JP2001521201A - 多層導電性反射防止コーティング - Google Patents
多層導電性反射防止コーティングInfo
- Publication number
- JP2001521201A JP2001521201A JP2000518292A JP2000518292A JP2001521201A JP 2001521201 A JP2001521201 A JP 2001521201A JP 2000518292 A JP2000518292 A JP 2000518292A JP 2000518292 A JP2000518292 A JP 2000518292A JP 2001521201 A JP2001521201 A JP 2001521201A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- layer
- substrate
- flexible substrate
- thickness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
- G02B1/116—Multilayers including electrically conducting layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/16—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements having an anti-static effect, e.g. electrically conducting coatings
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/913—Material designed to be responsive to temperature, light, moisture
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Abstract
Description
防止コーティングに関する。
図から評価することができる。
の複素光学的アドミタンスYの軌跡は複素平面内にプロットされ、堆積のアドミ
ッタンスは、あたかも全積層工程の間にプロットされたかのように、基板に始ま
り堆積の前面で終止している。堆積の一部を成す各誘電体層に対して、この軌跡
は実軸上に中心を持つ円の円弧で、時計回りに追跡される。もしアドミタンス・
プロットの終点が、エントランス媒体である空気の光学的アドミタンス・ポイン
ト(1,0)の近くであるなら、全コーティング堆積の最適な反射防止特性が得
られる。
てプロットされる。その反射率は、視覚波長範囲、すなわちおおまかに400n
mから700nmまでの範囲において、可能な限り低くあるべきである。
はバームレン型コートは、一般によく知られた反射防止コーティングである。こ
のコーティング6には、4つの材料層から成る堆積が含まれる。基板から最も遠
くに位置している第1層1は、相互平均的視覚波長であるλ0を約510nmの デザイン波長としたときに、約λ0/4の厚みを有することを意味する1/4波 長層である。第2層2は、約λ0/2の層厚を有する半波長層である。基板の最 も近くに位置している第3層3及び第4層4は、それぞれ一般にλ0/12とλ0 /16の層厚を持つ非常に薄い材料層である。このようなコーティングの例は米
国特許第5450238号に記載されている。
堆積は非常に低い屈折率と非常に高い屈折率を持つ材料を組み合わせるべきであ
る。実際には、二酸化シリコンが非常に低い屈折率(約1.46)を持つ材料と
して使用され、二酸化チタンが非常に高い屈折率(約2.35)を持つ材料とし
て使用される。
ミタンスのプロットが示されており、これはλ0を510nmとしたときに、基 板から最も遠くに位置する0.25λ0の光学的層厚を持つ二酸化シリコン層と 、それに続いて0.52λ0の光学的層厚を持つ二酸化チタン層と、さらに続い て0.09λ0の光学的層厚を持つ二酸化シリコン層と、そして最後に最も基板 に近い0.06λ0の光学的層厚を持つ二酸化チタン層とから成る堆積に関係す る。対応する反射率図は図7においてプロットAで示されている。これらの図か
らわかるように、このバームレン型コーティングの光学的特性は非常に良く、視
覚波長範囲では非常に反射率が低く、しかもバンド幅が大きい。バンド幅は、1
%の反射率における、長波長λLの短波長λsに対する比率として定義される。
い(一般に20000Ω/sq以上)ということで、そのためにこうしたコーテ
ィングは、例えば陰極線管(CRT)のコーティングとして、帯電防止またはE
MI(Electro-Magnetic Interference)遮蔽への適用に適しない。
またはアルミニウムでドープされた亜鉛酸化物、アンチモンまたはフッ素でドー
プされたスズ酸化物、スズでドープされたカドミウム酸化物、あるいはインジウ
ム・スズ酸化物といった導電性材料で置き換えることが一般的である。
、二酸化シリコンを二酸化チタンよりも低い屈折率(一般に2.0〜2.1)を
有する導電性素材と組み合わせているために、すでに述べたバームレン型コーテ
