JP2005133785A - 供給装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 天然ガスが流れるガス導管に開閉弁を備えた付臭剤供給管を接続して、付臭剤の注入量(流量)を制御する供給装置において、付臭剤の粘度を一定に保つことにより、開閉弁の開度の変動を抑えて、付臭剤の流量を正確に制御する。
【解決手段】 圧送管2内を流れる第1流体1に対して、圧送管1に接続された供給管6を介して第2流体3を供給する供給装置100において、第2流体3の粘度を一定に保つ粘度調整部11を備えるようにする。また、粘度調整部11は、第2流体3の温度を一定に保つ温度調整部11である。
【選択図】 図1
【解決手段】 圧送管2内を流れる第1流体1に対して、圧送管1に接続された供給管6を介して第2流体3を供給する供給装置100において、第2流体3の粘度を一定に保つ粘度調整部11を備えるようにする。また、粘度調整部11は、第2流体3の温度を一定に保つ温度調整部11である。
【選択図】 図1
Description
本発明は、圧送管内を流れる流体に対して、圧送管に接続された供給管を介して他の流体を供給する供給装置に関する。
工場や家庭において燃料等として利用される天然ガスは、本来、無色無臭であるため、漏洩の発見が困難であり、惨事を招き兼ねない。そのため、付臭剤を添加して、嗅覚により、漏洩が発見できるようにしている。
このため、天然ガスに付臭剤を注入(添加)する場合には、天然ガスが流れるガス導管の途中に、付臭剤が収容された薬品タンクと付臭剤を圧送する定量ポンプとを備える付臭剤供給管を接続して、付臭剤をガス導管に注入していた。そして、ガス導管を流通する天然ガスの流量に応じて付臭剤の注入量(要求流量)が決定され、定量ポンプのストローク及び回転数を制御することにより、薬品タンク内より付臭剤供給管を通して要求流量の付臭剤がガス導管内に注入され、ガス導管内を流通する天然ガスへ所定の割合で混合するようにしていた。
更に、特許文献1に示すように、付臭剤供給管に開閉弁を設け、開閉弁の開度を調整することにより、ガス導管に注入する付臭剤の流量を制御する技術もある。
特開平8−93999号公報
このため、天然ガスに付臭剤を注入(添加)する場合には、天然ガスが流れるガス導管の途中に、付臭剤が収容された薬品タンクと付臭剤を圧送する定量ポンプとを備える付臭剤供給管を接続して、付臭剤をガス導管に注入していた。そして、ガス導管を流通する天然ガスの流量に応じて付臭剤の注入量(要求流量)が決定され、定量ポンプのストローク及び回転数を制御することにより、薬品タンク内より付臭剤供給管を通して要求流量の付臭剤がガス導管内に注入され、ガス導管内を流通する天然ガスへ所定の割合で混合するようにしていた。
更に、特許文献1に示すように、付臭剤供給管に開閉弁を設け、開閉弁の開度を調整することにより、ガス導管に注入する付臭剤の流量を制御する技術もある。
上述した技術では、付臭剤の流量がその粘度により変動する場合には、定量ポンプの制御や、開閉弁の制御が不安定となったり、或いは場合によっては、制御が不可能となったりする場合がある。例えば、冬季等には、付臭剤の温度が0℃程度にまで低下し、粘度が上昇してしまうので、定量ポンプの出力を上げたり、開閉弁の開度を大きくしたりする必要がある。しかしながら、定量ポンプの出力や開閉弁の開度には限界があり、大流量の付臭剤を圧送する場合には、更に、定量ポンプの出力を上げたり、開閉弁の開度を大きくしたりすることが不可能となり、付臭剤の流量制御が不安定或いは不可能となってしまうという問題がある。
本発明は、上述した事情に鑑みてなされたもので、天然ガスが流れるガス導管に開閉弁を備えた付臭剤供給管を接続して、付臭剤の注入量(流量)を制御する供給装置において、付臭剤の粘度を一定に保つことにより、開閉弁の開度の変動を抑えて、付臭剤の注入量(流量)を正確に制御することができる供給装置を提供することを目的とする。
本発明に係る供給装置では、上記課題を解決するために以下の手段を採用した。
