JP2002042380A

JP2002042380A - 光情報記録媒体

Info

Publication number: JP2002042380A
Application number: JP2000222657A
Authority: JP
Inventors: Yoshihisa Usami; 由久宇佐美
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2000-07-24
Filing date: 2000-07-24
Publication date: 2002-02-08

Abstract

(57)【要約】【課題】記録感度及び記録特性（ジッタ）の良好なハイ
ブリッド型の光情報記録媒体を提供する。特に、プリピ
ットが形成された領域にも色素記録層が形成されてお
り、しかもプリピットが形成された領域から、信号の変
調度が良好で、ＣＤ規格を満足する再生信号を得ること
ができるハイブリッド型の光情報記録媒体を提供する。【解決手段】プリピット及びプリグルーブが形成された
円盤状の透明基板上に、レーザ光を照射してピットを形
成することにより情報の記録が可能な色素記録層が設け
られ、更に色素記録層上に金属からなる光反射層が設け
られた光情報記録媒体において、プリピットの溝深さを
６０〜１８０ｎｍの範囲とし、プリグルーブの溝深さを
２００〜３５０ｎｍの範囲とし、色素記録層の厚さを３
０〜１２０ｎｍの範囲とし、且つ色素記録層には記録レ
ーザ波長での消衰係数ｋが０．０５〜０．１５となるよ
うに選択された有機色素を含有させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光情報記録媒体に
関し、特に、レーザ光を用いて情報の記録及び再生を行
うことができる追記型の光情報記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、レーザ光により１回限りの情報の
記録が可能な追記型光情報記録媒体（光ディスク）はＣ
Ｄ−Ｒと称され、広く知られている。このＣＤ−Ｒ型の
光情報記録媒体の代表的な構造は、透明な円盤状基板上
に、有機色素からなる色素記録層、金などの金属からな
る光反射層、さらに樹脂製の保護層をこの順に積層した
ものである。そしてこの光ディスクへの情報の記録は、
近赤外域のレーザ光（通常は７８０ｎｍ付近の波長のレ
ーザ光）を光ディスクに照射することにより行われ、色
素記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上
昇し、物理的または化学的変化（例えば、ピットなどの
生成）によりその部分の光学的特性が変化し、情報が記
録される。一方、情報の再生は、通常、記録用のレーザ
光と同じ波長のレーザ光を光ディスクに照射して、色素
記録層の光学的特性が変化した部位（記録部分）と変化
していない部位（未記録部分）との反射率の違いを検出
することにより行われている。

【０００３】上記光ディスクへの情報の記録及び再生の
ためのレーザビームの照射は、通常ディスク表面の所定
の位置に行われる。レーザビームを案内して照射予定位
置に正確にたどる（一般にトラッキングと呼ばれる）よ
うにするため、凹溝のトラッキングガイド（プリグルー
ブ）が基板の表面に設けられることが一般的である。

【０００４】また、基板上に予めピットが形成されたＲ
ＯＭ領域とレーザ光の照射によりデータ再生用のピット
が形成される（トラッキング用のプリグルーブは予め形
成されている）記録可能領域とを有し、色素記録層がＲ
ＯＭ領域及び記録可能領域の両方に設けられた、いわゆ
るハイブリッド型の光情報記録媒体が提案されている
（特開平４−７６８３６号公報）。

【０００５】従来、このハイブリッド型の光情報記録媒
体においては、プリピットの溝深さとプリグルーブの溝
深さとを異ならせて、変調度の相違により各々の領域か
らの信号を区別している。このようにプリピットの溝深
さとプリグルーブの溝深さとを異ならせる場合、プリピ
ットの溝深さを大きくするのが一般的である。その理由
は、プリグルーブの溝深さを大きくする場合には一般に
反射率が低下する傾向にあり、市販のＣＤプレーヤを用
いて再生するためには反射率が不十分になる虞があるた
めである。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ＣＤ−
Ｒは簡便な記録装置を用いユーザサイドで情報を記録す
るシステムを前提とした媒体である。そのためＲＯＭ型
媒体の場合と比較してピットの形成精度が低くなってし
まう。この結果、ジッタと呼んでいるピット長さのばら
つきが増大し、例えば再生装置の再生精度が低下してい
る場合等に再生不良が発生する、といった問題がある。
これに対し発明者等はジッタを改善する方法を種々検討
し、色素記録層の層厚を薄くすることによりジッタが改
善されることを見出したが、単に色素記録層の層厚を薄
くするだけでは記録感度の低下を招く、という問題があ
る。

【０００７】また、ハイブリッド型のＣＤ−Ｒでは、上
述の通り基板に深いプリピットが形成されるのが一般的
であるが、深いプリピットを精度良く成形するのは難し
い、という問題がある。一方、変調度を変えるために
は、プリグルーブの溝深さは変えずにプリピットの溝深
さをプリグルーブの溝深さよりも小さくすることも考え
られるが、プリピットの溝深さを小さくした場合には、
プリピットが形成された領域に色素記録層が設けられる
と、プリピット信号の変調度が小さくなりＲＯＭ領域の
情報を実用的に再生することができなくなる、という問
題がある。即ち、色素記録層は一般に色素の溶液を塗布
し乾燥することによって形成されるものであり、プリピ
ット形成領域に色素溶液を塗布すると、ピット部の色素
記録層の膜厚がピット間部（ピットとピットとの間の部
分）の色素記録層の膜厚よりも大きくなり、そのために
基板のピット部の形状を反映して形成された色素記録層
の表面の溝深さは、基板のピットの深さよりも浅くな
り、ピット部とピット間部との位相差が小さくなるため
に、プリピットの変調度が小さくなるのである。