ィングよりも劣る。入射光の反射率はそれ故により高く、かつバンド幅はより低
い。これは図7の反射率プロットBからわかる。このプロットBは、基板から最
も遠くに位置する0.24λ0の光学的層厚を持つ二酸化シリコン層と、それに 続いて0.39λ0の光学的層厚を持つインジウム・スズ酸化物層と、さらに続 いて0.06λ0の光学的層厚を持つ二酸化シリコン層と、そして最後に最も基 板に近い0.06λ0の光学的層厚を持つインジウム・スズ酸化物層とから成る 堆積を含む修正されたバームレン型ガラスコーティングに関するものである。図
3は対応するアドミタンスのプロットを示している。
、ドープされた亜鉛酸化物またはインジウム・スズ酸化物といった導電性材料で
部分的に置き換えられた、5つの材料層から成る堆積を含む多層反射防止コーテ
ィングが記載されている。
が存在する。
に、すでに述べられたバームレン型コーティングの光学的特性よりもコーティン
グの光学的特性は悪い。このことは図7の反射率プロットCからわかる。このプ
ロットCは、基板から最も遠くに位置する0.28λ0の光学的層厚を持つ二酸 化シリコン層と、それに続いて0.13λ0の光学的層厚を持つ二酸化チタン層 と、さらに続いて0.37λ0の光学的層厚を持つ亜鉛酸化物層と、またさらに 続いて0.12λ0の光学的層厚を持つ二酸化シリコン層と、そして最後に最も 基板に近い0.03λ0の光学的層厚を持つ二酸化チタン層とから成る堆積を含 む、ガラス上コーティングに関するものである。
ティングの光学的特性に直接的に影響を与えるので設計仕様に正確に従わなけれ
ばならない。コーティングの導電率はそれ故に全く調整が効かず、EMIを遮蔽
する用途に適するコーティングを与えるには大きさが十分ではない。
いて反射率が低く、かつバンド幅が大きいといった最適な光学的特性を有する、
反射防止コーティングを提供することにある。
に適する、反射防止コーティングを提供することにある。
電率を有する反射防止コーティングを提供することにある。
するための、合理的なスピードで反射防止コーティングをコーティングさせるた
めの方法を提供することにある。
反射防止コーティングを構成する。このコーティングは5つの材料層から成る堆
積を含む。堆積の第3層は、前記コーティングの光学的特性に影響を与えること
なく、25から2000Ω/sq(sq=square)までの調整可能な電気的面抵抗 (すなわち、コーティングの単位正方形面積当たりの抵抗)を前記コーティング
に与える、好ましくはインジウム・スズ酸化物などの導電性材料から成る、ダミ
ー層である。このダミー層は、その層厚がコーティングの光学的特性に一切また
はほとんど影響を与えない層として定義される。
と、0.2λ0と0.3λ0との間、すなわち約0.25λ0(1/4波長)の光 学的層厚を有する。第2層は、約2.2より大きな屈折率と、0.4λ0と0. 6λ0との間、すなわち約0.5λ0(1/2波長)の光学的層厚を有する。第4
層は、第1層とほぼ同じ屈折率と、約0.1λ0未満、すなわちどんな場合でも 0.15λ0未満の光学的層厚を有する。第5層は、第2層とほぼ同じ屈折率と 、0.025λ0と0.1λ0との間、すなわち約0.04λ0の光学的層厚を有 する。ここで、λ0は480nmと560nmとの間、すなわち約510nmの 設計波長を表す。
セクションと、 (3)その表面上で基板が積層セクションを通過する、中央冷却ドラムと、 を備えた真空チャンバ内で実行可能な単一通過型または二重通過型の真空マグネ
トロン・スパッタ作業により柔軟基板(例えば高分子フィルム)上に積層できる
。単一通過型作業が実行される場合には、最小5つの積層セクションが必要とさ
れ、二重通過型作業が実行される場合には、最小3つの積層セクションのみが必
要とされる。
含まれる。ここで、反射率とは入射光の百分率反射率であり、バンド幅BWとは
、例えば図7の反射率プロットDに示されているような、1%の反射率における
長波長λLの短波長λsに対する比率(BW=λL/λs)である。
柔軟基板に対する多層反射防止コーティング7が提供される。
つ材料から成り、0.2λ0と0.3λ0との間、一般的には約0.25λ0(1 /4波長)の光学的層厚を有する。層厚は約510nmであるλ0に対する割合 として表され、視覚的波長領域、すなわち400nmから700nmを限定する
境界波長の相互平均として表される。
ら成り、0.4λ0と0.6λ0との間、一般的には約0.5λ0(半波長)の光 学的層厚を有する。
ら成り、0.025λ0と0.1λ0との間、一般的には約0.05λ0の光学的 層厚を有する。
料として二酸化チタンと二酸化シリコンを組み合わせ、それによって、すでに述
べた4層のバームレン型コーティングの光学的特性と両立できる良い光学的特性
を持つコーティングが実現される。このことは、以下の実施例2によって特徴付
けられる本発明によるコーティングに関する図7の反射率プロットDからわかる
。
が与えられるという更なる利点が生まれる。この防湿性によって、湿気が外側か
ら基板と第5層12の接触面を通過して層内に浸透することが妨げられ、その結
果、ひび形成といったコーティング堆積の劣化が防止される。
ときには0.15%、あるいは例えば強く架橋結合したUV硬化処理されたアク
リル酸塩から成るハードコーティングを有する基板上に積層されるときには0.
