JP2002039722A - 膜厚測定におけるデータ取得装置、方法およびデータ取得のためのプログラムを記憶した記録媒体 - Google Patents

膜厚測定におけるデータ取得装置、方法およびデータ取得のためのプログラムを記憶した記録媒体

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JP2002039722A
JP2002039722A JP2000219307A JP2000219307A JP2002039722A JP 2002039722 A JP2002039722 A JP 2002039722A JP 2000219307 A JP2000219307 A JP 2000219307A JP 2000219307 A JP2000219307 A JP 2000219307A JP 2002039722 A JP2002039722 A JP 2002039722A
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Akihiro Kitahara
章広 北原
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 メモリ容量を最小限にできる膜厚測定におけ
るデータ取得装置、方法およびデータ取得のためのプロ
グラムを記憶した記録媒体を提供する。 【解決手段】 試料6と対物レンズ5とを相対的に移動
させるとともに、試料6に対物レンズ5を介してレーザ
光を照射し、試料6側からの反射光に応じた輝度データ
の変化を検出し、検出された輝度データの変化のピーク
位置を検出するとともに、このピーク位置を含む検出エ
リアを決定し、この決定された検出エリアについて試料
6と対物レンズ5とを相対的に移動させるとともに、試
料6に対物レンズ5を介してレーザ光を照射し、試料6
側からの反射光に応じた輝度データが最大になる位置を
高さ情報として絶対座標をメモリ43に記憶させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、共焦点顕微鏡を利
用した膜厚測定によるデータ取得装置、方法およびデー
タ取得のためのプログラムを記憶した記録媒体に関す
る。
【0002】
【従来の技術】半導体ウェハなどの基板表面には、透明
または半透明の薄膜が形成されることがあるが、これら
薄膜の厚さ寸法にバラツキがあると、製品として所定の
特性を得られないことがある。
【0003】このため、従来では、上述したような試料
の薄膜の厚さ寸法を測定する膜厚測定装置として、走査
型レーザ顕微鏡が多く用いられている。
【0004】走査型レーザ顕微鏡を用いた膜厚測定装置
によると、薄膜を形成した試料と対物レンズとを光軸方
向で相対的に移動させると共に、対物レンズを介して試
料にレーザ光を照射し、試料からの反射光に応じた輝度
データを検出し、この輝度データの変化に基づいて測定
対象面(例えば、薄膜表面、基板表面)を検出し、検出
された各測定対象面間の寸法を求めることで薄膜の厚さ
寸法を測定している。
【0005】ところで、試料の中には、基板上に薄膜を
複数層形成(積層)したものがある。
【0006】このような試料について各層の測定対象面
(例えば、薄膜表面、異なる薄膜間の境界面、基板表
面)を検出するには、レーザ光をポイントもしくは一方
向にラインスキャンさせながら、対物レンズの位置を光
軸(Z)方向で所定距離ずつ(所定間隔)移動させて、
試料側からの反射光に応じた輝度データを連続的に検出
し、その連続した輝度データ中で輝度データが最大とな
るピーク位置から各測定対象面を検出するようにしてい
る。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところが、このような
膜厚測定を行なおうとすると、レーザ光の照射により取
得される試料側の各測定対象面からの反射光に対応する
輝度データは、取得した時のZ位置情報と共にメモリに
書き込んで行くため、上述したような連続した輝度デー