本発明は、圧送管内を流れる第1流体に対して、圧送管に接続された供給管を介して第2流体を供給する供給装置において、第2流体の粘度を調整する粘度調整部を備えるよにした。この発明によれば、第2流体の粘度が一定に保たれるようになる。
また、粘度調整部は、第2流体の温度を調整する温度調整部であるものでは、第2流体の温度が一定に保たれるようになる。
また、第2流体の温度と流量を同時に測定する測定器を備えるものでは、供給管の径が小さい場合であっても、第2流体の温度を計測することができるようになる。
また、温度調整部は、第2流体の流量が零となった際には、第2流体の温度調整を停止するものでは、第2流体の過熱が抑えられる。
本発明は、圧送管内を流れる第1流体に対して、圧送管に接続された供給管を介して第2流体を供給する供給装置において、第2流体の粘度を調整する粘度調整部を備えるよにした。この発明によれば、第2流体の粘度が一定に保たれるようになる。
また、粘度調整部は、第2流体の温度を調整する温度調整部であるものでは、第2流体の温度が一定に保たれるようになる。
また、第2流体の温度と流量を同時に測定する測定器を備えるものでは、供給管の径が小さい場合であっても、第2流体の温度を計測することができるようになる。
また、温度調整部は、第2流体の流量が零となった際には、第2流体の温度調整を停止するものでは、第2流体の過熱が抑えられる。
本発明によれば以下の効果を得ることができる。
本発明は、圧送管内を流れる第1流体に対して、圧送管に接続された供給管を介して第2流体を供給する供給装置において、第2流体の粘度を調整する粘度調整部を備えるよにした。このため、第2流体の粘度が一定に保たれて、第2流体の流量制御が安定するようになり、また、第2流体の粘度上昇により、第2流体の流量制御が不可能となる事態を回避することができる。更に、第2流体の流量が多い場合には、第2流体の粘度を低くし、一方、第2流体の流量が少ない場合には、第2流体の粘度を高くして、第2流体の流量制御を安定化させることも可能となる。
また、粘度調整部が第2流体の温度を調整する温度調整部であるようにしたので、第2流体の温度を一定に保つことにより、容易に第2流体の粘度を一定に保つことができる。更に、第2流体の流量が多い場合には、第2流体を過熱して粘度を低くし、一方、第2流体の流量が少ない場合には、第2流体の温度を冷却して粘度を高くして、第2流体の流量制御を安定化させることも可能となる。
また、第2流体の温度と流量を同時に測定する測定器を備えるようにしたので、供給管の径が小さい場合であっても、第2流体の温度を計測することができるようになるとともに、設備コストを抑えることができる。
また、温度調整部が第2流体の流量が零となった際には、第2流体の温度調整を停止するようにしたので、第2流体の気化等が抑えられる、とともに省エネルギを実現できる。
本発明は、圧送管内を流れる第1流体に対して、圧送管に接続された供給管を介して第2流体を供給する供給装置において、第2流体の粘度を調整する粘度調整部を備えるよにした。このため、第2流体の粘度が一定に保たれて、第2流体の流量制御が安定するようになり、また、第2流体の粘度上昇により、第2流体の流量制御が不可能となる事態を回避することができる。更に、第2流体の流量が多い場合には、第2流体の粘度を低くし、一方、第2流体の流量が少ない場合には、第2流体の粘度を高くして、第2流体の流量制御を安定化させることも可能となる。
また、粘度調整部が第2流体の温度を調整する温度調整部であるようにしたので、第2流体の温度を一定に保つことにより、容易に第2流体の粘度を一定に保つことができる。更に、第2流体の流量が多い場合には、第2流体を過熱して粘度を低くし、一方、第2流体の流量が少ない場合には、第2流体の温度を冷却して粘度を高くして、第2流体の流量制御を安定化させることも可能となる。
また、第2流体の温度と流量を同時に測定する測定器を備えるようにしたので、供給管の径が小さい場合であっても、第2流体の温度を計測することができるようになるとともに、設備コストを抑えることができる。
