℃から４５
０℃までの昇温時間を１時間とし、最終焼成温度を４５
０℃で５時間空気雰囲気下、焼成して触媒（２）を得
た。この触媒の組成は、Ｖ₂ Ｏ₅ ：ＭｏＯ₃ ：Ｔｉ
Ｏ₂ ：ＳｉＯ₂ ＝７：５：６６：２２（酸化物換算重量
％）であった。

【００２１】この触媒（２）を実施例１と同様の方法
で、窒素吸着法により細孔径分布および細孔容積を測定
した。その結果、細孔径９２Åにピークを有する細孔径
分布が確認され、細孔径３０〜１５０Åの範囲の細孔容
積は、０．２４ｃｃ／ｇであった。 （実施例３）まず、チタン−シリカ−モリブデン複合酸
化物を次のように調製した。２５重量％アンモニア水８
３リットルとスノーテックス−２０（日産化学（株）製
シリカゾル、約２０重量％のＳｉＯ₂ 含有）７．８ｋｇ
と水５０リットルの混合溶液に、パラモリブデン酸アン
モニウム粉末１．９ｋｇを加え、よく攪拌し、パラモリ
ブデン酸アンモニウムを完全に溶解させ、均一溶液を調
製した。この溶液に硫酸チタニル硫酸溶液（ＴｉＯ₂ と
して１２５ｇ／リットル、硫酸濃度５５０ｇ／リット
ル）１００リットルを、攪拌しながら徐々に滴下し、沈
殿を生成させた。この共沈スラリーを約２０時間静置し
たのち、水で十分洗浄した後、濾過し、１００℃で１時
間乾燥させた。さらに、空気雰囲気下、５５０℃で２時
間焼成し、更にハンマーミルを用いて粉砕し、分級機で
分級し平均粒子径１０μｍの粉体を得た。このようにし
て調製したチタン−シリカ−モリブデン複合酸化物の組
成は、ＴｉＯ₂ ：ＳｉＯ₂ ：ＭｏＯ₃ ＝８０：１０：１
０（酸化物重量比）であった。

【００２２】上記チタニア−シリカ−モリブデン粉体１
７．６ｋｇに、メタバナジン酸アンモニウム１．８ｋ
ｇ、蓚酸２．１６ｋｇを水５リットルに溶解させた溶液
と、パラモリブデン酸アンモニウム１．２３ｋｇおよび
モノエタノールアミン０．４８ｋｇを水３リットルに溶
解させた溶液とを加え、さらに成形助剤としてのデンプ
ン０．４５ｋｇとを加えて混合し、ニーダーで混錬りし
た後、押出成形機で外形８０ｍｍ角、目開き４．０ｍ
ｍ、肉厚１．０ｍｍ、長さ５００ｍｍのハニカム状に成
形した。次いで、１００℃で乾燥した後、室温から４０
０℃までの昇温時間を２０時間に設定し、４００℃から
４５０℃までの昇温速度を０．３℃／ｍｉｎに設定し、
最終焼成温度を４５０℃で５時間空気雰囲気下、焼成し
て触媒（３）を得た。この触媒（３）の組成は、Ｖ₂ Ｏ
₅ ：ＭｏＯ₃ ：ＴｉＯ₂ ：ＳｉＯ₂ ＝７：９：７４：１
０（酸化物換算重量％）であった。

【００２３】この触媒（３）を実施例１と同様の方法
で、窒素吸着法により細孔径分布および細孔容積を測定
した。その結果、細孔径８５Åにピークを有する細孔径
分布が確認され、細孔径３０〜１５０Åの範囲の細孔容
積は、０．２１ｃｃ／ｇであった。 （比較例１）触媒の成形物を焼成する際、室温から４０
０℃までの昇温速度を１．２℃／ｍｉｎに設定した以外
は、実施例１と同様の調製方法で比較触媒（１）を得
た。この比較触媒（１）について、窒素吸着法により細
孔を測定したところ、細孔径８７Åにピークを有する細
孔径分布が確認され、細孔径３０〜１５０Åの範囲の細
孔容積は、０．０４ｃｃ／ｇであった。

【００２４】（比較例２）触媒の成形物を焼成する際、
最終焼成温度を６００℃とした以外は実施例１と同様の
調製方法で比較触媒（２）を得た。この比較触媒（２）
について、窒素吸着法により細孔を測定したところ、細
孔径３０〜１５０Åの範囲にはブロードな細孔径分布を
示しただけであり、細孔径３０〜１５０Åの範囲の細孔
容積は、０．０３ｃｃ／ｇであった。 （実施例４）実施例１〜３で得られた触媒（１）〜
（３）、および、比較例１、２で得られた比較触媒
（１）、（２）を用い、下記の条件で有機ハロゲン化合
物としてクロロトルエン（ＣＴ）を用いて、分解活性の
測定を行なった。

