JP2002001047A - Ｐｆｃ回収装置及びｐｆｃ回収方法 - Google Patents
Ｐｆｃ回収装置及びｐｆｃ回収方法Info
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- JP2002001047A JP2002001047A JP2000186730A JP2000186730A JP2002001047A JP 2002001047 A JP2002001047 A JP 2002001047A JP 2000186730 A JP2000186730 A JP 2000186730A JP 2000186730 A JP2000186730 A JP 2000186730A JP 2002001047 A JP2002001047 A JP 2002001047A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 所定流量で排ガスを流す必要のあるメンブレ
ン部を用いてもメンブレン部の数を少なくできるＰＦＣ
回収装置及びＰＦＣ回収方法を提供する。 【解決手段】 本発明に係るＰＦＣ回収装置１は、ＰＦ
Ｃガスを含む排ガスを圧縮するガス圧縮装置２と、この
ガス圧縮装置で圧縮された排ガスを貯蔵するタンク３
と、このタンクに貯蔵された排ガスを所定圧力且つ所定
流量に制御する定圧・定流化装置４と、この定圧・定流化
装置で制御された排ガスからＰＦＣガスを分離するメン
ブレン部５と、を具備する。
ン部を用いてもメンブレン部の数を少なくできるＰＦＣ
回収装置及びＰＦＣ回収方法を提供する。 【解決手段】 本発明に係るＰＦＣ回収装置１は、ＰＦ
Ｃガスを含む排ガスを圧縮するガス圧縮装置２と、この
ガス圧縮装置で圧縮された排ガスを貯蔵するタンク３
と、このタンクに貯蔵された排ガスを所定圧力且つ所定
流量に制御する定圧・定流化装置４と、この定圧・定流化
装置で制御された排ガスからＰＦＣガスを分離するメン
ブレン部５と、を具備する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体などの製造
に使用され、半導体製造工程から排出される弗化化合物
（以下、ＰＦＣという。）を含む半導体排ガスを回収す
るＰＦＣ回収装置及びＰＦＣ回収方法に関する。
に使用され、半導体製造工程から排出される弗化化合物
（以下、ＰＦＣという。）を含む半導体排ガスを回収す
るＰＦＣ回収装置及びＰＦＣ回収方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】図２は、従来のＰＦＣ回収装置を示す構
成図である。ＰＦＣ回収装置１１は、ＣＶＤ（Chemical
Vapor Deposition）装置、エッチング装置等の半導体
製造装置を使用した際に排出されるＣＦ4、ＣＨＦ3、Ｓ
Ｆ6等のフロン系のガスを再利用するために回収する装
置である。
成図である。ＰＦＣ回収装置１１は、ＣＶＤ（Chemical
Vapor Deposition）装置、エッチング装置等の半導体
製造装置を使用した際に排出されるＣＦ4、ＣＨＦ3、Ｓ
Ｆ6等のフロン系のガスを再利用するために回収する装
置である。
【０００３】ＰＦＣガスが使用される半導体製造装置１
０には、使用後のＰＦＣガスを含む排ガスを排気する排
気管２１が設けられている。ポンプ２０にはパージ用窒
素がつながれ、常時窒素が供給されているため、排ガス
にはＰＦＣガスの他に窒素などの他のガスが含まれてい
る。排気管２１はポンプ２０を介して導入管２２に繋げ
られている。導入管２２は複数のメンブレン部１３〜１
６に繋げられている。
０には、使用後のＰＦＣガスを含む排ガスを排気する排
気管２１が設けられている。ポンプ２０にはパージ用窒
素がつながれ、常時窒素が供給されているため、排ガス
にはＰＦＣガスの他に窒素などの他のガスが含まれてい
る。排気管２１はポンプ２０を介して導入管２２に繋げ
られている。導入管２２は複数のメンブレン部１３〜１
６に繋げられている。
【０００４】導入管２２には、メンブレン部に導入する
排ガス流量に応じて流路を切り換える流路切換手段（図
