JPH11218299A - 液管理装置 - Google Patents

液管理装置

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JPH11218299A
JPH11218299A JP2004498A JP2004498A JPH11218299A JP H11218299 A JPH11218299 A JP H11218299A JP 2004498 A JP2004498 A JP 2004498A JP 2004498 A JP2004498 A JP 2004498A JP H11218299 A JPH11218299 A JP H11218299A
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liquid
cleaning liquid
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cleaning
flow
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JP2004498A
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Yasuhiro Tsunokake
泰洋 角掛
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Tokico Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 性状変化に応じた吸光度の変化がない液体の
性状変化を検知する。 【解決手段】 本発明は、液体の流路9を備える液管理
装置であって、特に、流路9内における前記液体の流量
を測定する流量測定手段13と、その下流側にて流路9
を狭さくし、上流側の前記液体を加圧する狭さく手段1
4とを具備することをその特徴としている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体装置
の製造に使用される洗浄液の管理に使用される液管理装
置に関する。
【0002】
【従来の技術】この種の液管理装置としては、例えば特
願平8−305379号に開示のものがある。この液管
理装置では、洗浄液調合装置にて調合された洗浄液の一
部を吸光度計内に流入させ、吸光度計内に設置された、
予めゼロ点補正済みのフローセルにて、所定波長(洗浄
液がレジスト剥離液である場合には380nm)における
洗浄液の吸光度を連続的に測定し、吸光度の値及びその
変化量に基づき、洗浄液の種類に応じた方法で、洗浄液
の洗浄力を管理するものである。また、吸光度計のゼロ
点補正は、実際の洗浄に使用された洗浄液を用いた吸光
度の測定に先立ち、同一条件下にて新品の洗浄液を用い
て吸光度を測定し、その際の吸光度をゼロとすることに
より行う。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の液管理装置では、例えば以下のような問題がある。 (1)吸光度に基づき洗浄液の洗浄力を判断するため、
洗浄力が低下しても洗浄液の吸光度が変化しない場合に
は適用できない。 (2)吸光度計の出力が時間の経過とともにドリフトす
るので、測定を正確に行うためには、吸光度計のゼロ点
補正を頻繁に行う必要がある。 (3)吸光度計に対する洗浄液の流入量が多く、洗浄液
が無駄となる。 (4)吸光度計の光源ランプが切れやすく、保守に手間
と費用がかかる。 (5)流路の構成が複雑でジョイント部分が多数存在す
るため、液漏れを起こしやすい。 (6)高温の洗浄液が流入すると、吸光度計が破損する
恐れがある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は上記事情に鑑み
てなされたもので、液体の流路を備える液管理装置であ
って、特に、前記流路内における前記液体の流量を測定
