JP2002035566A - 混合装置 - Google Patents
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- JP2002035566A JP2002035566A JP2000221178A JP2000221178A JP2002035566A JP 2002035566 A JP2002035566 A JP 2002035566A JP 2000221178 A JP2000221178 A JP 2000221178A JP 2000221178 A JP2000221178 A JP 2000221178A JP 2002035566 A JP2002035566 A JP 2002035566A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は成分の異なる薬液を一定の比率で混
合することを課題とする。 【解決手段】 混合装置10は、圧縮気体供給源24か
ら供給される圧縮気体をHFタンク12に供給してHF
タンク12の上部空間の圧力を高めることにより、HF
液を脈動のない安定した状態でスタティックミキサ16
に供給することができ、HF液と純水とが均一の濃度と
なるように混合する。圧縮気体供給源24には、ガス供
給管路26の一端が接続されており、ガス供給管路26
の他端はHFタンク12に接続される。そして、ガス供
給管路26には、HFタンク12に供給される圧力を所
定圧に調整する圧力調整弁28と、HFタンク12に供
給されるガスの流量を計測するコリオリ式の質量流量計
30とが配設されている。また、質量流量計30がHF
タンク12に供給される圧縮気体の流量を計測するた
め、微少流量を高精度に計測できる。
合することを課題とする。 【解決手段】 混合装置10は、圧縮気体供給源24か
ら供給される圧縮気体をHFタンク12に供給してHF
タンク12の上部空間の圧力を高めることにより、HF
液を脈動のない安定した状態でスタティックミキサ16
に供給することができ、HF液と純水とが均一の濃度と
なるように混合する。圧縮気体供給源24には、ガス供
給管路26の一端が接続されており、ガス供給管路26
の他端はHFタンク12に接続される。そして、ガス供
給管路26には、HFタンク12に供給される圧力を所
定圧に調整する圧力調整弁28と、HFタンク12に供
給されるガスの流量を計測するコリオリ式の質量流量計
30とが配設されている。また、質量流量計30がHF
タンク12に供給される圧縮気体の流量を計測するた
め、微少流量を高精度に計測できる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば成分の異な
る複数の薬液を混合することで半導体や液晶などフラッ
トパネルディスプレイ製造プロセスに使用される混合液
を供給する混合装置に関する。
る複数の薬液を混合することで半導体や液晶などフラッ
トパネルディスプレイ製造プロセスに使用される混合液
を供給する混合装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、成分の異なる薬液を混合する混合
装置では、薬液の原液及び純水を超音波渦流量計とエア
駆動バルブとが組み込まれた構成であり、超音波渦流量
計から出力されるパルスに応じて薬液の補充量を計量し
て薬液貯溜槽(供給タンク)へ送液し、薬液貯溜槽にお
いて薬液の原液及び純水を混合している。その後、薬液
貯溜槽の混合液は、半導体製造装置へと供給される。
装置では、薬液の原液及び純水を超音波渦流量計とエア
駆動バルブとが組み込まれた構成であり、超音波渦流量
計から出力されるパルスに応じて薬液の補充量を計量し
て薬液貯溜槽(供給タンク)へ送液し、薬液貯溜槽にお
いて薬液の原液及び純水を混合している。その後、薬液
貯溜槽の混合液は、半導体製造装置へと供給される。
【0003】また、従来の混合装置においては、薬液貯
溜槽内の薬液の濃度むらを均一にするため、半導体製造
装置へ送液される薬液のうち一部を薬液貯溜槽へ還流さ
せていた。
溜槽内の薬液の濃度むらを均一にするため、半導体製造
装置へ送液される薬液のうち一部を薬液貯溜槽へ還流さ
せていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような構成とされた従来の混合装置では、次のような問
題点があった。
ような構成とされた従来の混合装置では、次のような問
題点があった。
【0005】薬液の原液を供給する原液供給ラインで