示せず）が設けられている。また、導入管２２には、メ
ンブレン部に排ガスを所定の流量（例えば２０リットル
／ｍｉｎ）で導入するために窒素（又は空気）を流し込
む窒素導入装置１２が接続されている。
排ガス流量に応じて流路を切り換える流路切換手段（図
示せず）が設けられている。また、導入管２２には、メ
ンブレン部に排ガスを所定の流量（例えば２０リットル
／ｍｉｎ）で導入するために窒素（又は空気）を流し込
む窒素導入装置１２が接続されている。
【０００５】ここで、流路切換手段及び窒素導入装置１
２を設けている理由は、メンブレン部においてＰＦＣガ
スを分離する機能を十分に発揮させるためには、排ガス
を所定の流量でメンブレン部に導入する必要があるから
である。
２を設けている理由は、メンブレン部においてＰＦＣガ
スを分離する機能を十分に発揮させるためには、排ガス
を所定の流量でメンブレン部に導入する必要があるから
である。
【０００６】メンブレン部１３〜１６はＰＦＣガスを含
む排ガスを窒素などの他のガスから分離する手段であ
る。メンブレン部１３〜１６は、多孔質膜を有し、その
多孔質膜を透過するガスと透過しないガスがあり、それ
によってＰＦＣガスと窒素等の他のガスを分離するよう
に構成されている。
む排ガスを窒素などの他のガスから分離する手段であ
る。メンブレン部１３〜１６は、多孔質膜を有し、その
多孔質膜を透過するガスと透過しないガスがあり、それ
によってＰＦＣガスと窒素等の他のガスを分離するよう
に構成されている。
【０００７】次に、上記従来のＰＦＣ回収装置の動作に
ついて説明する。半導体製造装置１０において使用され
たＰＦＣガスを、ポンプ２０により排気管２１に引き出
すと共に導入管２２を通してメンブレン部１３〜１６に
導入する。この際、例えば２０リットル／ｍｉｎの流量
で排ガスが各々のメンブレン部に導入されるように、流
路切換手段及び窒素導入装置１２を作動させる。このよ
うにしてメンブレン部に導入された排ガスはＰＦＣガス
と窒素等の他のガスに分離される。そして、分離された
ＰＦＣガスは図示せぬ回収タンクに回収され、そのＰＦ
Ｃガスは所定の処理が施され再利用される。
ついて説明する。半導体製造装置１０において使用され
たＰＦＣガスを、ポンプ２０により排気管２１に引き出
すと共に導入管２２を通してメンブレン部１３〜１６に
導入する。この際、例えば２０リットル／ｍｉｎの流量
で排ガスが各々のメンブレン部に導入されるように、流
路切換手段及び窒素導入装置１２を作動させる。このよ
うにしてメンブレン部に導入された排ガスはＰＦＣガス
と窒素等の他のガスに分離される。そして、分離された
ＰＦＣガスは図示せぬ回収タンクに回収され、そのＰＦ
Ｃガスは所定の処理が施され再利用される。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記従来の
ＰＦＣ回収装置１１では、各々のメンブレン部１３〜１
６に所定流量で排ガスを流す必要があるため、半導体製
造装置の数が増える等によって排ガスの回収量が増加す
ると、それに応じてメンブレン部の数も増加させなけれ
ばならない。つまり、回収する排ガスの最大流量に備え
てメンブレン部が多量に必要となる。その結果、ＰＦＣ
回収装置が大型化し、装置の構造が複雑になり、装置コ
ストが増大することになる。
ＰＦＣ回収装置１１では、各々のメンブレン部１３〜１
６に所定流量で排ガスを流す必要があるため、半導体製
造装置の数が増える等によって排ガスの回収量が増加す
ると、それに応じてメンブレン部の数も増加させなけれ
ばならない。つまり、回収する排ガスの最大流量に備え
てメンブレン部が多量に必要となる。その結果、ＰＦＣ
回収装置が大型化し、装置の構造が複雑になり、装置コ
ストが増大することになる。
【０００９】本発明は上記のような事情を考慮してなさ
れたものであり、その目的は、所定流量で排ガスを流す
必要のあるメンブレン部を用いてもメンブレン部の数を
少なくできるＰＦＣ回収装置及びＰＦＣ回収方法を提供
することにある。
れたものであり、その目的は、所定流量で排ガスを流す
必要のあるメンブレン部を用いてもメンブレン部の数を
少なくできるＰＦＣ回収装置及びＰＦＣ回収方法を提供
することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明に係るＰＦＣ回収
装置は、ＰＦＣガスを含む排ガスを圧縮するガス圧縮装
置と、このガス圧縮装置で圧縮された排ガスを貯蔵する
貯蔵部と、この貯蔵部に貯蔵された排ガスを所定圧力且
つ所定流量に制御する定圧・定流化装置と、この定圧・定
流化装置で制御された排ガスからＰＦＣガスを分離する
メンブレン部と、を具備することを特徴とする。
装置は、ＰＦＣガスを含む排ガスを圧縮するガス圧縮装
置と、このガス圧縮装置で圧縮された排ガスを貯蔵する
貯蔵部と、この貯蔵部に貯蔵された排ガスを所定圧力且
つ所定流量に制御する定圧・定流化装置と、この定圧・定
流化装置で制御された排ガスからＰＦＣガスを分離する
メンブレン部と、を具備することを特徴とする。
【００１１】上記ＰＦＣ回収装置によれば、多量の排ガ
スがＰＦＣ回収装置に導入された場合でも、その排ガス
をガス圧縮装置を用いて圧縮し、それを貯蔵部で貯蔵す
ることができるため、排ガスの最大流量に対応した多く
のメンブレン部を配置する必要がない。従って、所定流
量で排ガスを流す必要のあるメンブレン部を用いてもメ
ンブレン部の数を少なくすることができる。
スがＰＦＣ回収装置に導入された場合でも、その排ガス
をガス圧縮装置を用いて圧縮し、それを貯蔵部で貯蔵す
ることができるため、排ガスの最大流量に対応した多く
のメンブレン部を配置する必要がない。従って、所定流
量で排ガスを流す必要のあるメンブレン部を用いてもメ
ンブレン部の数を少なくすることができる。
【００１２】また、本発明に係るＰＦＣ回収装置におい
て、上記メンブレン部は、多孔質膜を有し、その多孔質
膜を透過するガスと透過しないガスとによってＰＦＣガ
スを分離するものであることが好ましい。
て、上記メンブレン部は、多孔質膜を有し、その多孔質
膜を透過するガスと透過しないガスとによってＰＦＣガ
スを分離するものであることが好ましい。
【００１３】本発明に係るＰＦＣ回収方法は、ＰＦＣガ
スを含む排ガスを圧縮し、この圧縮された排ガスを貯蔵
し、この貯蔵された排ガスを所定圧力且つ所定流量に制
御し、この制御された排ガスからＰＦＣガスを、多孔質
膜を有するメンブレン部によって分離することを特徴と
する。
スを含む排ガスを圧縮し、この圧縮された排ガスを貯蔵
し、この貯蔵された排ガスを所定圧力且つ所定流量に制
御し、この制御された排ガスからＰＦＣガスを、多孔質
膜を有するメンブレン部によって分離することを特徴と
する。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施の形態について説明する。図１は、本発明の実施の
形態によるＰＦＣ回収装置を示す構成図である。
実施の形態について説明する。図１は、本発明の実施の
形態によるＰＦＣ回収装置を示す構成図である。
【００１５】ＰＦＣ回収装置１は、ＣＶＤ装置、エッチ
ング装置等の半導体製造装置を使用した際に排出される
ＣＦ4、ＣＨＦ3、ＳＦ6等のフロン系のガスを再利用す
るために回収する装置である。
ング装置等の半導体製造装置を使用した際に排出される
ＣＦ4、ＣＨＦ3、ＳＦ6等のフロン系のガスを再利用す
るために回収する装置である。
【００１６】ＰＦＣガスが使用される半導体製造装置１
０ａ，１０ｂそれぞれには、使用後のＰＦＣガスを含む
排ガスを排気する排気管２１ａ，２１ｂが設けられてい
る。ポンプ２０ａ,２０ｂにはパージ用窒素がつなが
れ、常時窒素が供給されているため、排ガスにはＰＦＣ
ガスの他に窒素などの他のガスが含まれている。各々の
排気管２１ａ，２１ｂはポンプ２０ａ，２０ｂを介して
導入管６に繋げられている。
０ａ，１０ｂそれぞれには、使用後のＰＦＣガスを含む
排ガスを排気する排気管２１ａ，２１ｂが設けられてい
る。ポンプ２０ａ,２０ｂにはパージ用窒素がつなが
れ、常時窒素が供給されているため、排ガスにはＰＦＣ
ガスの他に窒素などの他のガスが含まれている。各々の
排気管２１ａ，２１ｂはポンプ２０ａ，２０ｂを介して
導入管６に繋げられている。
【００１７】導入管６はガス圧縮装置２に繋げられてい
