JP2002011984A

JP2002011984A - 脆性隠蔽表示媒体及びこの作製方法

Info

Publication number: JP2002011984A
Application number: JP2000193581A
Authority: JP
Inventors: Akira Kubo; 章久保
Original assignee: Toppan Printing Co Ltd
Current assignee: Toppan Inc
Priority date: 2000-06-27
Filing date: 2000-06-27
Publication date: 2002-01-15

Abstract

(57)【要約】【課題】隠蔽性が高く意匠性の高い脆性隠蔽部分を有す
る脆性隠蔽表示媒体を提供する。【解決手段】秘密情報１３が記録してある支持体１１の
秘密情報を覆い隠蔽するように脆性隠蔽部分１４を形成
してあり、該脆性隠蔽部分を除去することにより秘密情
報が可視可能な状態になる表示媒体であって、該脆性隠
蔽部分１４には凹凸が形成されていることを特徴とする
隠蔽脆性表示媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、秘密情報を形成し
た支持体の秘密情報部分に脆性隠蔽部分を形成すること
により隠蔽し、秘密情報を読み取りたい場合には、脆性
隠蔽部分を削り取る等で破壊することで秘密情報を読み
取ることができるような脆性隠蔽表示媒体およびその作
製方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来より支持体上に秘密情報を形成し、
脆性隠蔽部分で秘密情報を隠蔽し、使用する際に脆性隠
蔽部分を削り取る（１）抽選や宝くじに用いる媒体、
（２）ＩＤ情報やパスワードの配布に用いる媒体、
（３）問題やクイズの解答に用いる媒体などとして用い
らている。

【０００３】（１）の抽選や宝くじに用いる媒体では、
予め秘密情報として当選情報を脆性隠蔽部分に隠蔽して
おき、一括の抽選会を待たずして当選、不当選が分る抽
選方法などで用いる。（２）のＩＤ情報やパスワードの
配布に用いる媒体では、通信ネットワーク、例えば、電
話やインターネットなどに接続された環境で用いる脆性
隠蔽表示媒体であり、秘密情報として設けられたＩＤ情
報やパスワードをデータベース上で管理し、課金手段や
認証手段として用いる。（３）の問題やクイズの解答に
用いる媒体では、多肢選択方式で選択肢の数分の脆性隠
蔽部分を設け、脆性隠蔽部分を削ることにより解答する
方法などで用いる。

【０００４】これらの用途に用いる脆性隠蔽媒体を作製
する時、支持体上に秘密情報としての絵柄、文字、数
字、記号等の形成は、印刷やプリンタによる印字がなさ
れており、その形成の際の版やヘッドの圧力によるへこ
みやインキの盛り上がりなどによる段差が生まれ、上か
ら脆性隠蔽部分を形成し光を完全に遮断したとしても、
秘密情報が読み取られる危険性がある。そこで、印刷を
用いて脆性隠蔽部分を形成する際には、中間層として迷
彩柄の印刷を施し故意に段差を作製し、上記の危険性を
回避してきた。

【０００５】しかし、中間層に印刷を用いて故意に段差
を作製する方法では、秘密情報を隠すことはできるが、
意匠性が高い細かい凹凸を設けることは難しい。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明は脆性
隠蔽表示媒体の脆性隠蔽部分に版面に凹凸パターンを設
けたプレス版を押し付けることにより、効率よく隠蔽性
が高く意匠性の高い脆性隠蔽部分を有する脆性隠蔽表示
媒体を提供し、さらに、転写箔または脆性隠蔽転写箔を
用いることにより、転写と同時に脆性隠蔽部分に凹凸を
形成することにより脆性隠蔽表示媒体を効率よく作製す
ることを課題とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の課題を解決する
手段として、請求項１に記載の発明は、秘密情報が記録
してある支持体の該秘密情報を覆い隠蔽する部分であっ
て且つ支持体上で脆性を有する脆性隠蔽部分を形成して
あり、該脆性隠蔽部分を除去することにより秘密情報が
可視可能な状態になる表示媒体であって、該脆性隠蔽部
分には凹凸が形成されていることを特徴とする隠蔽脆性
表示媒体である。

【０００８】また、請求項２、請求項３に記載の発明
は、脆性隠蔽部分に反射層、ＯＶＤ層を有することを特
徴とする請求項１記載の脆性隠蔽表示媒体である。脆性
隠蔽部分に反射層を設けることで、隠蔽の効果が増し、
さらにＯＶＤ層にすることで、偽造防止効果が向上す
る。

【０００９】本明細書において、ＯＶＤ（Ｏｐｉｃａｌ
ＶａｒｉａｂｌｅＤｅｖｉｃｅ）層とは，光の干渉
を利用した立体画像や特殊な装飾画像を表現し得るホロ
グラムや回折格子、光学特性の異なる薄膜を重ねること
により見る角度によって色が変化するものの総称を指
す。

【００１０】また、請求項４に記載の発明は、請求項１
から請求項３のいずれかに記載された脆性隠蔽表示媒体
において、支持体の少なくとも一部に生分解性樹脂を用
いたことを特徴とする脆性隠蔽表示媒体である。

【００１１】また、請求項５に記載の発明は、請求項１
から請求項４のいずれかに記載された脆性隠蔽表示媒体
の作製方法において、脆性隠蔽部分に版面に凹凸パター
ンを設けたプレス版を押し付けることにより作製するこ
とを特徴とする脆性隠蔽表示媒体の作製方法である。

