JP2002035709A - レーザクリーニング処理におけるパーティクルの捕集装置及び捕集方法 - Google Patents

レーザクリーニング処理におけるパーティクルの捕集装置及び捕集方法

Info

Publication number
JP2002035709A
JP2002035709A JP2000223226A JP2000223226A JP2002035709A JP 2002035709 A JP2002035709 A JP 2002035709A JP 2000223226 A JP2000223226 A JP 2000223226A JP 2000223226 A JP2000223226 A JP 2000223226A JP 2002035709 A JP2002035709 A JP 2002035709A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
particles
collecting
chamber
charged
laser cleaning
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2000223226A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshiyuki Ishida
稔幸 石田
Yasumasa Kaneda
安正 金田
Kazuyuki Kawahara
和之 川原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Japan Steel Works Ltd
Original Assignee
Japan Steel Works Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Japan Steel Works Ltd filed Critical Japan Steel Works Ltd
Priority to JP2000223226A priority Critical patent/JP2002035709A/ja
Publication of JP2002035709A publication Critical patent/JP2002035709A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Cleaning In General (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、レーザクリーニング処理におい
て、洗浄対象物の表面から脱離したパーティクルが洗浄
対象物に再付着することを防止できるパーティクルの捕
集装置及び捕集方法を提供することを目的とする。 【解決手段】 本発明によるレーザクリーニング処理に
おけるパーティクルの捕集装置は、チャンバ(10)内に設
置した洗浄対象物(11)にレーザ光(12)を照射し、洗浄対
象物(11)の表面に付着したパーティクル(6)を除去する
レーザクリーニング装置において、パーティクル(6)を
捕集するためにチャンバ(10)内に設けられた複数の捕集
電極(14)と、複数の捕集電極(14)間に電位差を与えるた
めの電源(16)とを備え、レーザ光(12)によって帯電され
た帯電パーティクル(7)を複数の捕集電極(14)間の電位
差を用いて捕集電極(14)で捕集する構成である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザクリーニン
グ処理におけるパーティクルの捕集装置及び捕集方法に
関し、特に、レーザクリーニング処理時において、一度
洗浄対象物から脱離したパーティクルが洗浄対象物に再
付着することを防止できるようにするための新規な改良
に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、用いられていたこの種の装置とし
ては図4で示される、例えばパーティクル除去装置の構
成を挙げることができる。すなわち、図4において、符
号1で示されるものは捕集電極であり、この捕集電極1
は通常1枚にて構成され、高電位に保持されている。
【0003】このようなパーティクル除去装置は、例え
ば殺菌用の紫外線ランプ2等を光源として用いており、
この紫外線ランプ2から放出される紫外光3を光電子放
出材4に照射して光電子放出材4から電子5を放出さ
せ、さらに、この電子5によりパーティクル6を帯電さ
せて帯電パーティクル7とし、これに電界をかけて捕集
電極1で捕集する。このような光電子放出材4は、例え
ば、金薄膜で構成されている。
【0004】なお、図4はパーティクル除去装置の要部
を示した図であるため、洗浄対象物及びチャンバは図示
されていないが、このようなパーティクル除去装置は実
際にはチャンバ内に設置され、このチャンバ内には表面
にパーティクルが付着した例えばシリコンウエハなどの
洗浄対象物が設置されている。
【0005】紫外線ランプ2のように、波長が短く、光
子1つ当たりのエネルギーが大きな光を光電子放出材4
に照射すると、その光子エネルギーにより光電子放出材
4から電子5が放出される。そして、電子5が除去対象
物であるパーティクル6に付着することにより帯電パー
ティクル7が生成される。この帯電パーティクル7は負
に帯電して負イオンになっている。従って、捕集電極1
を高電位に保持すれば、帯電パーティクル7が捕集電極
1に吸着される。なお、この捕集電極1は、特定方向の
電界を持つものではなく、無限遠の電位を零としたとき
と同様の電界を持つように構成されている。
【0006】このようにパーティクル6を帯電させて捕
集電極1で捕集して除去するパーティクル除去装置は、
例えば、特開平11−2279402号公報、特開平8
−85153号公報、特開平10−1446404号公
報及び特開平6−198215号公報等により周知であ
る。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】従来の装置は以上のよ
