JP2002026345A - 太陽電池 - Google Patents

太陽電池

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JP2002026345A
JP2002026345A JP2000213386A JP2000213386A JP2002026345A JP 2002026345 A JP2002026345 A JP 2002026345A JP 2000213386 A JP2000213386 A JP 2000213386A JP 2000213386 A JP2000213386 A JP 2000213386A JP 2002026345 A JP2002026345 A JP 2002026345A
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connection main
electrode
solar cell
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Application number
JP2000213386A
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English (en)
Inventor
Ken Tsutsui
謙 筒井
Yoshiaki Yazawa
義昭 矢澤
Yoshinori Miyamura
芳▲徳▼ 宮村
Tsuyoshi Uematsu
強志 上松
Hiroyuki Otsuka
寛之 大塚
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
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Abstract

(57)【要約】 【課題】太陽電池の裏面側電極において、半田付け性が
良好で、かつ電気的特性の優れた太陽電池を得ること。 【解決手段】バイフェイシャル型太陽電池、あるいは裏
面接続型太陽電池においてその裏面側p接続電極では、
先行して形成されるp接続集電用細線511およびp接
続主電極(A)512と、その後配置されるp接続主電
極(B)513との重なり合う面積より、p接続主電極
(B)513が直接半導体基板に接する面積を必ず大きく
なるようにしたことにより、p接続主電極(B)513は
半導体基板およびp接続主電極(A)512との接着性
が良好で、かつp接続主電極(B)513はp接続主電極
(A)512との電気的接合が良好で、さらに太陽電池
を半田付けする際の半田付け性の優れた太陽電池を得る
ことができた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体を用いた光
発電素子に係り、特に太陽電池等の電極に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】従来における太陽電池の電極に関して
は、例えば、特開平11―330512号公報がある。
裏面銀電極と裏面アルミ電極とが互いに重なる部分と、
間を空けた部分とを有した電極構造が示されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】太陽電池にあって、特
に主たる光入射面(表)側とは異なる面(裏)側におい
ても、入射光を発電に利用するバイフェイシャル型太陽
電池、あるいは表面側には光を遮る電極が一切無い裏面
接続型太陽電池においては、その裏面側における電極
は、光入射を多くするため、あるいはp/n電極を高密
度にかつ分離配置する必要から、集電用細線を施し、ま
た、主電極は、抵抗による損失を少なく、外部に効率よ
く電気エネルギを取り出すように構成されている。
【0004】p電極側では、電極材料にアルミあるいは
硼素を含有した銀ペースト、もしくはアルミペーストを
用いて印刷配線を行う。その後、熱処理することで半導
体であるシリコン基板(p型)とアルミニウムとを合金
化することでp+層を形成する。このp+層によってp電
極近傍でのキャリアの再結合を少なくすることができる
ため太陽電池の性能の向上が図れる。
【0005】図2に、従来の太陽電池の断面を示した。
同図では、p型半導体基板1の上面にn+層2を形成
し、その上に上部電極4を形成している。また、下面側
では、アルミペーストのP接続主電極(A)512と銀
ペーストのp接続主電極(B)513とが形成されてい
る。外部に電気エネルギーを取り出すためのp接続主電
極(B)513は、外部導体との接合のため良導電性材
料を半田付けするなどの処理が必要である。しかし、ア
ルミを4%含有した銀ペーストあるいはアルミペースト
では半田付けすることは困難である。そこで、p接続主
電極(A)512とp接続主電極(B)513とを重
ね、アルミペーストあるいはアルミ含有銀ペーストとで
太陽電池特性を保証し、銀ペーストによって半田付け性
を保証する方法がとられていた。しかし、銀ペーストと
アルミペーストとは、電気的接合が必ずしも安定したも
のでないこと、さらには重なり合った部分では、銀ペー
スト中へアルミが浸入し、その結果、半田付け性が低下
するなどの課題を有していた。
【0006】一方、外部に電気エネルギを取り出すため
の主電極では、外部導体との接合のため良導電性材料を