25%、を越えないフォトピック反射率を実現する。フォトピック反射率は目の
感度と反射率プロットとの畳み込みであって、標準的発光物D65と1931年
に照明国際委員会によって定義された2°オブザーバを使用して380から78
0nmまでの波長領域で測定される。
た)を有し、それは柔軟基板に対する従来最も一般的なコーティングのバンド幅
より大きい。しかしながら実際には、層厚または反射率の小さくかつ/または局
所的な偏りによって(層の組成の小さな偏りの結果として)、明所反射率の値が
増加する。これらの値は、柔軟基板や透明基板上に積層されると最大約0.60
%まで、あるいはハードコーティングされた柔軟基板上に積層されると最大約0
.70%まで、上昇することがある。好ましくはこれらの値はそれぞれ0.60
%と0.70%、最も好ましくはそれぞれ0.45%と0.55%を超えるべき
ではない。本発明によるコーティング堆積における第3材料層10は導電性材料
から成り、反射防止コーティングに望ましい導電率を与える。
かにしか影響を与えないことを意味する、いわゆる「ダミー層」である。このダ
ミー層の層厚を変えることによって、コーティングの導電率はコーティングの光
学的特性に影響を与えることなく広範囲に調整可能である。
いて堆積内に挿入され、そしてもしその挿入された層の屈折率がその実数値に等
しいならば、その層はダミー層として作用する。
ンス図からわかるように、その発生期の堆積は約2の実アドミタンスを有する。
もしこの時点で約2の屈折率を持つ材料層が挿入されるならば、アドミタンス図
は、極めて小さな半径の円(理想的には点)として継続し、そのことはコーティ
ングの光学的特性が事実上変わらないままであることを意味している。インジウ
ム・スズ酸化物(ITO)は約2の屈折率を有し、上記特性に非常に適している
。本発明による反射防止コーティングを構成している堆積に第3層として挿入さ
れたITO層は、それ故にダミー層として作用する。
実際に、ITOダミー層の層厚を5nmと50nmの間、好ましくは20nmと
40nmの間で変化させることによって、コーティングの光学的特性に影響を与
えることなく、コーティングの電気的面抵抗を25Ω/sqと2000Ω/sq
の間で調整することができる。例えば陰極線管への適用に対しては、コーティン
グの電気的面抵抗は非常に低く、25Ω/sqと500Ω/sqの間にあること
が好ましい。
され、導電層の抵抗率と導電性コーティング層の層厚との比率として計算できる
。
更なる利点が存在する。提案されたコーティングの光学的特性は、構成堆積層の
層厚及び/または材料の化学量論における小さな変化にはあまり敏感ではないの
で、色の微調整が可能である。
。なお、本発明はそれらに限定されるのではない。
バンド幅を有し、基板としての(透明な)ポリエチレンテレフタル酸塩(PET
)フィルムに積層されるときには明所反射率(すでに上で定義された)は0.0
94%、基板としてのハードコーティングされたPETフィルム上に積層される
ときには明所反射率は0.175%になる。ハードコーティングは強く架橋結合
したUV硬化処理されたアクリル酸塩から成り、約3.5μmの層厚を有する。
このコーティングに関する反射率プロットは図8のプロットEで示されている。
れたITO材料の正確な組成に依存する。
バンド幅を有し、基板としてのポリエチレンテレフタル酸塩(PET)フィルム
に積層されるときには明所反射率(すでに上で定義された)は0.094%、基
板としてのハードコーティングされたPETフィルム上に積層されるときには明
所反射率は0.172%になる。ハードコーティングは強く架橋結合したUV硬
化処理されたアクリル酸塩から成り、約3.5μmの層厚を有する。このコーテ
ィングに関する反射率プロットは、図8のプロットFまたは図7のプロットDで
示されている。
れたITO材料の正確な組成に依存する。
バンド幅を有し、基板としてのポリエチレンテレフタル酸塩(PET)フィルム
に積層されるときには明所反射率(すでに上で定義された)は0.087%、基
板としてのハードコーティングされたPETフィルム上に積層されるときには明
所反射率は0.166%になる。ハードコーティングは強く架橋結合したUV硬
化処理されたアクリル酸塩から成り、約3.5μmの層厚を有する。このコーテ
ィングに関する反射率プロットは、図8のプロットGで示されている。
O材料の正確な組成に依存する。
ンド幅を有し、基板としてのポリエチレンテレフタル酸塩(PET)フィルムに
積層されるときには明所反射率(すでに上で定義された)は0.081%、基板
としてのハードコーティングされたPETフィルム上に積層されるときには明所
反射率は0.161%になる。ハードコーティングは強く架橋結合したUV硬化
処理されたアクリル酸塩から成り、約3.5μmの層厚を有する。このコーティ
ングに関する反射率プロットは、図8のプロットHで示されている。
O材料の正確な組成に依存する。
いに異なっている。提案されたコーティングはそれぞれ、25nm、30nm、
35nm、そして40nmの物理的層厚を有するITO層を含む。図8はこれら
4つのコーティングの反射率プロットを組み合わせたもので、ITO層の層厚が
事実上コーティングの反射率特性に影響を与えないことを実証しており、ITO
層がダミー層であることを保証している。他方、ITO層の層厚はコーティング
の電気的面抵抗に直接影響を与える。例えば40nmの物理的層厚を有するIT
O層を含むコーティングは、25nmの物理的層厚を有するITO層を含むコー
ティングの電気的面抵抗よりも約1.6倍も面抵抗が小さい。
ィング堆積は、3つの積層セクションを持つ大きなウェブ型コーティング機また
は回転型コーティング機上での2度の通過において積層された。コーティング堆
積は約1000mmにわたって均一で、かつ、 ・450nm〜650nmの範囲における平均スペクトル反射率:0.30%〜
0.36%、 ・450nm〜650nmの波長範囲における最大反射率:0.51%〜1.6
2%、 ・バンド幅:1.55〜1.58、 ・明所反射率:0.33%、 ・このコーティングの面抵抗は約500Ω/sq、 という特性を有していた。