は、原液と純水との混合比が例えば1:500程度に設
定されているため、純水の供給量に対して原液の供給量
が微少であり、ポンプの圧力変動に起因する脈動や流量
の変動が生じると、原液の流量計測精度が低下して薬液
の混合濃度制御が難しくなり、混合精度が低下するとい
った問題がある。
は、原液と純水との混合比が例えば1:500程度に設
定されているため、純水の供給量に対して原液の供給量
が微少であり、ポンプの圧力変動に起因する脈動や流量
の変動が生じると、原液の流量計測精度が低下して薬液
の混合濃度制御が難しくなり、混合精度が低下するとい
った問題がある。
【0006】また、原液の流量を計測する超音波式流量
計の計測可能範囲が狭いので、原液の微少流量を正確に
計測することができず、計測精度を確保できる流量で原
液を供給する必要があった。
計の計測可能範囲が狭いので、原液の微少流量を正確に
計測することができず、計測精度を確保できる流量で原
液を供給する必要があった。
【0007】また、原液が腐食性流体の場合において
は、この液体の流量を流量計で直接計測すると、流量計
自体が腐食することにより流量計の計測精度が低下し、
よって所定の混合液の薬液を生成することができなくな
る。
は、この液体の流量を流量計で直接計測すると、流量計
自体が腐食することにより流量計の計測精度が低下し、
よって所定の混合液の薬液を生成することができなくな
る。
【0008】そこで、本発明は上記課題を解決した混合
装置を提供することを目的とする。
装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は以下のような特徴を有する。
め、本発明は以下のような特徴を有する。
【0009】上記請求項1記載の発明は、貯溜タンクに
圧縮気体を供給する加圧手段と、加圧手段により供給さ
れる圧縮気体の流量を計測する流量計と、を備えてな
り、貯溜タンクに供給された圧縮気体の圧力により貯溜
タンク内の液体を安定供給することが可能になり、これ
により液供給量が変動することを防止できるとともに、
微少流量の計測精度を高めることができる。
圧縮気体を供給する加圧手段と、加圧手段により供給さ
れる圧縮気体の流量を計測する流量計と、を備えてな
り、貯溜タンクに供給された圧縮気体の圧力により貯溜
タンク内の液体を安定供給することが可能になり、これ
により液供給量が変動することを防止できるとともに、
微少流量の計測精度を高めることができる。
【0010】また、請求項2記載の発明は、加圧手段か
ら供給される圧縮気体の圧力を所定圧に調整する圧力調
整手段を備えており、貯溜タンクに所定圧の圧縮気体を
安定供給することが可能となり、液供給量が変動するこ
とを防止できる。
ら供給される圧縮気体の圧力を所定圧に調整する圧力調
整手段を備えており、貯溜タンクに所定圧の圧縮気体を
安定供給することが可能となり、液供給量が変動するこ
とを防止できる。
【0011】また、請求項3記載の発明は、圧縮気体が
不活性ガスであるので、圧縮気体の流量を計測する流量
計が腐食するおそれがなく、長期間の計測にも耐えるの
で、流量計の計測精度を高めると共に、計測寿命を延ば
すことができる。
不活性ガスであるので、圧縮気体の流量を計測する流量
計が腐食するおそれがなく、長期間の計測にも耐えるの
で、流量計の計測精度を高めると共に、計測寿命を延ば
すことができる。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、図面と共に本発明の実施の
形態について説明する。
形態について説明する。
【0013】図1は本発明になる混合装置の一実施例の
概略構成を示すブロック図である。図1に示されるよう
に、混合装置10は、HFタンク12に貯留された50
%フッ化水素酸(腐食性流体)と、純水製造装置14に
より生成された純水とをスタティックミキサ16に供給
して所定の割合で混合し、混合液を下流側に設置された
半導体製造装置18に供給するように構成されている。
尚、フッ化水素酸は、フッ化水素(hydrogen fluoride
)の水溶液であり、以下「HF液」と記す。HFタン
ク12に貯留されたHF液は、上部空間に供給された圧
縮気体により加圧されており、HFタンク12の底部に
挿入されたHF補充路20を介してスタティックミキサ
16に供給される。このHF補充路20の接液部の材質
は、耐薬品性に優れ、極めて不純物の溶出の少ないフッ
素樹脂、例えばPFA(バーフロロアルコキシ共重合
体)などにより構成される。