半田付けするなどの処理が必要である。しかし、アルミ
ニウムを4%以上含有した銀ペーストあるいはアルミペ
ーストは半田付けすることが困難である。そこで、銀ペ
ーストをアルミペーストあるいはアルミ含有銀ペースト
の上に重ねて印刷する方法がとられる。しかし、この場
合、銀ペースト内部ににアルミが侵入することによって
半田付けが困難となり、問題は依然として含んだままと
なる。
【0007】また、アルミペーストあるいはアルミ含有
銀ペーストと銀ペーストとは接着性があまり良好ではな
い。従って、アルミペーストあるいはアルミ含有銀ペー
スト上に銀ペーストを重ねる場合、電気的接触抵抗を低
くする上から重なり部が多いことが望まれる。
【0008】さらに、アルミペーストあるいはアルミ含
有銀ペーストを印刷後、銀ペーストを一部重なり合うよ
うに印刷すると、銀ペーストと半導体基板との接着性が
不安定であるなどの問題があった。
【0009】そこで、本発明の目的は、太陽電池におけ
る裏面電極において主電極の半田付け性が良好で、集電
用細線と主電極との接続が電気的に良好かつ接着性が良
好で、しかも主電極と半導体基板との接着性が優れた電
極を具備する太陽電池を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】バイフェイシャル型太陽
電池、あるいは裏面接続型太陽電池において、その裏面
側p接続電極の構成を以下の通りとした。
【0011】半導体基板の裏面側p接続電極のうち、先
行して形成されるp接続集電用細線およびp接続主電極
(A)において、p接続集電用細線の1ピッチ間あるい
は数ピッチ間ではp接続主電極(A)のアルミペースト
またはアルミを2%以上含有した銀ペーストと、これに
重ねた銀ペースト、又はアルミを4%以下含有した銀ペ
ースト、又は半田ペーストからなるp接続主電極(B)と
の重なり合う面積よりp接続主電極(B)が直接半導体基
板に接する面積を必ず大きくなるようにした。
【0012】また、隣り合うp接続集電用細線は、p接
続主電極(A)と同一のアルミペーストあるいはアルミ
含有銀ペーストによって接続された構成とし、p接続集
電用細線とp接続主電極(A)との交点において、その
交点の形状が十字型およびまたはT字型を含む構成とし
た。
【0013】以上の構成は、接続集電用細線がp接続主
電極とクロスした配線形状において、p接続主電極と直
交するp接続集電用細線を互いに電気的に接続を確実な
ものにする。また、同様に隣り合うp接続集電用細線を
電気的接続を確実にするものである。またp接続集電用
細線と電気エネルギを外部に取り出すためのp接続主電
極との電気的接続を良好とし、半導体基板とp接続主電
極との接着性を良好にする効果をあらわす。
【0014】
【発明の実施の形態】本発明の一実施例を図1および図
3により説明する。
【0015】図1は、本発明における太陽電池の裏面
(以下、本文では主たる光入射面を表と言い表すことと
する。また、断面図の上側が表面を表すものとする。)
の平面拡大図を示したものである。図3は本発明による
太陽電池の製作工程を断面図と平面図とで示したもので
ある。
【0016】半導体基板1(p型シリコン基板)の表裏
面に光り閉じこめ構造の微細な逆ピラミッド形状を全面
に多数形成する。これは本発明に直接関わるものではな
いので断面図に微細構造は明記しないが、発電効率の良
い太陽電池には必要なものであって、例えば、半導体基
板をアルカリ溶液中に浸すことによって形成できる。次
に、塗布型リン拡散剤をスピンコータによって半導体基
板の表面に塗布し熱処理することで、図3(a)に示す
ように、半導体基板の表面だけにリン拡散層を形成し、
n+層2を作った。
【0017】次に、図3(b)に示すように、上記半導
体基板1を石英管内部に酸素を流しながら800℃とし
た酸化炉へ30分入れ、基板表面に酸化膜を成長させて
パシベーション膜3を形成した。さらに半導体基板1の
裏面に対しアルミペーストによりp接続下部電極51を
スクリーン印刷法によって形成した。ここで、p接続下
部電極51は、p接続集電用細線511とp接続主電極
(A)512 とから構成した。
【0018】半導体基板1の裏面の平面図を図3(c)
に示した。同図(c)の部分拡大図を図1(a)に示し
た。p接続主電極(A)512はその幅W4を1.5m
mとした。また、同図のようにp接続主電極(A)51
2の中央部を矩形にくり抜いた形状とした。p接続主電
極(A)512の両脇の細い部分W3は300μmとし
た。また、p接続集電用細線511の幅W1を200μ
mとし、p接続主電極(A)512にと直交して向き合
う対を成すp接続集電用細線511をつなぐ幅W2も2
00μmとした。
【0019】すなわち、p接続集電用細線511とp接
続主電極(A)512は、スクリーン印刷によって同時
に、同一材料で形成されることから、まさにp接続主電
極(A)512と直交して向き合う対を成すp接続集電
用細線511は、一直線に結ばれるよう構成した。か
つ、図1上では上下となっている隣り合うp接続集電用
細線511は、互いにp接続主電極(A)512によっ
て接続されていることがわかる。
【0020】p接続集電用細線の繰り返しピッチP1は
2.5mmとした。従ってp接続主電極(A)512の
中央部くり抜き部分の矩形の幅は0.9mm、長さは2.