また、温度調整部が第2流体の流量が零となった際には、第2流体の温度調整を停止するようにしたので、第2流体の気化等が抑えられる、とともに省エネルギを実現できる。
以下、本発明の注入装置(供給装置)の第1実施形態について図を参照して説明する。図1は、本発明の注入装置(供給装置)100を示す概念図である。
注入装置100は、ガス導管(圧送管)2内を圧送される天然ガス(第1流体)1に付臭剤(第2流体)3を注入する装置であり、付臭剤3を貯蔵する薬品タンク4、薬品タンク4とガス導管2とを連結する付臭剤供給管(供給管)6、付臭剤供給管6に設けた定量ポンプ5を備える。そして、定量ポンプ5を駆動することにより、薬品タンク4内の付臭剤3を付臭剤供給管6を通して圧送して、ガス導管2内に注入する。
更に、注入装置100は、流量計7、開閉弁9、自動遮断弁10、配管加温部11、流量制御部16、温度制御部17、圧力制御部18、ポンプ制御部19等を備え、ガス導管2内に注入する付臭剤3の流量、圧力、温度を制御可能に構成される。
注入装置100は、ガス導管(圧送管)2内を圧送される天然ガス(第1流体)1に付臭剤(第2流体)3を注入する装置であり、付臭剤3を貯蔵する薬品タンク4、薬品タンク4とガス導管2とを連結する付臭剤供給管(供給管)6、付臭剤供給管6に設けた定量ポンプ5を備える。そして、定量ポンプ5を駆動することにより、薬品タンク4内の付臭剤3を付臭剤供給管6を通して圧送して、ガス導管2内に注入する。
更に、注入装置100は、流量計7、開閉弁9、自動遮断弁10、配管加温部11、流量制御部16、温度制御部17、圧力制御部18、ポンプ制御部19等を備え、ガス導管2内に注入する付臭剤3の流量、圧力、温度を制御可能に構成される。
流量計7、開閉弁9、自動遮断弁10は、付臭剤供給管6の下流側に設けられる。
流量計(測定器)7には、例えば、質量流量計が用いられる。また、流量計7は、付臭剤供給管6内を流れる付臭剤3の流量F1を検出するとともに、付臭剤3の温度T1を検出することができる。そして、流量計7に連結された変換器8により、付臭剤3の流量F1と温度T1とがそれぞれ流量制御部16、温度制御部17に送られる。
また、開閉弁9、ガス導管2を流通する天然ガス1の送ガス量の変化に追従して付臭剤3の注入量を変化させることができるように、レンジアビリティの大きいものを使用することが望ましい。ここで、レンジアビリティ(range ability)とは、開閉弁9においては、あらかじめ決められた制限内で、流量特性が維持される範囲の最大開度と最小開度の比をいう。そして、定量ポンプ5と開閉弁9とは、できるだけ近づける、すなわち、付臭剤供給管6の全長を短くすることが望ましい。付臭剤供給管6を流れる付臭剤3の圧力及び流量の制御の応答性や安定性を良好にするためである。
なお、自動遮断弁10については後述する。
流量計(測定器)7には、例えば、質量流量計が用いられる。また、流量計7は、付臭剤供給管6内を流れる付臭剤3の流量F1を検出するとともに、付臭剤3の温度T1を検出することができる。そして、流量計7に連結された変換器8により、付臭剤3の流量F1と温度T1とがそれぞれ流量制御部16、温度制御部17に送られる。
また、開閉弁9、ガス導管2を流通する天然ガス1の送ガス量の変化に追従して付臭剤3の注入量を変化させることができるように、レンジアビリティの大きいものを使用することが望ましい。ここで、レンジアビリティ(range ability)とは、開閉弁9においては、あらかじめ決められた制限内で、流量特性が維持される範囲の最大開度と最小開度の比をいう。そして、定量ポンプ5と開閉弁9とは、できるだけ近づける、すなわち、付臭剤供給管6の全長を短くすることが望ましい。付臭剤供給管6を流れる付臭剤3の圧力及び流量の制御の応答性や安定性を良好にするためである。
なお、自動遮断弁10については後述する。
付臭剤供給管6には、付臭剤供給管6における定量ポンプ5の下流直後位置に接続されるとともに、薬品タンク4の上壁に接続される分岐管14と、分岐管14に設けられた圧力制御弁15とが設けられる。そして、定量ポンプ5から付臭剤3を付臭剤供給管6を通してガス導管2に圧送する際に、圧力制御弁15の開度を調整して、圧送される付臭剤3の一部を分岐管14を通して薬品タンク4に戻すことにより、付臭剤供給管内圧力P1を調整することができる。