概略構成を示すブロック図である。図1に示されるよう
に、混合装置10は、HFタンク12に貯留された50
%フッ化水素酸(腐食性流体)と、純水製造装置14に
より生成された純水とをスタティックミキサ16に供給
して所定の割合で混合し、混合液を下流側に設置された
半導体製造装置18に供給するように構成されている。
尚、フッ化水素酸は、フッ化水素(hydrogen fluoride
)の水溶液であり、以下「HF液」と記す。HFタン
ク12に貯留されたHF液は、上部空間に供給された圧
縮気体により加圧されており、HFタンク12の底部に
挿入されたHF補充路20を介してスタティックミキサ
16に供給される。このHF補充路20の接液部の材質
は、耐薬品性に優れ、極めて不純物の溶出の少ないフッ
素樹脂、例えばPFA(バーフロロアルコキシ共重合
体)などにより構成される。
【0014】HF補充路20には、流量調整機構付のH
F補充用エア駆動弁22が設けられている。このHF補
充用エア駆動弁22は、空気圧信号の供給により開弁ま
たは閉弁動作する。尚、HF補充用エア駆動弁22を開
弁または閉弁させるための空気配管及びエア切替弁の説
明は、省略する。
F補充用エア駆動弁22が設けられている。このHF補
充用エア駆動弁22は、空気圧信号の供給により開弁ま
たは閉弁動作する。尚、HF補充用エア駆動弁22を開
弁または閉弁させるための空気配管及びエア切替弁の説
明は、省略する。
【0015】24は圧縮気体供給源(加圧手段)で、例
えば窒素ガスなどの不活性ガスが加圧された状態で封入
されたガスボンベよりなる。尚、圧縮気体供給源24と
しては、ガスボンベの代わりにコンプレッサを用いて圧
縮空気を供給するようにしても良い。
えば窒素ガスなどの不活性ガスが加圧された状態で封入
されたガスボンベよりなる。尚、圧縮気体供給源24と
しては、ガスボンベの代わりにコンプレッサを用いて圧
縮空気を供給するようにしても良い。
【0016】圧縮気体供給源24には、ガス供給管路2
6の一端が接続されており、ガス供給管路26の他端は
HFタンク12に接続される。そして、ガス供給管路2
6には、HFタンク12に供給される圧力を所定圧に調
整する圧力調整弁28と、HFタンク12に供給される
ガスの流量を計測するコリオリ式の質量流量計30とが
配設されている。
6の一端が接続されており、ガス供給管路26の他端は
HFタンク12に接続される。そして、ガス供給管路2
6には、HFタンク12に供給される圧力を所定圧に調
整する圧力調整弁28と、HFタンク12に供給される
ガスの流量を計測するコリオリ式の質量流量計30とが
配設されている。
【0017】質量流量計30は、HFタンク12に供給
されるガスの微少流量を正確に計測できるとともに、不
活性ガスの流量を計測することにより、腐食性流体の流
量を計測するようにしているので、腐食性流体を直接計
測する場合に比べて流量計の計測精度の低下が防止され
ている。
されるガスの微少流量を正確に計測できるとともに、不
活性ガスの流量を計測することにより、腐食性流体の流
量を計測するようにしているので、腐食性流体を直接計
測する場合に比べて流量計の計測精度の低下が防止され
ている。
【0018】また、HFタンク12では、圧縮気体供給
源24から供給される圧縮気体の圧力により薬液をスタ
ティックミキサ16に吐出するため、従来のようにポン
プにより送液する場合よりも圧力変動による脈動が殆ど
ない状態でHF液を安定的に供給することができる。
源24から供給される圧縮気体の圧力により薬液をスタ
ティックミキサ16に吐出するため、従来のようにポン
プにより送液する場合よりも圧力変動による脈動が殆ど
ない状態でHF液を安定的に供給することができる。
【0019】質量流量計30から出力された流量計測信
号は、制御部32に供給される。制御部32は、後述す
るように質量流量計30からの流量計測信号により瞬時
流量を演算し、HFタンク12に供給されるガス流量が
一定値を保つように圧力調整弁28の弁開度を制御す
る。
号は、制御部32に供給される。制御部32は、後述す
るように質量流量計30からの流量計測信号により瞬時
流量を演算し、HFタンク12に供給されるガス流量が
一定値を保つように圧力調整弁28の弁開度を制御す
る。
【0020】純水製造装置14には、純水供給管路34
の一端が接続されており、純水供給管路34の他端は、
スタティックミキサ16に接続されている。尚、純水製
造装置14の内部には、生成された純水を送液するため
のポンプ(図示せず)が設けられている。