うに構成されていたため、次のような課題が存在してい
た。すなわち、従来の装置では、紫外光3を用いてパー
ティクル6をイオン化させるために、紫外線ランプ2お
よび光電子放出材4を別途用意する必要がある。また、
紫外線ランプ2から放出される紫外光3のエネルギー密
度は低く、光子数が少ない。このため、パーティクル6
の帯電化確率が低いという課題があった。
【0008】また、帯電パーティクル7の密度を高める
ために各帯電パーティクル7の帯電時間を長時間化させ
るためには、真空雰囲気下での使用が望ましく、大気中
での使用には不向きであるという課題があった。また、
捕集電極1は通常1枚であるため、捕集できるパーティ
クル6は主に捕集電極1の近辺に浮遊してきたパーティ
クル6であり、捕集電極1から離れて存在するパーティ
クル6を積極的に捕集することはできなかった。さら
に、従来のレーザクリーニング装置は、捕集電極を備え
ないため洗浄対象物の表面から脱離したパーティクルの
再付着が課題となっていた。
【0009】本発明は、以上のような課題を解決するた
めになされたものであり、特に、レーザクリーニング処
理を行うのと同時に、洗浄対象物の表面から脱離したパ
ーティクルが洗浄対象物に再付着することを防止し、ま
た、レーザクリーニング装置と組み合わせることによ
り、パーティクルをイオン化するための光源を別途用意
する必要のないレーザクリーニング処理におけるパーテ
ィクルの捕集装置及び捕集方法を提供することを目的と
する。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明のレーザクリーニ
ング処理におけるパーティクルの捕集装置は、チャンバ
内に設置した洗浄対象物にレーザ光を照射し、前記洗浄
対象物の表面に付着したパーティクルを除去するレーザ
クリーニング装置において、前記パーティクルを捕集す
るために前記チャンバ内に設けられた複数の捕集電極
と、前記複数の捕集電極間に電位差を与えるための電源
とを備え、前記レーザ光によって帯電された帯電パーテ
ィクルを前記複数の捕集電極間の電位差を用いて前記捕
集電極で捕集する構成であり、また、前記捕集電極は前
記レーザクリーニング装置に対して浮遊電位に保持され
ている構成であり、また、前記チャンバ内は減圧される
と共に、前記チャンバ内には光電子放出材が設けられて
おり、前記光電子放出材に前記レーザ光を照射すること
により前記光電子放出材から放出された電子を用いて、
前記洗浄対象物からパーティクルを帯電させて取り出す
構成である。また、本発明のレーザクリーニング処理に
おけるパーティクルの捕集方法は、チャンバ内に設置し
た洗浄対象物にレーザ光を照射し、前記洗浄対象物の表
面に付着したパーティクルを除去するレーザクリーニン
グ装置において、前記レーザ光によるクリーニングの際
に洗浄対象物の表面に付着したパーティクルを帯電さ
せ、前記レーザ光により帯電された帯電パーティクルを
捕集するための複数の捕集電極を用いて前記チャンバ内
で電位差を生じさせ、前記電位差により前記帯電パーテ
ィクルを前記捕集電極で捕集する構成であり、また、前
記捕集電極は前記レーザクリーニング装置に対して浮遊
電位に保持されている構成であり、さらに、前記チャン
バ内は減圧されると共に、前記チャンバ内には光電子放
出材が設けられており、前記光電子放出材に前記レーザ
光を照射することにより前記光電子放出材から放出され
た電子を用いて、前記洗浄対象物からパーティクルを帯
電させて取り出す構成である。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、図面と共に本発明によるレ
ーザクリーニング処理におけるパーティクルの捕集装置
及び捕集方法の好適な実施の形態について詳細に説明す
る。なお、従来装置と同一または同等部分には同一符号
を付し、その説明を省略する。
【0012】図1において、符号10で示されるものは
本装置が取り付けられるレーザクリーニング装置のチャ
ンバー(以下、LCチャンバ10と称す)である。この
LCチャンバ10は、真空、大気の両方に対応可能なチ
ャンバである。本発明を適用するレーザクリーニング装
置では、LCチャンバ10の外部から石英窓(レーザ透
過窓)13を通して紫外線レーザ光12がLCチャンバ
10内に導入され、LCチャンバ10内に置かれた洗浄
対象物11に紫外線レーザ光12を照射することによ
り、パーティクル6を洗浄対象物11から離脱させる。
【0013】この紫外線レーザ光12は、光子エネルギ
ー自体が大きく、そのエネルギー密度も大きいため、L
Cチャンバ10内の気体がレーザ光12によって電離さ
れ、これにより生じたイオンあるいは電子が洗浄対象物
11の表面から離脱したパーティクル6に付着すること
によって帯電パーティクル7が生じる場合や、洗浄対象
物11の表面からパーティクル6を離脱させた時点でパ
ーティクル6を帯電させて帯電パーティクル7にする場
合があり、また、洗浄対象物11からパーティクル6が
離脱した時点では帯電していないが、離脱直後に紫外線
レーザ光12により帯電されて帯電パーティクル7にな
る場合もある。
【0014】ここで、捕集電極14は2枚の対向電極構
造をしており、この2枚の電極間に電流導入端子15を
介して高圧電源16から高電圧が印加されている。この
高電圧が作る電極間電界17により、ある特定方向の電
界が発生する。この電界の向きは、帯電パーティクル7
が正負のどちらに帯電するかによって、高電圧の印加方
向を変化させる必要が有る。帯電パーティクル7は、電
極間電界17により捕集電極14に誘導されて捕集さ
れ、この結果、洗浄対象物11にパーティクル6が再付
着することを防止できる。
【0015】ここで、図2及び図3は、本発明において
捕集電極14を1つ用いた場合と、2つ用いた場合にお
ける帯電パーティクルの捕集率の時間変化を示す特性図
である。これらの特性を比較して分かるとおり、捕集電
極14を2つ用いた場合(図3)の方が帯電パーティク
ルの捕集率が大幅に向上していることが分かる。これ