なお、圧力制御弁15は、圧力制御部18により開度指令CPを受けて駆動する。
なお、圧力制御弁15は、圧力制御部18により開度指令CPを受けて駆動する。
また、付臭剤供給管6には、付臭剤供給管6内を流れる付臭剤3の圧力(以下、付臭剤供給管内圧力P1という)を検出する付臭剤圧力計12が設けられる。付臭剤圧力計12は、付臭剤3の圧力P1、すなわち、開閉弁9の一次側(上流側)の圧力を検出するように、分岐管14における圧力制御弁15よりも上流側位置に設けられる。
一方、ガス導管2には、ガス導管2内を流れる天然ガス1の圧力(以下、ガス導管内圧力P2という)を検出するガス圧力計13が設けられる。ガス圧力計13は、天然ガスの圧力P2の圧力を検出するように、ガス導管2における付臭剤供給管6の接続部よりも上流側位置(便宜的に開閉弁9の二次側(下流側)と呼ぶ場合もある)に設けられる。
そして、付臭剤圧力計12及びガス圧力計13により、それぞれ検出される圧力検出信号は、圧力制御部18に送られて、付臭剤供給管内圧力P1とガス導管内圧力P2の差圧ΔPが求められる。
一方、ガス導管2には、ガス導管2内を流れる天然ガス1の圧力(以下、ガス導管内圧力P2という)を検出するガス圧力計13が設けられる。ガス圧力計13は、天然ガスの圧力P2の圧力を検出するように、ガス導管2における付臭剤供給管6の接続部よりも上流側位置(便宜的に開閉弁9の二次側(下流側)と呼ぶ場合もある)に設けられる。
そして、付臭剤圧力計12及びガス圧力計13により、それぞれ検出される圧力検出信号は、圧力制御部18に送られて、付臭剤供給管内圧力P1とガス導管内圧力P2の差圧ΔPが求められる。
また、付臭剤供給管6における流量計7の上流側には、配管加温部(粘度調整部)11が設けられる。配管加温部11は、付臭剤供給管6内を流れる付臭剤3を加熱して、一定温度に保温する装置であり、温水式、スチーム式、電気式のいずれであってもよい。
なお、配管加温部11は、付臭剤3を一定温度に加熱保温するが、付臭剤3の流量が零の場合には、加熱を停止するように制御される。付臭剤3を長時間加熱することによる、付臭剤3の気化を防止するためである。
なお、配管加温部11は、付臭剤3を一定温度に加熱保温するが、付臭剤3の流量が零の場合には、加熱を停止するように制御される。付臭剤3を長時間加熱することによる、付臭剤3の気化を防止するためである。
次に、各制御部16,17,18,19について詳述する。
まず、流量制御部16は、比較器20とPID演算器21を有する。そして、ガス導管2内を流通する天然ガス1の送ガス量に基づいて、図示しない要求流量指令部から、注入すべき付臭剤3の要求流量F0が与えられた場合には、比較器20において、要求流量F0と流量計7により検出された流量検出値F1とが比較され、更に比較器20において求められた要求流量F0と流量検出値F1との偏差(F0−F1)が零になるように、PID演算器21がPID演算を行って、開閉弁9に開閉指令CFを発する。
このような構成により、開閉弁9の開度が制御される。
まず、流量制御部16は、比較器20とPID演算器21を有する。そして、ガス導管2内を流通する天然ガス1の送ガス量に基づいて、図示しない要求流量指令部から、注入すべき付臭剤3の要求流量F0が与えられた場合には、比較器20において、要求流量F0と流量計7により検出された流量検出値F1とが比較され、更に比較器20において求められた要求流量F0と流量検出値F1との偏差(F0−F1)が零になるように、PID演算器21がPID演算を行って、開閉弁9に開閉指令CFを発する。
このような構成により、開閉弁9の開度が制御される。
温度制御部17は、演算器22を備え、流量計7により検出された付臭剤3の温度T1が与えられると、所定の温度T0との偏差を求めた後に、その偏差が零になるように、演算を行って、配管加温部11に温度指令CTを発する。