タ中で輝度データが最大となるピーク位置を求める通常
の測定では、取り込んだ輝度データからピーク位置と該
ピーク位置に基づいて膜厚を求めなければならなく、メ
モリは全ての輝度データと該輝度データに対応する全て
のZ位置情報を記憶しなければならないので、特に2次
元にレーザ光を走査する場合は、メモリの記憶容量を大
容量にしなければならないという問題があった。
【0008】本発明は上記事情に鑑みてなされたもの
で、メモリ容量を最小限にできる膜厚測定におけるデー
タ取得装置、方法およびデータ取得のためのプログラム
を記憶した記録媒体を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
薄膜を形成した試料の膜厚測定におけるデータ取得装置
において、試料と対物レンズとを光軸方向で相対的に移
動させる移動手段と、前記試料に対物レンズを介してス
ポット光を照射し、前記試料側からの反射光に応じた輝
度データを検出する光検出手段と、前記光検出手段によ
り検出された輝度データからピーク位置を少なくとも2
つ検出すると共に、このピーク位置を含む検出エリアを
少なくとも2つ決定し、この決定された検出エリア内で
前記試料と対物レンズとを相対的に移動させて検出した
前記試料側からの反射光に応じた輝度データの最大とな
る位置を、絶対座標における高さ情報として記憶手段に
記憶させる中央処理部とを具備したことを特徴としてい
る。
【0010】請求項2記載の発明は、請求項1記載の発
明において、前記中央処理部は、前記試料側からの反射
光に応じた輝度データを複数回取得し、複数回取得した
輝度データの平均値の変化を検出することを特徴として
いる。
【0011】請求項3記載の発明は、請求項1記載の発
明において、前記中央処理部は、ピーク位置を2つ以上
検出すると、これらピーク位置に対して所定の輝度レベ
ルを夫々設定し、この設定された輝度レベルが得られる
高さ位置を求め、各ピーク位置間の各ピーク位置に対応
する高さ位置の差を所定の割合で分け、この分けた位置
をピーク位置の検出エリアの境界として決定することを
特徴としている。
【0012】請求項4記載の発明は、薄膜を形成した試
料の膜厚測定におけるデータ取得方法において、試料と
対物レンズとを光軸方向で相対的に移動させると共に、
前記試料に対物レンズを介してスポット光を照射し、前
記試料側からの反射光に応じた輝度データを検出する第
1の工程と、前記第1の工程により検出された輝度デー
タからピーク位置を少なくとも2つ検出すると共に、こ
のピーク位置を含む検出エリアを少なくとも2つ決定す
る第2の工程と、前記第2の工程により決定された検出
エリア内で前記試料と対物レンズとを相対的に移動させ
て検出した前記試料側からの反射光に応じた輝度データ
の最大となる位置を、絶対座標における高さ情報として
記憶させる第3の工程とを具備したことを特徴としてい
る。
【0013】請求項5記載の発明は、請求項4記載の発
明において、前記第1の工程は、前記試料側からの反射
光に応じた輝度データを複数回取得し、複数回取得した
輝度データの平均値の変化を検出することを特徴として
いる。
【0014】請求項6記載の発明は、請求項4記載の発
明において、前記第2の工程は、ピーク位置を2つ以上
検出すると、これらピーク位置に対して所定の輝度レベ
ルを夫々設定し、この設定された輝度レベルが得られる
高さ位置を求め、各ピーク位置間の各ピーク位置に対応
する高さ位置の差を所定の割合で分け、この分けた位置
をピーク位置の検出エリアの境界として決定することを
特徴としている。
【0015】請求項7記載の発明は、薄膜を形成した試
料の膜厚測定におけるデータ取得のためのプログラムを
記録した記録媒体であって、試料と対物レンズとを光軸
方向で相対的に移動させると共に、前記試料に対物レン
ズを介してスポット光を照射し、前記試料側からの反射
光に応じた輝度データを検出する第1の工程と、前記第
1の工程により検出された輝度データからピーク位置を
少なくとも2つ検出すると共に、このピーク位置を含む
検出エリアを少なくとも2つ決定する第2の工程と、前
