JP2002018589A - 鉛フリーはんだ合金 - Google Patents

鉛フリーはんだ合金

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Osamu Munakata
修 宗形
Yoshitaka Toyoda
良孝 豊田
Tsukasa Onishi
司 大西
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Abstract

(57)【要約】 【課題】Sn主成分の鉛フリーはんだは、濡れ性に乏し
く、未はんだ、ブリッジ、ボイド等のはんだ付け欠陥を
発生させていた。本発明は、濡れ性を向上させたSn主成
分の鉛フリーはんだを提供することにある。 【解決手段】Sn主成分にGaを0.005〜0.2質量%
添加した鉛フリーはんだ合金であり、またSn主成分にGa
を0.005〜0.2質量%添加した鉛フリーはんだ合
金である。さらにこれらの鉛フリーはんだの機械的特性
を向上させるためにCu、Sb、Ni、Co、Fe、Mn、Cr、Mo等
を添加したり、融点を低下させるためにBi、In、Zn等を
添加したり、また酸化を防止するためにP、Ge等を添加
したりすることもできる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、鉛を含有しないは
んだ合金、特にプリント基板に電子部品を実装する際に
使用するはんだ合金に関する。
【0002】
【従来の技術】電子機器類においてプリント基板に電子
部品を実装する際にははんだ合金が用いられており、電
子部品やプリント基板に対する作業性を考慮して、はん
だ付け性の良好なSn−Pb共晶近傍(63Sn−Pb)のはん
だ合金が使用されている。さらにこの共晶はんだは、溶
融温度域が存在せず、瞬時に凝固するため、はんだ付け
後の凝固にかかる時間が短く、コンベア搬送等による振
動の影響も非常に少ないという信頼性の高いはんだ付け
が行なえるものである。
【0003】一般にテレビ、ラジオ、コンピューター等
の電子機器類は、故障したり、古くなって機能的に使い
にくくなったりした場合には廃棄処分される。これらの
電子機器類には、プリント基板のような合成樹脂と金属
導体やはんだが混在するもの、さらには金属製フレーム
等が使用されており、焼却処分ができないため、そのほ
とんどが埋立て廃棄されているのが現状である。
【0004】ところで近年、この埋立て処分された電子
機器類のプリント基板が酸性雨に曝されることにより、
はんだ中の鉛が溶出し、地下水を汚染するという環境上
の問題を引き起こすことが懸念されている。この鉛を含
有した地下水を長年飲用すると、人体に悪影響を及ぼす
ことが知られており、電子機器類に使用されるはんだか
ら鉛のような有害成分を排除しようという動きが活発化
し、鉛フリーはんだが強く求められている。
【0005】鉛フリーはんだとはSnを主成分とし、Cu、
Ag、Bi、Zn等の金属元素を添加したものであり、Sn−
0.7Cu(融点:227℃)、Sn−3.5Ag(融点22
1℃)、Sn−58Bi(融点:139℃)、Sn−9Zn(融
点:199℃)等の二元合金の他、用途に応じてさらに
添加金属元素を組み合わせて三元合金以上にしたものが
ある。
【0006】上述のSn−Zn系合金は、はんだ付け時の濡
れ性が著しく悪いものである。さらにZnは非常に酸化し
やすい成分であるため、特に大気中でのはんだ付け作業
を考慮するとドロスの発生が著しく、はんだ付け作業に
困難をきたし、実用性にも乏しいものである。またSn−
Bi系合金は大気中でのドロスの発生は比較的問題にはな
らないものの、Bi添加量が多い場合にはBi特有の機械的
な脆さを呈するため、はんだ接合部の信頼性が懸念され
るものである。
【0007】大気中でのはんだ付け作業の安定性をも考
慮に入れると、Sn−Cu系やSn−Ag系合金、さらにその構
成元素を組み合わせたSn−Ag−Cu系合金等が一般的に用
いられている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】前述のように、電子機
器類におけるプリント基板に電子部品を実装する際に
は、電子部品やプリント基板に対するはんだ付け性を考
慮して使用するはんだ合金が選定されている。
【0009】ところで、はんだ付け作業の際には、いく
つかのはんだ付け欠陥、即ち、未はんだ、ブリッジ、ボ
イド等が生じてしまう。一般にSn主成分のはんだ合金は
濡れ性に乏しい。特にSn−Cu系合金は、はんだ付け性が
不充分ではんだ付け欠陥が多発するため、濡れ性の向上
が強く求められている。濡れ性の向上には、AgやBiの添
加で効果があり、一般的に利用されている。その例とし
て、Sn−Ag共晶合金やSn−Ag−Cu系( Sn−3.5Ag−
0.7Cu)、そしてSn−Ag−Cu−Bi系( Sn−2Ag−
0.5Cu−7.5Bi)等のはんだ合金があるが、Agはコ
スト面で、Biは機械的な脆さの面で、その添加量は少量
に抑えることが望まれている。本発明は、一般に濡れ性
の乏しいSn主成分の鉛フリーはんだにおいて、はんだ付
け性を改善したはんだ合金を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、Sn主成分
の鉛フリーはんだ合金のはんだ付け作業性、特にはんだ
の濡れ性を向上させる手段について鋭意検討を重ねた結
果、Sn主成分の合金にGaを添加した合金が濡れ性を向上
させることを見い出し、本発明を完成させた。しかもGa
添加は前述のAgやBiを含有した合金の場合にも濡れ性向
上の効果があり、Ag或いはBi添加量の低減化にも寄与す
るものである。
【0011】本発明は、Ga0.005〜0.2質量%、
残部Snからなることを特徴とする鉛フリーはんだ合金で
あり、またGa0.005〜0.2質量%、Ag0.1〜4
質量%、残部Snからなることを特徴とする鉛フリーはん
だ合金である。
【0012】本発明におけるGaの添加量は、0.005
質量%より少ないとはんだの濡れ性の向上に効果がな
く、しかるに0.2質量%より多いと溶融はんだ表面に
おける粘性が増してはんだの流動性を阻害し、はんだ付
け作業に困難をきたすものである。
【0013】本発明のGa添加合金は、濡れ性向上の効果
があるものの機械的強度が要求されるような部位に対し
ては充分でない。このような部位をはんだ付けするよう
な場合は、機械的特性を向上させる強度改善元素とし
て、Cu、Sb、Ni、Fe、Mn、Cr、Mo等の金属のいずれか一
種または二種以上を添加することもできる。これらいず
れの金属もSnに固溶或いは金属間化合物を生成して機械
的強度を向上させるが、添加量が多いと液相線温度が上
昇し、はんだの流動性を阻害するため、Cu、Sbについて
はその合計量がはんだ全量の3質量%以下、Ni、Co、F
e、Mn、Cr、Moについてはその合計量がはんだ全量の
0.5質量%以下が好ましい。
【0014】またプリント基板に搭載した電子部品の熱
損傷や機能劣化を抑制する目的として、はんだ付け作業
温度を低くする必要性がある場合には、融点低下元素と
して、Bi、In、Zn、のいずれか一種または二種以上を添
加することができる。これらの金属の添加はBiの機械的
な脆さの面、そしてIn或いはZnの溶融はんだ表面の酸化
によるはんだ付け作業の困難さやはんだ付け性の阻害の
面を考慮すると、その添加量には限度があるため、その
合計量がはんだ全量の0.5質量%以上、5質量%以下
であることが望ましい。
【0015】さらにまたはんだ付け作業時の酸化を防ぐ
目的で、P、Ge等の酸化防止元素のいずれか一種または
二種以上を添加することもできる。これらの元素は、は
んだ合金の溶融時、溶融はんだの表面を薄い酸化膜で覆
って大気との接触を遮断し、高温で溶融しているはんだ
の酸化を防止する。これらの元素の添加量が多いと酸化
膜が厚くなりすぎて、はんだ付け性を阻害するようにな
るため、その合計量がはんだ全量の0.2質量%以下が
好ましい。
【0016】
【実施例】実施例および比較例を表1に示す。
【0017】
【表1】
【0018】(表の説明) 1:Cu板(厚さ0.3mm×巾10mm×長さ30mm)に酸化処理
(120℃×20分)を施し、試験板とする。該試験板の表
面にはんだ付け用フラックスを塗布し、260℃に加熱保
持された各種はんだ中へ浸漬して時間軸に対する濡れ曲
線を得る。所謂ウエッティングバランス法にて、ゼロク
ロスタイムを測定し、各種はんだ合金について比較し
た。ゼロクロスタイムが2秒以下であったものを優、2
秒を超え3秒以下のものを良、3秒を超えるものを劣と
した。 2:はんだの鋳造材に旋盤加工を施し、JIS Z2201の4
号試験片を得る。万能試験機を用いて該試験片の標点間
距離の約20%/分相当量のクロスヘッド速度にて引張
試験を行ない、その最大応力をもとめ、バルク強度とし
た。
【0019】本発明の鉛フリーはんだは、棒、ワイヤ
ー、プリフォーム(リボン、ペレット、ディスク、ワッ
シャー、ボール)、粉末(ソルダペースト)等の種々の製
品供給形態に応用可能である。
【0020】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のはんだ合
金は、鉛フリーはんだを用いているため、このはんだ合
金ではんだ付けされた電子機器類が故障や老巧化によっ
て埋立て処分されても、酸性雨で鉛成分が溶出せず、近
年重要視されている環境問題に適合したものである。ま
た本発明のはんだ合金によれば、Sn主成分であるにもか
かわらず、はんだ付け性が良好で安定したはんだ付け作
業が確保されるという優れた効果を有するものである。