【０００８】本発明は、上記事情に鑑みなされたもので
あり、本発明の目的は、記録感度及び記録特性（ジッ
タ）が良好な光情報記録媒体を提供することにある。本
発明の他の目的は、プリピットが形成された領域にも色
素記録層が形成されており、しかもプリピットが形成さ
れた領域から、信号の変調度が良好で、ＣＤ規格を満足
する再生信号を得ることができる光情報記録媒体を提供
することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の光情報記録媒体は、プリピット及びプリグ
ルーブが形成された円盤状の透明基板上に、レーザ光を
照射してピットを形成することにより情報の記録が可能
な色素記録層が設けられ、更に該色素記録層上に金属か
らなる光反射層が設けられた光情報記録媒体であって、
前記プリピットは、溝深さが６０〜１８０ｎｍの範囲に
あり、前記プリグルーブは、溝深さが２００〜３５０ｎ
ｍの範囲にあり、前記色素記録層は、厚さが３０〜１２
０ｎｍの範囲にあり、且つ記録レーザ波長での消衰係数
ｋが０．０５〜０．１５となるように選択された有機色
素を含有することを特徴とする。

【００１０】本発明の光情報記録媒体においては、色素
記録層の厚さを３０〜１２０ｎｍと薄くしても、色素記
録層に含有される有機色素を記録レーザ波長での消衰係
数ｋが０．０５〜０．１５となるように選択すること
で、良好な記録感度で情報を記録することができる。ま
た、色素記録層の厚さと消衰係数ｋとを上記の通り組合
せるのみではジッタが十分には改善されないが、さらに
透明基板上に形成されるプリグルーブの溝深さを２００
〜３５０ｎｍとすることで、記録可能領域において良好
なジッタを得ることができる。

【００１１】また、透明基板上に形成されるプリピット
の溝深さを６０〜１８０ｎｍと浅くすることで、ピット
の形成精度を高めることができる。さらに、このプリピ
ット領域にも厚さ３０〜１２０ｎｍの薄膜の色素記録層
を設けることで、プリピットが形成された領域から、信
号の変調度が良好で、ＣＤ規格を満足する再生信号を得
ることができる。

【００１２】上記光情報記録媒体において、プリグルー
ブの溝深さは、２１０〜３２０ｎｍが好ましく、２２０
〜３００ｎｍがより好ましい。また、プリグルーブの溝
幅は、４００〜６３０ｎｍが好ましく、４２０〜６００
ｎｍがより好ましく、４５０〜５８０ｎｍが特に好まし
い。色素記録層の記録レーザ波長での消衰係数ｋは、
０．０６〜０．１２の範囲が好ましく、０．０７〜０．
１０の範囲がより好ましい。色素記録層の厚さは、４０
〜１１０ｎｍの範囲が好ましく、５０〜１００ｎｍの範
囲がより好ましい。プリピットの溝深さは、８０〜１６
０ｎｍが好ましく、１００〜１５０ｎｍがより好まし
い。

【００１３】本発明の光情報記録媒体は、透明基板のプ
リピット及びプリグルーブが形成されている側の表面
に、色素濃度が０．５〜３．０ｇ／１００ｍｌの塗布液
を塗布して塗膜を形成し、形成された塗膜を乾燥するこ
とにより色素記録層を形成して製造することができる。

【００１４】上記製造方法において、塗布溶剤として
は、２，２，３，３−テトラフロロプロパノールなどの
フッ素系溶剤が好適に用いられる。また、塗布方法とし
てはスピンコート法が好ましく、スピンコート法で色素
記録層を形成する場合、塗布液の供給量は１枚当り０．
１〜１．０ｍｌが好ましく、塗布液供給時の回転数は１
００〜５００ｒｐｍが好ましい。塗布液を供給後は徐々
に回転数を上げて乾燥を行うが、乾燥時の回転数は１５
００〜８０００ｒｐｍが好ましく、回転数を上げる加速
度は、１０〜３０００ｒｐｍ／ｓ²の範囲が好ましい。
また、塗布開始から乾燥終了までに要する時間は、短過
ぎると均一な膜厚分布を得ることができず、長すぎると
生産性が低下するので、３〜１５秒の範囲が好ましい。

【００１５】また、本発明の光情報記録媒体において
は、基板と反対側の表面に保護層を設けることが好まし
い。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の光情報記録媒体の
実施の形態について詳細に説明する。

【００１７】本発明の実施の形態に係るＣＤ−Ｒ型の光
情報記録媒体は、図１に示すように、中心部にセンター
ホールが形成されたディスク状の透明基板１０上に、色
素記録層１２、光反射層１４、及び保護層１６をこの順
に設けた構造とすることができる。また、後述するよう
に必要に応じて中間層等を設けてもよい。以下、各層の
構成を詳細に説明する。

【００１８】透明基板１０には、トラッキング用溝（プ
リグルーブ）及び種々のアプリケーションソフト、アド
レス信号などの情報を予め記録したプリピット（ＲＯＭ
領域）が所定のトラックピッチで形成されている。

【００１９】図２は、プリグルーブ及びプリピットの形
状を表す概略断面図である。Ｄｇはプリグルーブの溝深
さであり、溝形成前の基板表面から溝の最も深い箇所ま
での距離である。Ｗｇはプリグルーブの溝幅であり、Ｄ
ｇ／２の深さでの溝の幅である。また、Ｄｐはプリピッ
トの溝深さであり、Ｗｐはプリピットの溝幅である。

【００２０】本発明においては、図２において「Ｄｇ」
で表されるプリグルーブの溝深さを２００〜３５０ｎｍ
の範囲とすることが必要である。溝深さが２００ｎｍよ
り小さいとジッタが大きくなって記録特性が低下し、溝
が浅過ぎる場合にはトラッキング不良が発生する。一
方、溝深さが３５０ｎｍより大きいと記録光や再生光に
対する反射率が低下し、記録再生特性が低下する。

