JP2002055458A - アライメント装置及び露光装置 - Google Patents
アライメント装置及び露光装置Info
- Publication number
- JP2002055458A JP2002055458A JP2000244308A JP2000244308A JP2002055458A JP 2002055458 A JP2002055458 A JP 2002055458A JP 2000244308 A JP2000244308 A JP 2000244308A JP 2000244308 A JP2000244308 A JP 2000244308A JP 2002055458 A JP2002055458 A JP 2002055458A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mark
- alignment
- photomask
- exposed
- printed circuit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 フォトレジストに覆われたプリント基板の位
置合わせ用マークの撮像が可能なアライメント装置及び
露光装置を提供する。 【解決手段】 ＣＣＤカメラ３に近赤外線照射装置８を
設け、該近赤外線照射装置８はプリント基板２の第２マ
ーク２０に照射して、フォトレジスト２５を透過し、第
２マーク２０で反射してきた近赤外線をＣＣＤカメラ３
で受光して、フォトレジスト２５に覆われた第２マーク
２０の画像を得る。
置合わせ用マークの撮像が可能なアライメント装置及び
露光装置を提供する。 【解決手段】 ＣＣＤカメラ３に近赤外線照射装置８を
設け、該近赤外線照射装置８はプリント基板２の第２マ
ーク２０に照射して、フォトレジスト２５を透過し、第
２マーク２０で反射してきた近赤外線をＣＣＤカメラ３
で受光して、フォトレジスト２５に覆われた第２マーク
２０の画像を得る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、アライメント装
置及び露光装置に関する。
置及び露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子機器の小型化に伴い、機器内で使用
されるプリント基板も、フォトリソグラフィ法により製
造されるようになってきており、露光装置によりプリン
ト基板上に回路等を形成する方法が広く行われている。
露光装置においては、露光すべきパターンを描いたフォ
トマスクが用いられるが、フォトマスクとプリント基板
等の被露光対象物との位置合わせが重要であり、そのた
めにアライメント装置が用いられている。このアライメ
ント装置においては、フォトマスクと被露光対象物とに
位置合わせ用のマークを付けておき、ＣＣＤカメラ等に
より該マークを映し出して、該マークを基準にして位置
合わせを行うようになっている。
されるプリント基板も、フォトリソグラフィ法により製
造されるようになってきており、露光装置によりプリン
ト基板上に回路等を形成する方法が広く行われている。
露光装置においては、露光すべきパターンを描いたフォ
トマスクが用いられるが、フォトマスクとプリント基板
等の被露光対象物との位置合わせが重要であり、そのた
めにアライメント装置が用いられている。このアライメ
ント装置においては、フォトマスクと被露光対象物とに
位置合わせ用のマークを付けておき、ＣＣＤカメラ等に
より該マークを映し出して、該マークを基準にして位置
合わせを行うようになっている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、露光に際して
被露光対象物にはフォトレジストが塗布され、前記マー
ク上にもフォトレジストが塗られてしまう場合が多く、
被露光対象物のマーク読み取りが不可能になる問題があ
った。本発明は上記問題を解決することを目的とする。
被露光対象物にはフォトレジストが塗布され、前記マー
ク上にもフォトレジストが塗られてしまう場合が多く、
被露光対象物のマーク読み取りが不可能になる問題があ
った。本発明は上記問題を解決することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、被露光対象物と該被露光対象物に焼き付
けるべきパターンを描いたフォトマスクとの位置合わせ
を行うアライメント装置において、前記フォトマスクに
設けられた位置合わせ用の第１のマークと、前記被露光
対象物に設けられた位置合わせ用の第２のマークと、前