ための方法も提供される。この方法では、真空ウェブ型コーティング機における
単一通過型または二重通過型の真空マグネトロン・スパッタ作業によりコーティ
ングが基板上に積層される。このスパッタ作業は、 (1)柔軟基板を、繰り出し、そして巻き直すためのセクション30と、 (2)コーティングを構成する材料層が基板上に連続的にスパッタされる積層
セクションと、 (3)その表面上で基板が前記積層セクションを通過する、中央冷却ドラム2
4と、 を備えた真空チャンバ20内で実行できる。真空ウェブ型コーティング機は例え
ば3つまたは5つの積層セクションを備えた大きなウェブ型コーティング機また
は回転型コーティング機であることが可能である。
用できる。例えば、シリコン、チタン及びIn/Sn合金(90/10、重量%
)ターゲットを使用する回転可能型または平面型マグネトロンが、Ar/O2媒 体ガスにおける反応スパッタのために使用できる。
)回転可能型セラミック・ターゲットからスパッタすることが好ましい。
非常に低く、かつ同じくターゲットに印可される電力は低く保たれなければなら
ず、そのために工程が工業的応用上適当でなくなるため、二酸化チタン(TiO 2 )ターゲットからのスパッタは避けられる。DCモードでは、ターゲット上の 電力密度は、二酸化チタン・ターゲットの低導電率によるアークを抑制するため
に低く保たれなければならない。RFモードでは、スパッタ用ウェブ型コーティ
ング機周辺での電磁干渉を避ける理由から遮蔽を行うために、電力密度は低く保
たれなければならない。二酸化チタンは屈折率が非常に高いために他の材料より
も良い光学的特性がもたらされるために、しかしながら他のあらゆる基板材料の
代わりに二酸化チタンが使用されることが望ましい。
らの酸素に富むプラズマ内におけるDC(またはRF)反応スパッタによって積
層できる。しかしながら、この作業によれば、大きな酸素流量が与えられる(こ
ときアークが発生し、積層速度が低くなる)としても、化学量論的チタン材料層
を得ることが非常が困難になることがわかっている。不足化学量論的な回転可能
型TiOx(x<2)ターゲットを使用すると、スパッタ速度は向上し、プラズ
マにほとんど酸素を加えることなく、化学量論的二酸化チタン層が得られる。
タース形としてではなくルチル形として積層され、ルチル形の屈折率はアナター
ス形の屈折率よりも幾分高いので、光学的特性がより良くなる。
を作り出す。またこのチャンバ20は、柔軟基板23のための繰り出しロール2
1及び巻き直しロール22と、スパッタ源あるいはターゲット25〜29と、冷
却ドラム24とを含む。柔軟基板23は繰り出しロール21から繰り出され、冷
却ドラム24の表面上を積層セクションを経由して移動し、最後に巻き直しロー
ル22上で巻き直される。基板に最も近くなければならない材料層である第5層
は最初に回転可能型TiOxターゲット25からスパッタされる。次の積層セク
ションにおいて、堆積の第4層、第3層、第2層、及び第1層が、それぞれ、回
転可能型シリコン・ターゲット26、平面型インジウム/スズまたはITOター
ゲット27、回転可能型TiOxターゲット28、そして回転可能型シリコン・
ターゲット29により、連続的にスパッタされる。
TiO2−SiO2)が、基板の積層セクションを経由する第1通過の間にスパッ
タされ、そして残る3つの材料層(ITO−TiO2−SiO2)が第2通過の間
にスパッタされる。このことは、二重通過型作業には3つの積層セクションだけ
が必要とされるこを暗示している。
第5層と第4層は、柔軟基板23の積層セクションを経由する第1通過の間に、
それぞれ回転可能型TiOx32と回転可能型シリコン・ターゲット33からス
パッタされる。第2通過の間、材料層は平面型インジウム/スズまたはITOタ
ーゲット31と回転可能型TiOxターゲット32と回転可能型シリコン・ター
ゲット33から、連続的に基板23上にスパッタされる。
き換えることができ、そしてその逆も可能であることは明らかである。
両方ともテレビあるいはコンピュータモニタに適用される)の前面を構成する高
分子フィルムに対するコーティングとして十分に使用可能である。
グラフに示した図である。
プロットをグラフに示した図である。
のプロットをグラフに示した図である。
に示した図である。
層バームレン型コーティング(B)、及び5層導電性コーティング(C)と、そ
して本発明による5層コーティング(D)の反射率プロットを示した図である。
nm(H)であるダミーのインジウム・スズ酸化物層を含む5層導電性コーティ
ング(基板としての透明なPETフィルム上のコーティング)の反射率プロット
をそれぞれ示した図である。
の単一通過型スパッタ工程を説明するための図である。
本発明による反射防止コーティングによって柔軟基板をコーティングするための
二重通過型スパッタ工程を説明するための図である。
、ハードコーティングされたPET基板上に積層された、本発明による5層導電
性コーティングの反射率プロットを示した図である。このコーティングは、5つ
の積層チャンバを有する幅広いウェブ型コーティング機または回転コーティング
機上で実行された(基板幅は1200mm)。
Claims (15)
- 【請求項1】 柔軟基板(13)上に積層させるための所定の光学的特性を
備えた多層無機物反射防止コーティング(7)であって、該基板から最も遠い順
に第1層、第2層、第3層、第4層、及び第5層までの材料層から成る堆積を含
み、λ0を約510nmとしたときに、 前記第1層(8)は、前記基板の屈折率より小さな屈折率と、約1/4波長(
λ0/4)の光学的層厚を有し、 前記第2層(9)は、約2.2より大きな屈折率と、約半波長(λ0/2)の 光学的層厚を有し、 前記第4層(11)は、前記第1層とほぼ同じ屈折率と、約0.1λ0未満の 光学的層厚を有し、 前記第5層(12)は、前記第2層とほぼ同じ屈折率と、約0.04λ0の光 学的層厚を有すると共に、 前記第3層(10)は25Ω/sqから2000Ω/sqまで調整可能な電気
的面積抵抗を前記コーティングに与える導電性素材から成る、前記コーティング
の光学的特性に影響を与えることのないダミー層であることを特徴とする多層無
