JP2001046869A - 有機ハロゲン化合物除去用触媒および有機ハロゲン化合物除去方法 - Google Patents

有機ハロゲン化合物除去用触媒および有機ハロゲン化合物除去方法

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JP2001046869A
JP2001046869A JP11228646A JP22864699A JP2001046869A JP 2001046869 A JP2001046869 A JP 2001046869A JP 11228646 A JP11228646 A JP 11228646A JP 22864699 A JP22864699 A JP 22864699A JP 2001046869 A JP2001046869 A JP 2001046869A
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JP
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catalyst
titanium
compd
organic halogen
compound
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JP11228646A
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English (en)
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Junichiro Hisagai
潤一郎 久貝
Nobuyuki Masaki
信之 正木
Atsushi Morita
敦 森田
Ryoji Kuma
涼慈 熊
Noboru Sugishima
昇 杉島
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Nippon Shokubai Co Ltd
Original Assignee
Nippon Shokubai Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】ダイオキシン類などの有機ハロゲン化合物を効
率よく除去することが可能な、排ガス浄化用触媒の製造
法およびこれを用いた有機ハロゲン化合物の除去方法を
提供する。 【構成】 BET一点法で測定される比表面積が20m2
/g以上の酸化チタンを含有することを特徴とする触媒
および該触媒の調製方法。該触媒を用いた微量な有機ハ
ロゲン化合物を含む排ガスを効率良く除去する方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、排ガス中のダイオ
キシン類などの毒性有機ハロゲン化合物を除去する排ガ
ス浄化用触媒の製造法およびこれを用いた有機ハロゲン
化合物の除去方法に関する。
【0002】
【従来の技術】産業廃棄物や都市廃棄物を処理する焼却
施設から発生する排ガス中には、ダイオキシン類、PC
B、クロロフェノールなどの極微量の毒性有機ハロゲン
化合物が含まれており、特にダイオキシン類は微量であ
ってもきわめて有毒であり、人体に重大な影響を及ぼす
ため、その除去技術が早急に求められている。一般に有
機ハロゲン化合物は化学的にきわめて安定であり、特に
ダイオキシン類においては自然界では半永久的に残存す
るといわれているほど分解しにくい物質であるのに加
え、排ガス中でのその含有量が非常に低いため、これを
効率よく除去することは困難である。現在、バナジウム
酸化物やタングステン酸化物をチタン酸化物に担持した
触媒や白金をはじめとする貴金属触媒が用いられている
が、排ガス条件によっては充分な性能が得られず、更な
る性能の向上が望まれている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ダイ
オキシン類などの有機ハロゲン化合物を効率よく除去す
ることが可能な、排ガス浄化用触媒の製造法およびこれ
を用いた有機ハロゲン化合物の除去方法を提供すること
である。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、触媒の化
学的組成のみならず、物理特性の改良を行うことによっ
て上記目的を達成できることを見出し、この知見に基づ
いて本発明を完成するにいたった。ダイオキシン類など
の有機ハロゲン化合物を効率よく除去することが可能
な、排ガス浄化用触媒の製造法およびこれを用いた有機
ハロゲン化合物の除去方法を提供するすなわち本発明