記第２のマークに近赤外線を照射する装置と、前記第２
のマークに照射された近赤外線により前記第２のマーク
を撮像する装置と、該撮像された第２のマークと前記第
１のマークを基準として、被露光対象物とフォトマスク
とを位置合わせする装置と、を備えたことを特徴とす
る。上記構成において、近赤外線により第２マークの撮
像が行われるから、フォトレジスト等の可視光非透過性
物質によりマークが覆われていても、撮像が可能であ
る。前記被露光対象物としては、プリント基板が典型的
であり、プリント基板にもうけられた第２のマークがフ
ォトレジストに覆われていても、撮像が可能である。近
赤外線を照射する装置としては、近赤外線ＬＥＤを備え
たものを使用するのが望ましい。またこのアライメント
装置は、単独の装置として実現することも可能である
し、露光装置に備えることも可能である。
に、本発明は、被露光対象物と該被露光対象物に焼き付
けるべきパターンを描いたフォトマスクとの位置合わせ
を行うアライメント装置において、前記フォトマスクに
設けられた位置合わせ用の第１のマークと、前記被露光
対象物に設けられた位置合わせ用の第２のマークと、前
記第２のマークに近赤外線を照射する装置と、前記第２
のマークに照射された近赤外線により前記第２のマーク
を撮像する装置と、該撮像された第２のマークと前記第
１のマークを基準として、被露光対象物とフォトマスク
とを位置合わせする装置と、を備えたことを特徴とす
る。上記構成において、近赤外線により第２マークの撮
像が行われるから、フォトレジスト等の可視光非透過性
物質によりマークが覆われていても、撮像が可能であ
る。前記被露光対象物としては、プリント基板が典型的
であり、プリント基板にもうけられた第２のマークがフ
ォトレジストに覆われていても、撮像が可能である。近
赤外線を照射する装置としては、近赤外線ＬＥＤを備え
たものを使用するのが望ましい。またこのアライメント
装置は、単独の装置として実現することも可能である
し、露光装置に備えることも可能である。
【０００５】
【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態を図面に
基づいて説明する。図１において、フォトマスク１は所
定の支持装置（図示せず）により支持され、その下方に
ガラスエポキシのプリント基板２が露光ステージ６上に
載置されている。露光ステージ６は移動機構５によりＸ
Ｙ方向及び上下のＺ方向、更には回転方向（θ方向）に
移動可能になっており、プリント基板２を移動させて、
フォトマスク１との位置合わせを行わせるように構成さ
れている。
基づいて説明する。図１において、フォトマスク１は所
定の支持装置（図示せず）により支持され、その下方に
ガラスエポキシのプリント基板２が露光ステージ６上に
載置されている。露光ステージ６は移動機構５によりＸ
Ｙ方向及び上下のＺ方向、更には回転方向（θ方向）に
移動可能になっており、プリント基板２を移動させて、
フォトマスク１との位置合わせを行わせるように構成さ
れている。
【０００６】フォトマスク１には第１マーク１０が形成
され、プリント基板２には第２マーク２０が形成されて
おり、ＣＣＤカメラ３により、第１マーク１０と第２マ
ーク２０を撮影して、該撮影画像を制御装置４により画
像処理し、第１マーク１０と第２マーク２０の画像が一
致するように移動機構５を制御して露光ステージ６を移
動させ、プリント基板２の位置を調整するように構成さ
れている。
され、プリント基板２には第２マーク２０が形成されて
おり、ＣＣＤカメラ３により、第１マーク１０と第２マ
ーク２０を撮影して、該撮影画像を制御装置４により画
像処理し、第１マーク１０と第２マーク２０の画像が一
致するように移動機構５を制御して露光ステージ６を移
動させ、プリント基板２の位置を調整するように構成さ
れている。
【０００７】ＣＣＤカメラ３には近赤外線照射装置８が
設けられており、ここから近赤外線を照射して、その反
射光をＣＣＤカメラ３により受光することにより撮像す
るように構成されている。ＣＣＤカメラ３として、この
実施形態では近赤外ＬＥＤを用いている。
設けられており、ここから近赤外線を照射して、その反
射光をＣＣＤカメラ３により受光することにより撮像す
るように構成されている。ＣＣＤカメラ３として、この
実施形態では近赤外ＬＥＤを用いている。
【０００８】この実施形態では、第１マーク１０はガラ
ス又は透明フィルムなどから成るフォトマスク１上に描
かれた円形の点であり、第２マーク２０はプリント基板
２の端部に形成された円形の銅皮膜になっている。
ス又は透明フィルムなどから成るフォトマスク１上に描
かれた円形の点であり、第２マーク２０はプリント基板
２の端部に形成された円形の銅皮膜になっている。
【０００９】上記構成において、近赤外線照射装置８か
ら照射された近赤外線は、図２に示すようにフォトマス
ク１及びプリント基板２を透過する。また、第２マーク
２０上にフォトレジスト２５があっても、近赤外線はフ
ォトレジスト２５を透過する。第２マーク２０は銅被膜
であるため、ここで反射してＣＣＤカメラ３に撮影され
る。ＣＣＤカメラ３に撮影された画像を図３に示す。第
２マーク２０が白い円として撮影されている。ＣＣＤカ
メラ３は同時にフォトマスク１上の黒丸の第１マーク１
０も撮影し、第１マーク１０と第２マーク２０の位置が
あえば、図４に示すように第２マーク２０を示す白丸の
中に第１マーク１０が入った状態が撮影されるように構
成されている。
ら照射された近赤外線は、図２に示すようにフォトマス
ク１及びプリント基板２を透過する。また、第２マーク
２０上にフォトレジスト２５があっても、近赤外線はフ
ォトレジスト２５を透過する。第２マーク２０は銅被膜
であるため、ここで反射してＣＣＤカメラ３に撮影され
る。ＣＣＤカメラ３に撮影された画像を図３に示す。第
２マーク２０が白い円として撮影されている。ＣＣＤカ
メラ３は同時にフォトマスク１上の黒丸の第１マーク１
０も撮影し、第１マーク１０と第２マーク２０の位置が
あえば、図４に示すように第２マーク２０を示す白丸の
中に第１マーク１０が入った状態が撮影されるように構
成されている。
【００１０】制御装置４は第１マーク１０と第２マーク
２０の像の中心が一致するように移動機構５を制御して
プリント基板２の位置を調整し、一致したらアライメン
トを終了する。アライメント終了後、フォトマスク１と
プリント基板２は密着或いは近接させられ、露光光源
（図示せず）からの紫外線等により露光され、フォトマ
スク１上のパターンがプリント基板２上のフォトレジス
ト２５に焼き付けられ、次工程に送られる。
２０の像の中心が一致するように移動機構５を制御して
プリント基板２の位置を調整し、一致したらアライメン
トを終了する。アライメント終了後、フォトマスク１と
プリント基板２は密着或いは近接させられ、露光光源
（図示せず）からの紫外線等により露光され、フォトマ
スク１上のパターンがプリント基板２上のフォトレジス
ト２５に焼き付けられ、次工程に送られる。
【００１１】なお、上記ではアライメント装置と露光装
置が一体化された実施形態を示したが、アライメント装
置単体で実現することも可能である。
置が一体化された実施形態を示したが、アライメント装
置単体で実現することも可能である。
【００１２】
【発明の効果】以上説明したように本発明のアライメン
ト装置及び露光装置によれば、位置合わせ用のマークが
可視光非透過性物質で覆われていても、近赤外線による
マークの撮像が可能であり、条件を選ばずにアライメン
トを行うことができる。そのため、フォトマスクと被露
光対象物との位置合わせを精度良く行うことが可能にな
る。
ト装置及び露光装置によれば、位置合わせ用のマークが
可視光非透過性物質で覆われていても、近赤外線による
マークの撮像が可能であり、条件を選ばずにアライメン
トを行うことができる。そのため、フォトマスクと被露
光対象物との位置合わせを精度良く行うことが可能にな
る。
【図１】本発明の一実施形態を示す概略図。
【図２】本発明の一実施形態の動作を説明する部分拡大
図。
図。
【図３】本発明の一実施形態における、撮影画像の説明
図。
図。
【図４】本発明の一実施形態における撮影画像の説明
図。
図。
１：フォトマスク、２：プリント基板、３：ＣＣＤカメ
ラ、４：制御装置、５：移動機構、６：露光ステージ、
８：近赤外線照射装置、１０：第１マーク、２０：第２
マーク、２５：フォトレジスト。
ラ、４：制御装置、５：移動機構、６：露光ステージ、
８：近赤外線照射装置、１０：第１マーク、２０：第２
マーク、２５：フォトレジスト。
フロントページの続き Ｆターム(参考） 2F065 AA03 BB27 CC01 FF04 GG07 GG21 JJ03 JJ05 JJ09 JJ26 PP12 QQ31 2H097 BA10 GA45 KA03 KA12 KA13 KA20 KA29 LA09
Claims (5)
- 【請求項１】 被露光対象物と該被露光対象物に焼き付
けるべきパターンを描いたフォトマスクとの位置合わせ
を行うアライメント装置において、 前記フォトマスクに設けられた位置合わせ用の第１のマ
ークと、 前記被露光対象物に設けられた位置合わせ用の第２のマ
ークと、 前記第２のマークに近赤外線を照射する装置と、 前記第２のマークに照射された近赤外線により前記第２
のマークを撮像する装置と、 該撮像された第２のマークと前記第１のマークを基準と
して、被露光対象物とフォトマスクとを位置合わせする
装置と、 を備えたアライメント装置。 - 【請求項２】 前記第２のマークが可視光非透過性物質
で覆われている、 請求項１のアライメント装置。 - 【請求項３】 前記被露光対象物がプリント基板であ
り、 前記第２のマークがプリント基板に設けられ、且つフォ
トレジストに覆われている、 請求項１又は２のアライメント装置。 - 【請求項４】 前記近赤外線を照射する装置が、近赤外
線ＬＥＤを備えた、 請求項１又は２又は３に記載のアライメント装置。 - 【請求項５】 請求項１又は２又は３又は４に記載のア
ライメント装置を、 備えたことを特徴とする露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000244308A JP2002055458A (ja) | 2000-08-11 | 2000-08-11 | アライメント装置及び露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000244308A JP2002055458A (ja) | 2000-08-11 | 2000-08-11 | アライメント装置及び露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002055458A true JP2002055458A (ja) | 2002-02-20 |
Family
ID=18735014
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000244308A Pending JP2002055458A (ja) | 2000-08-11 | 2000-08-11 | アライメント装置及び露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002055458A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017130746A1 (ja) * | 2016-01-29 | 2017-08-03 | ウシオ電機株式会社 | 露光装置及び露光方法 |
| JP2020173470A (ja) * | 2020-06-30 | 2020-10-22 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 露光方法 |
-
2000
- 2000-08-11 JP JP2000244308A patent/JP2002055458A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017130746A1 (ja) * | 2016-01-29 | 2017-08-03 | ウシオ電機株式会社 | 露光装置及び露光方法 |
| JP2017134375A (ja) * | 2016-01-29 | 2017-08-03 | ウシオ電機株式会社 | 露光装置及び露光方法 |
| CN108885404A (zh) * | 2016-01-29 | 2018-11-23 | 优志旺电机株式会社 | 曝光装置及曝光方法 |
| TWI680356B (zh) * | 2016-01-29 | 2019-12-21 | 日商牛尾電機股份有限公司 | 曝光裝置及曝光方法 |
| CN108885404B (zh) * | 2016-01-29 | 2021-04-27 | 优志旺电机株式会社 | 曝光装置及曝光方法 |
| JP2020173470A (ja) * | 2020-06-30 | 2020-10-22 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 露光方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061113 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090608 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090623 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20091020 |