機物反射防止コーティング。 - 【請求項2】 25Ω/sqから500Ω/sqまでの電気的面積抵抗を有
することを特徴とする請求項1に記載の反射防止コーティング。 - 【請求項3】 前記ダミー層はインジウム・スズ酸化物から成ることを特徴
とする請求項1に記載の反射防止コーティング。 - 【請求項4】 前記ダミー層の厚さは5nmと50nmとの間にあることを
特徴とする請求項1に記載の反射防止コーティング。 - 【請求項5】 前記ダミー層の厚さは20nmと40nmとの間にあること
を特徴とする請求項4に記載の反射防止コーティング。 - 【請求項6】 前記第1層と前記第4層は二酸化シリコンから成り、前記第
2層と前記第5層は二酸化チタンから成ることを特徴とする請求項1に記載の反
射防止コーティング。 - 【請求項7】 入射光が前記柔軟基板上に入射したときの光反射率は、38
0nmから780nmまでの波長領域において0.60%を越えないことを特徴
とする請求項1に記載の反射防止コーティング。 - 【請求項8】 入射光がハードコーティングされた柔軟基板上に入射したと
きの光反射率は、380nmから780nmまでの波長領域において0.70%
を越えないことを特徴とする請求項1に記載の反射防止コーティング。 - 【請求項9】 約1.50よりも大きいのバンド幅を有することを特徴とす
る請求項1に記載の反射防止コーティング。 - 【請求項10】 前記第5層は防湿性を有することを特徴とする請求項1に
記載の反射防止コーティング。 - 【請求項11】 前記コーティングの色は調整可能かつ再生可能であること
を特徴とする請求項1に記載の反射防止コーティング。 - 【請求項12】 柔軟基板を請求項1に記載された反射防止コーティングに
よってコーティングをするための方法であって、前記コーティングは、単一通過
型真空マグネトロン・スパッタ作業により行われるとと共に、このスパッタ作業
は、 (1)前記柔軟基板(23)を繰り出し、そして巻き直すためのセクション(
30)と、 (2)前記コーティングを構成する材料層が前記基板上に連続的にスパッタさ
れる5つの積層セクションと、 (3)その表面上で前記基板(23)が前記5つのターゲット・セクションを
通過する中央冷却ドラム(24)と、 を備えた真空チャンバ(20)内で行なわれることを特徴とするコーティング方
法。 - 【請求項13】 柔軟基板を請求項1に記載された反射防止コーティングに
よってコーティングするための方法であって、前記コーティングは、二重通過型
真空マグネトロン・スパッタ作業により行われると共に、このスパッタ作業は、 (1)前記柔軟基板(23)を繰り出し、そして巻き直すためのセクション(
30)と、 (2)前記コーティングを構成する材料層が前記基板上に連続的にスパッタさ
れる3つの積層セクションと、 (3)その表面上で前記基板(23)が前記3つのターゲット・セクションを
通過する中央冷却ドラム(24)と、 を備えた真空チャンバ(20)内で実行されることを特徴とするコーティング方
法。 - 【請求項14】 回転可能型または平面型TiOxターゲットが使用される
ことを特徴とする請求項12または13に記載のコーティング方法。 - 【請求項15】 請求項1に記載された多層無機物反射防止コーティングに
よって陰極線管(CRT)の前面を構成する高分子フィルムをコーティングする
ことを特徴とするコーティング方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP97203335.1 | 1997-10-29 | ||
EP97203335A EP0913712A1 (en) | 1997-10-29 | 1997-10-29 | Multilayer electrically conductive anti-reflective coating |
PCT/EP1998/006996 WO1999022253A1 (en) | 1997-10-29 | 1998-10-27 | Multilayer electrically conductive anti-reflective coating |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001521201A true JP2001521201A (ja) | 2001-11-06 |
JP4255617B2 JP4255617B2 (ja) | 2009-04-15 |
Family
ID=8228870
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000518292A Expired - Fee Related JP4255617B2 (ja) | 1997-10-29 | 1998-10-27 | 多層導電性反射防止コーティング |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6975453B1 (ja) |
EP (2) | EP0913712A1 (ja) |
JP (1) | JP4255617B2 (ja) |
KR (1) | KR100533348B1 (ja) |
CN (1) | CN1131440C (ja) |
AT (1) | ATE265693T1 (ja) |
AU (1) | AU745365B2 (ja) |
DE (1) | DE69823539T2 (ja) |
WO (1) | WO1999022253A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018212545A1 (ko) * | 2017-05-19 | 2018-11-22 | 동우화인켐 주식회사 | 하드코팅 필름 및 이를 포함하는 화상표시장치 |
WO2018212547A1 (ko) * | 2017-05-19 | 2018-11-22 | 동우화인켐 주식회사 | 하드코팅 필름 및 이를 포함하는 화상표시장치 |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU781979B2 (en) * | 2000-01-26 | 2005-06-23 | Carl Zeiss Vision Australia Holdings Ltd | Anti-static, anti-reflection coating |