【００２５】ＣＴ：３０ｐｐｍ、Ｏ₂ ：１０％、Ｈ
₂ Ｏ：１５％、Ｎ₂ ：バランス、 ガス温度：２００℃、空間速度：４０００ｈｒ^-1 なお、分解率は下記の式にしたがって求めた。 ＣＴ分解率（％）＝｛（反応器入口ＣＴ濃度）−（反応
器出口ＣＴ濃度）｝÷（反応器入口ＣＴ濃度）×１００ 得られたＣＴ分解率を表１に示した。

【００２６】

【表１】

【００２７】（実施例５）実施例１〜３で得られた触媒
（１）〜（３）、および、比較例１、２で得られた比較
触媒（１）、（２）を用い、ダイオキシン類を約０．５
ｎｇ−ＴＥＱ／Ｎｍ³ を含むゴミ焼却炉排ガスに接触さ
せ、ダイオキシン類の除去性能を測定した。ガス温度は
１９０℃であり、空間速度（ＳＴＰ）は２０００ｈｒ^-1
であった。ダイオキシン類の除去率は下記の式にしたが
って求めた。 ダイオキシン類除去率（％）＝｛（触媒層入口ダイオキ
シン類濃度）−（触媒層出口ダイオキシン類濃度）｝÷
（反応器入口ＣＴ濃度）×１００ 得られたダイオキシン類除去率を表２に示した。

【００２８】

【表２】

【００２９】

【発明の効果】本発明によれば、有機ハロゲン化合物の
除去性能に一層優れ、排ガス中の有機ハロゲン化合物を
除去するのに好適な触媒、その製造方法および有機ハロ
ゲン化合物の除去方法を提供することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０１Ｊ 37/08 Ｃ０７Ｂ 35/06 Ｃ０７Ｂ 35/06 37/06 37/06 Ｃ０７Ｃ 25/18 Ｃ０７Ｃ 25/18 Ｃ０７Ｄ 307/91 Ｃ０７Ｄ 307/91 319/24 319/24 Ｂ０１Ｄ 53/36 Ｇ (72)発明者 杉島 昇 兵庫県姫路市網干区興浜字西沖992番地の １ 株式会社日本触媒内 (72)発明者 橋本 政一 兵庫県姫路市網干区興浜字西沖992番地の １ 株式会社日本触媒内 Ｆターム(参考） 2E191 BA12 BA15 BB00 BC01 BD13 4C037 SA03 4D048 AA11 AB03 BA06X BA07X BA23X BA26X BA41X BA42X BB02 CC39 4G069 BA02B BA04A BA04B BB04A BB06A BB06B BC50A BC50B BC54A BC54B BC59A BC59B CA04 CA10 CA19 DA06 EA19 EB18Y EC06X EC07X EC08X EC14X EC14Y EC15X FA02 FB30 FC07 4H006 AA05 AC13 AC26 BA10 BA12 BA14 BA30 BA81 BA85

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】チタン酸化物とバナジウム酸化物、更に必
   要によりモリブデン酸化物を含有する有機ハロゲン化合
   物の分解触媒であって、 窒素ガス吸着法で測定した細孔径分布が、３０〜１５０
   Åの範囲内にピークを有し、かつ、３０〜１５０Åの範
   囲内の細孔容積が０．１ｃｃ／ｇ以上であることを特徴
   とする、 有機ハロゲン化合物分解触媒。
2. 【請求項２】前記酸化物の少なくとも一部が複合酸化物
   の形態を有する、 請求項１に記載の有機ハロゲン化合物分解触媒。
3. 【請求項３】チタン酸化物にバナジウム化合物を添加し
   た後、４００℃に到達するまでの昇温速度が１℃／ｍｉ
   ｎ以下で、且つ、最終焼成温度が４００〜５５０℃とな
   るように焼成することを特徴とする、 請求項１または２に記載の有機ハロゲン化合物分解触媒
   の製造方法。
4. 【請求項４】有機ハロゲン化合物を含有する排ガスを、
   請求項１または２に記載の有機ハロゲン化合物分解触媒
   に接触させて処理することを特徴とする、 有機ハロゲン化合物の除去方法。
5. 【請求項５】前記有機ハロゲン化合物が、ポリハロゲン
   化ジベンゾダイオキシン、ポリハロゲン化ジベンゾフラ
   ン、およびポリハロゲン化ビフェニルの中から選ばれる
   少なくとも１種である、 請求項４に記載の有機ハロゲン化合物の除去方法。