【００１２】また、請求項６に記載の発明は、請求項１
から請求項４のいずれかに記載された脆性隠蔽表示媒体
の作製方法において、秘密情報が記録してある表示媒体
の支持体に、転写箔基材上に少なくとも脆性隠蔽層、接
着層を有し、該脆性隠蔽層が転写箔基材から剥離可能で
ある脆性隠蔽転写箔と、任意の凹凸パターンを有し、該
脆性隠蔽層を転写可能なプレス版とを使用して、該脆性
隠蔽層を表示媒体の支持体上に転写で形成する際に、プ
レス版の凹凸パターンによって該脆性隠蔽部分の転写と
同時に凹凸を形成することを特徴とする脆性隠蔽表示媒
体の作製方法である。

【００１３】また、請求項７、８に記載の発明は、請求
項６記載の脆性転写箔が反射層、ＯＶＤ層を有すること
を特徴とする脆性隠蔽表示媒体の作製方法である。

【００１４】また、請求項９に記載の発明は、請求項１
から請求項４のいずれかに記載された脆性隠蔽表示媒体
の作製方法において、秘密情報を記録し、該秘密情報を
覆い隠蔽するように脆性隠蔽部分を形成してある表示媒
体の支持体に、転写箔基材上に少なくとも転写層、接着
層を有し、該転写層が転写箔基材から剥離可能である転
写箔と、任意の凹凸パターンを有し、該転写層を転写可
能なプレス版とを使用して、該転写層を表示媒体の支持
体上に転写で形成する際に、プレス版の凹凸パターンに
よって該脆性隠蔽部分の転写と同時に凹凸を形成するこ
とを特徴とする脆性隠蔽表示媒体の作製方法である。

【００１５】この方法は、脆性隠蔽部分の表面を保護さ
せる、あるいは隠蔽性を高める等の目的で表面保護層、
反射層、ＯＶＤ層等の転写層を有する転写箔を用いるも
のであり、請求項１０、請求項１１に記載の発明は、請
求項９記載の転写箔が反射層、ＯＶＤ層を有することを
特徴とする脆性隠蔽媒体の作製方法である。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態につい
て説明する。図１は脆性隠蔽表示媒体の脆性隠蔽部分を
形成する前の表示媒体の例であり、（ａ）は平面図、
（ｂ）は（ａ）のｘ−ｘ部における構成断面図である。

【００１７】支持体（１１）に秘密情報（１３）を形成
する際に、印刷時の圧力によるへこみやインキによる盛
り上がりによる段差を生じることがある。この例では秘
密情報（１３）の上に剥離ニス層（１２）を設けた例で
ある。剥離ニス層（１２）は、脆性隠蔽部分が支持体か
ら剥がれやすい場合は設ける必要はない。秘密情報（１
３）を形成した時に段差ができれば、剥離ニス層を設け
た場合にも、剥離ニス層の表面に段差（１５）として残
ってしまう。

【００１８】図２は、図１（ｂ）の表示媒体に脆性隠蔽
層（１４）を形成し、脆性隠蔽表示媒体としたものの断
面である。この状態では、脆性隠蔽層（１４）が光りを
通さないものであっても秘密情報（１３）が脆性隠蔽部
分の表面の段差（１５）として浮き出すので、光の照射
を変えることで秘密情報は脆性隠蔽部分を削ることなく
読み取られてしまう可能性がある。

【００１９】このような脆性隠蔽部分を削ることなく読
み取られることを防止するためになされたものが図３で
あり、図３（ａ）は脆性隠蔽表示媒体の平面図、図３
（ｂ）は（ａ）のｘ−ｘ部における構成断面図である。
すなわち、脆性隠蔽部分の表面に凹凸（１６）を形成
し、秘密情報を印字したことによって発生する盛り上が
りあるいはへこみによる段差が打ち消され、また乱反射
することで、光の照射方法を工夫しても秘密情報（１
３）を読み取ることができなくなる。

【００２０】また、図３は脆性隠蔽表示媒体の脆性隠蔽
部分がむき出しのままであり、流通過程やその他の使用
前に脆性隠蔽部分が傷つくことがあるため、それを防ぐ
ために表面保護層（１７）を設け、この表面保護層の表
面に凹凸（１６）を形成した本発明の例を示す断面図で
ある。

【００２１】図５は、本発明の脆性隠蔽表示媒体の基本
的な作製工程を説明する工程図である。紙、プラスチッ
クシート等の支持体（１１）に、秘密情報（１３）とな
る文字、記号、絵柄等をオフセット印刷、スクリーン印
刷、あるいはインクジェット方式で印刷し、この上にア
クリル樹脂等にオイルシリコンを添加してなる剥離ニス
層（１２）を設ける（図５（ａ））。

【００２２】次に剥離ニス層（１２）の上に、アクリル
樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂等の熱可塑性樹脂
に、脆性と隠蔽性を与える酸化チタン、アルミニウム粉
末、カーボンブラック等の顔料からなる脆性隠蔽層を設
ける（図５（ｂ））。