【００２１】溝深さが大きくなるほど溝の作製は困難に
なるので、ジッタ改善の程度と作製の容易さとのバラン
スを考慮すると、溝深さの上限を３５０ｎｍとしたと
き、溝深さの下限は２１０ｎｍがより好ましく、２２０
ｎｍがさらに好ましい。溝深さの下限を２００ｎｍとし
たとき、溝深さの上限は３２０ｎｍがより好ましく、３
００ｎｍがさらに好ましい。また、溝深さの上限を３２
０ｎｍとしたとき、溝深さの下限は２１０ｎｍがより好
ましく、２２０ｎｍがさらに好ましい。溝深さの下限を
２１０ｎｍとしたとき、溝深さの上限は３２０ｎｍがよ
り好ましく、３００ｎｍがさらに好ましい。さらに、溝
深さの上限を３００ｎｍとしたとき、溝深さの下限は２
１０ｎｍがより好ましく、２２０ｎｍがさらに好まし
い。溝深さの下限を２２０ｎｍとしたとき、溝深さの上
限は３２０ｎｍがより好ましく、３００ｎｍがさらに好
ましい。

【００２２】また、図２において「Ｗｇ」で表されるプ
リグルーブの溝幅は４００〜６３０ｎｍの範囲が好まし
い。溝幅が４００ｎｍ未満または６３０ｎｍより大きい
と、ジッタが低下する傾向が見られる。トラッキングエ
ラーの発生を抑制するために、溝幅の上限を６３０ｎｍ
としたとき、溝幅の下限は４２０ｎｍがより好ましく、
４５０ｎｍがさらに好ましい。また、クロストークの発
生を抑制するために、溝幅の下限を４００ｎｍとしたと
き、溝幅の上限は６００ｎｍがより好ましく、５８０ｎ
ｍがさらに好ましい。

【００２３】また、溝幅の上限を６００ｎｍとしたと
き、溝幅の下限は４２０ｎｍがより好ましく、４５０ｎ
ｍがさらに好ましい。溝幅の下限を４２０ｎｍとしたと
き、溝幅の上限は６００ｎｍがより好ましく、５８０ｎ
ｍがさらに好ましい。さらに、溝幅の上限を５８０ｎｍ
としたとき、溝幅の下限は４２０ｎｍがより好ましく、
４５０ｎｍがさらに好ましい。溝幅の下限を４５０ｎｍ
としたとき、溝幅の上限は６００ｎｍがより好ましく、
５８０ｎｍがさらに好ましい。

【００２４】また、プリグルーブのトラックピッチは、
０．１〜５０μｍの範囲が好ましく、より好ましくは
０．２〜３０μｍ、さらに好ましくは０．３〜１０μｍ
である。

【００２５】図２において「Ｄｐ」で表されるプリピッ
トの溝深さを、プリグルーブの溝深さよりも小さい６０
〜１８０ｎｍの範囲とすることが必要である。溝深さが
６０ｎｍより小さいと十分な変調度を得ることができ
ず、ＣＤ規格を満足する再生信号を得ることができな
い。一方、溝深さが１８０ｎｍより大きいと作製精度が
低下してやはり良好な変調度をえることができず、また
プリグルーブが形成された領域からの信号との区別が困
難になる。

【００２６】溝深さが大きいほど変調度が大きくなる
が、溝深さが大き過ぎると溝の作製が困難になるので、
溝深さの上限を１８０ｎｍとしたとき、溝深さの下限は
８０ｎｍがより好ましく、１００ｎｍがさらに好まし
い。溝深さの下限を６０ｎｍとしたとき、溝深さの上限
は１６０ｎｍがより好ましく、１５０ｎｍがさらに好ま
しい。また、溝深さの上限を１６０ｎｍとしたとき、溝
深さの下限は８０ｎｍがより好ましく、１００ｎｍがさ
らに好ましい。溝深さの下限を８０ｎｍとしたとき、溝
深さの上限は１６０ｎｍがより好ましく、１５０ｎｍが
さらに好ましい。さらに、溝深さの上限を１５０ｎｍと
したとき、溝深さの下限は８０ｎｍがより好ましく、１
００ｎｍがさらに好ましい。溝深さの下限を１００ｎｍ
としたとき、溝深さの上限は１６０ｎｍがより好まし
く、１５０ｎｍがさらに好ましい。

【００２７】また、図２において「Ｗｐ」で表されるプ
リピットの溝幅は、４００〜６３０ｎｍが好ましく、４
２０〜６００ｎｍがより好ましく、４５０〜５８０ｎｍ
が特に好ましいが、プリピットの溝幅はプリグルーブの
溝幅より狭い方が好ましい。プリピットのトラックピッ
チは、０．１〜５０μｍの範囲が好ましく、より好まし
くは０．２〜３０μｍ、さらに好ましくは０．３〜１０
μｍである。

【００２８】透明基板１０はディスク状の透明樹脂基板
であり、直径が１２０±３ｍｍで厚みが０．６±０．１
ｍｍ、あるいはその直径が８０±３ｍｍで厚みが０．６
±０．１ｍｍの円盤状基板が一般に用いられる。なお、
ここでいう「透明」とは、記録光及び再生光に対して透
明であることを意味する。

【００２９】透明基板１０の材料としては、例えば、ガ
ラス；ポリカーボネート；ポリメチルメタクリレート等
のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体
等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポ
リオレフィンおよびポリエステル等を挙げることができ
る。また、所望によりそれらを併用してもよい。上記材
料の中では、耐湿性、寸法安定性および価格などの点か
らポリカーボネートが好ましい。

【００３０】上述の所定形状のプリグルーブ及びプリピ
ットは、ポリカーボネートなどの樹脂材料を射出成形あ
るいは押出成形する際に、直接、透明基板１０上に形成
することができる。また、プリグルーブ及びプリピット
の形成をプリグルーブ層を設けることにより行ってもよ
い。プリグルーブ層の材料としては、アクリル酸のモノ
エステル、ジエステル、トリエステルおよびテトラエス
テルのうち少なくとも一種のモノマー（またはオリゴマ
ー）と光重合開始剤との混合物を用いることができる。
プリグルーブ層の形成は、例えば、まず精密に作られた
母型（スタンパ）上に上記のアクリル酸エステルおよび
重合開始剤からなる混合液を塗布し、更にこの塗布液層
上に基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線
を照射することにより塗布層を硬化させて基板と塗布層
とを固着させる。次いで、基板を母型から剥離すること
によりプリグルーブ及びプリピットを得ることができ
る。プリグルーブ層の層厚は、一般に０．０５〜１００
μｍの範囲にあり、好ましくは０．１〜５０μｍの範囲
である。

【００３１】色素記録層１２が設けられる側の透明基板
１０の表面には、平面性の改善および接着力の向上およ
び色素記録層の変質防止などの目的で、下塗層を設ける
ことができる。下塗層の材料としては例えば、ポリメチ
ルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合
体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルア
ルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・
ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレ
ン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオ
レフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩
化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポ
リエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高
分子物質；およびシランカップリング剤などの表面改質
剤をあげることができる。下塗層は、上記物質を適当な
溶剤に溶解または分散して塗布液を調製したのち、この
塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルー
ジョンコートなどの塗布法を利用して基板表面に塗布す
ることにより形成することができる。下塗層の層厚は一
般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは
０．０１〜１０μｍの範囲である。

【００３２】透明基板１０（又は下塗層）のプリグルー
ブ及びプリピットが形成されているその表面上には、有
機色素を含有することにより情報の記録が可能な色素記
録層１２が設けられている。なお、色素記録層１２は単
層でも重層でもよい。

【００３３】本発明においては、この色素記録層１２の
記録レーザ波長での消衰係数ｋが０．０５〜０．１５の
範囲となるように、含有される有機色素が選択される。
消衰係数ｋが０．０５より小さいと記録感度が低下し、
消衰係数ｋが０．１５より大きいと記録光や再生光に対
する反射率が低下する。

【００３４】上記の通り記録感度と反射率とが競合する
ので、消衰係数ｋの上限を０．１５としたとき、消衰係
数ｋの下限は０．０６がより好ましく、０．０７がさら
に好ましい。消衰係数ｋの下限を０．０５としたとき、
消衰係数ｋの上限は０．１２がより好ましく、０．１０
がさらに好ましい。また、消衰係数ｋの上限を０．１２
としたとき、消衰係数ｋの下限は０．０６がより好まし
く、０．０７がさらに好ましい。消衰係数ｋの下限を
０．０６ｎｍとしたとき、消衰係数ｋの上限は０．１２
がより好ましく、０．１０がさらに好ましい。さらに、
消衰係数ｋの上限を０．１０としたとき、消衰係数ｋの
下限は０．０６がより好ましく、０．０７がさらに好ま
しい。消衰係数ｋの下限を０．０７としたとき、消衰係
数ｋの上限は０．１２がより好ましく、０．１０がさら
に好ましい。

【００３５】なお、色素記録層の消衰係数ｋとは、記録
レーザ波長に対する色素記録層の複素屈折率の虚数部の
絶対値であり、光吸収率の指標となる値であるが、本発
明においては、記録レーザ波長に対する色素記録層の透
過率及び反射率の測定値から下記の方法に従い求めた値
を意味する。

【００３６】消衰係数ｋは、一般に吸収係数αを用いて
下記式（１）により表される。

【００３７】ｋ＝αλ／４π・・式（１）（式中、λは記録レーザ波長である。）一方、色素記録層の吸収係数αと膜厚ｄの積である光学
濃度αdは、実際に測定した色素記録層側からの入射光
に対する透過率Ｔ0および反射率Ｒ0、色素記録層側とは
反対側からの入射光に対する反射率Ｒ0´、基板のみで
の反射率Ｒｓを用い、下記式（２）により求めることが
できる。 αd＝ｌｎ(1/T0)＋ｌｎ(1-R0)＋ｌｎ(1-R0´+1/2Rs) ・・式（２）従って、記録レーザ波長に対する色素記録層の消衰係数
ｋは、式（１）に式（２）を代入した下記式（３）によ
り求めることができる。ｋ＝λ［ｌｎ(1/T0)＋ｌｎ(1-R0)＋ｌｎ(1-R0´+1/2Rs)］／4πd・・式（３）なお、基板のみでの反射率Ｒsは、記録媒体の内、色素
記録層が設けられていない部分での反射率である。

【００３８】有機色素は、色素記録層の消衰係数ｋが所
望の値となるように、シアニン系色素、アゾ系色素、フ
タロシアニン系色素、オキソノール系色素、ピロメテン
系色素等から適宜選択される。また、色素記録層の消衰
係数ｋが所望の値となるように、これらの色素を適宜組
み合わせて使用してもよい。

【００３９】また、本発明においては、色素記録層の厚
さを３０〜１２０ｎｍの範囲とすることが必要である。
図３は、透明基板１０の表面に設けられた色素記録層１
２の形状を表す概略断面図である。本発明において「色
素記録層の厚さ」とは、溝が形成された部分での色素記
録層の厚さを意味し、図３において「Ａ」で示すよう
に、溝が形成された部分での色素記録層の表面から溝の
最も深い箇所までの距離のことである。

【００４０】従来、色素記録層はグルーブ上で２００ｎ
ｍ程度の層厚で形成されるのが一般的であるが、本発明
では色素記録層の厚さを３０〜１２０ｎｍと従来のＣＤ
−Ｒより薄くした点に特徴がある。色素記録層の厚さが
３０ｎｍより小さいと感度が低下して記録不能となり、
色素記録層の厚さが１２０ｎｍより大きいとジッタが大
きくなって記録再生特性が低下する。また、プリピット
が形成された領域においても、色素記録層の厚さは重要
であり、色素記録層の厚さが１２０ｎｍより大きいと信
号の変調度が低下し、ＣＤ規格を満足する再生信号を得
ることができない。

【００４１】上記の通り、記録可能領域においては記録
感度とジッタとが競合し、プリピットが形成された領域
においては信号の変調度が変化するため、色素記録層の
厚さの上限を１２０ｎｍとしたとき、色素記録層の厚さ
の下限は４０ｎｍがより好ましく、５０ｎｍがさらに好
ましい。色素記録層の厚さの下限を３０ｎｍとしたと
き、色素記録層の厚さの上限は１１０ｎｍがより好まし
く、１００ｎｍがさらに好ましい。また、色素記録層の
厚さの上限を１１０ｎｍとしたとき、色素記録層の厚さ
の下限は４０ｎｍがより好ましく、５０ｎｍがさらに好
ましい。色素記録層の厚さの下限を４０ｎｍとしたと
き、色素記録層の厚さの上限は１１０ｎｍがより好まし
く、１００ｎｍがさらに好ましい。さらに、色素記録層
の厚さの上限を１００ｎｍとしたとき、色素記録層の厚
さの下限は４０ｎｍがより好ましく、５０ｎｍがさらに
好ましい。色素記録層の厚さの下限を５０ｎｍとしたと
き、色素記録層の厚さの上限は１１０ｎｍがより好まし
く、１００ｎｍがさらに好ましい。

【００４２】上記色素記録層１２は、上述の有機色素の
他、所望により退色防止剤及び結合剤などを溶剤に溶解
して塗布液を調製し、次いで、この塗布液を透明基板の
プリグルーブが形成されているその表面に塗布して塗膜
を形成し、形成された塗膜を乾燥することにより形成す
ることができる。塗布液中の色素濃度は、薄膜を形成す
るために、０．５〜３．０ｇ／１００ｍｌの範囲とする
ことが好ましく、０．６〜１．１ｇ／１００ｍｌの範囲
がより好ましい。色素濃度の高い塗布液を用いることに
より、より薄膜の色素記録層を得ることができる。

【００４３】塗布方法としては、スプレー法、スピンコ
ート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート
法、ドクターロール法、スクリーン印刷法などを挙げる
ことができる。スピンコート法で色素記録層を形成する
場合、従来公知のスピンコート塗布装置を使用して、色
素記録層の薄膜を形成することができる。塗布液の供給
量は１枚当り０．１〜１ｍｌが好ましく、０．２〜０．
５ｍｌがより好ましい。塗布液供給時の回転数は１００
〜５００ｒｐｍが好ましく、２００〜４００ｒｐｍがよ
り好ましい。塗布液を供給後は徐々に回転数を上げて乾
燥を行うが、乾燥時の回転数は１５００〜８０００ｒｐ
ｍが好ましく、２０００〜６０００ｒｐｍがより好まし
く、３０００〜５０００ｒｐｍが特に好ましい。回転数
を上げる加速度は、１０〜３０００ｒｐｍ／ｓ²の範囲
が好ましく、５０〜１０００ｒｐｍ／ｓ²の範囲がより
好ましい。塗布開始から乾燥終了までに要する時間は、
短過ぎると均一な膜厚分布を得ることができず、長すぎ
ると生産性が低下するので、３〜１５秒の範囲が好まし
く、５〜１０秒の範囲とするのがより好ましい。以上の
条件下でスピンコートを行うことにより、１２０ｎｍ以
下の薄膜を形成することができる。

【００４４】塗布溶剤としては、酢酸ブチル、セロソル
ブアセテートなどのエステル；メチルエチルケトン、シ
クロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどのケト
ン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロ
ホルムなどの塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミドな
どのアミド；シクロヘキサンなどの炭化水素；テトラヒ
ドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなどのエーテ
ル；エタノ−ル、ｎ−プロパノール、イソプロパノー
ル、ｎ−ブタノール、ジアセトンアルコールなどのアル
コール；２，２，３，３−テトラフロロプロパノールな
どのフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエー
テル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピ
レングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエ
ーテル類などを挙げることができるが、薄膜を形成する
ために、２，２，３，３−テトラフロロプロパノールな
どのフッ素系溶剤が特に好ましい。上記溶剤は使用する
化合物の溶解性を考慮して単独または二種以上を組み合
わせて用いることができる。塗布液中には更に酸化防止
剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、及び潤滑剤などの各種の添加
剤を目的に応じて添加してもよい。

【００４５】退色防止剤の代表的な例としては、ニトロ
ソ化合物、金属錯体、ジインモニウム塩、アミニウム塩
を挙げることができる。これらの例は、例えば、特開平
２−３００２８８号、同３−２２４７９３号、及び同４
−１４６１８９号等の各公報に記載されている。

【００４６】本発明においては、下記一般式（１）で表
される退色防止剤が好ましい。

【００４７】

【化１】

【００４８】上記一般式（１）のＲ11、Ｒ12はそれぞれ
独立に水素原子または一価の置換基を表す。Ｒ11および
Ｒ12で表される置換基は、ハロゲン原子、または炭素原
子、酸素原子、窒素原子又は硫黄原子が組み合わされて
なる置換基であり、具体的には、アルキル基、アルケニ
ル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロ環基、ハロゲ
ン原子、シアノ基、ニトロ基、メルカプト基、ヒドロキ
シ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、アシルオキシ基、アミノ基、アル
キルアミノ基、アミド基、スルホンアミド基、スルファ
モイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アル
コキシスルホニルアミノ基、ウレイド基、チオウレイド
基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル
基、アルキルスルホニル基、アルキルスルフィニル基、
スルファモイル基、カルボキシル基（塩を含む）、スル
ホ基（塩を含む）を挙げることができる。これらは、更
に、これらの置換基で置換されていてもよい。

【００４９】Ｒ11、Ｒ12は、各々独立に水素原子、炭素
数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、炭素
数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ
基、炭素数１〜６のアミド基、炭素数１〜６のスルホン
アミド基、炭素数１〜６のウレイド基、炭素数１〜６の
アシル基、炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基、炭
素数１〜６のカルバモイル基、炭素数１〜６のアルキル
スルホニル基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基
が好ましく、炭素原子数４以下のアルコキシ基がより好
ましく、メトキシ基、エトキシ基が特に好ましい。

【００５０】退色防止剤を使用する場合には、その使用
量は、色素の量に対して、通常０．１〜５０質量％の範
囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、更
に好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に５〜２５質
量％の範囲である。

【００５１】結合剤の例としては、例えばゼラチン、セ
ルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天
然有機高分子物質；およびポリウレタン、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン
等の炭化水素系樹脂；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリ
デン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビ
ニル系樹脂；ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸
メチルなどのアクリル樹脂；ポリビニルアルコール、塩
素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴ
ム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬
化性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子を挙げるこ
とができる。色素記録層の材料として結合剤を併用する
場合に、結合剤の使用量は、色素１００重量部に対して
０．２〜２０重量部、好ましくは０．５〜１０重量部、
更に好ましくは１〜５重量部である。

【００５２】また、色素記録層１２と光反射層１４との
間には、反射率向上と感度向上のために、中間層を設け
てもよい。中間層に用いられる材料としては、Ｓｉ
Ｏ₂、ＳｉＮ、ＭｇＦ₂、ＴｉＯ₂等の無機物質、ブタジ
エンゴム等の有機物質を挙げることができる。この中間
層は、真空成膜やスピンコート等を利用して形成するこ
とができる。

【００５３】色素記録層１２の上には、反射率の向上を
目的として、光反射層１４が設けられている。光反射層
１４の材料は、レーザ光に対する反射率が高い光反射性
物質であればよく、その材料の反射率が３０％以上ある
ことが好ましく、５０％以上がより好ましく、７０％以
上がさらに好ましい。その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ、
Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、
Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐ
ｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａ
ｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓ
ｎ、Ｂｉなどの金属及び半金属あるいはステンレス鋼を
挙げることができる。これらのうちで好ましいものは、
Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステン
レス鋼である。これらの物質は単独で用いてもよく、二
種以上の組み合わせて用いてもよい。また、合金として
用いることもできる。光反射層１４の材料としては、Ａ
ｕ、Ａｇ、Ａｌもしくはその合金が特に好ましい。光反
射層１４は、例えば、色素記録層１２上に上記光反射性
物質を蒸着、スパッタリング、またはイオンプレーティ
ングすることにより形成することができる。光反射層１
４の厚さは、一般的には１０〜８００ｎｍの範囲であ
り、好ましくは２０〜５００ｎｍの範囲、更に好ましく
は５０〜３００ｎｍの範囲である。

【００５４】光反射層１４の上には、色素記録層などを
物理的および化学的に保護する目的で保護層１６が設け
られている。耐傷性、耐湿性を高める目的で、透明基板
１０の色素記録層１２が設けられていない側に同様の保
護層を設けてもよい。保護層１６に用いられる材料とし
ては、例えば、ＳｉＯ、ＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂、ＳｎＯ₂、
Ｓｉ₃Ｎ₄などの無機物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹
脂、ＵＶ硬化性樹脂等の有機物質を挙げることができ
る。

【００５５】保護層１６は、たとえばプラスチックの押
出加工で得られたフィルムを接着層を光反射層１４上及
び／または透明基板１０上にラミネートすることにより
形成することができる。あるいは真空蒸着、スパッタリ
ング、塗布等の方法により設けられてもよい。また、熱
可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当な
溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液を塗
布し、乾燥することによっても形成することができる。
ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶
剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液を塗布
し、ＵＶ光を照射して硬化させることによっても形成す
ることができる。これらの塗布液中には、更に帯電防止
剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応
じて添加してもよい。

【００５６】保護層１６の硬度は、ピットの保護層方向
への不均一な広がりを防止するため、鉛筆の引掻き硬度
でＦ以上であることが好ましく、Ｈ以上がより好まし
い。保護層の層厚は２．５〜２３μｍの範囲にあること
が好ましく、より好ましくは３．５〜２０μｍ、さらに
好ましくは４．０〜１５μｍである。

【００５７】また、光反射層１４と保護層１６との間に
は、反射率の向上等、光学特性を調整するために、中間
層を設けてもよい。中間層に用いられる材料としては、
例えば、ＳｉＯ、ＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｉ₃Ｎ
₄などの無機物質を挙げることができる。また、この中
間層は、蒸着、スパッタリング等の真空成膜により形成
することができる。

【００５８】上記光情報記録媒体への情報の記録は、例
えば、次のように行われる。本発明の光情報記録媒体
は、通常のＣＤフォーマットの場合の１倍速（１．２〜
１．４ｍ／秒）を始めとして、４倍速、６倍速、もしく
はそれ以上の高速記録にも利用できる。まず、光情報記
録媒体を所定の線速度（ＣＤフォーマットの場合は１．
２〜１．４ｍ／秒）又は所定の定角速度にて回転させな
がら、基板側から半導体レーザ光などの記録用の光を照
射する。この光の照射により、色素記録層がその光を吸
収して局所的に温度上昇し、例えば、ピットが生成して
その光学特性を変えることにより情報が記録される。上
記のように記録された情報の再生は、光情報記録媒体を
所定の定線速度で回転させながら半導体レーザ光を基板
側から照射して、その反射光を検出することにより行う
ことができる。

【００５９】以上説明したように、本実施の形態に係る
ＣＤ−Ｒ型の光情報記録媒体は、プリピット及びプリグ
ルーブが形成された円盤状の透明基板上に、レーザ光を
照射してピットを形成することにより情報の記録が可能
な色素記録層が設けられ、更に該色素記録層上に金属か
らなる光反射層が設けられた光情報記録媒体であって、
（１）透明基板上に形成されたプリピットの溝深さが６
０〜１８０ｎｍの範囲にあり、（２）透明基板上に形成
されたプリグルーブの溝深さが２００〜３５０ｎｍの範
囲にあり、（３）色素記録層の厚さが３０〜１２０ｎｍ
であり、且つ（４）色素記録層の記録レーザ波長での消
衰係数ｋが０．０５〜０．１５であることを特徴とする
ものである。これら（１）〜（４）の３つの要件を満た
すことにより、良好な記録感度と良好な記録特性（ジッ
タ）とを両立することができると共に、プリピットが形
成された領域から、信号の変調度が良好でＣＤ規格を満
足する再生信号を得ることができる。即ち、良好な記録
再生特性を備えたハイブリッド型の光情報記録媒体を得
ることができる。

【００６０】また、色素記録層の厚さを薄くしたことに
より、色素記録層の形成に要する時間（例えば、スピン
コート時間等の塗布や乾燥に要する時間）が短縮され、
光情報記録媒体の製造効率を向上させることができ、コ
ストダウンを図ることができる。

【００６１】なお、上記では保護層を備えたＣＤ−Ｒ型
の光情報記録媒体の例について説明したが、これらの層
は任意の構成要素であり、これらの層が設けられていな
い構成とすることもできる。

【００６２】また、上記ではＣＤ−Ｒ型の光情報記録媒
体の例について説明したが、本発明の光情報記録媒体
を、より高密度記録が可能なＤＶＤ−Ｒ型の光情報記録
媒体に適用することもできる。ＤＶＤ−Ｒ型の光情報記
録媒体は、透明基板に形成されるプリグルーブのトラッ
クピッチが０．６〜０．９μｍとＣＤ−Ｒ型に比べて狭
いこと以外は、基本的にはＣＤ−Ｒ型の光情報記録媒体
と同様の構成を有している。

【００６３】また、上述のＣＤ−Ｒ型の光情報記録媒体
と同様にして形成した透明基板、色素記録層、光反射
層、及び保護層からなる積層体を２枚用意し、用意した
２枚の積層体を各々の色素記録層が内側となるように接
着剤等で貼り合わせることにより、二つの色素記録層を
持つ貼り合せ構造のＤＶＤ−Ｒ型の光情報記録媒体とす
ることができる。また、積層体とこの積層体の基板と略
同じ寸法の円盤状保護基板とを、その色素記録層が内側
となるように接着剤等で貼り合わせることにより、片側
のみに色素記録層を持つＤＶＤ−Ｒ型の光情報記録媒体
を製造することができる。なお、貼り合わせ構造とする
場合、透明基板の直径が１２０±３ｍｍで厚みが０．６
±０．１ｍｍのものが一般に用いられ、貼り合わせ後の
光情報記録媒体の厚みが１．２±０．２ｍｍとなるよう
に調整される。

【００６４】本発明の光情報記録媒体を、ＤＶＤ−Ｒ型
媒体として使用すると更にその特徴が現れる。即ち、Ｄ
ＶＤ−Ｒ型媒体の場合、ＣＤ−Ｒ型媒体に比較して更に
高密度の記録が要求されるが、本発明では色素記録層の
膜厚は従来のものよりかなり薄いので高密度記録に好適
である。

【００６５】

【実施例】以下、本発明の光情報記録媒体を実施例に基
づき具体的に説明する。［実施例１］射出成形により直径４６ｍｍ〜８０ｍｍの
領域にＥＦＭ信号を記録したプリピット（ピットの半値
幅：５００ｎｍ、ピットの深さ：１３０ｎｍ）が形成さ
れ、直径８０ｍｍ〜１１８ｍｍの領域にプリグルーブ
（トラックピッチ：１．６μｍ、グルーブの半値幅：５
５０ｎｍ、グルーブの深さ：５０ｎｍ）が形成された円
盤状のポリカーボネート基板（外径：１２０ｍｍ、内
径：１５ｍｍ、厚さ：１．２ｍｍ、帝人（株）製、商品
名「パンライトＡＤ５５０３」）を用意した。プリグル
ーブの溝深さは２５０ｎｍであり、溝幅は５５０ｎｍで
あり、トラックピッチ１６００ｎｍである。

【００６６】下記色素（Ａ）２ｇを、２，２，３，３−
テトラフルオロ−１−プロパノール１００ｍｌに２時間
超音波照射して溶解し、この色素記録層形成用塗布液
を、得られた基板のプリグルーブ面に、回転数を３００
〜３０００ｒｐｍまで変化させながらスピンコート法に
より塗布し、１３秒かけて乾燥して色素記録層を形成し
た。色素記録層の厚さは、色素記録層の断面を走査型電
子顕微鏡（ＳＥＭ）により観察して計測したところ６５
ｎｍであった。また、色素記録層の７８０ｎｍのレーザ
光に対する消衰係数ｋは０．０８であった。

【００６７】

【化２】

【００６８】次いで、アルゴン雰囲気中での、ＤＣスパ
ッタリングにより、色素記録層上に厚さ約８０ｎｍの銀
（Ａｇ）からなる光反射層を形成した。更に、光反射層
上に、ＵＶ硬化性樹脂（商品名「ＳＤ−３１８」、大日
本インキ化学工業（株）製）を回転数を３００ｒｐｍ〜
４０００ｒｐｍまで変化させながらスピンコートにより
塗布した。塗布後、その上から高圧水銀灯により紫外線
を照射して硬化させ、層厚８μｍの保護層を形成した。
保護層の表面硬度は鉛筆の引っかき硬度で２Ｈであっ
た。

【００６９】以上の工程により、基板、色素記録層、光
反射層及び保護層からなる実施例１のＣＤ−Ｒ型光ディ
スクを作製した。［実施例２］色素記録層の厚さを８０ｎｍとした以外
は、実施例１と同様にして本発明に従うＣＤ−Ｒ型光デ
ィスクを作製した。［実施例３］プリグルーブの溝幅を４６０ｎｍ、プリピ
ットの溝幅を４００ｎｍとした以外は、実施例１と同様
にして本発明に従うＣＤ−Ｒ型光ディスクを作製した。［実施例４］プリグルーブの溝深さを２３０ｎｍとした
以外は、実施例１と同様にして本発明に従うＣＤ−Ｒ型
光ディスクを作製した。［実施例５］プリグルーブの溝深さを２８０ｎｍとした
以外は、実施例１と同様にして本発明に従うＣＤ−Ｒ型
光ディスクを作製した。［実施例６］色素記録層形成用塗布液中の色素（Ａ）の
濃度を４ｇ／１００ｍｌとした以外は、実施例１と同様
にして本発明に従うＣＤ−Ｒ型光ディスクを作製した。
なお、色素記録層の乾燥時間は８秒に短縮することがで
きた。［比較例１］色素を下記に示す色素（Ｂ）とした以外
は、実施例１と同様にして比較用のＣＤ−Ｒ型光ディス
クを作製した。このとき色素記録層の７８０ｎｍのレー
ザ光に対する消衰係数ｋは０．０４であった。

【００７０】

【化３】

【００７１】［比較例２］色素を下記に示す色素（Ｃ）
とした以外は、実施例１と同様にして比較用のＣＤ−Ｒ
型光ディスクを作製した。このとき色素記録層の７８０
ｎｍのレーザ光に対する消衰係数ｋは０．１８であっ
た。

【００７２】

【化４】

【００７３】［比較例３］色素記録層の層厚を２０ｎｍ
とした以外は、実施例１と同様にして比較用のＣＤ−Ｒ
型光ディスクを作製した。［比較例４］色素記録層の層厚を１８０ｎｍとした以外
は、実施例１と同様にして比較用のＣＤ−Ｒ型光ディス
クを作製した。［比較例５］プリグルーブの溝深さを１７５ｎｍとした
以外は、実施例１と同様にして比較用のＣＤ−Ｒ型光デ
ィスクを作製した。［比較例６］プリグルーブの溝深さを４００ｎｍとした
以外は、実施例１と同様にして比較用のＣＤ−Ｒ型光デ
ィスクを作製した。［比較例７］プリピットの溝深さを４０ｎｍとした以外
は、実施例１と同様にして比較用のＣＤ−Ｒ型光ディス
クを作製した。［比較例８］プリピットの溝深さを２００ｎｍとした以
外は、実施例１と同様にして比較用のＣＤ−Ｒ型光ディ
スクを作製した。［光ディスクとしての評価］上記実施例及び比較例のＣ
Ｄ−Ｒ型光ディスクに、評価機「ＯＭＴ２０００」（パ
ルステック社製）を用いてレーザ光の波長７８０ｎｍで
記録した後、記録後の光ディスクについて、３Ｔピット
ジッターを測定した。３Ｔピットジッタの値が小さい程
ピットのバラツキが少ないことを意味し、ジッタの値が
３５以下であれば記録再生特性は良好であると言える。
また、最適なジッタを示すときの記録パワーを測定し
た。この記録パワーが記録感度を表し、７ｍＷ以下であ
れば記録感度は良好であると言える。さらに、プリピッ
トが形成された領域からの再生信号の変調度を測定し
た。この変調度が６０％以上であれば変調度は良好であ
り、ＣＤ規格を満足している。得られた結果を表１に示
す。

【００７４】

【表１】

【００７５】

【表２】

【００７６】表１及び表２の結果から、本発明に従うＣ
Ｄ−Ｒ型光ディスク（実施例１〜６）の場合には、３Ｔ
ピットジッターの値がいずれも３５以下と小さく、良好
な記録再生特性が得られると共に、記録パワーの値がい
ずれも７ｍＷ以下であり、良好な記録感度を有している
ことがわかる。また、プリピットが形成された領域から
の再生信号の変調度が６０％以上であり、変調度は良好
である。

【００７７】一方、比較用のＣＤ−Ｒ型光ディスク（比
較例２、４、５、６）の場合には、３Ｔピットジッター
の値が３８以上と大きく、従ってデジタル信号の読み誤
りが生じ易くなるなど、満足できる記録再生特性が得ら
れないことがわかる。また、比較用のＣＤ−Ｒ型光ディ
スク（比較例１）の場合には、必要とされる記録パワー
が大きすぎ通常の記録条件では記録できないことが分か
る。なお、色素記録層の層厚が薄すぎる場合には、レー
ザ光が十分に吸収されず、感度が極端に低くなり、ピッ
トの形成が困難であった（比較例３）。また、色素記録
層の層厚が厚すぎる場合及びプリピットの溝深さが深す
ぎたり浅過ぎたりする場合には、プリピットが形成され
た領域からの再生信号の変調度が大幅に低下し、ＣＤ規
格内での再生が困難であった（比較例４、７、８）。

【００７８】

【発明の効果】本発明の光情報記録媒体は、記録感度が
良好であり、且つ記録特性（ジッタ）が良好である、と
いう効果を奏する。また、本発明の光情報記録媒体は、
プリピットが形成された領域にも色素記録層が形成され
ており、しかもプリピットが形成された領域から、信号
の変調度が良好で、ＣＤ規格を満足する再生信号を得る
ことができる、という効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態に係るＣＤ−Ｒ型の光情報
記録媒体の積層構造を示す概略構成図である。

【図２】プリグルーブ及びプリピットの形状を表す概略
断面図である。

【図３】色素記録層の形状を表す概略断面図である。

【符号の説明】

Ｄ溝深さＷ溝幅１０透明基板板１２色素記録層１４光反射層１６保護層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】プリピット及びプリグルーブが形成された
円盤状の透明基板上に、レーザ光を照射してピットを形
成することにより情報の記録が可能な色素記録層が設け
られ、更に該色素記録層上に金属からなる光反射層が設
けられた光情報記録媒体であって、前記プリピットは、溝深さが６０〜１８０ｎｍの範囲に
あり、前記プリグルーブは、溝深さが２００〜３５０ｎｍの範
囲にあり、前記色素記録層は、厚さが３０〜１２０ｎｍの範囲にあ
り、且つ記録レーザ波長での消衰係数ｋが０．０５〜
０．１５となるように選択された有機色素を含有するこ
とを特徴とする光情報記録媒体。