の一端が接続されており、純水供給管路34の他端は、
スタティックミキサ16に接続されている。尚、純水製
造装置14の内部には、生成された純水を送液するため
のポンプ(図示せず)が設けられている。
【0021】また、純水供給管路34には、純水供給圧
力を検出する圧力センサ36と、純水計量用超音波渦流
量計38と、流量調整機構付の純水補充用エア駆動弁4
0が配設されている。この純水補充用エア駆動弁40
は、空気圧信号の供給により開弁または閉弁動作する。
尚、純水補充用エア駆動弁40を開弁または閉弁させる
ための空気配管及びエア切替弁の説明は、省略する。
力を検出する圧力センサ36と、純水計量用超音波渦流
量計38と、流量調整機構付の純水補充用エア駆動弁4
0が配設されている。この純水補充用エア駆動弁40
は、空気圧信号の供給により開弁または閉弁動作する。
尚、純水補充用エア駆動弁40を開弁または閉弁させる
ための空気配管及びエア切替弁の説明は、省略する。
【0022】そして、制御部19は、圧力センサ36に
より検出された純水の供給圧力P1に基づいて圧力調整
弁28を作動させて圧縮気体供給源24から供給される
圧縮気体の圧力P2がP2≧P1となるように圧力調整
を行って純水がHFタンク12に逆流することを防止す
る。
より検出された純水の供給圧力P1に基づいて圧力調整
弁28を作動させて圧縮気体供給源24から供給される
圧縮気体の圧力P2がP2≧P1となるように圧力調整
を行って純水がHFタンク12に逆流することを防止す
る。
【0023】スタティックミキサ16は、内部にHF液
と純水を混合するための流路が形成されており、均一に
混合された混合液を下流側へ吐出する。また、スタティ
ックミキサ16の吐出側に接続された吐出管路42は、
電磁弁からなる三方弁44のaポートに接続されてい
る。また、三方弁44のbポートには、半導体製造装置
18に連通された供給管路46が接続されている。そし
て、三方弁44のcポートには、ドレン管路48が接続
されている。
と純水を混合するための流路が形成されており、均一に
混合された混合液を下流側へ吐出する。また、スタティ
ックミキサ16の吐出側に接続された吐出管路42は、
電磁弁からなる三方弁44のaポートに接続されてい
る。また、三方弁44のbポートには、半導体製造装置
18に連通された供給管路46が接続されている。そし
て、三方弁44のcポートには、ドレン管路48が接続
されている。
【0024】ここで、HF液と純水とを1:500の割
合で混合する場合の制御動作について説明する。
合で混合する場合の制御動作について説明する。
【0025】図2は制御部32が実行する制御処理のフ
ローチャートである。
ローチャートである。
【0026】図2に示されるように、制御部32は、ス
テップS11(以下「ステップ」を省略する)で電源ス
イッチ(図示せず)がオンに操作されると、S12に進
み、三方弁44をaポートとcポートとを連通させるよ
うに切り替える。
テップS11(以下「ステップ」を省略する)で電源ス
イッチ(図示せず)がオンに操作されると、S12に進
み、三方弁44をaポートとcポートとを連通させるよ
うに切り替える。
【0027】次のS13では、純水補充用エア駆動弁4
0を開弁させて純水の供給を開始する。続いて、S14
に進み、圧力センサ36により検出された純水の供給圧
力P1を読み込む。S15では、純水計量用超音波渦流
量計38により測定された流量Q1を読み込む。そし
て、S16において、純水の供給流量が例えば5L/m
inになるように純水補充用エア駆動弁40の弁開度を
調整する。
0を開弁させて純水の供給を開始する。続いて、S14
に進み、圧力センサ36により検出された純水の供給圧
力P1を読み込む。S15では、純水計量用超音波渦流
量計38により測定された流量Q1を読み込む。そし
て、S16において、純水の供給流量が例えば5L/m
inになるように純水補充用エア駆動弁40の弁開度を
調整する。
【0028】次のS17では、純水計量用超音波渦流量
計38により測定された流量Q1が目標流量5L/mi
nに達したかどうかをチェックしており、流量がQ1=
5L/minになるまで、流量調整を行う。そして、S
17において、流量Q1が目標流量5L/minに達す
ると、S18に進み、ガス供給管路26に設けられた圧
力調整弁28の弁開度を調整して圧縮気体供給源24か
ら供給される圧縮気体の圧力P2が純水の供給圧力P1
と同圧か僅かに大きい圧力(P2≧P1)となるように
圧力調整を行って純水がHFタンク12に逆流すること