【００２３】前述したように脆性隠蔽層（１４）が充
分、耐摩擦性、耐擦傷性を有するならば表面保護層（１
７）を設ける必要はないが通常は脆性隠蔽層（１４）を
保護するために耐摩擦性、耐擦傷性を有するポリメタア
クリレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂等の
表面保護層（１７）を設ける（図５（ｃ））。

【００２４】この表面保護層（１７）に図６に示すよう
に凹凸パターンが形成されているプレス版（２２）を用
い加熱押圧して表面に凹凸を形成することで本発明の脆
性隠蔽表示媒体が得られる（図５（ｄ））。

【００２５】加熱押圧して凹凸パターンを表面に形成す
ることで、秘密情報を印刷したことによって生じる段差
が打ち消されることで、光の照射を工夫しても読み取る
ことが不可能となる。

【００２６】凹凸パターンが形成されているプレス版の
例として図７の（ａ）から（ｄ）に示すようなパターン
が用いられる。（ａ）は、単純な模様による絵柄のプレ
ス版。（ｂ）は、ロゴやマーク、図形などによる絵柄の
プレス版。（ｃ）は、何かの情報を伝える文字柄のプレ
ス版。（ｄ）は、ランダムな曲線による絵柄のプレス
版。これらの柄の他に絵や写真の柄の版を用いることが
できる。（ａ）または（ｂ）は意匠性が高く、（ｂ）ま
たは（ｃ）は情報伝達性が高い。（ｄ）は意匠性、情報
伝達性は低いものの、隠蔽性が高い形状である。実際に
は、これらの組み合わせにより目的とする性質が得られ
るようにデザインする。

【００２７】また、プレス版の凹凸は、絵柄または文字
柄を表現する線の間隔、深さ、形状によって見え方が異
なる。（Ａ）ベタの凹凸のプレス版、（Ｂ）０．００１〜１ｍ
ｍの間隔の線による凹凸のプレス版、（Ｃ）０．１μｍ
〜１０μｍの間隔の線による凹凸のプレス版等が用いら
れ、（Ａ）は、柄をそのまま凹凸として設けて作製した
通常の凹凸プレス版、（Ｂ）は、柄を０．００１から１
ｍｍの間隔で凹凸を線で設け、版の深さや角度を変える
ことにより、光の反射方向を変化させ、立体的な画像を
表すことが可能なプレス版で、（Ｃ）はレリーフ型のホ
ログラム版または回折格子版であり、立体表現なプレス
版である。これらは、一つの版の中であっても組み合わ
せることができるのでそれぞれの特徴を生かしたデザイ
ンができる。

【００２８】以下に、本発明の脆性隠蔽表示媒体の材料
等を詳しく説明する。

【００２９】支持体（１１）の材質としては、目的とす
る使用に耐えうる機械特性、耐水性、耐薬品性、隠蔽情
報を印刷する際の印刷特性、裏面より光を通して秘密情
報が読み取られることが無いように光不透過性が要求さ
れる。具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
塩化ビニル、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリメ
タクリル酸メチル、ポリスチレン等の合成樹脂、天然樹
脂、ポリ乳酸などの生分解性樹脂のフィルム、紙、金属
箔など、また、それらの複合体または金属蒸着を施した
ものや適当な表面処理を施したものを用いることができ
る。

【００３０】ポリ乳酸、ポリグリコリドや乳酸とオキシ
カルボン酸であるグリコール酸、酒石酸、リンゴ酸等の
モノマーやコポリマーを共重合させた樹脂、ポブチレン
サクシネートやポリエチレンサクシネートとアジピン酸
やコハク酸を共重合させた樹脂を支持体と用いること
で、環境に配慮した表示媒体が得られる。

【００３１】また、秘密情報（１３）は、文字、数字、
図形、絵柄などを凸版印刷法、グラビア印刷法、オフセ
ット印刷法、スクリーン印刷法など公知の印刷方法を用
いて形成する。更に、秘密情報を可変情報として記録す
る場合には、ドットインパクトプリンタ、サーマルプリ
ンタ、レーザプリンタ、インクジェットプリンタなど情
報処理機器に接続したプリンタを用いると便利である。

【００３２】また、剥離ニス層（１２）は、脆性隠蔽部
分を削り取る際に剥離性が良く、秘密情報が破壊されな
ければ特に必要なものではないが、支持体に秘密情報や
その他の印刷などを形成するために印刷適性、密着性を
上げる表面処理をしているため通常は設けられる。剥離
ニス層（１２）の構成材料としては透明でこの層を通し
て秘密情報を読み取ることができ、脆性隠蔽転写箔を転
写後、脆性隠蔽部分が削り取れる程度に密着度の悪い樹
脂で、その際、コインや爪などで擦っても削り取られな
い強靭さを持っていれば特に限定されるものではない。
剥離ニス層の構成材料としては、紫外線もしくは電子線
硬化型のアクリル系インキなどにシリコンなどの滑剤を
添加したものであり、これを凸版印刷、オフセット印
刷、グラビア印刷、スクリーン印刷などにより設けるこ
とができる。

【００３３】隠蔽情報（１３）の形成の際に、支持体
（１１）の表面にインキの盛り上りや版やヘッドの圧力
によるへこみが生じることがある。この上に剥離ニス層
（１２）を形成しても段差が残ることがある。