する流量測定手段と、その下流側にて前記流路を狭さく
し、上流側の前記液体を加圧する狭さく手段とを具備す
ることをその特徴としている。
【0005】ここで、前記液体が物品の洗浄に使用され
る洗浄液である場合には、前記流量測定手段と狭さく手
段とを、前記洗浄液の貯留部から延びる流路に設け、前
記流量測定手段と狭さく手段との間に、前記流路内にお
ける洗浄液の圧力を測定する圧力測定手段を設けるとと
もに、前記圧力測定手段の測定結果から前記洗浄液にお
ける夾雑物の溶解量を算出する演算手段を設ける。
【0006】あるいは、前記流量測定手段と狭さく手段
とを、前記洗浄液の貯留部から延びる流路に設けるとと
もに、前記狭さく手段と流量測定手段との間の前記流路
から、上端が閉塞された管路を立接させ、この管路に、
管路内における前記洗浄液の液面の位置を検出する位置
検出手段を設けてもよい。
【0007】一方、前記前記流量測定手段には、例えば
超音波渦流量計に代表される無可動式流量計が用いられ
る。
【0008】更に、前記狭さく手段には、例えば狭さく
手段より上流側における前記液体の圧力を調節可能な絞
弁が用いられる。前記流量測定手段の上流側に、前記流
路内の液体を冷却する冷却手段を設けてもよい。
【0009】また、前記流量測定手段と狭さく手段と
を、物品の洗浄に使用される洗浄液の原料の流路に設け
てもよい。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、図面に基づき、本発明の実
施形態について説明する。本発明に係る液管理装置の第
一の実施形態を図1に示す。符号1は洗浄液貯留部で、
洗浄液貯留部1には、半導体装置の洗浄装置2にて使用
される洗浄液(レジスト剥離液)が貯留されている。洗
浄液貯留部1から洗浄装置2へは流路3を介して洗浄液
が供給され、洗浄装置2にてオーバーフローした洗浄液
は、流路4を介して洗浄液貯留部1に還流される。
【0011】符号5は洗浄液調合装置で、洗浄液調合装
置5にて調合された洗浄液は、必要に応じ、流路6を介
して洗浄液貯留部1に供給される。また、符号7は洗浄
液貯留部1に設けられた洗浄液排出路で、洗浄液排出路
7に設置された弁8を開くことにより、洗浄液貯留部1
内の洗浄液が排出される。
【0012】符号9は、流路3から分岐するサンプリン
グ流路(流路)である。サンプリング流路9には流路切
換弁10が設けられ、流路切換弁10の流入側を一定時
間毎に切り換えることにより、複数の流路3を順次サン
プリング流路9に連結させることが可能となっている。
また、符号11は、流路切換弁10の下流側にてサンプ
リング流路9に設けられたポンプで、ポンプ11の作動
により、洗浄液の一部が、流路3から流路切換弁10を
介してサンプリング流路9内に流入する。
【0013】符号12は、ポンプ11の下流側にてサン
プリング流路9に設けられた冷却器である。冷却器12
は、螺旋状に屈曲するサンプリング流路9の周囲を両端
が閉塞された管体で覆ったもので、サンプリング流路9
と、入水口12aから管体内に流入して出水口12bか
ら流出する冷却水との間で熱交換を行うことにより、サ
ンプリング流路9内の洗浄液が所定の温度に冷却され
る。
【0014】符号13は、冷却器12の下流側にてサン
プリング流路9に設けられたマスフローコントローラ
(流量測定手段)である。マスフローコントローラ13
は、サンプリング流路9内の洗浄液の流量が常時一定と
なるよう、洗浄液の流量を制御している。また、符号1
4は、マスフローコントローラ13の下流側にてサンプ
リング流路9を狭さくし、上流側の洗浄液を加圧するオ
リフィス(狭さく手段)である。サンプリング流路9
は、オリフィス14から更に下流側に延び、流路切換弁
10に延びるサンプリング流路9との分岐点より下流側
にて、流路3に連結されている。
【0015】符号15は、マスフローコントローラ13
とオリフィス14との間にてサンプリング流路9に設け