る。ガス圧縮装置２は、排ガスを圧縮する装置であり、
例えばコンプレッサなどが用いられる。ガス圧縮装置２
は配管７を介してタンク（貯蔵部）３に接続されてい
る。タンク３は、ガス圧縮装置２により圧縮された排ガ
スを貯蔵するものである。タンク３は配管８を介して定
圧・定流化装置４に接続されており、定圧・定流化装置
４は配管９を介してメンブレン部５に接続されている。
る。ガス圧縮装置２は、排ガスを圧縮する装置であり、
例えばコンプレッサなどが用いられる。ガス圧縮装置２
は配管７を介してタンク（貯蔵部）３に接続されてい
る。タンク３は、ガス圧縮装置２により圧縮された排ガ
スを貯蔵するものである。タンク３は配管８を介して定
圧・定流化装置４に接続されており、定圧・定流化装置
４は配管９を介してメンブレン部５に接続されている。
【００１８】定圧・定流化装置４は、タンク３に貯蔵さ
れた高圧の排ガスを一定圧力、一定流量に制御するもの
であり、例えばレギュレータ、ニードルバルブなどが用
いられる。
れた高圧の排ガスを一定圧力、一定流量に制御するもの
であり、例えばレギュレータ、ニードルバルブなどが用
いられる。
【００１９】メンブレン部５はＰＦＣガスを含む排ガス
を窒素などの他のガスから分離する手段である。メンブ
レン部５は、多孔質膜を有し、その多孔質膜を透過する
ガスと透過しないガスがあり、それによってＰＦＣガス
と窒素等の他のガスを分離するように構成されている。
メンブレン部においてＰＦＣガスを分離する機能を十分
に発揮させるためには、排ガスを所定の流量（例えば２
０リットル／ｍｉｎ）でメンブレン部に導入する必要が
ある。
を窒素などの他のガスから分離する手段である。メンブ
レン部５は、多孔質膜を有し、その多孔質膜を透過する
ガスと透過しないガスがあり、それによってＰＦＣガス
と窒素等の他のガスを分離するように構成されている。
メンブレン部においてＰＦＣガスを分離する機能を十分
に発揮させるためには、排ガスを所定の流量（例えば２
０リットル／ｍｉｎ）でメンブレン部に導入する必要が
ある。
【００２０】次に、上記ＰＦＣ回収装置の動作について
説明する。まず、複数の半導体製造装置１０ａ，１０ｂ
において使用されたＰＦＣガスを、複数のポンプ２０
ａ，２０ｂにより排気管２１ａ，２１ｂに引き出すと共
に導入管６を通してコンプレッサなどのガス圧縮装置２
に導入する。そして、ガス圧縮装置２において排ガスが
圧縮される。
説明する。まず、複数の半導体製造装置１０ａ，１０ｂ
において使用されたＰＦＣガスを、複数のポンプ２０
ａ，２０ｂにより排気管２１ａ，２１ｂに引き出すと共
に導入管６を通してコンプレッサなどのガス圧縮装置２
に導入する。そして、ガス圧縮装置２において排ガスが
圧縮される。
【００２１】次に、この圧縮された排ガスは配管７を通
ってタンク３に貯蔵される。その後、タンク３内の圧縮
された排ガスは配管８を通ってレギュレータ及びニード
ルバルブなどの定圧・定流化装置４に導入される。そし
て、定圧・定流化装置４において、高圧の排ガスを所定
の圧力に制御し且つ所定の流量に制御する。
ってタンク３に貯蔵される。その後、タンク３内の圧縮
された排ガスは配管８を通ってレギュレータ及びニード
ルバルブなどの定圧・定流化装置４に導入される。そし
て、定圧・定流化装置４において、高圧の排ガスを所定
の圧力に制御し且つ所定の流量に制御する。
【００２２】次の、所定の流量に制御された排ガスは配
管９を通ってメンブレン部５に導入される。そして、こ
のメンブレン部５において、排ガスはＰＦＣガスと窒素
等の他のガスに分離され、分離されたＰＦＣガスは図示
せぬ回収タンクに回収され、そのＰＦＣガスは所定の処
理が施され再利用される。
管９を通ってメンブレン部５に導入される。そして、こ
のメンブレン部５において、排ガスはＰＦＣガスと窒素
等の他のガスに分離され、分離されたＰＦＣガスは図示
せぬ回収タンクに回収され、そのＰＦＣガスは所定の処
理が施され再利用される。
【００２３】上記実施の形態によれば、多量の排ガスが
ＰＦＣ回収装置１に導入された場合でも、その排ガスを
ガス圧縮装置２を用いて圧縮し、それをタンク３で一時
