CN1280676A - 多层导电抗反射涂层 - Google Patents

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Abstract

本发明包括一涂布在柔性基片上的具有预定光学性能的多层无机抗反射涂层。该涂层包括一由五个材料层组成的叠层,其中所述第三层(10)是一由导电材料最好是铟－氧化锡构成的虚层,该导电材料使该涂层具有约25－2000Ω/sq的可调薄膜电阻,而不因此影响所述涂层的光学性能。该抗反射涂层可采用单程或双程真空磁控溅射的方法涂布于柔性基片(例如聚合物膜)上。

Description

多层导电抗反射涂层
本发明涉及一种涂布在柔性基片上的多层抗反射涂层。
背景技术
多层抗反射涂层的性能可以根据它的导纳曲线和相应的反射率曲线来评价。
在导纳曲线图中，构成抗反射涂层的叠层的复合光导纳矢量Y被绘制在复平面中，始于基片，终于该叠层的前表面-好象在整个沉积过程中绘制该叠层的导纳。对于作为该叠层一部分的每一个介电层，这个矢量是圆心位于实数轴的圆弧，轨迹为顺时针方向。如果导纳曲线的结束点在入射端介质空气的光导纳点(1，0)附近，整个涂层叠层具有最佳的抗反射性。
在反射曲线图中，入射光的反射百分数(以下称为反射率)作为它波长的函数被绘制。在大致为约400-约700nm的可见光波长范围内，该反射率应当尽可能的低。
在图1中表示的所谓扩展的V-涂层，平整的V-涂层或Vermeulen涂层，是一般熟知的抗反射涂层。该涂层6包括一由四个材料层构成的叠层。距离基片最远的第一层1是四分之一波长层，这意味着它的厚度是约λ0／4，λ0是设定的约510nm的波长，它是可见光波长的倒数平均。第二层2是半波长层，其厚度是约λ0／2。最靠近基片的第三层3和第四层4是很薄的材料层，其厚度分别是约λ0／12和λ0／16。美国专利US 5450238中描述了这种涂层的例子。
为了得到例如低反射率和大带宽的最佳光学性能，该四层叠层应当同时兼有具有很低和很高折射率的材料。实际上，二氧化硅被用作具有很低折射率(约为1．46)的材料，而二氧化钛被用作具有很高折射率(约为2．35)的材料。
图2表示此类四层Vermeulen抗反射玻璃涂层的导纳曲线，该曲线表示由距离基片最远的光学厚度为0．25λ0的二氧化硅层，接下来的厚度为0．52λ0的二氧化钛层，厚度为0．09λ0的二氧化硅层，以及最后的距离基片最近的厚度为0．06λ0二氧化钛层组成的叠层，其中λ0是约510nm。图7中的曲线A是其相应的反射率曲线图。从这些曲线图中可以看出，这种Vermeulen型涂层的光学性能很好：在可见光波长范围内的低反射率和高带宽；后者定义为在反射率水平为1％时长波长λL和短波长λS的比值。
但是这种涂层最重要的缺点是它们的高电阻(一般大于20000Ω／sq)，这使得该涂层不适合用于抗静电或EMI(电磁干扰)屏蔽用途，例如作为阴极射线管(CRT)的涂层。
为了改善该涂层的电导率，一般用导电材料层，例如铟或铝掺杂的氧化锌，锑或氟掺杂的氧化锡，锡掺杂的氧化镉，或铟-氧化锡层，代替二氧化钛层。
但是这些改进的Vermeulen涂层其光学性能比前述的那些Vermeulen涂层要差，因为这些改进的涂层包括一个同时兼有二氧化硅和具有比二氧化钛折射率(一般为2．0-2．1)低的导电材料的叠层。因此入射光的反射率更高，带宽更低。这一点可以从图7中反射曲线B看出来，该曲线表示包括了由距离基片最远的其光学厚度是0．24λ0的二氧化硅层，接下来的厚度是0．39λ0的铟-氧化锡层，厚度是0．06λ0的二氧化硅层，和距离基片最近的厚度是0．07λ0的铟-氧化锡层构成叠层的改进的Vermeulen玻璃涂层。图3表示其相应的导纳曲线。
在美国专利US 5270858中公开了一种多层抗反射涂层，其中该Vermeulen涂层的中间二氧化钛层被一个例如掺杂的氧化锌或铟-氧化锡层的导电材料层部分代替，以致成为一个包括由五种材料层构成的叠层的涂层。
尽管该涂层具有稍微导电的优点，它还有重要的缺点。