られた圧力センサ(圧力測定手段)である。圧力センサ
15は、その設置箇所における洗浄液の圧力を常時測定
し、この圧力を直流電圧に変換して、制御部16に送信
する。制御部16は、圧力センサ15の測定結果から洗
浄液における夾雑物(レジスト)の溶解量を算出する演
算手段を備えている。また、符号17は、演算手段の演
算結果を表示する表示パネルである。
【0016】ここで、演算手段における、夾雑物の溶解
量算出の原理について説明する。洗浄液に夾雑物が溶解
すると、洗浄液の粘度が上昇する。従って、洗浄液の流
速及び温度が一定であれば、洗浄液の圧力と洗浄液にお
ける夾雑物の溶解量との間には、例えば図2に示すよう
な関係が成立する。そこで、本実施形態では、この関係
式を予め演算手段に記憶させておき、サンプリング流路
9にオリフィス14を設けて洗浄液の圧力を高め、この
圧力を圧力センサ15にて測定し、演算手段に記憶され
た関係式に入力することにより、夾雑物の溶解量を算出
している。
【0017】次に、上記構成を有する液管理装置の動作
について説明する。洗浄液調合装置5にて調合され、洗
浄液貯留部1に貯留された洗浄液は、流路3を介して洗
浄装置2に送られ、洗浄装置2にて、半導体装置の洗浄
(レジスト剥離)に使用される。
【0018】一方、ポンプ11の作動により流路3から
サンプリング流路9内に流入した洗浄液は、冷却器にて
所定の温度に冷却され、マスフローコントローラ13に
て一定の流量に制御された後、オリフィス14にて加圧
される。この圧力は圧力センサ15を介して制御部16
に送信され、制御部16にて、洗浄液中における夾雑物
(レジスト)の溶解量が算出される。
【0019】算出結果は表示パネル17に表示されると
ともに、算出結果に基づき、洗浄液調合装置5から洗浄
液貯留部1への洗浄液の継ぎ足しや、洗浄液貯留部1に
おける洗浄液の一部または全量交換等の操作を行う。こ
こで、上記操作は、全て制御部16の制御により自動的
に行われる。また、オリフィス14を通過した洗浄液
は、実際の洗浄に使用される洗浄液を単に冷却したもの
に過ぎないので、廃液とはせず、サンプリング流路9か
ら流路3へと還流し、洗浄に使用される。
【0020】上記構成を有する液管理装置によれば、以
下の効果が得られる。 (1)流路内における洗浄液の圧力変化に基づき洗浄液
の洗浄力を判断するため、洗浄力が低下しても洗浄液の
吸光度が変化しない場合でも適用可能である。 (2)部品単数が少なく、流路の構成が単純であるた
め、装置の保守が容易で、かつ液漏れや装置の破損等も
起こりにくい。また、高価な消耗部品が少ないので、ラ
ンニングコストも低い。 (3)液管理装置への洗浄液の流入量が少なく、しかも
流入した洗浄液が無駄とならない。 (4)洗浄液の洗浄力を常時監視するため、洗浄液の洗
浄力が常時最適状態に保たれ、洗浄効果が向上する。ま
た、同様の理由により、上記最適状態が、洗浄液の全量
交換ではなく、継ぎ足しや一部交換により維持されるこ
とが多くなるため、洗浄液の使用量が減少し、コストダ
ウンが図れる。
【0021】本発明に係る液管理装置の第二の実施形態
を図3に示す。本実施形態では、第一の実施形態の圧力
センサ15に換えて、マスフローコントローラ13とオ
リフィス14との間にて、サンプリング流路9から、上
端が閉塞された管路21を立接させたものである。この
管路21には、例えばPFA(パーフルオロアルキルエ
ーテル重合体)チューブのような、透明の耐薬品性チュ
ーブが使用され、かつ管路21の上端には、大気圧状態
の空気Aが封入されている。
【0022】また、管路21には、上方から、液劣化上
限レベルセンサ22及び液劣化下限レベルセンサ23が
設けられている。これらのセンサ22,23は、いずれ
も管路21内における洗浄液の液面の位置を検出する位
置検出手段として機能するもので、具体的には、センサ
22,23の設置位置における管路21内の光の反射の
違いにより、センサ22,23の設置位置における管路