は、2つの捕集電極14間で効率よく電界をかけること
により、帯電パーティクルの捕集率が高まるからであ
る。従って、本発明では、捕集電極14は2つ以上備え
る必要がある。
【0016】以上、本発明によれば、レーザクリーニン
グ装置において紫外線レーザ光によるレーザクリーニン
グ処理を行う際に、洗浄対象物11から除去され発生し
たパーティクル6をクリーニング用の紫外線レーザ光1
2で帯電させ、帯電パーティクル7を捕集電極14で捕
集することができるので、洗浄対象物11の表面にパー
ティクル6が再付着することにより洗浄対象物が汚染さ
れることを防止することができる。また、洗浄対象物1
1から除去されたパーティクル6以外のパーティクル6
(例えばLCチャンバ10に始めから存在していたパー
ティクル6等)も同様に捕集できるので、洗浄対象物1
1に付着していたパーティクル6以外のパーティクル6
が再付着することにより洗浄対象物が汚染されることを
防止できる。
【0017】レーザクリーニング処理に使用する紫外線
レーザ光を直接使用することで、レーザクリーニング装
置本体以外に、パーティクルを帯電させるための紫外線
ランプ等の手段を別途設けることなく、かつレーザ光の
ような単一波長でエネルギー密度の非常に高い光源を用
いることで、特にチャンバ内を真空状態にしなくても、
帯電パーティクルの密度を高く保持することが可能であ
る。
【0018】また、LCチャンバ10内を真空状態にす
る場合には、LCチャンバ10内において帯電パーティ
クル7を生成する基となるイオンあるいは電子の密度が
低下するため、これを補って帯電パーティクルの密度を
高く保つために従来と同様に光電子放出材4を使用する
ことが望ましいが、このように光電子放出材4を使用す
る場合であっても、使用する紫外線レーザ光12の光子
エネルギーが高いことから、帯電パーティクル7の密度
を高く保持するために必要なレーザエネルギー密度は小
さくてすむため、レーザクリーング処理に使用する紫外
線レーザ光を適当な光学系を用いて分岐してパーティク
ル6を帯電させるために使用しても、レーザクリーニン
グ処理に必要なレーザ光エネルギー密度が損なわれるこ
とはなく、レーザクリーニング装置の紫外線レーザ光を
用いてレーザクリーニング処理とパーティクル6を帯電
させる処理とを両立させることが可能となる。なお、光
電子放出材4を用いる場合には、例えば洗浄対象物11
と石英窓13との間に光電子放出材4を配設すればよ
い。
【0019】また、図1では、捕集電極14を2つ用い
る場合について説明したが、捕集電極は3つ以上あって
もよく、特定方向に電界を発生させて帯電パーティクル
7を積極的に捕集することも可能である。また、図1で
は、中央に孔部を有する円環状の捕集電極14を洗浄対
象物11と平行に設置したが、捕集電極14の設置の仕
方はこのような形態に限らず、例えば、図1中におい
て、LCチャンバ10の情報及び下方に1つずつ配設し
てもよい。
【0020】また、本発明によれば、洗浄対象物11か
ら除去されたパーティクル6を帯電させるための紫外線
ランプ等を別途設けることなく、レーザクリーニング装
置の紫外線レーザ光12を用いてパーティクル6を帯電
させることにより、パーティクル6の洗浄対象物11へ
の再付着を防止することができ、装置の簡略化及びコス
トダウンを図ることができる。また、特にLCチャンバ
10内を大気状態にしてパーティクル6の捕集を行う場
合には、光電子放出材4を設ける必要がないので、更に
コスト的に有利である。
【0021】
【発明の効果】請求項1記載の発明によれば、チャンバ
内が大気状態であるか真空状態であるかに拘わらず、洗
浄対象物の表面にパーティクルが再付着することにより
洗浄対象物が汚染されることを防止することができるレ
ーザクリーニング処理におけるパーティクルの捕集装置
を提供することができる。請求項2記載の発明によれ
ば、より効率よく帯電パーティクルを捕集できるレーザ
クリーニング処理におけるパーティクルの捕集装置を提
供することができる。請求項3記載の発明によれば、チ
ャンバ内が真空状態である場合において帯電パーティク
ルの捕集効率を向上させたレーザクリーニング処理にお
けるパーティクルの捕集装置を提供することができる。
請求項4記載の発明によれば、チャンバ内が大気状態で
あるか真空状態であるかに拘わらず、洗浄対象物の表面
にパーティクルが再付着することにより洗浄対象物が汚
染されることを防止することができるレーザクリーニン
グ処理におけるパーティクルの捕集方法を提供すること
ができる。請求項5記載の発明によれば、より効率よく
帯電パーティクルを捕集できるレーザクリーニング処理
におけるパーティクルの捕集方法を提供することができ
る。請求項6記載の発明によれば、チャンバ内が真空状
態である場合において帯電パーティクルの捕集効率を向
上させたレーザクリーニング処理におけるパーティクル
の捕集方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるレーザクリーニング処理における
パーティクルの捕集装置を概略的に示す構成図である。
【図2】本発明によるレーザクリーニング処理における
パーティクルの捕集装置及び捕集方法において捕集電極
を1つ用いた場合の帯電パーティクルの捕集率の時間変
化を示す特性図である。
【図3】本発明によるレーザクリーニング処理における
パーティクルの捕集装置及び捕集方法において捕集電極
を2つ用いた場合の帯電パーティクルの捕集率の時間変
化を示す特性図である。
【図4】従来のパーティクル除去装置を示す構成図であ
る。
【符号の説明】
4 光電子放出材 5 電子 6 パーティクル 7 帯電パーティクル 10 LCチャンバ 11 洗浄対象物 12 紫外線レーザ光 13 石英窓 14 捕集電極 16 高圧電源 17 電極間電界
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川原 和之 神奈川県横浜市金沢区福浦2丁目2番1号 株式会社日本製鋼所内 Fターム(参考) 3B116 AA46 AB01 BC01