記第2の工程により決定された検出エリア内で前記試料
と対物レンズとを相対的に移動させて検出した前記試料
側からの反射光に応じた輝度データの最大となる位置
を、絶対座標における高さ情報として記憶させる第3の
工程とを具備したことを特徴としている。
【0016】請求項8記載の発明は、請求項7記載の発
明において、前記第1の工程は、前記試料側からの反射
光に応じた輝度データを複数回取得し、複数回取得した
輝度データの平均値の変化を検出することを特徴として
いる。
【0017】請求項9記載の発明は、請求項7記載の発
明において、前記第2の工程は、ピーク位置を2つ以上
検出すると、これらピーク位置に対して所定の輝度レベ
ルを夫々設定し、この設定された輝度レベルが得られる
高さ位置を求め、各ピーク位置間の各ピーク位置に対応
する高さ位置の差を所定の割合で分け、この分けた位置
をピーク位置の検出エリアの境界として決定することを
特徴としている。
【0018】この結果、本発明によれば、プレスキャン
により予め検出エリアを決定し、この検出エリアについ
て高さ測定を実行し、輝度データが最大になる位置を高
さ情報として絶対座標を記憶させるようにしたので、メ
モリの記憶容量を大幅に低減することができる。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態を図
面に従い説明する。
【0020】図1は、本発明に適用される走査型レーザ
顕微鏡の概略構成を示している。
【0021】この場合、レーザ光源1から出射されたレ
ーザは、ミラー2で反射し、ハーフミラー3を透過して
2次元走査機構14に入射される。
【0022】2次元走査機構14は、コンピュータ(中
央処理部)4の制御部41の制御によりレーザ光を2次
元走査するもので、このレーザ光は、対物レンズ5を介
してステージ12に載置された試料6の測定対象面の領
域全面にわたって2次元走査される。
【0023】また、この試料6からの反射光は、対物レ
ンズ5を透過し、2次元走査機構14を介してハーフミ
ラー3で反射され、結像レンズ7、ピンホール8を介し
て光検出器9により検出される。
【0024】そして、光検出器9からの信号は、コンピ
ュータ4の画像入力部42に2次元走査機構14での2
次元走査に同期して取り込まれ、画像データとして主メ
モリ43に記憶される。
【0025】主メモリ43に記憶された画像データは、
CPUバス47、ビデオカード44を介して2次元画像
としてモニタ10に表示される。
【0026】なお、画像入力部42は、光検出部9から
のアナログ信号をデジタル信号に変換するA/D変換機
能を備えている。
【0027】この場合、光検出器9では、対物レンズ5
の焦点位置からの試料6の反射光以外は、ピンホール8
を通過することができないため、試料6の画像は、対物
レンズ5の合焦位置からの画像しか得られない。
【0028】そこで、この性質を利用してコンピュータ
4の制御部41の制御により、レーザ光の照射とZ軸移
動機構11による対物レンズ5の光軸方向の移動によ
り、光検出器9での検出信号(輝度データ)が最大にな
った位置(ピーク位置)を試料6の各測定対象面(後述
する薄膜61の表面61a、薄膜61と薄膜62との境
界面62a、薄膜62と基板63との境界面(基板表
面)63a(図2参照))と認識するようにしている。
【0029】なお、上述した実施の形態では、対物レン
ズ5を光軸方向で上下動するものを例として説明した
が、これに限られるものではなく、光軸方向(Z軸方
向)で試料6と対物レンズ5とが相対的に移動できるよ
うに構成されていればどのような構成であってもよく、
例えばステージ12を上下動させる構成であってもよ
い。
【0030】これら一連の動きは、コンピュータ4の制
御部41及び画像入力部42を統合して制御することで
実現される。
【0031】また、モニタ10上には、試料6の2次元
画像と共に、走査型レーザ顕微鏡の操作を制御するため
の画面も表示されており、オペレータは、この画面を通
じて顕微鏡を取り扱うようになっている。
【0032】以上のような制御は、コンピュータ4の記