的に貯蔵することができる。このため、従来のＰＦＣ回
収装置ように排ガスの最大流量に対応した多くのメンブ
レン部を配置する必要がない。従って、メンブレン部の
数を従来のＰＦＣ回収装置に比べて少なくすることがで
きる。その結果、装置を小型化することができ、装置コ
ストを小さくできる。
ＰＦＣ回収装置１に導入された場合でも、その排ガスを
ガス圧縮装置２を用いて圧縮し、それをタンク３で一時
的に貯蔵することができる。このため、従来のＰＦＣ回
収装置ように排ガスの最大流量に対応した多くのメンブ
レン部を配置する必要がない。従って、メンブレン部の
数を従来のＰＦＣ回収装置に比べて少なくすることがで
きる。その結果、装置を小型化することができ、装置コ
ストを小さくできる。
【００２４】尚、本発明は上記実施の形態に限定され
ず、種々変更して実施することが可能である。
ず、種々変更して実施することが可能である。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、多
量の排ガスがＰＦＣ回収装置に導入された場合でも、そ
の排ガスをガス圧縮装置を用いて圧縮し、それを貯蔵部
で貯蔵する。したがって、所定流量で排ガスを流す必要
のあるメンブレン部を用いてもメンブレン部の数を少な
くできるＰＦＣ回収装置及びＰＦＣ回収方法を提供する
ことができる。
量の排ガスがＰＦＣ回収装置に導入された場合でも、そ
の排ガスをガス圧縮装置を用いて圧縮し、それを貯蔵部
で貯蔵する。したがって、所定流量で排ガスを流す必要
のあるメンブレン部を用いてもメンブレン部の数を少な
くできるＰＦＣ回収装置及びＰＦＣ回収方法を提供する
ことができる。
【図１】本発明の実施の形態によるＰＦＣ回収装置を示
す構成図である。
す構成図である。
【図２】従来のＰＦＣ回収装置を示す構成図である。
１，１１ ＰＦＣ回収装置 ２ ガス圧縮装置 ３ タンク ４ 定圧・定流化装置 ５，１３〜１６ メンブレン部 ６，２２ 導入管 ７〜９ 配管 １０，１０ａ，１０ｂ 半導体製造装置 １２ 窒素導入装置 ２０，２０ａ，２０ｂ ポンプ ２１，２１ａ，２１ｂ 排気管
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 3E072 DA05 DB03 GA30 4D006 GA41 JA67A KE02Q KE07Q PA01 PB19 PB63 PB70 PC01 5F004 AA16 BC02 BC04 BC08 CA02 CA08 DA25 5F045 BB08 BB10 EE14 EG03 EG07 EG09
Claims (3)
- 【請求項１】 ＰＦＣガスを含む排ガスを圧縮するガス
圧縮装置と、 このガス圧縮装置で圧縮された排ガスを貯蔵する貯蔵部
と、 この貯蔵部に貯蔵された排ガスを所定圧力且つ所定流量
に制御する定圧・定流化装置と、 この定圧・定流化装置で制御された排ガスからＰＦＣガ
スを分離するメンブレン部と、 を具備することを特徴とするＰＦＣ回収装置。 - 【請求項２】 上記メンブレン部は、多孔質膜を有し、
その多孔質膜を透過するガスと透過しないガスとによっ
てＰＦＣガスを分離するものであることを特徴とする請
求項１記載のＰＦＣ回収装置。 - 【請求項３】 ＰＦＣガスを含む排ガスを圧縮し、 この圧縮された排ガスを貯蔵し、 この貯蔵された排ガスを所定圧力且つ所定流量に制御
し、 この制御された排ガスからＰＦＣガスを、多孔質膜を有
するメンブレン部によって分離することを特徴とするＰ
ＦＣ回収方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000186730A JP2002001047A (ja) | 2000-06-21 | 2000-06-21 | Ｐｆｃ回収装置及びｐｆｃ回収方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000186730A JP2002001047A (ja) | 2000-06-21 | 2000-06-21 | Ｐｆｃ回収装置及びｐｆｃ回収方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002001047A true JP2002001047A (ja) | 2002-01-08 |