【００３４】また、脆性隠蔽層（１４）の構成材料とし
ては、ゴム系の樹脂、タルク等の無機フィラー又は、体
質顔料からなる脆性成分に染料や顔料などの添加剤を添
加して隠蔽性を持たせたインキを用い、凸版印刷、オフ
セット印刷、グラビア印刷、スクリーン印刷など公知の
印刷方法を用いて秘密情報（１３）を形成した支持体
（１１）に２．０から１０．０μｍ程度の厚さで形成
し、脆性隠蔽表示媒体を作製する。隠蔽のために添加さ
れる添加剤としては、酸化チタン、カーボンブラック、
金属の微粉末やチップなどが挙げられる。

【００３５】また、脆性隠蔽層（１４）のみで脆性隠蔽
部分とする場合には搬送途中に脆性隠蔽部分に傷がつ
き、隠蔽性が損なわれることがある。このような事故を
防止するために、表面保護層（１７）を形成することが
ある。表面保護層（１７）の構成材料としては、アクリ
ル系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニル樹脂−酢酸ビニ
ル共重合樹脂、ポリエステル系樹脂、メラミン系樹脂、
エポキシ系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリイミド樹脂
等の従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線ま
たは電子線硬化樹脂を単独、あるいは、混合して用いる
ことができる。

【００３６】このような構成の脆性隠蔽表示媒体は、次
に記載する転写箔を用いて効率よく作製することができ
る

【００３７】図８は転写箔の構成例であり、（ａ）は転
写層として剥離兼表面保護層（３２）、脆性隠蔽と接着
性を兼ね備えた脆性隠蔽接着層（３４）を有する転写箔
の構成断面図、（ｂ）は転写層として剥離兼表面保護層
（４２）、反射層又はＯＶＤ層（４３）、脆性隠蔽と接
着性を兼ね備えた脆性隠蔽接着層（４４）を有する転写
箔の構成断面図、（ｃ）は転写層として剥離兼表面保護
層（５２）、反射層又はＯＶＤ層（５３）接着層（５
４）を有する転写箔の構成断面図である。

【００３８】図８（ａ）、（ｂ）の転写箔は、前述した
図４のような構成の脆性隠蔽表示媒体を作製する際に、
転写によって脆性剥離層を形成できる転写箔であり、
（ｃ）の転写箔は図９に示すような脆性剥離層を形成し
てある支持体に反射層又はＯＶＤ層を設ける際に使用さ
れる転写箔の１例である。

【００３９】図８に図示している剥離兼表面保護層（３
２）は、転写箔の基材（３１、４１、５１）から転写層
が剥がれ易くし、転写後は表示媒体の最表面に位置し脆
性隠蔽層を保護する機能を有する層である。

【００４０】転写箔基材（３１、４１、５１）の材質と
しては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィル
ム、ポリアミドフィルム、ポリカーボネートフィルム、
ポリエチレンナフタレートフィルム等の耐熱性フィルム
が適用できる。

【００４１】また、剥離兼表面保護層（３２、４２、５
２）を構成する材料としては、熱可塑性アクリル樹脂、
塩化ゴム樹脂、あるいはこの塩化ゴム樹脂とニトロセル
ロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートブ
チレート、ポリスチレン又は塩酢ビ樹脂の混合物を挙げ
ることができる。また、これ等に加えてメラミン樹脂、
アルキッド樹脂、エポキシ樹脂あるいは尿素樹脂等の熱
硬化性樹脂を用いることができる。これらの樹脂を基材
上にグラビア法やマイクログラビア法などの公知のコー
ティング法を用いて０．１μｍから１０μｍの厚さで形
成する。

【００４２】接着層（又は粘着層）（３４、４４、５
４）に用いる材料としては、例えば、ポリエステル系樹
脂、アクリル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリアミド系
樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ゴム系樹脂、エチレン−
酢酸ビニル共重合系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重
合系樹脂等の公知の接着剤を用いることができる。

【００４３】また、転写箔基材（３１、４１、５１）か
ら剥離兼表面保護層（３２、４２、５２）が剥がれにく
い場合には、転写箔基材と剥離保護層の間に基材と密着
がよく剥離保護層と密着が悪い離型層を設けることがで
きる。これらの樹脂を基材上にグラビア法やマイクログ
ラビア法などの公知のコーティング法を用いて０．１μ
ｍから１０μｍの厚さで形成する。

【００４４】剥離兼表面保護層（３２、４２、５２）に
透明なものを用いた場合には、接着層との間に反射層を
設けることができ、この転写箔を用いて表面保護層を形
成した場合には、反射層を有する転写箔となる。反射層
はセラミックス、金属単体もしくは合金を蒸着やスパッ
タなどの公知の薄膜形成技術を用いて形成することがで
きる。

【００４５】まず、セラミックスとしては、たとえば、
Ｓｂ₂Ｏ₃（３．０＝屈折率：以下同じ），Ｆｅ₂Ｏ
₃（２．７），ＴｉＯ₂（２．６），ＣｄＳ（２．６），
ＣｅＯ₂（２．３），ＺｎＳ（２．３），ＰｂＣｌ
₂（２．３），ＣｄＯ（２．２），Ｓｂ₂Ｏ₃（２．
０），ＷＯ₃（２．０），ＳｉＯ（２．０），Ｓｉ₂Ｏ₃
（２．５），Ｉｎ₂Ｏ₃（２．０），ＰｂＯ（２．６），
Ｔａ₂Ｏ₃（２．４），ＺｎＯ（２．１），ＺｒＯ
₂（２．０），ＭｇＯ（１．６），ＳｉＯ₂（１．５），
ＭｇＦ₂（１．４），ＣｅＦ₃（１．６），ＣａＦ
₂（１．３），ＡｌＦ₃（１．６），Ａｌ₂Ｏ₃（１．
６），ＧａＯ（１．７）等が挙げられる。金属単体もし
くは合金の薄膜としては、たとえば、Ａｌ，Ｆｅ，Ｍ
ｇ，Ｚｎ，Ａｕ，Ａｇ，Ｃｒ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｓｉ等が挙
げられる。