3mmである。下部電極51(p接続主電極(A)51
2とp接続集電用細線511)をスクリーン印刷で同時
にパターンを形成後、150℃のオーブンによってアル
ミペーストに含まれている有機溶剤を蒸発、除去した。
【0021】その後、830℃の熱処理によってアルミ
ペーストを焼成した。この焼成によって、アルミペース
トはp型半導体基板1の表面で合金層を形成し、p+層
をつくると同時に半導体基板と接合させた。ここにおい
て説明したアルミペーストによるp+層形成は2%以上
アルミを含む銀ペーストであればp+層を形成すること
ができた。そのようなペーストを使用してもよいことは
当然である。アルミに銀が混ざると、後に半田付けする
際に有利であることと、後で説明するp接続主電極
(B)との相性もよくなり都合がよい。
【0022】次に、図4(a)に示したように半導体基
板1の表側においてパシベーション膜3の上に銀ペース
トをスクリーン印刷法によって上部電極4を形成した。
上部電極の構造を図4(b)に示した。上部電極4は、
p接続下部電極51と同様な形状で、上部集電用細線4
1と上部主電極42とで構成した。本印刷をした後15
0℃のオーブンによって銀ペーストに含まれている有機
溶剤を蒸発、除去した。
【0023】次に、図5(a)に示したように半導体基
板1の裏面側に銀ペーストによってp接続主電極(B)
513をスクリーン印刷法によって形成した。その平面
形状を図5(b)に示した。p接続主電極(B)513
の部分拡大したものを、図1(b)に示した。p接続主
電極(B)513の幅W5は1.1mmとした。p接続
主電極(B)513は、p接続主電極(A)512の中
央に位置するように印刷した。
【0024】p接続主電極(A)512とp接続主電極
(B)513とが重なった状態を拡大し,図1(c)に
示した。ここで、隣り合うp接続集電用細線1ピッチ間
におけるp接続主電極(A)512とp接続主電極
(B)513の重なり具合を見る。
【0025】p接続主電極(A)512とp接続主電極
(B)513とが重なる面積S1は、 S1=P1(W5−(W4−2W3))+W2(W4−2
W3)=0.68mm2 である。
【0026】一方、p接続主電極(B)513が半導体
基板1に直接接する面積S2は、 S2=(W4−2W3)(P1−W2)=2.07mm2 である。
【0027】従って、p接続主電極(B)である銀ペー
ストが半導体基板に直接接する面積は、p接続主電極
(A)512とp接続主電極(B)513とが重なった
面積よりはるかに大きいことがわかる。
【0028】p接続主電極(B)513を印刷後150
℃のオーブンによって銀ペーストに含まれている有機溶
剤を蒸発、除去した。その後、800℃の熱処理によっ
て上部電極4とp接続主電極(B)513の銀ペースト
を焼成して太陽電池を得た。
【0029】このようにして得た太陽電池は、モジュー
ル化のために主電極部分にリード線を接触させて半田付
けを行った。上部電極4については銀ペーストのみで形
成されているので何ら問題は生じない。
【0030】また、本実施例によれば、裏側の下部電極
において、アルミペーストと銀ペーストとの重なる面積
に比較して、p接続主電極(B)513である銀ペース
トが直接半導体基板1に接する面積の方が広いため、p
接続主電極は半導体基板との接着性に優れ、半田付けも
良好に行うことができた。すなわち、アルミペーストに
は直接半田付けが不可能であるが、銀ペーストとするこ
とで半田付けが可能となる。しかし、アルミペースト銀
ペーストとは接着力が弱い。本実施例では、銀ペースト
の下には各所にアルミペーストが備わっており、電気的
接合は十分取れる。
【0031】また、半田付け不良は、アルミペーストと
銀ペーストとが重なる部分でアルミペーストと銀ペース
トとが混ざり合い銀ペーストにアルミが混入することに
よって生じているためである。本実施例では、p接続主
電極(B)513である銀ペーストが直接半導体基板1
に接する面積の方が広く、アルミペーストと銀ペースト
とが混ざり合う面積は少ないため半田付け性は良好であ
った。
【0032】また、すべてのp接続集電用細線511
は、同一材料であるp接続主電極(A)512と同時に
形成され、しかも電気的にはp接続集電用細線すべてが
互いに接続された構成としていることから、接続不良に
よる弊害も生じることがない。なおかつ、p接続集電用
細線511とp接続主電極(B)513とはクロスした
構成としているため、十分な電気接点を有していること