EP1699743A2 (de) * | 2003-11-27 | 2006-09-13 | Glamaco Maschinenbau GmbH | Verfahren und einrichtungen zur herstellung und/oder zur bedruckung einer heizbaren gebogenen glasscheibe |
CN100388013C (zh) * | 2005-01-14 | 2008-05-14 | 索尼株式会社 | 光学设备、透镜镜筒、图像拾取设备和电子设备 |
US20070236798A1 (en) * | 2006-04-05 | 2007-10-11 | Shelestak Larry J | Antireflective coating and substrates coated therewith |
CN101393276B (zh) * | 2007-09-21 | 2010-06-16 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 宽频带抗反射膜及具有该宽频带抗反射膜的光学元件 |
CN102152563B (zh) * | 2010-12-07 | 2014-04-16 | 深圳欧菲光科技股份有限公司 | 透明导电材料 |
WO2012133216A1 (ja) * | 2011-03-25 | 2012-10-04 | Hoya株式会社 | プラスチックレンズ |
CN102837467B (zh) * | 2011-06-22 | 2015-04-08 | 信义光伏产业(安徽)控股有限公司 | 一种透明导电膜玻璃及其制备方法 |
KR20130081575A (ko) * | 2012-01-09 | 2013-07-17 | (주)도 은 | 반사 방지 코팅막 및 그 제조 방법 |
US20140153122A1 (en) * | 2012-11-30 | 2014-06-05 | Guardian Industries Corp. | Concentrating solar power apparatus having mirror coating and anti-soiling coating |
CN104908377A (zh) * | 2014-03-11 | 2015-09-16 | 信义光伏产业(安徽)控股有限公司 | 多层膜减反射玻璃及其制备方法 |
KR20160020696A (ko) | 2014-08-14 | 2016-02-24 | (주) 유니플라텍 | 다층 박막 구조의 투명 전도막 |
PE20171673A1 (es) * | 2015-03-18 | 2017-11-21 | Vision Ease Lp | Recubrimiento resistente al cuarteado y metodo del mismo |
US10100998B2 (en) * | 2015-05-26 | 2018-10-16 | The Boeing Company | Electrically shielded lighting apparatus |
CN110168135B (zh) * | 2017-01-12 | 2021-12-31 | 应用材料公司 | 硬涂层系统以及用于以连续卷绕式工艺制造硬涂层系统的方法 |
KR101922550B1 (ko) | 2017-06-27 | 2018-11-27 | 주식회사 엘지화학 | 장식 부재 및 이의 제조방법 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5990801A (ja) * | 1982-08-09 | 1984-05-25 | オプチカル・コ−テイング・ラボラトリ−・インコ−ポレ−テツド | 導電性の反射防止コ−テイングを有する光学物品 |
JPS60168102A (ja) * | 1983-11-10 | 1985-08-31 | オプチカル コ−テイング ラボラトリ− インコ−ポレ−テツド | 光学製品 |
JPS63137301U (ja) * | 1987-03-02 | 1988-09-09 | ||
JPH05503372A (ja) * | 1990-10-11 | 1993-06-03 | バイラテック・シン・フィルムズ・インコーポレイテッド | D.c.反応性スパッタリングされた反射防止被覆 |
JPH0634802A (ja) * | 1992-07-20 | 1994-02-10 | Fuji Photo Optical Co Ltd | 導電性反射防止膜 |
US5450238A (en) * | 1993-12-10 | 1995-09-12 | Viratec Thin Films, Inc. | Four-layer antireflection coating for deposition in in-like DC sputtering apparatus |
JPH07248415A (ja) * | 1994-03-10 | 1995-09-26 | Olympus Optical Co Ltd | 光学薄膜の製造方法 |
US5508091A (en) * | 1992-12-04 | 1996-04-16 | Photran Corporation | Transparent electrodes for liquid cells and liquid crystal displays |
JPH09258004A (ja) * | 1996-03-25 | 1997-10-03 | Ulvac Japan Ltd | 反射防止多層膜とその成膜方法並びにその成膜装置 |