Family
ID=18686837
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000186730A Withdrawn JP2002001047A (ja) | 2000-06-21 | 2000-06-21 | Ｐｆｃ回収装置及びｐｆｃ回収方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002001047A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100449781B1 (ko) * | 2001-03-21 | 2004-09-22 | 삼성전자주식회사 | 반도체 제조 공정에서 퍼플루오르계 화합물의 배출을감소시키기 위한 방법 및 장치 |
| JP2005188717A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Daido Air Products Electronics Kk | ガス回収方法およびガス回収装置ならびにガス回収システム |
| WO2010103846A1 (ja) * | 2009-03-12 | 2010-09-16 | 新日本石油株式会社 | 排ガス処理装置および排ガス処理方法 |
| WO2010103847A1 (ja) * | 2009-03-12 | 2010-09-16 | 新日本石油株式会社 | 排ガス処理装置および排ガス処理方法 |
| JP2014104454A (ja) * | 2012-11-30 | 2014-06-09 | Air Water Inc | パーフルオロコンパウンド系排ガスの除害処理装置および方法 |
| JP2015525134A (ja) * | 2013-06-25 | 2015-09-03 | ファインテック．カンパニー，リミテッド | パーフルオロ化合物の分離及びリサイクルシステム |
-
2000
- 2000-06-21 JP JP2000186730A patent/JP2002001047A/ja not_active Withdrawn
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100449781B1 (ko) * | 2001-03-21 | 2004-09-22 | 삼성전자주식회사 | 반도체 제조 공정에서 퍼플루오르계 화합물의 배출을감소시키기 위한 방법 및 장치 |
| JP2005188717A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Daido Air Products Electronics Kk | ガス回収方法およびガス回収装置ならびにガス回収システム |
| WO2010103846A1 (ja) * | 2009-03-12 | 2010-09-16 | 新日本石油株式会社 | 排ガス処理装置および排ガス処理方法 |
| WO2010103847A1 (ja) * | 2009-03-12 | 2010-09-16 | 新日本石油株式会社 | 排ガス処理装置および排ガス処理方法 |
| JPWO2010103847A1 (ja) * | 2009-03-12 | 2012-09-13 | Ｊｘ日鉱日石エネルギー株式会社 | 排ガス処理装置および排ガス処理方法 |
| JP2014104454A (ja) * | 2012-11-30 | 2014-06-09 | Air Water Inc | パーフルオロコンパウンド系排ガスの除害処理装置および方法 |
| JP2015525134A (ja) * | 2013-06-25 | 2015-09-03 | ファインテック．カンパニー，リミテッド | パーフルオロ化合物の分離及びリサイクルシステム |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20070904 |