から電気的損失の少ない太陽電池を得ることができた。
【0033】以上では、p接続主電極(B)513の材
料として銀ペーストを取り上げた。しかし、先に説明し
たようにp接続主電極(B)513へ、その下のp接続
主電極(A)512のアルミの一部が混入すると半田付
け性が低下する。この対策としてp接続主電極(B)5
13である銀ペーストへアルミを含ませておくとよいこ
とが判明した。
【0034】しかし、p接続主電極(B)513である
銀ペーストへのアルミの含有量が4%以上では、p接続
主電極(B)513の上への半田付け性能が悪いことが
判明した。従って、p接続主電極(B)513材料とし
てはアルミを4%以下含む銀ペーストであればよい。こ
のようなペーストを使用しても、本実施例は先に説明し
たのと同様に良好な太陽電池を得ることができた。
【0035】なお、本実施例でのパシベーション膜とし
ては熱酸化膜を使用したが、さらに高屈折率材料を堆積
して光反射防止膜を形成しても同様にできることは言う
までもない。
【0036】次なる実施例を、図3〜図6により説明す
る。先の実施例と同様に硼素を不純物としたp型半導体
基板1を拡散炉に二枚ずつ裏面側を重ね合わせて入れ、
750℃に保ちながらオキシ塩化リン(POCl3)を石英
管内部に導入し、半導体基板1の表面にリンを拡散し、
n+拡散層2を形成して図3(a)とした。
【0037】次に、酸化炉によって半導体基板1の裏表
全面に熱酸化膜を形成しパシベーション膜3を形成し
た。さらに、半導体基板1の下(裏)側面にスクリーン
印刷によってアルミを3%含む銀ペーストを印刷後15
0℃のオーブンによってアルミを3%含む銀ペーストに
含まれている有機溶剤を蒸発、除去した。
【0038】その後、820℃の熱処理によってアルミ
を3%含む銀ペーストを焼成し、p接続下部電極51を
形成して図3(b)を得た。この焼成によってアルミを3
%含む銀ペーストは,p型半導体基板1の表面で合金層
を形成し、p+層をつくると同時に半導体基板と接合さ
せた。ここで、p接続下部電極51の平面構造を図6
(a)に示した。p接続下部電極51は、p接続集電用
細線511とp接続主電極(A)512からなる。p接
続集電用細線が隣り合う距離P1が1ピッチである。こ
こでは1ピッチを2mmとした。
【0039】また、p接続集電用細線511の幅W1を
0.2mm、p接続主電極(A)の最大幅W4を2m
m、p接続主電極(A)の上下間を結ぶ細い部分の幅W
3を0.2mm、p接続主電極(A)を中心としてその
左右に向き合う2本のp接続集電用細線を結ぶp接続主
電極(A)の幅W2を0.2mmとした。この左右のp
接続集電用細線を結ぶ部分は、p接続集電用細線の2ピ
ッチに一本の割合で結ぶこととした。
【0040】ここで、W1とW2とを同一の幅としたの
は、p接続主電極(A)を中心としてその左右に向き合
うp接続集電用細線2本を電気的に断線が生じないよう
にすることと、後に形成されるp接続主電極(B)との
間で互いの印刷ペース材料が電気的接続が十分になるこ
とと、互いの材料が混ざり合うことによって半田付け性
能を低下させないために、少ない面積での重なり部分を
形成するものである。さらに、設計上からはCADなど
による設計手段によれば複雑な形状も可能であるが、本
実施例のようにW1とW2とを同一の幅とすることの方
が単純で、設計しやすいことと、電極関係のトラブルが
発生した場合の対処がしやすいためでもある。
【0041】また、本実施例では、p接続集電用細線5
11とp接続主電極(A)512との接続点は、1ピッ
チごとに十字型となる交点とT字型となる交点を有した
構造とした。これは本発明の主題であるp接続下部電極
51とその上のp接続主電極(B)との電気的接続を低下
させずにp接続主電極(B)を直接半導体基板1へ接着
させる面積を多くすることで、接着力を強固にするため
に必要な構造である。
【0042】次に、図4(a)に示したように半導体基
板1の表側においてパシベーション膜3の上に銀ペース
トをスクリーン印刷法によって上部電極4を形成した。
上部電極の構造を図4(b)に示した。上部電極4はp
接続下部電極51と同様な形状で、上部集電用細線41
と上部主電極42とで構成した。本印刷をした後150
℃のオーブンによって銀ペーストに含まれている有機溶
剤を蒸発、除去した。
【0043】次に、図5(a)に示したように半導体基
板1の裏面側に銀ペーストによってp接続主電極(B)
513をスクリーン印刷法によって形成した。その平面
形状を図5(b)に示した。
【0044】p接続主電極(A)512とp接続主電極
(B)513とが重なった状態を拡大し図6(b)に示
した。p接続主電極(B)513の幅W5は1.8mm
とした。p接続主電極(B)513は、p接続主電極
(A)512の中央に位置するように印刷した。ここ
で、隣り合うp接続集電用細線2ピッチ間におけるp接
続主電極(A)512とp接続主電極(B)513の重
なり具合を見る。
【0045】p接続主電極(A)512とp接続主電極
(B)513とが重なる面積S1は、 S1=2P1(W5−(W4−2W3))+W2(W4
−2W3)=1.12mm2 である。
【0046】一方、p接続主電極(B)513が半導体
基板1に直接接する面積S2は、 S2=(W4−2W3)(2P1−W2)=6.08mm2 である。
【0047】従って、p接続主電極(B)である銀ペー
ストが半導体基板に直接接する面積は、p接続主電極
(A)512とp接続主電極(B)513とが重なった
面積よりはるかに大きいことがわかる。
【0048】p接続主電極(B)513を印刷後150
℃のオーブンによって銀ペーストに含まれている有機溶
剤を蒸発、除去した。その後、800℃の熱処理によっ
て上部電極4とp接続主電極(B)513の銀ペースト
を焼成して太陽電池を得た。このようにして得た太陽電
池の主電極部分にリード線を接触させて半田付けを行っ
た。
【0049】本実施例によれば、裏側の下部電極におい
て、アルミ4%含有銀ペーストと銀ペーストとの重なる
面積に比較して、p接続主電極(B)513である銀ペ
ーストが直接半導体基板1に接する面積の方が広いた
め、p接続主電極は半導体基板との接着性に優れ、半田
付けも良好に行うことができた。
【0050】本実施例では、すべてのp接続集電用細線
511は、同一材料であるp接続主電極(A)512と
同時に形成され、しかも電気的にはp接続集電用細線す
べてが互いにp接続主電極(A)512によって接続さ
れた構成としていることから、電気的な接続は良好であ
った。なおかつ、p接続集電用細線511とp接続主電
極(B)513とはp接続集電用細線2ピッチごとにp
接続下部電極(p接続集電用細線511)とp接続主電
極(B)513とが直交した構成としているため、十分
な電気接点を有していることから電気的な接続も良好な
太陽電池を得ることができた。
【0051】次なる実施例を、図7により説明する。本
実施例のプロセスも先の実施例と同様であるが、半導体
基板1の裏側の電極構造を図7に示したように構成し
た。p接続下部電極は、アルミペーストによるp接続集
電用細線511とp接続主電極(A)512からなり、
スクリーン印刷によって形成した。p接続主電極(B)
513は、銀ペーストを印刷形成した。p接続集電用細
線511の幅W1を0.15mm、p接続集電用細線が
隣り合う1ピッチであるP1を3mm、上下のp接続集
電用細線511を結ぶ部分の最小幅であるW3を0.3
mm、p接続主電極(A)512を直交し左右のp接続
集電用細線を結ぶ部分の幅W2を0.15mm、p接続
主電極(B)513の幅W5を1mmとした。このよう
にして構成し、太陽電池を得た。本実施例での隣り合う
p接続集電用細線1ピッチ間におけるp接続主電極
(A)512とp接続主電極(B)513の重なり具合
を見る。
【0052】p接続主電極(A)512とp接続主電極
(B)513とが重なる面積S1は、 S1=P1・W3+W2(W5−W3)=1.005mm2 である。
【0053】一方、p接続主電極(B)513が半導体
基板1に直接接する面積S2は、 S2=(W5−W3)(P1−W2)=1.995mm2 である。
【0054】従って、p接続主電極(B)である銀ペー
ストが半導体基板に直接接する面積は、p接続主電極
(A)512とp接続主電極(B)513とが重なった
面積より大きい。
【0055】本実施例によれば、裏側の下部電極におい
て、アルミペーストと銀ペーストとの重なる面積に比較
して、p接続主電極(B)513である銀ペーストが直
接半導体基板1に接する面積の方が広いため、p接続主
電極は半導体基板との接着性に優れ、半田付けも良好に
行うことができた。
【0056】本実施例では、すべてのp接続集電用細線
511は、同一材料であるp接続主電極(A)512と
同時に形成され、しかも電気的にはp接続集電用細線す
べてが互いに接続された構成としていることから、接続
は良好であった。なおかつ、p接続主電極(B)513