は、(1)BET一点法で測定される比表面積が20m
2/g以上の酸化チタンを含有する有機ハロゲン化合物
除去触媒。(2)可溶性チタン化合物の溶液に塩基性物
質を添加することにより生成する沈殿を200〜500
℃で焼成して得る(1)に述べた触媒の調製方法。
(3)チタンアルコキシドの加水分解によって生成する
ゲルを200〜500℃で焼成して得る(1)に述べた
触媒の調製方法。(4)可溶性チタン化合物の溶液を熱
加水分解したのち、500〜800℃で焼成して得る
(1)に述べた触媒の調製方法。(5)有機ハロゲン化
合物を含む排ガスを130〜350℃の温度で(1)に
述べた触媒と接触させることを特徴とする有機ハロゲン
化合物の除去方法。(6)有機ハロゲン化合物がクロロ
フェノールである請求項5記載の除去方法、である。
【0005】以下、本発明を詳細に説明する。
【0006】
【発明の実施の形態】本発明の触媒はその構成成分とし
てBET一点法で測定される比表面積が20m2/g以
上の酸化チタンを含有することを特徴としたものであ
り、特に比表面積が70m2/g〜200m2/gが効果
的である。(2)に述べられた調製法において使用する
可溶性チタン源については、特に制限はなく、四塩化チ
タン、硫酸チタン、シュウ酸チタンなどを用いることが
できる。塩基性物質としては、アンモニア、アミン、ア
ルカリ金属の水酸化物などを用いることができるが、ア
ンモニアが好ましい。例えば、以下のように調製するこ
とができる。0.5mol/リットルのアンモニア水溶
液600リットルを攪拌しながら、これに塩化チタン水
溶液(TiO2として200g/リットル)48リット
ルを少しずつ滴下する。最終pHを5〜9とする。得られ
た沈殿物を洗浄し100℃で12時間乾燥し、さらに4
50℃で3時間焼成し、高比表面積酸化チタンを得る。
(3)に述べられた調製法の例として以下のような調製
法がある。テトライソプロピルチタネート7.1kgを
含むアルコール溶液を混合しながら水を少しずつ滴下
し、沈殿を生成する。得られたスラリーを100℃で1
2時間乾燥し、さらに450℃で3時間焼成し、高比表
面積酸化チタンを得る。(4)に述べられた調製法にお
いて使用する可溶性チタン源については、特に制限はな
く、四塩化チタン、硫酸チタン、シュウ酸チタンなどを
用いることができる。例えば、以下のように調製するこ
とができる。硫酸チタン水溶液(180g−TiO2
リットル、200g−H2SO4/リットル)を105〜
110℃で5時間煮沸し、50℃以下に冷却後アンモニ
ア水で中和することにより、メタチタン酸スラリーを得
る。これをそのまま蒸発乾固し600℃で焼成するか、
スラリーから沈殿を分離し、洗浄、乾燥、500℃で焼
成して、高比表面積酸化チタンを得る。
【0007】本発明によって得られる触媒組成物は、板
状、波板状、網状、ハニカム状、円柱状、円筒状などの
形状に成形して用いてもよい。
【0008】本発明の排ガス浄化触媒を用いて処理する
排ガスの組成については特に制限はなく、本発明の排ガ
ス処理触媒はダイオキシン類などの有機ハロゲン化合物
を含有する各種排ガスの処理に用いることができるが、
クロロフェノールが好適である。
【0009】本発明の排ガス処理触媒を用いた排ガスの
処理条件については、排ガスの種類、性状、要求される
ダイオキシン類などの有機ハロゲン化合物の分解率など
により異なるので一概に特定できないが、実施に際して
は、これらの条件を考慮して適宜決定すればよい。処理
対象ガスの本発明の触媒に対する空間速度は、100〜
100000Hr-1、好ましくは200〜50000Hr-1
の範囲にあるのがよい。100Hr-1未満である場合は、
処理装置が大きくなりすぎ非効率であり、100000
Hr-1を超える場合は、分解効率が低下するため好ましく
ない。
【0010】
【発明の効果】本発明に記載された方法によって調製さ
れた触媒は、ダイオキシン類などの毒性有機ハロゲン化
合物の分解活性やアンモニア分解活性に優れる。また、
脱硝性能にも優れ、窒素酸化物とダイオキシン類などの
毒性有機ハロゲン化合物の同時除去触媒として有用であ
る。
【0011】
【実施例】以下に実施例を用いて本発明をさらに詳細に
説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるも
のではない。
【0012】実施例1 まず、高比表面積酸化チタンを以下に述べる方法で調製
した。0.65mol/リットルのアンモニア水溶液6
00リットルを攪拌しながら、これに塩化チタン水溶液
(TiO2として200g/リットル)48リットルを