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 チャンバ(10)内に設置した洗浄対象物(1
    1)にレーザ光(12)を照射し、前記洗浄対象物(11)の表面
    に付着したパーティクル(6)を除去するレーザクリーニ
    ング装置において、 前記パーティクル(6)を捕集するために前記チャンバ(1
    0)内に設けられた複数の捕集電極(14)と、 前記複数の捕集電極(14)間に電位差を与えるための電源
    (16)とを備え、前記レーザ光(12)によって帯電された帯
    電パーティクル(7)を前記複数の捕集電極(14)間の電位
    差を用いて前記捕集電極(14)で捕集するように構成した
    ことを特徴とするレーザクリーニング処理におけるパー
    ティクルの捕集装置。
  2. 【請求項2】 前記捕集電極(14)は前記レーザクリーニ
    ング装置に対して浮遊電位に保持されていることを特徴
    とする請求項1記載のレーザクリーニング処理における
    パーティクルの捕集装置。
  3. 【請求項3】 前記チャンバ(10)内は減圧されると共
    に、前記チャンバ(10)内には光電子放出材(4)が設けら
    れており、前記光電子放出材(4)に前記レーザ光(12)を
    照射することにより前記光電子放出材(4)から放出され
    た電子(5)を用いて、前記洗浄対象物(11)からパーティ
    クル(6)を帯電させて取り出すことを特徴とする請求項
    1または2記載のレーザクリーニング処理におけるパー
    ティクルの捕集装置。
  4. 【請求項4】 チャンバ(10)内に設置した洗浄対象物(1
    1)にレーザ光(12)を照射し、前記洗浄対象物(11)の表面
    に付着したパーティクル(6)を除去するレーザクリーニ
    ング装置において、 前記レーザ光(12)によるクリーニングの際に洗浄対象物
    (11)の表面に付着したパーティクル(6)を帯電させ、 前記レーザ光(12)により帯電された帯電パーティクル
    (7)を捕集するための複数の捕集電極(14)を用いて前記
    チャンバ(10)内で電位差を生じさせ、前記電位差により
    前記帯電パーティクル(7)を前記捕集電極(14)で捕集す
    ることを特徴とするレーザクリーニング処理におけるパ
    ーティクルの捕集方法。
  5. 【請求項5】 前記捕集電極(14)は前記レーザクリーニ
    ング装置に対して浮遊電位に保持されていることを特徴
    とする請求項4記載のレーザクリーニング処理における
    パーティクルの捕集方法。
  6. 【請求項6】 前記チャンバ(10)内は減圧されると共
    に、前記チャンバ(10)内には光電子放出材(4)が設けら
    れており、前記光電子放出材(4)に前記レーザ光(12)を
    照射することにより前記光電子放出材(4)から放出され
    た電子(5)を用いて、前記洗浄対象物(11)からパーティ
    クル(6)を帯電させて取り出すことを特徴とする請求項
    4または5記載のレーザクリーニング処理におけるパー
    ティクルの捕集方法。
JP2000223226A 2000-07-25 2000-07-25 レーザクリーニング処理におけるパーティクルの捕集装置及び捕集方法 Withdrawn JP2002035709A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000223226A JP2002035709A (ja) 2000-07-25 2000-07-25 レーザクリーニング処理におけるパーティクルの捕集装置及び捕集方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000223226A JP2002035709A (ja) 2000-07-25 2000-07-25 レーザクリーニング処理におけるパーティクルの捕集装置及び捕集方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002035709A true JP2002035709A (ja) 2002-02-05