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】Ga0.005〜0.2質量%、残部Snから
    なることを特徴とする鉛フリーはんだ合金。
  2. 【請求項2】Ga0.005〜0.2質量%、Ag0.1〜
    4質量%、残部Snからなることを特徴とする鉛フリーは
    んだ合金。
  3. 【請求項3】前記鉛フリーはんだ合金が、さらに強度改
    善元素を含有する請求項1または2記載の鉛フリーはん
    だ合金。
  4. 【請求項4】前記強度改善元素としてCuおよび/または
    Sbを合計で3質量%以下含有することを特徴とする鉛フ
    リーはんだ合金。
  5. 【請求項5】前記強度改善元素として、Ni、Co、Fe、M
    n、Cr、およびMoからなる群から選ばれた1種または2
    種以上を合計で0.5質量%以下含有することを特徴と
    請求項3または4記載の鉛フリーはんだ合金。
  6. 【請求項6】前記鉛フリーはんだ合金が、さらに融点低
    下元素を含有することを特徴とする請求項1、2ないし
    5記載の鉛フリーはんだ合金。
  7. 【請求項7】前記融点低下元素として、Bi、InおよびZn
    からなる群から選ばれた1種または2種以上を合計で
    0.5〜5質量%含有することを特徴とする請求項6記
    載の鉛フリーはんだ合金。
  8. 【請求項8】前記鉛フリーはんだ合金が、さらに酸化防
    止元素を含有することを特徴とする請求項1、2ないし
    6記載の鉛フリーはんだ合金。
  9. 【請求項9】前記酸化防止元素として、Pおよび/また
    はGeを合計で0.2質量%以下添加することを特徴とす
    る鉛フリーはんだ合金。
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