因为部分二氧化钛已经被导电材料(具有更低的折射率)代替，该涂层的光学性质比前述的Vermeulen涂层的那些性质要差。这一点可以从图7中反射曲线C看出来，该曲线表示涂在玻璃上的包括了由距离基片最远的其光学厚度是0．28λ0的二氧化硅层，接下来的厚度是0．13λ0的二氧化钛层，然后是光学厚度是0．37λ0氧化锌层，厚度是0．12λ0的二氧化硅层，和最后的距离基片最近的厚度是0．03λ0的二氧化钛层组成叠层的涂层。
并且，组成叠层的导电材料层的厚度是非常关键的，应严格遵照设计要求，因为它对涂层的光学性能有直接的影响。因此该涂层的导电率是完全不可调的，并且经常不够高以使该涂层可适用于EMI屏蔽。发明目的
本发明的一个目的是提供一种可用于柔性基片上的抗反射涂层，它具有最佳的光学性能，例如在可见光波长范围内入射光的低反射率和高带宽。
本发明的另一个目的是提供一种导电的，适用于抗静电和EMI屏蔽用途的抗反射涂层。
本发明的另一个目的是提供一种具有与涂层光学性能无关的导电率可调的抗反射涂层。
本发明的另一个目的是提供一种以适当的速度在基片上涂布抗反射涂层的方法，以使该涂布工艺适合于工业应用。
发明概述
本发明包括一种涂布在柔性基片上的具有预定光学性能的多层无机抗反射涂层。该涂层包括一个由五个材料层构成的叠层，其中第三层是由导电材料构成的虚层(dummy layer)，该导电材料最好是铟-氧化锡层，它使涂层具有25-2000Ω／sq的可调的薄膜电阻(即一方形涂层的电阻)而并不因此影响它的光学性能。虚层定义为一个其厚度对涂层光学性能没有或几乎没有影响的层。
距离基片最远的第一层，其折射率小于基片的折射率，其光学厚度为0．2-0．3λ0，这意味着大约0．25λ0(四分之一波长)。第二层折射率大于约2．2，其光学厚度界于0．4-0．6λ0之间，即大约0．5λ0(二分之一波长)。第四层的折射率与第一层的折射率大致相同，其光学厚度小于约0．1λ0，即在任何情况下小于0．15λ0。第五层的折射率与所述第二层的折射率大致相同，其光学厚度界于0．025-0．1λ0之间，即大约0．04λ0，λ0是界于480-560nm之间的设计波长，即约为510nm。
根据本发明的抗反射涂层通过单程或双程真空磁控溅射操作可涂布于柔性基片上(例如聚合物膜片)，该操作可在一个包括以下部分的真空室中进行：
(1)柔性基片解开和再缠绕的区域；
(2)组成该涂层的材料层被溅射至基片上的沉积区域；
(3)一个中央冷却鼓，在其表面上基片移动通过沉积区。
在进行单程操作的情况下，至少需要五个沉积区；在进行双程操作的情况下，只需要至少三个沉积区。
现在参照以下附图对本发明进行更详细的描述。
附图的简要说明
附图1大致表示四层Vermeulen涂层的结构(背景技术)。
附图2表示四层Vermeulen涂层的导纳曲线(背景技术)。
附图3表示改进的四层Vermeulen涂层的导纳曲线(背景技术)。
附图4表示导电的五层涂层的导纳曲线(背景技术)。
附图5大致表示根据本发明的抗反射五层涂层的结构。
附图6表示根据本发明的抗反射五层涂层的导纳曲线。
附图7表示四层Vermeulen涂层的反射曲线(A)，改进的四层Vermeulen涂层的反射曲线(B)，导电的五层涂层的反射曲线(C)，这些都是背景技术的一部分，以及根据本发明的五层涂层的反射曲线(D)。
附图8表示根据本发明的四种五层导电涂层(以透明的PET膜作基片)的反射曲线，其中包括实际厚度分别为25nm(E)，30nm(F)，35nm(G)，40nm(H)的铟-氧化锡虚层。
附图9大致表示使用根据本发明的抗反射涂层涂布柔性基片的单程溅射工艺。
附图10大致表示利用宽卷筒涂布机或辊式涂布机，使用根据本发明的抗反射涂层涂布柔性基片的双程溅射工艺。
附图11表示根据本发明的五层导电涂层的反射曲线，其中使用实际厚度为25nm的铟-氧化锡虚层并沉积在一个硬涂布的PET基片上。该涂层使用具有五个沉积室的宽卷筒涂布机或辊式涂布机(基片宽度为1200mm)涂布。
本发明的详细说明