これにより、付臭剤供給管6内を流れる付臭剤3が一定の温度T0に加熱され、付臭剤3の粘度も一定となって、圧送されるようになる。
これにより、付臭剤供給管6内を流れる付臭剤3が一定の温度T0に加熱され、付臭剤3の粘度も一定となって、圧送されるようになる。
圧力制御部18は、比較器23、比較器24、PID演算器25等を有する。そして、比較器23は、付臭剤圧力計12により検出される付臭剤供給管内圧力P1とガス圧力計13により検出されるガス導管内圧力P2の測定値の差圧(P1−P2)を求める。更に、比較器24においては、一定の差圧ΔPと差圧(P1−P2)との偏差(ΔP−P1+P2)が求められる。そして、PID演算器25において、比較器24において求められた偏差が零になるように、PID演算器25がPID演算を行って、圧力制御弁15へ開度指令CPを発する。
このような構成により、供給する付臭剤3の流量が変化した場合には、その変化に追従して、付臭剤供給管内圧力P1とガス導管内圧力P2の差圧が一定の差圧ΔPとなるように制御される。
なお、圧力制御部18には、比較器24にて算出される偏差(ΔP−P1+P2)の値に基づいてPID演算を行って、ポンプ制御部19への圧力補正信号Sを発するPID演算器26も設けられる。
このような構成により、供給する付臭剤3の流量が変化した場合には、その変化に追従して、付臭剤供給管内圧力P1とガス導管内圧力P2の差圧が一定の差圧ΔPとなるように制御される。
なお、圧力制御部18には、比較器24にて算出される偏差(ΔP−P1+P2)の値に基づいてPID演算を行って、ポンプ制御部19への圧力補正信号Sを発するPID演算器26も設けられる。
ポンプ制御部19は、演算器27を備え、要求流量司令部から付臭剤3の要求流量F0が与えられた際に、要求流量F0に対し圧力制御部18のPID演算器26より発せられる圧力補正信号Sにより補正を加えた後、定量ポンプ5のストローク及び回転数を決定すし、定量ポンプ5へ出力指令C0を与える。
これにより、定量ポンプ5への出力指令C0を、圧力補正を加えてなるものとして、定量ポンプ5の出口側の圧力、すなわち、付臭剤供給管内圧力P1を適正に制御することができる。
これにより、定量ポンプ5への出力指令C0を、圧力補正を加えてなるものとして、定量ポンプ5の出口側の圧力、すなわち、付臭剤供給管内圧力P1を適正に制御することができる。
付臭剤供給管6における最下流側には、自動遮断弁10が設けられる。また、流量制御部16には、付臭剤3の要求流量F0を出力するモニタスイッチ28が設けられるとともに、圧力制御部18には、比較器23の下流側にて付臭剤供給管内圧力P1とガス導管内圧力P2の差圧を出力するモニタスイッチ29が設けられる。更に、モニタスイッチ28から出力される付臭剤3の要求流量F0があり、かつモニタスイッチ29にて付臭剤供給管内圧力P1がガス導管内圧力P2よりも高いことが示された場合にのみ自動遮断弁10に開指令Cを与える論理回路30が設けられる。
このような構成により、付臭剤3に要求流量F0がない(F0=0)場合や、付臭剤供給管内圧力P1がガス導管内圧力P2よりも低い場合には、自動遮断弁10が自動的に閉鎖されて、ガス導管2側からの天然ガス1の逆流を防止できる。
なお、上述した各制御部16,17,18,19には、一般的なシーケンサやワンループコントローラ、DCS等を使用することができる。
このような構成により、付臭剤3に要求流量F0がない(F0=0)場合や、付臭剤供給管内圧力P1がガス導管内圧力P2よりも低い場合には、自動遮断弁10が自動的に閉鎖されて、ガス導管2側からの天然ガス1の逆流を防止できる。
なお、上述した各制御部16,17,18,19には、一般的なシーケンサやワンループコントローラ、DCS等を使用することができる。
続いて、上記構成を備える注入装置100を用いて、ガス導管2を流通する天然ガス1に付臭剤3を注入する手順について説明する。
まず、ガス導管2内に天然ガス1が圧力P2で圧送されると、要求流量司令部において、送ガス量に応じた付臭剤3の要求流量F0が決定されて、流量制御部16及びポンプ制御部19に要求流量F0が指令される。流量制御部16及びポンプ制御部19は、要求流量F0を受け取ると、それぞれ開閉弁9、定量ポンプ5を駆動して、要求流量F0に見合った付臭剤3を天然ガス1に注入し始める。なお、定量ポンプ5は、予め駆動し、付臭剤3に所定の圧力を掛けておく。
同時に、付臭剤圧力計12により付臭剤3の圧力P1が計測されて、圧力制御部18に送られる。そして、圧力制御部18は、圧力制御弁15を駆動して、圧力P1と圧力P2の差圧(P1−P2)が常にΔPとなるように制御する。
まず、ガス導管2内に天然ガス1が圧力P2で圧送されると、要求流量司令部において、送ガス量に応じた付臭剤3の要求流量F0が決定されて、流量制御部16及びポンプ制御部19に要求流量F0が指令される。流量制御部16及びポンプ制御部19は、要求流量F0を受け取ると、それぞれ開閉弁9、定量ポンプ5を駆動して、要求流量F0に見合った付臭剤3を天然ガス1に注入し始める。なお、定量ポンプ5は、予め駆動し、付臭剤3に所定の圧力を掛けておく。
同時に、付臭剤圧力計12により付臭剤3の圧力P1が計測されて、圧力制御部18に送られる。そして、圧力制御部18は、圧力制御弁15を駆動して、圧力P1と圧力P2の差圧(P1−P2)が常にΔPとなるように制御する。
そして、更に、流量計7において、付臭剤3の温度T1が計測されて、温度制御部17に送られる。そして、温度制御部17は、配管加温部11を駆動して、付臭剤3の温度T1が常にT0となるように制御される。
このように、付臭剤3を天然ガス1に向けて圧送する際に、付臭剤3の温度を一定にすることにより、付臭剤3の粘度も低下して一定となる。そして、付臭剤3と天然ガス1との差圧も一定となるので、開閉弁9の開度調整により、正確な流量の付臭剤3をガス導管2に注入することができる。
また、付臭剤3の粘度の変動がないため、付臭剤3の粘度変化に起因する開閉弁9の開度調整が不要となり、付臭剤3の流量制御が安定する。
このように、付臭剤3を天然ガス1に向けて圧送する際に、付臭剤3の温度を一定にすることにより、付臭剤3の粘度も低下して一定となる。そして、付臭剤3と天然ガス1との差圧も一定となるので、開閉弁9の開度調整により、正確な流量の付臭剤3をガス導管2に注入することができる。
また、付臭剤3の粘度の変動がないため、付臭剤3の粘度変化に起因する開閉弁9の開度調整が不要となり、付臭剤3の流量制御が安定する。
次に、本発明の注入装置(供給装置)の第2実施形態について図を参照して説明する。図2は、本発明の注入装置(供給装置)200を示す概念図である。上述した第1実施形態における注入装置100と同一のものについては、同一の符号を付すとともに、説明を省略する。
注入装置200における温度制御部17は、演算器22に加えて演算器31を備える。演算器31は、流量計7から付臭剤3の流量計測値F1を受け取り、関数F(F1)に従って、その流量に適した温度TXを算出する。そして、その値は、演算器22に送られて、流量計7により検出された付臭剤3の温度T1と偏差(TX−T1)が求められ、更に、その偏差が偏差が零になるように、演算を行って、配管加温部11に温度指令CTを発する。
これにより、付臭剤供給管6内を流れる付臭剤3の温度T1が、その流量F1に見合った温度TXに調整される。
注入装置200における温度制御部17は、演算器22に加えて演算器31を備える。演算器31は、流量計7から付臭剤3の流量計測値F1を受け取り、関数F(F1)に従って、その流量に適した温度TXを算出する。そして、その値は、演算器22に送られて、流量計7により検出された付臭剤3の温度T1と偏差(TX−T1)が求められ、更に、その偏差が偏差が零になるように、演算を行って、配管加温部11に温度指令CTを発する。
これにより、付臭剤供給管6内を流れる付臭剤3の温度T1が、その流量F1に見合った温度TXに調整される。
図3は、演算器31において所望の温度TXを求める際に用いられる関数F(F1)曲線の一例を示す図である。関数F(F1)曲線は、付臭剤3の温度と粘度の特性に基づいて導かれる。例えば、付臭剤3が、その温度と粘度とが反比例する物質、すなわち、温度が低いと粘度が上昇し、温度が高いと粘度が低下する物質であるときには、図3に示すような曲線が導かれる。
そして、関数F(F1)にしたがって、付臭剤3の流量F1が少ない場合(FA)には、付臭剤3の温度を上昇(TA)させる。これにより、付臭剤3の粘度が低下して、付臭剤3が流れづらくなり、さらに流量F1が少なくなる。したがって、開閉弁7の開度を通常よりも開けることができ、流量制御が行いやすくなる。一方、付臭剤3の流量F1が多い場合(FB)には、付臭剤3の温度を低下(TB)させる。これにより、付臭剤3の粘度が上昇して、付臭剤3が流れやすくなり、さらに流量F1が増加する。したがって、開閉弁7の開度を通常よりも閉じることができ、流量制御が行いやすくなる。
このように、付臭剤3の流量に応じて、その流量に見合った所望の温度TXを求めるようにすることにより、流量制御が安定するとともに、開閉弁9のレンジアビリティを実質的に広げることができる。
そして、関数F(F1)曲線の水平直線部分に示されるように、要求される付臭剤3の流量が、開閉弁11が対応できる付臭剤3の流量範囲の場合には、温度TXは、従来と同様に一定T0に保持してもよい。
なお、図3に示した関数F(F1)曲線は、一例であって、他の曲線を有する関数であってもよい。例えば、直線形、階段形であってもよく、また、3次曲線や4次曲線であってもよい。
また、関数F(F1)曲線は、付臭剤3の温度と粘度の特性によって導かれるので、温度と粘度とが比例する物質、すなわち、温度が低いと粘度が低下し、温度が高いと粘度が上昇する物質であるときには、右肩上がりの曲線が導かれる。
そして、関数F(F1)にしたがって、付臭剤3の流量F1が少ない場合(FA)には、付臭剤3の温度を上昇(TA)させる。これにより、付臭剤3の粘度が低下して、付臭剤3が流れづらくなり、さらに流量F1が少なくなる。したがって、開閉弁7の開度を通常よりも開けることができ、流量制御が行いやすくなる。一方、付臭剤3の流量F1が多い場合(FB)には、付臭剤3の温度を低下(TB)させる。これにより、付臭剤3の粘度が上昇して、付臭剤3が流れやすくなり、さらに流量F1が増加する。したがって、開閉弁7の開度を通常よりも閉じることができ、流量制御が行いやすくなる。
このように、付臭剤3の流量に応じて、その流量に見合った所望の温度TXを求めるようにすることにより、流量制御が安定するとともに、開閉弁9のレンジアビリティを実質的に広げることができる。
そして、関数F(F1)曲線の水平直線部分に示されるように、要求される付臭剤3の流量が、開閉弁11が対応できる付臭剤3の流量範囲の場合には、温度TXは、従来と同様に一定T0に保持してもよい。
なお、図3に示した関数F(F1)曲線は、一例であって、他の曲線を有する関数であってもよい。例えば、直線形、階段形であってもよく、また、3次曲線や4次曲線であってもよい。
また、関数F(F1)曲線は、付臭剤3の温度と粘度の特性によって導かれるので、温度と粘度とが比例する物質、すなわち、温度が低いと粘度が低下し、温度が高いと粘度が上昇する物質であるときには、右肩上がりの曲線が導かれる。
上述した実施形態では、天然ガス1に付臭剤3を注入する場合について説明したが、これに限らない。注入物及び被注入物が圧送される場合であればよい。そして、注入物及び被注入物が、液体である場合のみならず、気体や流動体等であってもよい。また、流動体に液体を注入するような場合であってもよい。例えば、食品に添加物等を加える場合等が考えられる。
本発明は、圧送管内を流れる流体に対して、圧送管に接続された供給管を介して他の流体を供給する供給装置に利用される。
1 天然ガス(第1流体)
2 ガス導管(圧送管)
3 付臭剤(第2流体)
6 付臭剤供給管(供給管)
7 流量計(測定器)
9 開閉弁
11 配管加温部(粘度調整部)
16 流量制御部
17 温度制御部
100 注入装置(供給装置)
2 ガス導管(圧送管)
3 付臭剤(第2流体)
6 付臭剤供給管(供給管)
7 流量計(測定器)
9 開閉弁
11 配管加温部(粘度調整部)
16 流量制御部
17 温度制御部
100 注入装置(供給装置)
Claims (4)
- 圧送管内を流れる第1流体に対して、前記圧送管に接続された供給管を介して第2流体を供給する供給装置において、
前記第2流体の粘度を調整する粘度調整部を備えることを特徴とする供給装置。 - 前記粘度調整部は、前記第2流体の温度を調整する温度調整部であることを特徴とする請求項1に記載の供給装置。
- 前記第2流体の温度と流量を同時に測定する測定器を備えることを特徴とする請求項2に記載の供給装置。
- 前記温度調整部は、前記第2流体の流量が零となった際には、前記第2流体の温度調整を停止することを特徴とする請求項2又は請求項3に記載の供給装置。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (1)
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JP2003369098A JP2005133785A (ja) | 2003-10-29 | 2003-10-29 | 供給装置 |
Publications (1)
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008004089A2 (en) * | 2006-07-04 | 2008-01-10 | Angelo Mapelli | Method and system for odorising a gas |
CN100507341C (zh) * | 2005-09-23 | 2009-07-01 | 河南中原绿能高科有限责任公司 | 液化天然气储罐压力控制装置 |
JP2014534383A (ja) * | 2012-05-14 | 2014-12-18 | ヒュンダイ ヘビー インダストリーズ カンパニー リミテッド | 液化ガス処理システム及びその方法 |
WO2021185688A1 (fr) | 2020-03-19 | 2021-09-23 | IFP Energies Nouvelles | Systeme et procede d'odorisation d'un gaz |
-
2003
- 2003-10-29 JP JP2003369098A patent/JP2005133785A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100507341C (zh) * | 2005-09-23 | 2009-07-01 | 河南中原绿能高科有限责任公司 | 液化天然气储罐压力控制装置 |
WO2008004089A2 (en) * | 2006-07-04 | 2008-01-10 | Angelo Mapelli | Method and system for odorising a gas |
WO2008004089A3 (en) * | 2006-07-04 | 2008-02-28 | Angelo Mapelli | Method and system for odorising a gas |
JP2014534383A (ja) * | 2012-05-14 | 2014-12-18 | ヒュンダイ ヘビー インダストリーズ カンパニー リミテッド | 液化ガス処理システム及びその方法 |
WO2021185688A1 (fr) | 2020-03-19 | 2021-09-23 | IFP Energies Nouvelles | Systeme et procede d'odorisation d'un gaz |
FR3108386A1 (fr) | 2020-03-19 | 2021-09-24 | IFP Energies Nouvelles | Système et procédé d’odorisation d'un gaz |
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