は、p接続下部電極(p接続集電用細線511とp接続
主電極(A)512)のp接続集電用細線1ピッチごと
にp接続集電用細線511と同じ幅のp接続主電極
(A)512と直交し、さらに上下のp接続集電用細線
511をつなぐp接続主電極(A)512ともp接続主
電極(B)513の中央部で重なった構成としているた
め、十分な電気接点を有していることから電気的な接続
も十分な太陽電池を得ることができた。
【0057】次なる実施例を、図8により説明する。同
図(a)は、本発明による太陽電池の断面図であり、同
図(b)はその電極形状を示す平面図である。左記の例と
同様にここでも煩雑になることから基板表面の光閉じ込
め構造であるテクスチャについての説明は省くこととす
る。
【0058】先ず、半導体基板1を熱酸化し、その裏、
表両面に酸化膜を形成する。次に、スクリーン印刷によ
ってマスキング材を裏面の一部に施し、フッ酸+フッ化
アンモニウム溶液によって、表面全面と裏面の一部の熱
酸化膜を除去後、マスキング材を外した。次に半導体基
板を拡散炉によってリンを拡散しn+層2を形成した
後、熱酸化膜をフッ酸+フッ化アンモニウム溶液によっ
て除去した。次に、酸化炉によって半導体基板の裏表面
に厚さ20nmのパシベーション膜とさらにCVDによ
って同じく半導体基板の裏表面に厚さ70nmの酸化チ
タンを形成し、光反射防止膜6とした。
【0059】次に、基板裏面のリンを拡散していない部
分へアルミペーストをスクリーン印刷によって第2の下
部電極となるp接続下部電極51を形成し、150℃で
ペーストの溶剤を除去後さらに835℃の熱処理によっ
て焼成した。この焼成では、アルミペーストは光反射防
止膜6を食い破り半導体基板1へ達してp+を形成し、
かつ、配線として成り立つ。
【0060】次に、基板裏面のリン拡散した部分へ銀ペ
ーストをスクリーン印刷によって配線し、150℃でペ
ーストの溶剤を除去後、さらに780℃の熱処理によっ
て焼成し第1の下部電極となるn接続下部電極52を形
成した。ここでも、銀ペーストは光反射防止膜6を食い
破りリンを拡散したn+層2に達し、オーミックな接合
を行った。
【0061】次に、p接続下部電極51(第2の下部電
極)の第1のp接続主電極(A)512の上にスクリー
ン印刷によって半田ペーストを施し、第2のp接続主電
極(B)513を形成した。半田ペーストは低温で半導体
基板表面の光反射防止膜と接合し、また、p接続主電極
(A)512ともよく接続できるので好都合である。
【0062】ここで、裏面での平面的配線形状を詳しく
説明する。先ず、n接続下部電極52は、図8(b)にあ
るように、n接続集電用細線521とn接続主電極52
2からなり、図の中央に向かって櫛の歯が向く配置にあ
り、二組を設置した。この組数は、本発明の主旨には何
ら関わりはない。すなわち、同図で示したものを複数配
置しても良い。また、このn接続下部電極52の下の半
導体基板面にはリンを拡散したn+層2がある。
【0063】p接続下部電極51は先の実施例と同様な
配置である。ここでのp接続集電用細線511およびp
接続主電極(A)512は、n+層2のない半導体基板
面に配置した。
【0064】なお、p接続集電用細線511の幅W1は
0.1mm、p接続主電極(A)512の最大幅W4は
1.5mm、上下のp接続集電用細線を結ぶp接続主電
極(A)512の最少幅W3は0.3mm、p接続集電
用細線のピッチP1は2.5mm、左右のp接続集電用
細線を結ぶp接続主電極(A)の幅W2は0.1mm、
p接続主電極(B)513の幅W5は1.3mmとした。
【0065】本実施例での隣り合うp接続集電用細線1
ピッチ間におけるp接続主電極(A)512とp接続主
電極(B)513の重なり具合を見る。
【0066】p接続主電極(A)512とp接続主電極
(B)513とが重なる面積S1は、 S1=P1(W5−(W4−2W3))+W2(W4−
2W3)=1.09mm2 である。
【0067】一方、p接続主電極(B)513が半導体
基板1に直接接する面積S2は、 S2=(W4−2W3)(P1−W2)=2.16mm2 である。
【0068】従って、p接続主電極(B)である半田ペ
ーストが半導体基板に直接接する面積は、p接続主電極
(A)512とp接続主電極(B)513とが重なった
面積より大きい。本実施例でも、p接続主電極での半田
付け性は良好であり、p接続主電極(A)512とp接
続主電極(B)513との接着力も電気的接合も充分で
あった。また、p接続主電極(B)513の半導体基板