Family

ID=18717352

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000223226A Withdrawn JP2002035709A (ja) 2000-07-25 2000-07-25 レーザクリーニング処理におけるパーティクルの捕集装置及び捕集方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002035709A (ja)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2840837A1 (fr) * 2002-06-13 2003-12-19 Commissariat Energie Atomique Dispositif de nettoyage d'une surface d'une piece
JP2005166970A (ja) * 2003-12-03 2005-06-23 Canon Inc 処理システム、当該処理システムを有する露光装置
US6924456B2 (en) * 2003-04-21 2005-08-02 Intel Corporation Method and apparatus for particle removal
US6992407B2 (en) 2002-07-30 2006-01-31 Tamura Corporation Precision machining stage equipment
WO2006079335A2 (de) * 2005-01-31 2006-08-03 Technische Universität Dresden Verfahren und einrichtung zur bearbeitung von materialoberflächen mittels einer strahlung unter verwendung eines elektrostatischen feldes
JP2013243245A (ja) * 2012-05-21 2013-12-05 Japan Steel Works Ltd:The パーティクル捕集機構付きレーザアニール装置
KR20160105649A (ko) * 2015-02-27 2016-09-07 주식회사 에스에프에이 파티클 포집모듈 및 그를 구비하는 레이저 식각장치
KR20170115155A (ko) * 2016-04-05 2017-10-17 삼성디스플레이 주식회사 레이저 식각 장치 및 이를 이용한 레이저 식각 방법
CN113690280A (zh) * 2021-08-11 2021-11-23 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 阵列基板的修复方法和阵列基板

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2840837A1 (fr) * 2002-06-13 2003-12-19 Commissariat Energie Atomique Dispositif de nettoyage d'une surface d'une piece
WO2003106060A2 (fr) * 2002-06-13 2003-12-24 Commissariat A L'energie Atomique Dispositif de nettoyage d'une surface d'une piece
WO2003106060A3 (fr) * 2002-06-13 2004-04-01 Commissariat Energie Atomique Dispositif de nettoyage d'une surface d'une piece
US6992407B2 (en) 2002-07-30 2006-01-31 Tamura Corporation Precision machining stage equipment
US6924456B2 (en) * 2003-04-21 2005-08-02 Intel Corporation Method and apparatus for particle removal
JP2005166970A (ja) * 2003-12-03 2005-06-23 Canon Inc 処理システム、当該処理システムを有する露光装置
JP4564742B2 (ja) * 2003-12-03 2010-10-20 キヤノン株式会社 露光装置及びデバイス製造方法
DE102005005709B4 (de) * 2005-01-31 2009-06-10 Technische Universität Dresden Einrichtung zur Bearbeitung von Materialoberflächen
WO2006079335A3 (de) * 2005-01-31 2007-01-18 Univ Dresden Tech Verfahren und einrichtung zur bearbeitung von materialoberflächen mittels einer strahlung unter verwendung eines elektrostatischen feldes
WO2006079335A2 (de) * 2005-01-31 2006-08-03 Technische Universität Dresden Verfahren und einrichtung zur bearbeitung von materialoberflächen mittels einer strahlung unter verwendung eines elektrostatischen feldes
JP2013243245A (ja) * 2012-05-21 2013-12-05 Japan Steel Works Ltd:The パーティクル捕集機構付きレーザアニール装置
KR20160105649A (ko) * 2015-02-27 2016-09-07 주식회사 에스에프에이 파티클 포집모듈 및 그를 구비하는 레이저 식각장치
KR101712483B1 (ko) * 2015-02-27 2017-03-07 주식회사 에스에프에이 파티클 포집모듈 및 그를 구비하는 레이저 식각장치
KR20170115155A (ko) * 2016-04-05 2017-10-17 삼성디스플레이 주식회사 레이저 식각 장치 및 이를 이용한 레이저 식각 방법
KR102519412B1 (ko) 2016-04-05 2023-04-10 삼성디스플레이 주식회사 레이저 식각 장치 및 이를 이용한 레이저 식각 방법
CN113690280A (zh) * 2021-08-11 2021-11-23 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 阵列基板的修复方法和阵列基板
CN113690280B (zh) * 2021-08-11 2023-11-28 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 阵列基板的修复方法和阵列基板

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3405439B2 (ja) 固体表面の清浄化方法
US4071334A (en) Method and apparatus for precipitating particles from a gaseous effluent
US5125124A (en) Electrostatic dust collector for use in vacuum system
EP0356684A2 (en) Electrostatic dust collector for use in vacuum system
JP2002035709A (ja) レーザクリーニング処理におけるパーティクルの捕集装置及び捕集方法
JP2015514236A (ja) グロー放電プラズマの陽光柱に基づきマスク及びウエハ検査システムの表面及び部品をクリーニングするためのシステム及び方法
JPH0817371A (ja) レーザープラズマx線源のデブリス除去方法及び装置
US20100172808A1 (en) Ion generator
JPH09260245A (ja) マスクの異物除去装置
JPH11214364A (ja) 半導体ウェハ処理装置
JP4073173B2 (ja) 中性粒子ビーム処理装置
JP2010118648A (ja) 基板処理装置およびそのクリーニング方法
US11476075B2 (en) Electron source and electron source unit
JP2006216453A (ja) 帯電物の除電装置及びその方法
WO2006035748A1 (ja) Euv発生装置
JPH09321008A (ja) 夾雑物除去用電極及び夾雑物の除去方法及びその除去装置
JP4408941B1 (ja) 除電装置
JPH09167593A (ja) イオン注入装置
JP3120595B2 (ja) イオンビーム引出装置
JP2005039119A (ja) プラズマ処理装置
JPH10242072A (ja) レーザ導入用窓の汚染防止方法および汚染防止装置
JPH03505650A (ja) チャネルプレートを備えたイメージ増強管の操作方法およびチャネルプレートを備えたイメージ増強管装置
JP4566382B2 (ja) パーティクル除去方法及びその装置
JP2006120585A (ja) 電子放出管とその製造方法
JPH0665200B2 (ja) 高速原子線源装置

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20060508

A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20071002