を防止する。
計38により測定された流量Q1が目標流量5L/mi
nに達したかどうかをチェックしており、流量がQ1=
5L/minになるまで、流量調整を行う。そして、S
17において、流量Q1が目標流量5L/minに達す
ると、S18に進み、ガス供給管路26に設けられた圧
力調整弁28の弁開度を調整して圧縮気体供給源24か
ら供給される圧縮気体の圧力P2が純水の供給圧力P1
と同圧か僅かに大きい圧力(P2≧P1)となるように
圧力調整を行って純水がHFタンク12に逆流すること
を防止する。
【0029】S19では、P2≧P1となるように圧力
調整弁28の弁開度が調整されたことを確認しており、
圧縮気体の圧力P2が純水の供給圧力P1と同圧か僅か
に大きい圧力に調整されると、S20に進み、HF補充
用エア駆動弁22を開弁する。
調整弁28の弁開度が調整されたことを確認しており、
圧縮気体の圧力P2が純水の供給圧力P1と同圧か僅か
に大きい圧力に調整されると、S20に進み、HF補充
用エア駆動弁22を開弁する。
【0030】次のS21では、質量流量計30により測
定されたHFタンク12に供給されるガス流量Q2を読
み込むとともに、S22に進み、流量Q2が目標流量1
0mL/minに達したかどうかをチェックする。そし
て、S22において、HFタンク12に供給されるガス
流量Q2が目標流量10mL/minに達したとき、S
23に進み、三方弁44をaポートとbポートとを連通
するように切り替える。これで、スタティックミキサ1
6では、純水が5L/minの流量で安定供給されると
ともに、HF液が10mL/minの流量で安定供給さ
れ、HF液と純水とが1:500の割合で安定的に混合
される。
定されたHFタンク12に供給されるガス流量Q2を読
み込むとともに、S22に進み、流量Q2が目標流量1
0mL/minに達したかどうかをチェックする。そし
て、S22において、HFタンク12に供給されるガス
流量Q2が目標流量10mL/minに達したとき、S
23に進み、三方弁44をaポートとbポートとを連通
するように切り替える。これで、スタティックミキサ1
6では、純水が5L/minの流量で安定供給されると
ともに、HF液が10mL/minの流量で安定供給さ
れ、HF液と純水とが1:500の割合で安定的に混合
される。
【0031】次のS24では、電源スイッチがオフに操
作されたかどうかをチェックしており、電源スイッチが
オンであるときは上記S14に戻り、S14〜S24の
処理を繰り返す。また、S24において、電源スイッチ
がオフに操作されたときは、S25で全ての弁を閉弁さ
せて一連の制御処理を終了する。
作されたかどうかをチェックしており、電源スイッチが
オンであるときは上記S14に戻り、S14〜S24の
処理を繰り返す。また、S24において、電源スイッチ
がオフに操作されたときは、S25で全ての弁を閉弁さ
せて一連の制御処理を終了する。
【0032】このように、混合装置10は、圧縮気体供
給源24から供給される圧縮気体をHFタンク12に供
給してHFタンク12の上部空間の圧力を高めることに
より、HF液を脈動のない安定した状態でスタティック
ミキサ16に供給することができ、HF液と純水とが均
一の濃度となるように混合することができる。
給源24から供給される圧縮気体をHFタンク12に供
給してHFタンク12の上部空間の圧力を高めることに
より、HF液を脈動のない安定した状態でスタティック
ミキサ16に供給することができ、HF液と純水とが均
一の濃度となるように混合することができる。
【0033】そのため、HF液の流量を純水の流量に対
して1:500の割合となるように微少流量に調整する
場合でも安定供給することができ、混合液の濃度のばら
つきを抑制できる。また、2液を混合する手段として、
スタティックミキサ16を用いることが可能になるた
め、装置の小型化及び省スペース化を図ることができ
る。さらには、2液を混合するためのタンクを設ける必
要がなくなるので、また、本実施例では、HF液の流量
を直接計測するのではなく、質量流量計30がHFタン
ク12に供給される圧縮気体の流量を計測するため、微
少流量を高精度に計測できるので、2液を混合された混
合液の濃度調整を安定的に行うことができる。
して1:500の割合となるように微少流量に調整する
場合でも安定供給することができ、混合液の濃度のばら
つきを抑制できる。また、2液を混合する手段として、
スタティックミキサ16を用いることが可能になるた
め、装置の小型化及び省スペース化を図ることができ