21内の洗浄液の有無を検知するものである。
【0023】これらのセンサ22,23の検出値はいず
れも制御部16に送信されるが、本実施形態の場合、第
一の実施形態と異なり、制御部16で、洗浄液における
夾雑物の溶解量を算出する必要はない。従って、制御部
16は演算手段を備えておらず、かつ表示パネル17も
ない。
【0024】次いで、上記構成を有する液管理装置の動
作について、図4に示すフローチャートとともに説明す
る。本実施形態の場合、オリフィス14にて加圧された
洗浄液は圧力に応じて管路21内を上昇するが、上記の
通り、洗浄液の圧力と洗浄液における夾雑物の溶解量と
の間には相関が存在するので、夾雑物の溶解量が増加す
ると、管路21内における洗浄液の液面も上昇する。
【0025】やがて、液劣化下限レベルセンサ23が洗
浄液の液面を検知し、次いで、液劣化上限レベルセンサ
22が洗浄液の液面を検知すると(S1)、洗浄液調合
装置5から洗浄液貯留部1に新たな洗浄液が供給される
とともに、弁8が開き、洗浄液貯留部1内に貯留され
た、夾雑物を含む洗浄液が、洗浄液排出路7を介して排
出される(S2)。ここで、洗浄液貯留部1からの洗浄
液の排出量は、洗浄液調合装置5からの供給量より10
〜20%少なくなるよう予め設定されている。
【0026】新たな洗浄液の供給に伴い、サンプリング
流路9内における洗浄液の圧力が低下すると、管路21
内における洗浄液の液面も下降する。やがて、センサ2
2,23が洗浄液の液面を検知しなくなる(S3)と、
洗浄液調合装置5からの洗浄液の供給が停止されるとと
もに、弁8が閉じ、洗浄液貯留部1からの洗浄液の排出
が停止される(S4)。そして、上記S1〜S4のステ
ップが1回終了すると、制御部16内のカウンタが1回
加算される(S5)。また、上記S1〜S5のステップ
は、カウンタが10を越えるまで繰り返し行われる(S
6)。
【0027】一方、本実施形態では、S1〜S5のステ
ップを10回繰り返したところで、洗浄液貯留部1内に
貯留された洗浄液が寿命に達したものと判断する。すな
わち、上記S6にてカウンタが10を越えると、弁8が
開き(S7)、洗浄液貯留部1内に貯留された洗浄液が
全て排出される。洗浄液の排出が完了する(S8)と、
弁8が閉じるとともに、洗浄液調合装置5からの洗浄液
の供給が開始される(S9)。
【0028】そして、洗浄液貯留部1内に所定量の洗浄
液が貯留される(S10)と、洗浄液調合装置5からの
洗浄液の供給が停止され(S11)、カウンタがリセッ
トされ(S12)、センサ22,23によるモニタリン
グ動作(S1〜S5)に戻る。また、上記操作は、全て
制御部16の制御により自動的に行われる。
【0029】このように、上記構成を有する液管理装置
では、センサ22,23の設置位置における管路21内
の洗浄液の有無を検知し、この検知結果及び検知回数に
基づき、洗浄液調合装置5から洗浄液貯留部1への洗浄
液の継ぎ足しや、洗浄液貯留部1における洗浄液の一部
または全量交換等の操作を自動的に行っている。すなわ
ち、上記構成を有する液管理装置においても、上記第一
の実施形態に示す液管理装置と同様の効果が得られる。
【0030】加えて、上記構成を有する液管理装置で
は、 (5)管路21の上端に封入された空気Aが、管路21
への加圧/減圧に伴い伸縮するため、ポンプ11の脈動
の影響が吸収される。 (6)管路21内における洗浄液の液面の位置を液管理
の基準としているため、電気的ノイズの影響を受けにく
い。という効果もある。
【0031】なお、上記第一及び第2の実施形態に示す
液管理装置では、いずれも、サンプリング流路9を洗浄
液貯留部1から洗浄装置2に至る流路3に設けたが、サ
ンプリング流路9を洗浄液貯留部1に直接設けてもよ
い。また、洗浄装置2が洗浄液貯留部を内蔵する場合に
は、その洗浄液貯留部に設けてもよい。
【0032】一方、本発明に係る液管理装置の原理は、