少しずつ滴下した。最終pHは5〜9となった。得られ
た沈殿物を洗浄し100℃で12時間乾燥し、さらに4
50℃で3時間焼成し、高比表面積酸化チタンを得た。
次に、上記高比表面積酸化チタン20kgに水5リットル
とフェノール樹脂1kgと成形助剤として澱粉を加えて
混合しニーダーで混練りした後、押し出し成型機で外形
80mm角、目開き4.0mm、肉厚1.0mm、長さ5
00mmのハニカム状に成形した。次いで80℃で乾燥
後、450℃で5時間空気雰囲気下で焼成し、触媒
(A)を得た。BET表面積は125m2/gであった。
【0013】比較例1 硫酸チタン水溶液(180g−TiO2/リットル、2
00g−H2SO4/リットル)を105〜110℃で5
時間煮沸し、50℃以下に冷却後アンモニア水で中和す
ることにより、メタチタン酸スラリーを得た。これをそ
のまま蒸発乾固し、900℃で焼成して酸化チタンを得
た。次に、上記酸化チタン20kgに水5リットルとフェ
ノール樹脂1kgと成形助剤として澱粉を加えて混合し
ニーダーで混練りした後、押し出し成型機で外形80m
m角、目開き4.0mm、肉厚1.0mm、長さ500m
mのハニカム状に成形した。次いで80℃で乾燥後、4
50℃で5時間空気雰囲気下で焼成し、触媒(B)を得
た。BET表面積は10m2/gであった。
【0014】実施例2 実施例1で調製した触媒(A)および比較例1で調製し
た触媒(B)を用いて有機塩素化合物分解試験を行っ
た。処理対象となる有機塩素化合物としてクロロフェノ
ール(以下、CPと略す)を用い、以下の条件で反応を
行った。結果を表1に示す。CP分解率すなわちCP除
去率は下記式により求めた。
【0015】(試験条件) 処理ガス組成 CP:30ppm,O2:18%,H
2O:3%,N2:Balance ガス温度:200℃ 空間速度(SV):1000Hr-1 (式) CP分解率(%)=[(反応器入口CP濃度)−(反応器出口CP濃
度)]/(反応器入口CP濃度)×100
【0016】
【表1】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 熊 涼慈 兵庫県姫路市網干区興浜字西沖992番地の 1 株式会社日本触媒内 (72)発明者 杉島 昇 兵庫県姫路市網干区興浜字西沖992番地の 1 株式会社日本触媒内 Fターム(参考) 4D048 AA11 AB03 BA07X BA41X BB01 BB02 BB03 BB04 BB05 BB07 4G069 AA02 AA08 AA09 AA12 BA04A BA04B BA04C CA04 CA10 CA19 DA06 EA01Y EA02Y EA11 EA19 EC02X EC03X EC03Y EC04X EC05X FA01 FB08 FB30 FB34 FC02 FC03 FC07

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 BET一点法で測定される比表面積が2
    0m2/g以上の酸化チタンを含有する有機ハロゲン化
    合物除去用触媒。
  2. 【請求項2】 可溶性チタン化合物の溶液に塩基性物質
    を添加することにより生成する沈殿を200〜500℃
    で焼成して得る請求項1に記載の触媒の調製方法。
  3. 【請求項3】 チタンアルコキシドの加水分解によって
    生成するゲルを200〜500℃で焼成して得る請求項
    1に記載の触媒の調製方法。
  4. 【請求項4】 可溶性チタン化合物の溶液を熱加水分解
    した後、500〜800℃で焼成して得る請求項1に記
    載の触媒の調製方法。
  5. 【請求項5】 有機ハロゲン化合物を含む排ガスを13
    0〜350℃の温度で請求項1〜4までのいずれかに記
    載の触媒と接触させることを特徴とする有機ハロゲン化
    合物の除去方法。
  6. 【請求項6】 有機ハロゲン化合物がクロロフェノール
    である請求項5記載の除去方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2002248321A (ja) * 2001-02-23 2002-09-03 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd 排ガス処理装置および排ガス処理方法
JP4502349B2 (ja) * 2001-02-23 2010-07-14 三井造船株式会社 排ガス処理装置および排ガス処理方法

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