る。さらには、2液を混合するためのタンクを設ける必
要がなくなるので、また、本実施例では、HF液の流量
を直接計測するのではなく、質量流量計30がHFタン
ク12に供給される圧縮気体の流量を計測するため、微
少流量を高精度に計測できるので、2液を混合された混
合液の濃度調整を安定的に行うことができる。
【0034】ここで、本発明の変形例について説明す
る。
る。
【0035】図3は本発明の変形例1の構成を示すブロ
ック図である。
ック図である。
【0036】図3に示されるように、混合装置50は、
HF補充路20及び純水供給管路34の下流側先端部分
が挿入された供給タンク52を有する。供給タンク52
では、前述したようにHF補充用エア駆動弁22の開弁
によりHF補充路20を介してHF液が補充されると共
に、上記純水補充用エア駆動弁40の開弁により純水供
給管路34を介して純水が補充され、HF液と純水が所
定の割合で混合された混合液が生成される。
HF補充路20及び純水供給管路34の下流側先端部分
が挿入された供給タンク52を有する。供給タンク52
では、前述したようにHF補充用エア駆動弁22の開弁
によりHF補充路20を介してHF液が補充されると共
に、上記純水補充用エア駆動弁40の開弁により純水供
給管路34を介して純水が補充され、HF液と純水が所
定の割合で混合された混合液が生成される。
【0037】また、供給タンク52において、HF液が
10mL/minの流量で安定供給され、純水が5L/
minの流量で安定供給されるため、例えば一定の比率
(1:500)で混合される。さらに、供給タンク52
には、混合液の液面を監視する第1、第2液面センサ5
6,57が挿入されている。第1液面センサ56は、混
合液の上限位置を検知するレベルゲージであり、第2液
面センサ57は、混合液の下限位置を検知するレベルゲ
ージである。
10mL/minの流量で安定供給され、純水が5L/
minの流量で安定供給されるため、例えば一定の比率
(1:500)で混合される。さらに、供給タンク52
には、混合液の液面を監視する第1、第2液面センサ5
6,57が挿入されている。第1液面センサ56は、混
合液の上限位置を検知するレベルゲージであり、第2液
面センサ57は、混合液の下限位置を検知するレベルゲ
ージである。
【0038】供給タンク52内で混合された混合液(薬
液)は、薬液供給ポンプ53により圧送されて供給管路
46を介して半導体製造装置45へ送液される。また、
薬液供給ポンプ53の下流側には、流量調整機構付きの
薬液供給用エア駆動弁55が設けられている。
液)は、薬液供給ポンプ53により圧送されて供給管路
46を介して半導体製造装置45へ送液される。また、
薬液供給ポンプ53の下流側には、流量調整機構付きの
薬液供給用エア駆動弁55が設けられている。
【0039】また、供給タンク52と半導体製造装置4
5との間には、半導体製造装置45で余った余剰混合液
を供給タンク52へ戻す回収管路59が連通されてい
る。そのため、供給タンク5では、HF補充用管路20
から補充されるHF液と、純水補充用管路34から補充
される純水と、回収管路59から回収された混合液とが
混合される。
5との間には、半導体製造装置45で余った余剰混合液
を供給タンク52へ戻す回収管路59が連通されてい
る。そのため、供給タンク5では、HF補充用管路20
から補充されるHF液と、純水補充用管路34から補充
される純水と、回収管路59から回収された混合液とが
混合される。
【0040】このように、混合装置50は、圧縮気体供
給源24から供給される圧縮気体をHFタンク12に供
給してHFタンク12の上部空間の圧力を高めることに
より、HF液を脈動のない安定した状態で供給タンク5
2に供給できるとともに、HF液と純水とを一定の比率
で正確に混合することができる。
給源24から供給される圧縮気体をHFタンク12に供
給してHFタンク12の上部空間の圧力を高めることに
より、HF液を脈動のない安定した状態で供給タンク5
2に供給できるとともに、HF液と純水とを一定の比率
で正確に混合することができる。
【0041】図4は本発明の変形例2の構成を示すブロ
ック図である。
ック図である。
【0042】図4に示されるように、変形例2におい
て、ガス供給管路26には、上記質量流量計30の代わ
りに流量調整手段としての流量調整弁60と、流量調整
弁60により調整された不活性ガスの流量を計測する流
量計61とが設けられている。流量計61は、タービン