への接着力も充分で、信頼性の高い太陽電池を得ること
ができた。
【0069】なお、本実施例では、すべての電極は、図
8の断面図に示したように同図の下面側に形成した場合
について説明したが、同図の上面側に下面側と同様にn
接続集電用細線521あるいはn接続主電極522など
を形成して、三電極型太陽電池を形成することも可能で
あることはいうまでもない。
【0070】次なる実施例を説明する。基本的構成は、
図8に示した先の実施例と同じである。また、各配線の
寸法も同様としたが、左右のp接続集電用細線を結ぶp
接続主電極(A)の幅W2は0.2mmとした。また、
p接続主電極(B)513を銀ペーストとして、銀ペー
ストによるn接続下部電極52(n接続集電用細線52
1とn接続主電極522からなる)と同時にスクリーン
印刷によって配線パターンを形成し、焼成した。
【0071】この場合のp接続主電極(A)512とp
接続主電極(B)513とが重なる面積S1は、 S1=P1(W5−(W4−2W3))+W2(W4−
2W3)=1.18mm2 である。
【0072】一方、p接続主電極(B)513が半導体
基板1に直接接する面積S2は、 S2=(W4−2W3)(P1−W2)=2.07mm2 である。
【0073】この場合も、p接続主電極(B)513
は、半導体基板およびp接続主電極(A)512との接
着性は良好で、かつp接続主電極(A)512とp接続
主電極(B)513は電気的、機械的接合は充分であ
り、その後の半田付け性能も良好な太陽電池が得られ
た。
【0074】本実施例では、左右のp接続集電用細線を
結ぶp接続主電極(A)の幅W2とp接続集電用細線5
11の幅W1とは寸法が異なるが、p接続主電極(B)
である銀ペーストが半導体基板に直接接する面積は、p
接続主電極(A)512とp接続主電極(B)513と
が重なった面積より大きい。従って、先の実施例と同様
な効果が得られた。
【0075】
【発明の効果】本発明によれば、バイフェイシャル型太
陽電池、あるいは裏面接続型太陽電池において、その裏
面側p接続電極の構成を半導体基板の裏面側p接続電極
のうち、先行して形成されるp接続集電用細線およびp
接続主電極(A)において、p接続集電用細線の1ピッ
チ間あるいは数ピッチ間では、p接続主電極(A)のア
ルミペースト又はアルミを2%以上含有した銀ペースト
と、これに重ねた銀ペースト、アルミを4%以下含有し
た銀ペースト、又は半田ペーストからなるp接続主電極
(B)との重なり合う面積よりも、p接続主電極(B)
が直接半導体基板に接する面積を大きくなるように構成
したことにより、p接続主電極(B)は、半導体基板お
よびp接続主電極(A)との接着性が良好で、かつ、p
接続主電極(B)はp接続主電極(A)との電気的接合
が良好で、さらに複数の太陽電池を半田付けによって結
線する際の半田付け性が優れた太陽電池を得ることがで
きた。
【0076】p接続集電用細線とp接続主電極とが交叉
する部分では、p接続主電極部分で少なくとも交差部分
の一部にp接続集電用細線の幅と略同じ幅を有する構造
としたことで、設計が単純となり、また電極関係のトラ
ブルが発生した場合の問題解決の対処がしやすいという
効果もある。
【0077】また、本発明では、p接続集電用細線51
1とp接続主電極(A)512との接続点は、十字型と
なる交点とT字型となる交点を有した構造とした。これ
は、本発明の主題であるp接続下部電極51とその上の
p接続主電極(B)との電気的接続を低下させずにp接
続主電極(B)を直接半導体基板1へ接着する面積を多
くすることで、接着力を強固にするために必要な構造で
ある。
【0078】また、隣り合うp接続集電用細線は、p接
続主電極(A)と同一のアルミペーストあるいは2%以
上のアルミ含有銀ペーストによって接続した構成とし、
p接続集電用細線とp接続主電極(A)との交点におい
て、その交点の形状を十字型とT字型とを含む構成とし
たことによって、p接続主電極(B)をp接続主電極
(A)との電気的接続を低下させずにより強固に半導体
基板1へ接着する面積を多くすることが可能となった。
【0079】p接続集電用細線とp接続主電極(A)を
アルミペースト又はアルミを2%以上含有した銀ペース
トとしたことにより、半導体基板との間にp+層を作る
ことと、その上に重ねるp接続主電極(B)との電気的
接合、機械的接合を良好にできた。
【0080】また、p接続主電極(B)を銀ペースト、
アルミを4%以下含有した銀ペースト、又は半田ペース