録媒体46(磁気記録媒体、ハードディスク、CD−R
OM等)に記録されている制御プログラムにより実現さ
れる。
【0033】制御プログラムは、主メモリ43に記憶さ
れ、CPU45から実行される。
【0034】また、制御プログラムは、記録媒体46に
記録されている必要はなく、例えばコンピュータ4に接
続されている不図示のネットワークを介して遠隔地にあ
るサーバコンピュータからダウンロードして実行するよ
うにしてもよい。
【0035】図2は、膜厚測定が行われる試料6の具体
例を示すもので、透明又は半透明の薄膜61、62が基
板63上に形成(積層)されており、この試料6は、走
査型レーザ顕微鏡のステージ12上に載置される。
【0036】この状態で、図3に示すフローチャートが
実行される。
【0037】先ず、ステップ301で、プレスキャンが
行なわれる。
【0038】この場合、最上層の薄膜61の測定対象面
(薄膜表面)61aにレーザ光源1からのレーザ光をポ
イントAもしくは一方向Bにラインスキャンさせなが
ら、Z軸移動機構11により対物レンズ5を光軸方向、
つまりZ方向にスキャンさせる。
【0039】そして、この状態で、試料6側からの反射
光を光検出器9で検出すると共に、この検出信号に応じ
た輝度データをメモリに取り込む。
【0040】この場合、ポイントAでは、対物レンズ5
のZ方向のスキャンにより図4(a)に示すように薄膜
61、62及び基板63の各測定対象面(ここでは、薄
膜61の表面61a、薄膜61と薄膜62との境界面6
2a、薄膜62と基板63との境界面(基板表面)63
a)での反射率に対応した膜厚方向(Z軸方向)に対す
る輝度データの変化が得られる。
【0041】また、一方向Bへのラインスキャンでは、
ラインスキャンと共に対物レンズ5のZ方向のスキャン
で取り込まれた輝度データの平均値を求めることによ
り、図4(b)に示すような薄膜61、62及び基板6
3の各測定対象面61a、62a、63aでの反射率に
対応した大きさの輝度データが得られる。
【0042】次に、ステップ302で、薄膜61、62
及び基板63毎の検出エリアを決定するための処理を行
なう。
【0043】この場合、検出エリアの決定は、図4
(a)又は(b)に示す検出結果の輝度データのピーク
位置を基準にして手動又は自動により決定する。
【0044】ここで、手動による決定をしようとした場
合、ステップ302では、オペレータによる薄膜61、
62及び基板63毎の検出エリアの入力待ち状態とな
り、オペレータが薄膜61、62及び基板63毎の検出
エリアE1、E2、E3を決定すると次のステップ30
3へ進む。
【0045】この場合、検出エリアE1、E2、E3の
決定は、図4(a)又は(b)に示す検出結果をモニタ
10に表示させ、この画面を実際にオペレータが見なが
ら、ピーク位置P1、P2、P3を基準にして、これら
ピーク位置P1、P2、P3を含むように検出エリアE
1、E2、E3を任意に決定する。
【0046】また、自動による決定をしようとした場
合、ステップ302では、今図4(b)に示す検出結果
について述べると、先ず、試料6の構造から事前にピー
クの数を入力し、次に、このピーク数に相当するピーク
位置P1、P2、P3を見つけるといった処理を行な
う。
【0047】これらピーク位置P1、P2、P3を見つ
ける方法としては、周知の方法が用いられ、これらのピ
ーク位置P1、P2、P3のそれぞれの間で境界となり
得る箇所を設定して検出エリアE1、E2、E3として
決定する。
【0048】この場合、例えば、図4(b)に示されて
いるピーク位置P1、P2の間で、所定の輝度レベルL
を設定すると共に、この輝度レベルLを得られる夫々の
高さ位置Z1とZ2との差を求め、その差を所定の割
合、例えば1/2でわけて境界C1として検出エリアE
1、E2として決定する。
【0049】なお、上述した実施の形態では、高さ位置
Z1とZ2との差の1/2を境界C1としたが、これに
限られるものではなく、設計値から想定される値等が設
定可能である。
【0050】次に、ステップ303以降で、各検出エリ