洗浄液調合装置5にも適用可能である。この洗浄液調合
装置5の例を図5に示す。この洗浄液調合装置5は、過
酸化水素水とアンモニア水と純水とから洗浄液を調合す
るためのもので、符号31は過酸化水素水の貯留タン
ク、符号32はアンモニア水の貯留タンク、符号33は
純水の貯留タンクである。
【0033】貯留タンク31は、内面が平滑なPFA製
とされた流路34を介して洗浄液調合タンク35に連結
されている。流路34には、接続部がPFA製とされた
超音波渦流量計(無可動式流量計)36が設けられ、超
音波渦流量計36の下流側には、自動可変絞弁(狭さく
手段)37及び遮断弁38が設けられている。
【0034】符号39は、貯留タンク32と洗浄液調合
タンク35とを連結する流路である。流路39は流路3
4と同様の構造を有し、かつ流路39には、上流側か
ら、流路34に設けられたものと同様の構造を有する超
音波渦流量計40、自動可変絞弁(狭さく手段)41、
及び遮断弁42が設けられている。また、符号43,4
4は、超音波渦流量計36,40の上流側にて流路3
4,39にそれぞれ設けられた圧力センサである。
【0035】符号45は、貯留タンク33と洗浄液調合
タンク35とを連結する流路で、流路45には、上流側
から、超音波渦流量計46及び遮断弁47が設けられて
いる。また、符号48は、洗浄液調合タンク35と洗浄
液貯留部1とを連結する流路6に設けられた弁、符号5
0は、超音波渦流量計36,40,46及び圧力センサ
43,44からの信号を受け、自動可変絞弁37,41
及び遮断弁38,42,47を制御する制御手段であ
る。
【0036】次に、上記構成を有する洗浄液調合装置5
の動作について説明する。洗浄液の調合に際しては、ま
ず、遮断弁38,42を開き、貯留タンク31,32か
ら、30%過酸化水素水及び28%アンモニア水(以
下、薬液と総称する)を、それぞれ流路34,39を介
して洗浄液調合タンク35に供給する。また、薬液の供
給と同時に、圧力センサ43,44からの信号に基づ
き、流路34,39内における薬液の圧力が所定範囲内
に納まるよう、自動可変絞弁37,41の絞りを調節す
るとともに、流路34,39内における薬液の流量を、
超音波渦流量計36,40にてそれぞれ測定する。そし
て、超音波渦流量計36,40にて測定した薬液の積算
流量がそれぞれ所定値に達したところで、遮断弁38,
42を閉じ、流路34,39を閉鎖する。
【0037】薬液の供給が完了したら、遮断弁47を開
き、貯留タンク33から、純水を流路45を介して洗浄
液調合タンク35に供給するとともに、流路45内にお
ける純水の流量を、超音波渦流量計46にて測定する。
そして、純水の積算流量が所定値に達したところで、遮
断弁47を閉じ、流路45を閉鎖する。また、上記操作
は、全て制御部50の制御により自動的に行われる。一
方、薬液及び純水の供給により洗浄液調合タンク35内
にて調合された洗浄液は、弁48を開くことにより、流
路6を介して洗浄液貯留部1に供給される。
【0038】ここで、自動可変絞弁37,41の作用に
ついて説明する。超音波渦流量計36,40は、小型で
測定精度が高いという特長を有する反面、液中に気泡が
発生すると、超音波の伝播やカルマン渦の生成に支障を
きたし、高精度な計量ができなくなるという欠点を有し
ている。そこで、この洗浄液調合装置5では、超音波渦
流量計36,40の下流側に自動可変絞弁37,41を
設け、薬液の圧力を高めることにより、薬液中における
気泡の発生を防止している。
【0039】また、気泡の発生が抑制される圧力は、薬
液の種類、濃度、及び温度により異なるため、この洗浄
液調合装置5では、圧力センサ43,44からの信号に
基づき、自動可変絞弁37,41の絞りを自動的に調節
し、流路34,39内における圧力を調節している。例
えば、液温25℃の30%過酸化水素水の場合、圧力が
2.6kPa以上であれば過酸化水素が遊離しないの
で、安全率を見込んで、流路34内における圧力が0.