トとしたことで、p接続主電極(B)の半田付け性能を
良好に保つとともに、p接続主電極(A)との電気的接
合も良好とできた。特にp接続主電極(A)との間でp
接続主電極(B)に多量なアルミが混入することによる
半田付け不良を回避することができた。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示す平面図。
【図2】従来の太陽電池を示す断面図。
【図3】本発明の実施例における工程の一部を示す断面
図および平面図。
【図4】本発明の実施例における工程の一部を示す断面
図および平面図。
【図5】本発明の実施例における工程の一部を示す断面
図および平面図。
【図6】本発明の他の実施例を示す平面図。
【図7】本発明のさらに他の実施例を示す平面図。
【図8】本発明のさらに他の実施例を示す断面図および
平面図。
【符号の説明】
1…p型半導体基板、2…n+層、3…パシベーション
膜、4…上部電極、41…上部集電用細線、42…上部
主電極、51…p接続下部電極、511…p接続集電用
細線、512…p接続主電極(A)、513…p接続主
電極(B)、52…n接続下部電極、521…n接続集
電用細線、522…n接続主電極、6…光反射防止膜。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宮村 芳▲徳▼ 東京都国分寺市東恋ヶ窪一丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 上松 強志 東京都国分寺市東恋ヶ窪一丁目280番地株 式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 大塚 寛之 東京都国分寺市東恋ヶ窪一丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 Fターム(参考) 5F051 AA02 BA17 CB27 DA03 DA20 FA10 FA13 FA14 FA15 GA04

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】p型半導体基板と、該基板の一面に該基板
    とは異なる導電性を有する半導体層と、該半導体層の上
    に配置された上部電極と、該基板の他の一面に該基板に
    接して配置されたp接続集電用細線と第1のp接続主電
    極とを備えた下部電極と、該下部電極の上に配置された
    第2のp接続主電極とを有し、かつ、該第2のp接続主
    電極の該基板に接する面積が、該第1のp接続主電極と
    該第2のp接続主電極とが重なる面積より大きいことを
    特徴とする太陽電池。
  2. 【請求項2】前記第2のp接続主電極は、銀ペースト、
    又はアルミを4%以下含む銀ペースト、又は半田ペース
    トであることを特徴とする請求項1記載の太陽電池。
  3. 【請求項3】前記第1のp接続主電極は、アルミペース
    ト、又はアルミを2%以上含む銀ペーストであることを
    特徴とする請求項1記載の太陽電池。
  4. 【請求項4】前記下部電極は、前記p接続集電用細線と
    前記第1のp接続主電極との交叉部分において、前記p
    接続集電用細線と前記第1のp接続主電極との交叉部分
    の形状が十字型もしくはT字型を含む構成としたことを
    特徴とする請求項1記載の太陽電池。
  5. 【請求項5】p型半導体基板と、該基板の一面に配置さ
    れ、該基板とは異なる導電性を有する第1の半導体層
    と、該基板の他の面の一部に配置され、該基板とは異な
    る導電性を有する第2の半導体層と、該第2の半導体層
    に接して配置された集電用細線と主電極からなる第1の
    下部電極と、該基板の他の面の他部に該基板に接して配
    置されたp接続集電用細線と第1のp接続主電極とから
    なり、該p接続集電用細線と該第1のp接続主電極とが
    同一物質で接続構成された第2の下部電極と、該第2の
    下部電極の上に配置された第2のp接続主電極とを有
    し、かつ、該第2の下部電極における該第2のp接続主
    電極の該基板に接する面積が、該第1のp接続主電極と
    該第2のp接続主電極とが重なる面積より大きいことを
    特徴とする太陽電池。
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