アE1、E2、E3に対する測定を実行する。
【0051】先ず、ステップ303で、検出エリアE1
の範囲についてレーザ光源1のレーザ光の2次元走査と
交互に、Z軸移動機構11により対物レンズ5の位置を
光軸(Z)方向で上方から下方に向けて移動させながら
行なうことで、試料6側からの反射光に応じた光検出器
9の検出信号を輝度データとして複数取得する。
【0052】この場合、検出エリアE1内には、薄膜6
1の表面61aが存在し、この薄膜61の表面61aか
らの反射光の輝度データが最大となる位置が薄膜61の
表面61aに相当するので、この最大輝度データが取得
された位置のみを高さ情報としてコンピュータ4のメモ
リ43に記憶させる(ステップ304)。
【0053】なお、この場合の高さ情報は、この装置に
おける絶対座標として記憶する。
【0054】次に、ステップ305で、全ての検出エリ
アE1、E2、E3に対する検出が終了しているか否か
が判断される。
【0055】ここでは、全ての検出エリアE1、E2、
E3に対する検出が終了していないので、ステップ30
3に戻って、残りの検出エリアE2、E3についても上
述したのと同様な処理を夫々繰り返し、残りの検出エリ
アE2、E3内の薄膜61及び基板62からの境界面6
2aと薄膜62及び基板63からの境界面(基板表面)
63aとからの反射光の輝度データが最大になる位置の
みを高さ情報として、この装置における絶対座標により
コンピュータ4のメモリ43に記憶させる。
【0056】そして、ステップ305で、全ての検出エ
リアE1、E2、E3に対する検出が終了していると判
断されると、上述したフローチャートに基づく処理は終
了する。
【0057】その後、メモリ43に記憶された各検出エ
リアE1、E2、E3の高さ情報を読み出してモニタ1
0に表示する。
【0058】この場合、図5(a)(b)(c)に示す
ように薄膜61、62及び63の各測定対象面61a、
62a、63aの夫々の高さ情報a、b、cを等高線画
像により表示したり、図5(d)に示すように絶対座標
を使って薄膜61、62及び基板63の各測定対象面6
1a、62a、63aの夫々の高さ情報a、b、cを表
示するようにすれば、薄膜61、62の各膜厚の状態を
一目で判断できると共に、膜厚測定のための情報として
使用することもできる。
【0059】また、図6(a)(b)(c)に示すよう
に薄膜61、62及び基板63の各測定対象面61a、
62a、63aの夫々の高さ情報a、b、cを各検出エ
リアE1、E2、E3毎に3次元画像(3D)で表示し
たり、図7に示すように図5(a)(b)(c)に示し
た高さ情報a、b、cの等高線画像を夫々の色を違えて
重ねて表示させるようにすることもできる。
【0060】従って、このようにすれば、予め設定した
検出エリアE1、E2、E3毎に高さ測定を実行し、薄
膜61、62及び基板63の夫々の測定対象面61a、
62a、63aからの反射光の輝度データが最大になる
位置のみを高さ情報として絶対座標をメモリ43に記憶
させるようにしたので、従来の全ての輝度データと該輝
度データに対応する全てのZ位置情報をメモリ43に記
憶させていたものに比べて、メモリ43の記憶容量を大
幅に低減することができると共に、測定時間を短縮する
ことができる。
【0061】また、メモリ43に絶対座標で記憶された
高さ情報は、各薄膜61、62及び基板63毎に表示す
ることは勿論、合成した状態でも表示できるので、これ
ら薄膜61、62及び基板63の各測定対象面61b、
62b、63bの状態を多方面から観察することもでき
る。
【0062】なお、上述した実施の形態では、ピーク位
置P1、P2、P3の夫々の間で境界C1、C2を設定
して各検出エリアE1、E2、E3を決定するようにし
たが、図8に示すようにピーク位置P1、P2、P3の
夫々の間で低い輝度レベルLにより輝度の低い部分をカ
ットして各検出エリアE1、E2、E3の決定し、これ
ら検出エリアE1、E2、E3毎に高さ測定を実行し、
夫々の測定対象面61a、62a、63aからの反射光