【００４６】また、接着層との間にＯＶＤ（Ｏｐｔｉｃ
ａｌＶａｌｉａｂｌｅＤｅｖｉｃｅの略語）層を設
けると、ＯＶＤ転写箔とすることができ、この転写箔を
用いて表面保護層を形成した場合には、反射層を有する
脆性隠蔽部分となる。ＯＶＤとは前述した通り、見る角
度によって色が変化するものの総称であり、光の干渉を
利用したホログラム、回折格子、多層薄膜などが挙げら
れる。

【００４７】ホログラムや回折格子のようなＯＶＤとし
ては、光の干渉縞を微細な凹凸パターンとして平面に記
録するレリーフ型や体積方向に干渉縞を記録する体積型
がある。また、見る角度により色の変化（カラーシフ
ト）を生じる多層薄膜のようなＯＶＤとしては、光学特
性の異なるセラミックスや金属の薄膜を積層したものが
ある。この他に、光の干渉を利用した固有の像や色の変
化を生じるものであればこれらに限られるものではな
い。これらのＯＶＤの中では、量産性やコストを考慮し
た場合には、レリーフ型ホログラム（回折格子）や多層
薄膜が好ましいものである。

【００４８】レリーフ型ホログラム（回折格子）は光学
的な撮影方法により、微細な凹凸パターンからなるレリ
ーフ型のマスターホログラムを作製し、次に、このマス
ターホログラムから電気メッキ法により凹凸パターンを
複製したニッケル製のプレス版を作製し量産する。すな
わち、このプレス版を加熱し、ホログラム形成層に押し
当て、凹凸パターンを複製する。それゆえ、ＯＶＤ形成
層は熱による成形性が良好で、プレスムラが生じ難く、
明るい再生像が得られる材料であることが必要であり、
たとえば、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、
ポリ塩化ビニル樹脂などの熱可塑性樹脂、不飽和ポリエ
ステル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂などの熱硬化
性樹脂、あるいは、ラジカル重合性不飽和基を有する紫
外線や電子線硬化性樹脂を単独あるいは複合して用いる
ことができる。また、上記以外のものでも、ＯＶＤ形成
層として凹凸パターンを形成可能な安定な材料であれば
使用可能である。

【００４９】また、ＯＶＤにレリーフ型ホログラム（回
折格子）を用いた場合、その回折効率を高めるためレリ
ーフ面を構成する高分子材料と屈折率の異なる反射層を
設けることが好ましい。この反射層を設けることによ
り、回折効率が向上し、より鮮明な画像や色の変化をも
たらすものになる。用いる材料としては、屈折率の異な
るＴｉＯ₂、ＳｉＯ₂、ＳｉＯ、Ｆｅ₂Ｏ₃、ＺｎＳなどの
高屈折率材料や、より反射効果の高いＡｌ、Ｓｎ、Ｃ
ｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｕ等の金属材料が挙げられる。これ
らの材料は単独あるいは積層して使用できるものであ
り、これらの材料は真空蒸着法、スパッタリング等の公
知の薄膜形成技術にて形成され、その膜圧は用途によっ
て異なるが、５０〜１００００Å程度で形成される。

【００５０】上記以外でも、ＯＶＤ層を構成する材料と
しては、その屈折率が、ＯＶＤ形成層で使用される高分
子材料（屈折率ｎ＝１．３〜１．５）よりも高い材料で
あれば、上記の無機材料以外の有機系、有機無機複合
体、有機系材料に無機系フィラーを分散したものなどが
使用可能である。これらの材料はグラビアコート、ダイ
コート、スクリーン印刷等の公知のコーティング法や印
刷法にて０．１〜１０μｍ程度のＯＶＤ層に形成され
る。また、上記以外の材料であっても反射性を有した材
料であれば、適宜使用することが可能である。

【００５１】一方、多層薄膜でＯＶＤが形成されるＯＶ
Ｄ層は、異なる光学適性を有する多層薄膜層からなり、
金属薄膜、セラミックス薄膜またはそれらを併設してな
る複合薄膜として積層形成される。たとえば、屈折率の
異なる薄膜を積層する場合、高屈折率の薄膜と低屈折率
の薄膜を組み合わせても良く、また特定の組み合わせを
交互に積層するようにしてもよい。それらの組み合わせ
により、所望の多層薄膜を得ることができる。