式流量計あるいは容積式流量計などからなり、ガス供給
管路26を流れる不活性ガスの流量に比例した流量パル
スを制御部32に出力する。
て、ガス供給管路26には、上記質量流量計30の代わ
りに流量調整手段としての流量調整弁60と、流量調整
弁60により調整された不活性ガスの流量を計測する流
量計61とが設けられている。流量計61は、タービン
式流量計あるいは容積式流量計などからなり、ガス供給
管路26を流れる不活性ガスの流量に比例した流量パル
スを制御部32に出力する。
【0043】制御部32では、上記図2に示す処理を実
行すると共に、流量計60から出力された流量パルスを
積算して現在の瞬時流量を演算する。そして、制御部3
2は、予め設定されている当該流量計61の計測可能範
囲と計測された流量計測値とを比較し、流量計測値が計
測可能範囲の最小値以下のときは流量調整弁60の弁開
度を弁開方向に駆動し、流量計測値が計測可能範囲の最
大値以上のときは流量調整弁60の弁開度を弁閉方向に
駆動する。
行すると共に、流量計60から出力された流量パルスを
積算して現在の瞬時流量を演算する。そして、制御部3
2は、予め設定されている当該流量計61の計測可能範
囲と計測された流量計測値とを比較し、流量計測値が計
測可能範囲の最小値以下のときは流量調整弁60の弁開
度を弁開方向に駆動し、流量計測値が計測可能範囲の最
大値以上のときは流量調整弁60の弁開度を弁閉方向に
駆動する。
【0044】これにより、流量計61は、ガス供給管路
26を流れる不活性ガスの流量を常に計測可能範囲の流
量で計測できるので、計測精度を保持することができ、
不活性ガスの混合制御の信頼性をより高めることができ
る。
26を流れる不活性ガスの流量を常に計測可能範囲の流
量で計測できるので、計測精度を保持することができ、
不活性ガスの混合制御の信頼性をより高めることができ
る。
【0045】尚、本実施の形態では、フッ化水素酸と純
水とを所定の割合で混合させる場合を一例として挙げた
が、他の薬液を混合する場合にも本発明が適用できるの
は勿論である。
水とを所定の割合で混合させる場合を一例として挙げた
が、他の薬液を混合する場合にも本発明が適用できるの
は勿論である。
【0046】また、本実施の形態では、フッ化水素酸と
純水との2種類の液体を混合する場合を一例として説明
したが、成分が異なる2種以上の液体を混合させる場合
にも本発明が適用できるのは勿論である。
純水との2種類の液体を混合する場合を一例として説明
したが、成分が異なる2種以上の液体を混合させる場合
にも本発明が適用できるのは勿論である。
【0047】
【発明の効果】上述の如く、請求項1記載の発明によれ
ば、貯溜タンクに圧縮気体を供給する加圧手段と、加圧
手段により供給される圧縮気体の流量を計測する流量計
と、を備えてなるため、貯溜タンクに供給された圧縮気
体の圧力により貯溜タンク内の液体を安定供給すること
が可能になり、これにより液供給量が変動することを防
止できるとともに、微少流量の計測精度を高めることが
できる。そのため、希薄濃度の薬液を調合する際、所定
の比率になるように薬液の調合精度を高めることが可能
になり、微少流量の薬液と大流量の薬液とを所定の比率
で均一に混合することができる。
ば、貯溜タンクに圧縮気体を供給する加圧手段と、加圧
手段により供給される圧縮気体の流量を計測する流量計
と、を備えてなるため、貯溜タンクに供給された圧縮気
体の圧力により貯溜タンク内の液体を安定供給すること
が可能になり、これにより液供給量が変動することを防
止できるとともに、微少流量の計測精度を高めることが
できる。そのため、希薄濃度の薬液を調合する際、所定
の比率になるように薬液の調合精度を高めることが可能
になり、微少流量の薬液と大流量の薬液とを所定の比率
で均一に混合することができる。
【0048】また、請求項2記載の発明によれば、加圧
手段から供給される圧縮気体の圧力を所定圧に調整する
圧力調整手段を備えてなるため、貯溜タンクに所定圧の
圧縮気体を安定供給することが可能となり、液供給量が
変動することを防止できる。また、請求項3記載の発明
によれば、圧縮気体が不活性ガスであるので、圧縮気体
の流量を計測する流量計が腐食するおそれがなく、長期
間の計測にも耐えるので、流量計の計測精度を高めると
共に、計測寿命を延ばすことができる。
手段から供給される圧縮気体の圧力を所定圧に調整する
圧力調整手段を備えてなるため、貯溜タンクに所定圧の
圧縮気体を安定供給することが可能となり、液供給量が
変動することを防止できる。また、請求項3記載の発明