の輝度データが最大となる位置のみを高さ情報として絶
対座標をメモリに記憶させるようにしてもよい。
【0063】こうすれば、測定時間をさらに短縮するこ
とができる。
【0064】また、この場合、上述したプレスキャンに
より薄膜61、62及び基板63の各測定対象面61
b、62b、63bの反射率に対応した大きさのピーク
値に応じて光検出器9による検出信号のゲインを最適値
に設定する。
【0065】このようにゲインを最適値に設定すること
で、より明確にピーク値を求めることができる。
【0066】また、上述した実施形態では、走査型レー
ザ顕微鏡を例に説明したが、本発明が適用される顕微鏡
はこれに限られるものではなく、例えばNikpow Diskの
ようなDiskスキャン形式の共焦点顕微鏡であってもよい
し、またガルバノミラーの代わりに音響光学素子を用い
てX方向の走査を高速に行なうようにして試料からの光
をピンホールを介することなくラインセンサで受光する
構成の顕微鏡であっても使用することができる。
【0067】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、メモ
リ容量を最小限にできる膜厚測定におけるデータ取得装
置、方法およびデータ取得のためのプログラムを記憶し
た記録媒体を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態に適用される走査型レー
ザ顕微鏡の概略構成を示す図。
【図2】一実施の形態に用いられる試料の概略構成を示
す図。
【図3】一実施の形態の動作を説明するためのフローチ
ャート。
【図4】一実施の形態の動作を説明するための図。
【図5】一実施の形態で得られた高さ情報の表示例を示
す図。
【図6】一実施の形態で得られた高さ情報の表示例を示
す図。
【図7】一実施の形態で得られた高さ情報の表示例を示
す図。
【図8】一実施の形態の変形例を説明するための図。
【符号の説明】
1…レーザ光源 2…ミラー 3…ハーフミラー 4…コンピュータ 41…制御部 42…画像入力部 43…主メモリ 44…ビデオコード 45…CPU 46…記録媒体 47…CPUバス 5…対物レンズ 6…試料 61…第1の薄膜 62…第2の薄膜 63…基板 7…結像レンズ 8…ピンホール 9…光検出器 10…モニタ 11…Z軸移動機構 12…ステージ 14…2次元走査機構
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2F065 AA30 BB01 CC31 DD07 FF10 GG04 HH04 HH13 JJ01 JJ09 JJ15 LL00 LL12 MM07 PP03 PP24 QQ03 QQ24 QQ25 QQ29 UU05 2H052 AA07 AC15 AC34 AD06 AD16 AF02

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 薄膜を形成した試料の膜厚測定における
    データ取得装置において、 試料と対物レンズとを光軸方向で相対的に移動させる移
    動手段と、 前記試料に対物レンズを介してスポット光を照射し、前
    記試料側からの反射光に応じた輝度データを検出する光
    検出手段と、 前記光検出手段により検出された輝度データからピーク
    位置を少なくとも2つ検出すると共に、このピーク位置
    を含む検出エリアを少なくとも2つ決定し、この決定さ
    れた検出エリア内で前記試料と対物レンズとを相対的に
    移動させて検出した前記試料側からの反射光に応じた輝
    度データの最大となる位置を、絶対座標における高さ情
    報として記憶手段に記憶させる中央処理部とを具備した
    ことを特徴とする膜厚測定におけるデータ取得装置。
  2. 【請求項2】 前記中央処理部は、 前記試料側からの反射光に応じた輝度データを複数回取
    得し、 複数回取得した輝度データの平均値の変化を検出するこ
    とを特徴とする請求項1記載の膜厚測定におけるデータ
    取得装置。