【００５２】この多層薄膜には、セラミックスや金属な
どの材料が用いられ、おおよそ屈折率が２．０以上の高
屈折率材料と屈折率が１．５程度の低屈折率材料を所定
の膜圧で積層したものである。以下に用いられる材料の
一例を挙げる。まず、セラミックスとしては、たとえ
ば、Ｓｂ₂Ｏ₃（３．０＝屈折率：以下同じ），Ｆｅ₂Ｏ₃
（２．７），ＴｉＯ₂（２．６），ＣｄＳ（２．６），
ＣｅＯ₂（２．３），ＺｎＳ（２．３），ＰｂＣｌ
₂（２．３），ＣｄＯ（２．２），Ｓｂ₂Ｏ₃（２．
０），ＷＯ₃（２．０），ＳｉＯ（２．０），Ｓｉ₂Ｏ₃
（２．５），Ｉｎ₂Ｏ₃（２．０），ＰｂＯ（２．６），
Ｔａ₂Ｏ₃（２．４），ＺｎＯ（２．１），ＺｒＯ
₂（２．０），ＭｇＯ（１．６），ＳｉＯ₂（１．５），
ＭｇＦ₂（１．４），ＣｅＦ₃（１．６），ＣａＦ
₂（１．３），ＡｌＦ₃（１．６），Ａｌ₂Ｏ₃（１．
６），ＧａＯ（１．７）等が挙げられる。

【００５３】金属単体もしくは合金の薄膜としては、た
とえば、Ａｌ，Ｆｅ，Ｍｇ，Ｚｎ，Ａｕ，Ａｇ，Ｃｒ，
Ｎｉ，Ｃｕ，Ｓｉ等が挙げられる。また、低屈折率の有
機ポリマーとしては、たとえば、ポリエチレン（１．５
１）ポリプロピレン（１．４９）、ポリテトラフロロエ
チレン（１．３５）、ポリメチルメタクレート（１．４
９）、ポリスチレン（１．６０）等が挙げられる。これ
らの高屈折率材料、もしくは透過率３０％〜６０％の金
属薄膜より少なくとも一種、低屈折率材料より少なくと
も一種選択し、所定の厚さで交互に積層させることによ
り、特定の波長の可視光に対する吸収あるいは反射を示
す多層薄膜となる。

【００５４】上記の各材料の中から、屈折率、反射率、
透過率等の光学特性や耐光性、耐薬品性、層間密着性な
どに基づき材料を適宜選択し、薄膜として積層し多層薄
膜を形成する。形成方法は、公知の手法を用いることが
でき、膜厚、成膜速度、積層数、あるいは光学膜厚（＝
ｎ・ｄ、ｎ：屈折率、ｄ：膜厚）などの制御が可能な通
常の真空蒸着法、スパッタリング法などの物理的気相析
出法やＣＶＤ法などの化学的気相析出法を用いることが
できる。

【００５５】また、低屈折率の有機ポリマーの成膜方法
としては、公知のグラビア印刷法、オフセット印刷法、
スクリーン印刷法などの印刷方法やバーコート法、グラ
ビア法、ロールコート法などの塗布方法を用いることが
できる。なお、本発明ではセラミックスおよび金属と同
等、あるいは類似する屈折率と反射率を有するものであ
れば用いることが可能である。

【００５６】この多層薄膜層の層厚は、具体的には５０
〜２００００Åの範囲であり、また、薄膜の層構成は上
記高屈折率の材料もしくは金属材料からなる薄膜、たと
えば、ＺｎＳ，ＴｉＯ₂，ＺｒＯ₂，Ｉｎ₂Ｏ₃，ＳｎＯ，
ＩＴＯ，ＣｅＯ₂、ＺｎＯ，Ｔａ₂Ｏ₃，Ａｌ，Ｆｅ，Ｍ
ｇ，Ｚｎ，Ａｕ，Ａｇ，Ｃｒ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｓｉなど
と、上記低屈折率の材料からなる薄膜、たとえば、Ｍｇ
Ｆ₂，ＳｉＯ₂，ＣａＦ₂，ＭｇＯ，Ａｌ₂Ｏ₃などとの組
み合わせであり、それらを交互に積相し、その積層数が
２層以上、好ましくは２層〜９層である。分光特性は層
数に応じて変化する。なお、用いる材料、組み合わせに
より多層膜の光学特性が異なるため、これに限定される
ものではない。

【００５７】本発明におけるＯＶＤ層の追加は、意匠性
を向上させるとともに、一度脆性隠蔽部分を削って秘密
情報を読み取った後、不正に脆性隠蔽部分を復元するこ
とを著しく困難にし、セキュリティー性を高める働きも
有する。

【００５８】これらの脆性隠蔽転写箔を用いれば、脆性
隠蔽層と表面保護層を同時に形成することができる。

【００５９】また、脆性隠蔽層と接着層を別々にして２
層にしなくとも、図８（ａ）、（ｂ）のように接着層が
脆性隠蔽層を兼ねている脆性隠蔽接着層（３４、４４）
の構成にした方が生産性の面からも好ましい。図８
（ｂ）の転写箔は、図８（ａ）の転写箔に反射層又はＯ
ＶＤ層（４３）を付加した構成を示すものである。

【００６０】脆性隠蔽接着層（３４、４４）を構成する
材料としては、上記ポリエステル系樹脂、アクリル系樹
脂、塩化ビニル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ酢酸ビ
ニル系樹脂、ゴム系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合
系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合系樹脂等の公知
の接着剤と脆性成分であるゴム系の樹脂、タルク等の無
機フィラー又は、体質顔料と隠蔽成分である酸化チタ
ン、カーボンブラック、金属の微粉末やチップなどの添
加剤を混ぜたインキをグラビア法やマイクログラビア法
などの公知のコーティング法を用いて１μｍから１０μ
ｍの厚さで形成する。また、この脆性隠蔽転写箔も中間
層として反射層やＯＶＤ層を設けたものを用いることが
できる。