05MPa以上となるよう、自動可変絞弁37の絞りを
調節する。また、液温25℃の30%アンモニア水の場
合、圧力が0.11MPa以上であればアンモニアガス
が遊離しないので、流路39内における圧力が0.11
MPa以上となるよう、自動可変絞弁41の絞りを調節
する。
【0040】すなわち、この洗浄液調合装置5では、自
動可変絞弁37,41にて流路34,39内における薬
液を加圧することにより、薬液からの気泡の発生が防止
され、その結果、従来発泡性の薬液に対して使用できな
かった超音波渦流量計36,40が使用可能となってい
る。また、超音波渦流量計36,40が使用可能である
ため、秤量槽にて薬液の計量を行っていた従来の洗浄液
調合装置5に比べ、高精度の計量が可能である。更に、
秤量槽のような大型の部品が不要となり、かつ部品点数
も減少するため、従来の洗浄液調合装置5に比べ、装置
の小型化が可能となる。
【0041】図6は、本発明の原理を利用した洗浄液調
合装置5の他の例を示すものである。この洗浄液調合装
置5では、図5に示す装置の構成に加え、超音波渦流量
計36,40より上流側の流路34,39に、例えばペ
ルチェ冷却素子のような冷却手段51,52をそれぞれ
設けるとともに、冷却手段51,52と超音波渦流量計
36,40との間の流路34,39に、三方弁53,5
4をそれぞれ設けたものである。
【0042】また、三方弁53,54は、流路55,5
6を介して、貯留タンク31,32にそれぞれ連結され
ている。すなわち、この洗浄液調合装置5では、冷却手
段51,52を通過後の薬液が、三方弁53,54に
て、超音波渦流量計36,40側、または貯留タンク3
1,32側のいずれか(通常は超音波渦流量計36,4
0側)に流下可能とされている。
【0043】一方、冷却手段51,52と三方弁53,
54との間の流路34,39には、圧力センサ43,4
4に換えて、温度センサ57,58がそれぞれ設置され
ている。また、冷却手段51,52、三方弁53,5
4、及び温度センサ57,58は、いずれも制御手段5
0に接続されている。
【0044】この洗浄液調合装置5では、自動可変絞弁
37,41にて薬液を加圧することによる薬液からの気
泡の発生防止に加え、液体に対する気体の溶解度が低温
となるほど大きくなることを利用して、薬液からの気泡
の発生を防止している。すなわち、薬液を、冷却手段5
1,52にて、所定の温度(例えば2〜5℃)に冷却し
てから超音波渦流量計36,40に流入させることによ
り、薬液からの過酸化水素やアンモニアの遊離が防止さ
れ、その結果、超音波渦流量計36,40における更に
高精度な計量が可能となっている。
【0045】更に、冷却後の薬液の液温を温度センサ5
7,58にて常時モニターし、液温が上記所定温度を越
えた場合には、三方弁53,54を切換え、薬液を、流
路55,56を介して貯留タンク31,32に還流させ
ることにより、発泡の恐れがある薬液の超音波渦流量計
36,40への流入を防止している。また、上記操作
も、全て制御部50の制御により自動的に行われる。
【0046】なお、流量計36,40には、超音波渦流
量計以外の無可動式流量計も使用可能であることは言う
までもない。
【0047】また、上記の説明では、対象となる液体と
してレジスト剥離液を例に挙げて説明したが、本発明の
技術は、他の半導体装置や液晶パネル、あるいはプラズ
マディスプレイ等の製造に使用される洗浄液や、更には
現像液、リンス液等についても適用可能である。
【0048】
【発明の効果】以上説明した通り、本発明の液管理装置
によれば、以下のような効果が得られる。 (イ)流路内における液体の圧力変化に基づき液体の性
状変化を判断するため、性状が低下しても吸光度が変化
しない液体に対しても適用可能である。 (ロ)部品単数が少なく、流路の構成が単純であるた
め、装置の保守が容易で、かつ液漏れや装置の破損等も
起こりにくい。また、高価な消耗部品が少ないので、ラ
ンニングコストも低い。 (ハ)液管理装置への液体の流入量が少なく、しかも流
入した液体が無駄とならない。 (ニ)液体の性状変化を流量測定手段にて常時監視する
ため、液体の性状が常時最適状態に保たれ、液体の使用
効果が向上する。また、同様の理由により、上記最適状
態が、液体の全量交換ではなく、継ぎ足しや一部交換に
より維持されることが多くなるため、液体の使用量が減
少し、コストダウンが図れる。 (ホ)液体を加圧することにより、液体からの気泡の発
生が防止されるため、従来発泡性の液体に対して使用で
きなかった、例えば超音波渦流量計のような機器が使用
可能となる。 (ヘ)液体の加圧に先立ち、液体を冷却して気体の液体
への溶解度を増大させることにより、気泡の発生がより
確実に防止される。その結果、上記(ホ)の効果が更に
高められる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第一の実施形態を示す液管理装置の
構成図である。
【図2】 洗浄液の圧力と洗浄液における夾雑物の溶解
量との関係を示すグラフである。
【図3】 本発明の第二の実施形態を示す液管理装置の
構成図である。
【図4】 本発明の第二の実施形態の液管理装置におけ
る液の管理工程を示すフローチャートである。
【図5】 本発明の液管理装置の原理を適用した洗浄液
調合装置の構成図である。
【図6】 本発明の液管理装置の原理を適用した洗浄液
調合装置の構成図である。
【符号の説明】
9 サンプリング流路(流路) 13 マスフローコントローラ(流量測定手段) 14 オリフィス(狭さく手段) 15 圧力センサ(圧力測定手段) 21 管路 22 液劣化上限レベルセンサ(位置検出手段) 23 液劣化下限レベルセンサ(位置検出手段) 34,39 流路 36,40,46 超音波渦流量計(無可動式流量計) 37,41 自動可変絞弁(狭さく手段) 51,52 冷却手段

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 液体の流路を備える液管理装置であっ
    て、前記流路内における前記液体の流量を測定する流量
    測定手段と、その下流側にて前記流路を狭さくし、上流
    側の前記液体を加圧する狭さく手段とを具備することを
    特徴とする液管理装置。
  2. 【請求項2】 前記液体が物品の洗浄に使用される洗浄
    液とされ、前記流量測定手段と狭さく手段とを、前記洗
    浄液の貯留部から延びる流路に設け、前記流量測定手段
    と狭さく手段との間に、前記流路内における前記洗浄液
    の圧力を測定する圧力測定手段を設けるとともに、前記
    圧力測定手段の測定結果から前記洗浄液における夾雑物
    の溶解量を算出する演算手段を設けたことを特徴とする
    請求項1記載の液管理装置。
  3. 【請求項3】 前記液体が物品の洗浄に使用される洗浄
    液とされ、前記流量測定手段と狭さく手段とを、前記洗
    浄液の貯留部から延びる流路に設けるとともに、前記狭
    さく手段と流量測定手段との間の前記流路から、上端が
    閉塞された管路を立接させ、この管路に、管路内におけ
    る前記洗浄液の液面の位置を検出する位置検出手段を設
    けたことを特徴とする請求項1記載の液管理装置。
  4. 【請求項4】 液体の流路と、この流路内における前記
    液体の流量を測定する流量測定手段と、その下流側にて
    前記流路を狭さくし、上流側の前記液体を加圧する狭さ
    く手段とを備える液管理装置であって、前記流量測定手
    段が、無可動式流量計であることを特徴とする液管理装
    置。
  5. 【請求項5】 前記無可動式流量計が、超音波渦流量計
    であることを特徴とする請求項4に記載の液管理装置。
  6. 【請求項6】 前記狭さく手段が、この狭さく手段より
    上流側における前記液体の圧力を調節可能な絞弁である
    ことを特徴とする請求項4または5に記載の液管理装
    置。
  7. 【請求項7】 前記流量測定手段の上流側に、前記流路
    内の前記液体を冷却する冷却手段を設けたことを特徴と
    する請求項4ないし6のいずれか1項に記載の液管理装
    置。
  8. 【請求項8】 前記流量測定手段と狭さく手段とを、物
    品の洗浄に使用される洗浄液の原料の流路に設けたこと
    を特徴とする請求項1ないし7のいずれか1項に記載の
    液管理装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007315949A (ja) * 2006-05-26 2007-12-06 Toshiba Corp 自動分析装置
JP2013061356A (ja) * 2013-01-08 2013-04-04 Toshiba Corp 自動分析装置
CN108735631A (zh) * 2017-04-24 2018-11-02 东京毅力科创株式会社 处理装置、异常探测方法以及存储介质

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