JPH10508263A (ja) * | 1994-11-01 | 1998-08-18 | デポジション・テクノロジーズ・インコーポレイテッド | 低可視光透過率および低可視光反射率を有する光学素子 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5270858A (en) * | 1990-10-11 | 1993-12-14 | Viratec Thin Films Inc | D.C. reactively sputtered antireflection coatings |
US5667880A (en) * | 1992-07-20 | 1997-09-16 | Fuji Photo Optical Co., Ltd. | Electroconductive antireflection film |
US5939189A (en) * | 1995-05-09 | 1999-08-17 | Flex Products, Inc. | Flexible plastic substrate with anti-reflection coating having low reflective color and method |
-
1997
- 1997-10-29 EP EP97203335A patent/EP0913712A1/en not_active Withdrawn
-
1998
- 1998-10-27 EP EP98956904A patent/EP1027620B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-10-27 WO PCT/EP1998/006996 patent/WO1999022253A1/en active IP Right Grant
- 1998-10-27 AU AU13377/99A patent/AU745365B2/en not_active Ceased
- 1998-10-27 DE DE69823539T patent/DE69823539T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1998-10-27 AT AT98956904T patent/ATE265693T1/de not_active IP Right Cessation
- 1998-10-27 JP JP2000518292A patent/JP4255617B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1998-10-27 US US09/529,973 patent/US6975453B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-10-27 CN CN98810772A patent/CN1131440C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1998-10-27 KR KR10-2000-7003856A patent/KR100533348B1/ko not_active IP Right Cessation
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5990801A (ja) * | 1982-08-09 | 1984-05-25 | オプチカル・コ−テイング・ラボラトリ−・インコ−ポレ−テツド | 導電性の反射防止コ−テイングを有する光学物品 |
JPS60168102A (ja) * | 1983-11-10 | 1985-08-31 | オプチカル コ−テイング ラボラトリ− インコ−ポレ−テツド | 光学製品 |
JPS63137301U (ja) * | 1987-03-02 | 1988-09-09 | ||
JPH05503372A (ja) * | 1990-10-11 | 1993-06-03 | バイラテック・シン・フィルムズ・インコーポレイテッド | D.c.反応性スパッタリングされた反射防止被覆 |
JPH0634802A (ja) * | 1992-07-20 | 1994-02-10 | Fuji Photo Optical Co Ltd | 導電性反射防止膜 |
US5508091A (en) * | 1992-12-04 | 1996-04-16 | Photran Corporation | Transparent electrodes for liquid cells and liquid crystal displays |
US5450238A (en) * | 1993-12-10 | 1995-09-12 | Viratec Thin Films, Inc. | Four-layer antireflection coating for deposition in in-like DC sputtering apparatus |
JPH07248415A (ja) * | 1994-03-10 | 1995-09-26 | Olympus Optical Co Ltd | 光学薄膜の製造方法 |
JPH10508263A (ja) * | 1994-11-01 | 1998-08-18 | デポジション・テクノロジーズ・インコーポレイテッド | 低可視光透過率および低可視光反射率を有する光学素子 |
JPH09258004A (ja) * | 1996-03-25 | 1997-10-03 | Ulvac Japan Ltd | 反射防止多層膜とその成膜方法並びにその成膜装置 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018212545A1 (ko) * | 2017-05-19 | 2018-11-22 | 동우화인켐 주식회사 | 하드코팅 필름 및 이를 포함하는 화상표시장치 |
WO2018212547A1 (ko) * | 2017-05-19 | 2018-11-22 | 동우화인켐 주식회사 | 하드코팅 필름 및 이를 포함하는 화상표시장치 |