【００６１】脆性隠蔽表示媒体の脆性隠蔽部分に凹凸を
設けるには、エンボス装置に凹凸パターンを形成したプ
レス版を取り付け、直接熱圧をかけているが、転写箔を
用いる場合には、転写と同時に脆性隠蔽部分に凹凸を形
成することができる。

【００６２】図１０は、転写箔の転写と同時に脆性隠蔽
部分の表面に凹凸を設ける時の概要図である。アップダ
ウン式のホットスタンプの上定盤（２１）に凹凸パター
ンを形成したプレス版（２２）を取り付け、下定盤（２
３）の上に表示媒体（１０）をのせ、転写箔（３０、４
０）をセットしたものである。

【００６３】

【実施例】［実施例１］＜脆性隠蔽転写箔＞１６μｍの厚さのＰＥＴフィルムに
アクリル系の樹脂をグラビアコート法を用いて２．０μ
ｍの剥離表面保護層を形成し、その上に、脆性のための
スチレンブタジエンゴム、接着のためのアクリル樹脂、
隠蔽のためのアルミペーストを混ぜたインキで４．０μ
ｍの脆性隠蔽接着層をグラビアコート法でコーティング
して図８（ａ）に示す転写箔を作製した。＜プレス版＞銅板を彫刻により約０．１ｍｍ間隔で線を
刻みクロムメッキをかけてプレス版を作製した。＜被転写体（秘密情報が設けられている媒体）＞表面易
接着処理を施した２５０μｍの厚さの不透明なＰＥＴフ
ィルム上にドットインパクトプリンタを用いて秘密情報
を形成し、シリコンフィラーを含む紫外線硬化型アクリ
ル系インキをスクリーン印刷を用いて秘密情報の上に印
刷して剥離ニス層を形成し、作製した。＜転写及び凹凸形成＞アップダウン型のホットスタンプ
にプレスを取り付け、転写箔を被転写体の剥離ニス層の
上に９０℃、９．８ＭＰａ（１００ｋｇｆ／ｃｍ²）で
３秒間熱圧をかけて転写し、脆性隠蔽表示媒体を得た。

【００６４】［実施例２］＜ホログラム脆性隠蔽転写箔＞１６μｍの厚さのＰＥＴ
フィルムにアクリル系の樹脂をグラビアコート法を用い
て２．０μｍの剥離表面保護層、ウレタン系樹脂をグラ
ビアコート法を用いて０．３μｍのホログラム形成層、
真空蒸着法を用いて８０ｎｍのアルミニウム反射層を順
に形成した後、ホログラム画像をエンボスで形成し、脆
性のためのスチレンブタジエンゴム、接着のためのアク
リル樹脂、隠蔽のためのアルミペーストを混ぜたインキ
で４．０μｍの脆性隠蔽接着層をグラビアコート法でコ
ーティングして図８（ｂ）の転写箔を作製した。＜プレス版＞ランダムな曲線を描いた製版フィルムにを
作製し、迷彩柄のネガ画像でマスキングした銅版を腐食
液中で腐食させ、１０μｍの深さの凹凸となるように作
製した。＜被転写体＞表面易接着処理を施した２５０μｍの厚さ
の不透明なＰＥＴフィルム上にドットインパクトプリン
タを用いて秘密情報を形成し、シリコンフィラーを含む
紫外線硬化型アクリル系インキをスクリーン印刷を用い
て秘密情報の上に印刷して剥離ニス層を形成し、作製し
た。＜転写及び凹凸形成＞アップダウン型のホットスタンプ
にプレスを取り付け、転写箔を被転写体の剥離ニス層の
上に９０℃、９．８ＭＰａ（１００ｋｇｆ／ｃｍ²）で
３秒間熱圧をかけて転写し、脆性隠蔽表示媒体を得た。

【００６５】実施例１、２とも凹凸を設けたプレス版を
転写時に使用することにより媒体の脆性隠蔽部分に凹凸
が生じ、光の照射角度を色々変化させた秘密情報を読み
取ることが出来なかった。

【００６６】

【発明の効果】脆性隠蔽表示媒体の脆性隠蔽部分に凹凸
パターンを形成することで、秘密情報を印字する際に生
じる段差が打ち消され、光の照射角度を工夫してもこの
秘密情報を読み取ることが出来なくなる。

【００６７】また、秘密情報を見ようと脆性隠蔽部を削
り取ると、脆性隠蔽部は復元できなくため、秘密情報の
盗み見を防止できる。さらに、ホログラム等のＯＶＤ層
を付加することで、更に偽造、改竄等の不正使用を防止
できるとともに意匠性の高い隠蔽表示媒体が得られる。

【００６８】さらに、脆性隠蔽層を有する転写箔を用い
ることにより、転写と同時に脆性隠蔽部分に凹凸を形成
することにより脆性隠蔽表示媒体を効率よく作製するこ
とが可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】支持体上に秘密情報と剥離ニス層を設け、脆性
隠蔽を形成する前の表示媒体であり、（ａ）は平面図、
（ｂ）は（ａ）のｘ−ｘ部の構成断面図である。

【図２】図１の表示媒体に脆性隠蔽層を形成し、脆性隠
蔽表示媒体の構成断面図である。

【図３】本発明の凹凸が形成された脆性隠蔽表示媒体の
一例を示し、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のｘ−ｘ
部の構成断面図である。

【図４】図３の脆性隠蔽表示媒体の脆性隠蔽層上に表面
保護層を設け、凹凸が形成された脆性隠蔽表示媒体の一
例を示す構成断面図である。

【図５】本発明の脆性隠蔽表示媒体の製造方法の工程を
断面図に基づいて説明するものである。

【図６】ホットスタンプによる脆性隠蔽部分への凹凸パ
ターン形成を説明する概略図である。

【図７】凹凸パターンの一例を示す平面図である。

【図８】転写箔の構成例であり、（ａ）は転写層として
剥離兼表面保護層、脆性隠蔽接着層を有する転写箔の構
成断面図、（ｂ）は転写層として剥離兼表面保護層、反
射層又はＯＶＤ層、脆性隠蔽接着層を有する転写箔の構
成断面図、（ｃ）は転写層として剥離兼表面保護層、反
射層又はＯＶＤ層、接着層を有する転写箔の構成断面図
である。

【図９】脆性隠蔽層を形成してある支持体に図８（ｃ）
の転写箔を用い本発明の脆性隠蔽表示媒体の１例を示す
構成断面図である。

【図１０】ホットスタンプによる転写箔の転写と同時に
脆性隠蔽部分への凹凸パターン形成を説明する概略図で
ある。

【符号の説明】

１０…表示媒体１１…支持体１２…剥離ニス層１３…秘密情報１４…脆性隠蔽層１５…段差１６…凹凸１７…表面保護層２１…上定盤２２…凹凸パターンを形成したプレス版２３…下定盤３０、４０、５０…転写箔３１、４１、５１…転写箔基材３２、４２、５２…剥離兼表面保護層４３、４４…脆性隠蔽接着層４３、５３…反射層又はＯＶＤ層５４…接着層５５…凹凸

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】秘密情報が記録してある支持体の該秘密情
報を覆い隠蔽する部分であって、且つ該支持体上で脆性
を有する脆性隠蔽部分を形成してあり、該脆性隠蔽部分
を除去することにより秘密情報が可視可能な状態になる
表示媒体であって、該脆性隠蔽部分には凹凸が形成され
ていることを特徴とする脆性隠蔽表示媒体。
【請求項２】脆性隠蔽部分に反射層を有することを特徴
とする請求項１記載の脆性隠蔽表示媒体。
【請求項３】脆性隠蔽部分にＯＶＤ層を有することを特
徴とする請求項１記載の脆性隠蔽表示媒体。
【請求項４】請求項１から請求項３のいずれかに記載さ
れた脆性隠蔽表示媒体において、支持体の少なくとも一
部に生分解性樹脂を用いたことを特徴とする脆性隠蔽表
示媒体。
【請求項５】請求項１から請求項４のいずれかに記載さ
れた脆性隠蔽表示媒体の作製方法において、脆性隠蔽部分に版面に凹凸パターンを設けたプレス版を
押し付けることにより作製することを特徴とする脆性隠
蔽表示媒体の作製方法。
【請求項６】請求項１から請求項４のいずれかに記載さ
れた脆性隠蔽表示媒体の作製方法において、秘密情報が記録してある表示媒体の支持体に、転写箔基材上に少なくとも脆性隠蔽層、接着層を有し、
該脆性隠蔽層が転写箔基材から剥離可能である脆性隠蔽
転写箔と、任意の凹凸パターンを有し、該脆性隠蔽層を
転写可能なプレス版とを使用して、該脆性隠蔽層を表示
媒体の支持体上に転写で形成する際に、プレス版の凹凸
パターンによって該脆性隠蔽部分の転写と同時に凹凸を
形成することを特徴とする脆性隠蔽表示媒体の作製方
法。
【請求項７】請求項６記載の脆性転写箔が反射層を有す
ることを特徴とする脆性隠蔽表示媒体の作製方法。
【請求項８】請求項６記載の脆性転写箔がＯＶＤ層を有
することを特徴とする脆性隠蔽表示媒体の作製方法。
【請求項９】請求項１から請求項４のいずれかに記載さ
れた脆性隠蔽表示媒体の作製方法において、秘密情報を記録し、該秘密情報を覆い隠蔽するように脆
性隠蔽部分を形成してある表示媒体の支持体に、転写箔基材上に少なくとも転写層、接着層を有し、該転
写層が転写箔基材から剥離可能である転写箔と、任意の
凹凸パターンを有し、該転写層を転写可能なプレス版と
を使用して、該転写層を表示媒体の支持体上に転写で形
成する際に、プレス版の凹凸パターンによって該脆性隠
蔽部分の転写と同時に凹凸を形成することを特徴とする
脆性隠蔽表示媒体の作製方法。
【請求項１０】請求項９記載の転写箔が反射層を有する
ことを特徴とする脆性隠蔽媒体の作製方法。
【請求項１１】請求項９記載の転写箔がＯＶＤ層を有す
ることを特徴とする脆性隠蔽媒体の作製方法。