によれば、圧縮気体が不活性ガスであるので、圧縮気体
の流量を計測する流量計が腐食するおそれがなく、長期
間の計測にも耐えるので、流量計の計測精度を高めると
共に、計測寿命を延ばすことができる。
【図1】本発明になる混合装置の一実施例の概略構成を
示すブロック図である。
示すブロック図である。
【図2】制御部19で実行される薬液混合制御処理の手
順を説明するためのフローチャートである。
順を説明するためのフローチャートである。
【図3】混合装置の変形例1の概略構成を説明するため
のブロック図である。
のブロック図である。
【図4】混合装置の変形例2の概略構成を説明するため
のブロック図である。
のブロック図である。
10,50 混合装置 12 HFタンク 14 純水製造装置 20 HF供給路 22 HF供給用エア駆動弁 24 圧縮気体供給源24 28 圧力調整弁 30 質量流量計 32 制御部 34 純水供給路 36 圧力センサ 38 純水計量用超音波渦流量計 40 純水供給用エア駆動弁 52 供給タンク 60 流量調整弁 61 流量計
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4G035 AB36 AE02 AE13 4G037 BA01 BB06 BC02 BC03 BD01 BD02 EA01 5F043 EE24 EE28 EE29 EE31 GG10
Claims (3)
- 【請求項1】 液体が貯溜された複数の貯溜タンクと、
該貯溜タンクより供給された液体を供給タンクに補充す
る複数の補充ラインと、前記各液体を所定の比率で前記
供給タンクにて混合させるために前記各補充ラインから
所定量の液体を補充させるべく、前記計量手段からの信
号に基づき前記各弁手段を制御する制御手段と、を有す
る混合装置において、 前記貯溜タンクに圧縮気体を供給する加圧手段と、 前記加圧手段により供給される圧縮気体の流量を計測す
る流量計と、 を備えてなることを特徴とする混合装置。 - 【請求項2】 前記加圧手段から供給される圧縮気体の
圧力を所定圧に調整する圧力調整手段を備えてなること
を特徴とする請求項1記載の混合装置。 - 【請求項3】 前記圧縮気体は、不活性ガスであること
を特徴とする請求項1または2記載の混合装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000221178A JP2002035566A (ja) | 2000-07-21 | 2000-07-21 | 混合装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000221178A JP2002035566A (ja) | 2000-07-21 | 2000-07-21 | 混合装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002035566A true JP2002035566A (ja) | 2002-02-05 |
Family
ID=18715641
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000221178A Pending JP2002035566A (ja) | 2000-07-21 | 2000-07-21 | 混合装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002035566A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109411389A (zh) * | 2017-08-16 | 2019-03-01 | 细美事有限公司 | 清洁液供应单元、基板处理装置及基板处理方法 |
-
2000
- 2000-07-21 JP JP2000221178A patent/JP2002035566A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109411389A (zh) * | 2017-08-16 | 2019-03-01 | 细美事有限公司 | 清洁液供应单元、基板处理装置及基板处理方法 |
CN109411389B (zh) * | 2017-08-16 | 2022-01-14 | 细美事有限公司 | 清洁液供应单元、基板处理装置及基板处理方法 |
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