KR20180126951A (ko) * | 2017-05-19 | 2018-11-28 | 동우 화인켐 주식회사 | 하드코팅 필름 및 이를 포함하는 화상표시장치 |
KR102139525B1 (ko) | 2017-05-19 | 2020-07-30 | 동우 화인켐 주식회사 | 하드코팅 필름 및 이를 포함하는 화상표시장치 |
US11364712B2 (en) | 2017-05-19 | 2022-06-21 | Dongwoo Fine-Chem Co., Ltd | Hard coating film and image display apparatus comprising same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
AU745365B2 (en) | 2002-03-21 |
AU1337799A (en) | 1999-05-17 |
JP4255617B2 (ja) | 2009-04-15 |
US6975453B1 (en) | 2005-12-13 |
EP1027620A1 (en) | 2000-08-16 |
DE69823539D1 (de) | 2004-06-03 |
CN1280676A (zh) | 2001-01-17 |
EP0913712A1 (en) | 1999-05-06 |
EP1027620B1 (en) | 2004-04-28 |
KR20010031039A (ko) | 2001-04-16 |
ATE265693T1 (de) | 2004-05-15 |
CN1131440C (zh) | 2003-12-17 |
DE69823539T2 (de) | 2005-04-14 |
KR100533348B1 (ko) | 2005-12-05 |
WO1999022253A1 (en) | 1999-05-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4255617B2 (ja) | 多層導電性反射防止コーティング | |
US5667880A (en) | Electroconductive antireflection film | |
US5728456A (en) | Methods and apparatus for providing an absorbing, broad band, low brightness, antireflection coating | |
US5691044A (en) | Light absorptive antireflector | |
US5521765A (en) | Electrically-conductive, contrast-selectable, contrast-improving filter | |
JPH0414761B2 (ja) | ||
Szczyrbowski et al. | Antireflective coatings on large scale substrates produced by reactive twin-magnetron sputtering | |
JP2002341111A (ja) | 光学的電気的特性を有する機能性薄膜 | |
JP2005502077A (ja) | 反射防止膜とその関連方法 | |
US6586101B2 (en) | Anti-reflection coating with transparent surface conductive layer | |
US6657271B2 (en) | Transparent substrate with multilayer antireflection film having electrical conductivity | |
JP3464785B2 (ja) | 改良された反射防止複合材料 | |
JP2509215B2 (ja) | 反射防止能を有する透明導電性フイルム | |
US4957358A (en) | Antifogging film and optical element using the same | |
JP3190240B2 (ja) | 光吸収性反射防止体とその製造方法 | |
JP3135010B2 (ja) | 導電性反射防止膜 | |
JPH11171596A (ja) | 反射防止膜 | |
KR20000012127A (ko) | 반사 방지막 및 음극선관 | |
JP3934742B2 (ja) | 反射防止膜 | |
JP3534384B2 (ja) | 導電性反射防止膜およびその製造方法 | |
KR970000382B1 (ko) | 저반사 코팅유리 및 그 제조방법 | |
JP2697000B2 (ja) | 光学膜を被覆した物品 | |
JP4701528B2 (ja) | 反射防止フィルム | |
JP4553021B2 (ja) | 反射防止膜およびその製造方法 | |
KR20020022338A (ko) | 투명 기재용의 광흡수성 다층 코팅 필름 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050802 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20071018 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071106 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080206 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090116 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090128 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120206 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |