JP2002060927A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2002060927A5
JP2002060927A5 JP2000242531A JP2000242531A JP2002060927A5 JP 2002060927 A5 JP2002060927 A5 JP 2002060927A5 JP 2000242531 A JP2000242531 A JP 2000242531A JP 2000242531 A JP2000242531 A JP 2000242531A JP 2002060927 A5 JP2002060927 A5 JP 2002060927A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mask
forming
pattern
opening
thin film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000242531A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2002060927A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2000242531A priority Critical patent/JP2002060927A/ja
Priority claimed from JP2000242531A external-priority patent/JP2002060927A/ja
Publication of JP2002060927A publication Critical patent/JP2002060927A/ja
Publication of JP2002060927A5 publication Critical patent/JP2002060927A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

JP2000242531A 2000-08-10 2000-08-10 薄膜パターン成膜用マスク Pending JP2002060927A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000242531A JP2002060927A (ja) 2000-08-10 2000-08-10 薄膜パターン成膜用マスク

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000242531A JP2002060927A (ja) 2000-08-10 2000-08-10 薄膜パターン成膜用マスク

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002060927A JP2002060927A (ja) 2002-02-28
JP2002060927A5 true JP2002060927A5 (enExample) 2007-09-27

Family

ID=18733536

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000242531A Pending JP2002060927A (ja) 2000-08-10 2000-08-10 薄膜パターン成膜用マスク

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002060927A (enExample)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4173722B2 (ja) 2002-11-29 2008-10-29 三星エスディアイ株式会社 蒸着マスク、これを利用した有機el素子の製造方法及び有機el素子
JP4506214B2 (ja) * 2003-03-13 2010-07-21 東レ株式会社 有機電界発光装置およびその製造方法
JP4230258B2 (ja) * 2003-03-19 2009-02-25 東北パイオニア株式会社 有機elパネル、有機elパネルの製造方法
US7821199B2 (en) 2004-09-08 2010-10-26 Toray Industries, Inc. Organic electroluminescent device and manufacturing method thereof
KR100814818B1 (ko) 2006-07-31 2008-03-20 삼성에스디아이 주식회사 유기 발광 표시 장치 제조용 마스크
KR100880944B1 (ko) 2007-10-01 2009-02-04 엘지디스플레이 주식회사 유기발광표시장치
JP5724699B2 (ja) * 2011-07-12 2015-05-27 トヨタ自動車株式会社 選択成膜用マスク
JP5976527B2 (ja) * 2012-12-27 2016-08-23 株式会社ブイ・テクノロジー 蒸着マスク及びその製造方法
JP6998139B2 (ja) * 2017-06-28 2022-01-18 株式会社ジャパンディスプレイ 蒸着マスク
US11655536B2 (en) * 2018-03-20 2023-05-23 Sharp Kabushiki Kaisha Film forming mask and method of manufacturing display device using same

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3465797B2 (ja) * 1991-10-28 2003-11-10 大日本印刷株式会社 カラーフィルタのスパッタ用治具
JPH0927454A (ja) * 1995-07-13 1997-01-28 Fuji Electric Co Ltd 選択蒸着用マスク
JP3298418B2 (ja) * 1996-06-14 2002-07-02 株式会社村田製作所 電子部品の電極形成方法およびそれに用いる電極形成装置
JPH10265940A (ja) * 1997-03-28 1998-10-06 Canon Inc 成膜用メタルマスク及びその製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2002060927A5 (enExample)
JPH1158921A5 (enExample)
RU2001101909A (ru) Способы обеспечения изображений на подложке
CN1157479A (zh) 薄膜器件工艺形成凹状光致抗蚀剂剥离外形的方法及器件
CN106324742A (zh) 金属线栅偏光片的制作方法
CN112368247A (zh) 适合图像显示装置的玻璃板
CN104765191A (zh) 阵列基板及其制作方法和显示装置
JP2002060927A (ja) 薄膜パターン成膜用マスク
EP0748775A3 (en) Water-repellent glass plate having minutely roughed metal-oxide base film
EP1688927A3 (en) Magnetic transfer master disk, its manufacturing method and magnetic transfer method
TW476103B (en) Multiple exposure method
TW200725168A (en) Mask blanks, and method of producing a transfer mask
KR19990070759A (ko) 입체 인쇄방법
JP2007261144A (ja) 反転オフセット印刷用除去版およびパターン形成方法
KR101738371B1 (ko) 은 및 니켈-크롬 적층형 금속층 식각액 조성물
CN210807358U (zh) 一种装饰性膜片结构及电子设备
US6962742B2 (en) Pattern card
JP2018116089A (ja) フォトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法
JP3187415B2 (ja) 脆性材料の打抜き加工方法
JP2018116088A (ja) フォトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法
JPS63220249A (ja) 曲率面における回路パタ−ンの形成方法
JP3529083B2 (ja) 複写防止効果のある印刷物とその作製法
JPH06104256A (ja) パターン形成方法
TW518692B (en) Method of improving photoresist etching selectivity of dielectric anti-reflection coating layer
KR960019487A (ko) 미세패턴 형성방법