  3. 【請求項3】 前記中央処理部は、 ピーク位置を2つ以上検出すると、 これらピーク位置に対して所定の輝度レベルを夫々設定
    し、 この設定された輝度レベルが得られる高さ位置を求め、 各ピーク位置間の各ピーク位置に対応する高さ位置の差
    を所定の割合で分け、 この分けた位置をピーク位置の検出エリアの境界として
    決定することを特徴とする請求項1記載の膜厚測定にお
    けるデータ取得装置。
  4. 【請求項4】 薄膜を形成した試料の膜厚測定における
    データ取得方法において、 試料と対物レンズとを光軸方向で相対的に移動させると
    共に、前記試料に対物レンズを介してスポット光を照射
    し、前記試料側からの反射光に応じた輝度データを検出
    する第1の工程と、 前記第1の工程により検出された輝度データからピーク
    位置を少なくとも2つ検出すると共に、このピーク位置
    を含む検出エリアを少なくとも2つ決定する第2の工程
    と、 前記第2の工程により決定された検出エリア内で前記試
    料と対物レンズとを相対的に移動させて検出した前記試
    料側からの反射光に応じた輝度データの最大となる位置
    を、絶対座標における高さ情報として記憶させる第3の
    工程とを具備したことを特徴とする膜厚測定におけるデ
    ータ取得方法。
  5. 【請求項5】 前記第1の工程は、 前記試料側からの反射光に応じた輝度データを複数回取
    得し、 複数回取得した輝度データの平均値の変化を検出するこ
    とを特徴とする請求項4記載の膜厚測定におけるデータ
    取得方法。
  6. 【請求項6】 前記第2の工程は、 ピーク位置を2つ以上検出すると、 これらピーク位置に対して所定の輝度レベルを夫々設定
    し、 この設定された輝度レベルが得られる高さ位置を求め、 各ピーク位置間の各ピーク位置に対応する高さ位置の差
    を所定の割合で分け、 この分けた位置をピーク位置の検出エリアの境界として
    決定することを特徴とする請求項4記載の膜厚測定にお
    けるデータ取得方法。
  7. 【請求項7】 薄膜を形成した試料の膜厚測定における
    データ取得のためのプログラムを記録した記録媒体であ
    って、 試料と対物レンズとを光軸方向で相対的に移動させると
    共に、前記試料に対物レンズを介してスポット光を照射
    し、前記試料側からの反射光に応じた輝度データを検出
    する第1の工程と、 前記第1の工程により検出された輝度データからピーク
    位置を少なくとも2つ検出すると共に、このピーク位置
    を含む検出エリアを少なくとも2つ決定する第2の工程
    と、 前記第2の工程により決定された検出エリア内で前記試
    料と対物レンズとを相対的に移動させて検出した前記試
    料側からの反射光に応じた輝度データの最大となる位置
    を、絶対座標における高さ情報として記憶させる第3の
    工程とを具備したことを特徴とする膜厚測定におけるデ
    ータ取得のためのプログラムを記録した記録媒体。
  8. 【請求項8】 前記第1の工程は、 前記試料側からの反射光に応じた輝度データを複数回取
    得し、 複数回取得した輝度データの平均値の変化を検出するこ
    とを特徴とする請求項7記載の膜厚測定におけるデータ
    取得のためのプログラムを記録した記録媒体。
  9. 【請求項9】 前記第2の工程は、 ピーク位置を2つ以上検出すると、 これらピーク位置に対して所定の輝度レベルを夫々設定
    し、 この設定された輝度レベルが得られる高さ位置を求め、 各ピーク位置間の各ピーク位置に対応する高さ位置の差
    を所定の割合で分け、 この分けた位置をピーク位置の検出エリアの境界として
    決定することを特徴とする請求項7記載の膜厚測定にお
    けるデータ取得のためのプログラムを記録した記録媒
    体。
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