在以下的描述中，“光学性能”尤其包括反射率，即入射光的反射百分数，和带宽BW，即在反射率水平为1％时长波长λL和短波长λS的比值(BW=λL／λS)，如附图7中反射曲线D所示。
根据本发明，推荐使用涂布在柔性基片上的包括附图5所示的由五个材料层组成的叠层形成的多层抗反射涂层7。
距离基片最远的第一层8，由折射率小于基片折射率的材料组成，其光学厚度为0．2-0．3λ0，一般为约0．25λ0(四分之一波长)。该厚度表示为λ0的分数，λ0约为510nm，也就是可见光波长边界即400-700nm的倒数平均。
组成该涂层的第二层9，由折射率大于约2．2的材料组成，其光学厚度界于0．4-0．6λ0之间，一般为约0．5λ0(二分之一波长)。
第三层10由一种导电材料组成，稍后将会更详细的描述。
第四层11由折射率与第一层8的折射率大致相同的材料组成，其光学厚度小于约0．1λ0，一般界于0．05-0．15λ0之间。
距离基片13最近的第五层12由折射率与所述第二层9的折射率大致相同的材料组成，其光学厚度界于0．025-0．1λ0之间，一般为约0．05λ0。
叠层最好兼有作为分别具有很高和很低折射率的材料的二氧化钛和二氧化硅，以使该涂层具有与前述的那些四层Vermeulen涂层相当的好的光学性能。这可以从附图7中反射曲线D看出，该曲线表示根据本发明在下面的实施例2中表示的涂层。
使用二氧化钛作为距离基片13最近的第五层12，还有其它的优点，它使该层具有防潮性，防止外面的水气渗透进入该基片和第五层12之间的界面，并因此防止涂层叠层老化，例如形成裂纹。
根据本发明的抗反射涂层，当涂布在透明的PET膜上时产生的明视反射率不超过0．15％，在具有例如由高度交联紫外固化的丙烯酸酯形成的硬涂层的基片上产生的明视反射率不超过0．25％。明视反射率是眼睛敏感度和反射曲线的卷积，在380-780nm的波长范围内，采用D65标准照度和由国际照明委员会于1931年确定的2°观察者加以测量。
并且，该涂层带宽(定义如上)大于约1．60，这比大多数涂布在柔性基片上的常规涂层的带宽大。但实际上，层厚度或折射率(作为层结构小偏差的结果)的小的和／或局部的偏差可能会导致明视反射率值的增加。当涂布在柔性透明基片上时这些值会上升至约0．60％，当涂布在具有硬涂层的柔性基片上时会升至约0．70％。这些值优选分别不超过0．60％和0．70％，最优选分别不超过0．45％和0．55％。
根据本发明的涂层叠层的第三层10，由导电材料组成，它使该抗反射涂层具有理想的导电性。
该层是所谓的“虚层”，这意味着它的厚度对该涂层的光学性能没有或几乎没有影响。通过改变该虚层的厚度，可以在一个宽的范围内调节该涂层的导电性，而不影响该涂层的光学性能。
一个层，如果它插入到叠层中位于该叠层的复合光导纳Y取实值的位置，并且该插入层的折射率等于所述实值时，可以起到虚层的作用。
在基片上沉积第五和第四叠层11和12后，从导纳图附图6中可以看出，该新生的叠层具有约2的实数导纳。如果此时插入其材料折射率约为2的层，该导纳曲线以极小的半径(或理想的是一个点)继续成为一个圆，意味着该涂层的光学性能实际上保持不变。因为铟-氧化锡(ITO)的折射率约为2，它非常适合用于上述目的。作为第三层插入到组成根据本发明的抗反射涂层的叠层中的一个ITO层，可以因此起到虚层的作用。
该ITO虚层是导电的，并使该涂层具有可调的导电性。实际上，通过在5-50nm之间调整该ITO虚层的厚度，可以使该涂层的薄膜电阻在25-2000Ω／sq之间(优选在20-40nm)调节，而不影响该涂层的光学性能。当用于例如阴极射线管时，该涂层的薄膜电阻最好很低，在25-500Ω／sq之间。
薄膜电阻定义为具有一方形表面(长=宽)的导体的电阻，它可以被计算作导电层的电阻率和该导电层厚度的比值。
根据本发明的涂层还具有一个优点，就是它的颜色是可调和可再现的。因为所提出的涂层其光学性能对组成它的叠层的厚度和／或材料的化学计量的微小变化不很敏感，所以颜色的微调是可以实现的。
本发明的实施例
以下给出了根据本发明的抗反射涂层的一些非限制性实施例。
实施例1
包括组成如表1所示叠层的抗反射涂层带宽是1．75，当其涂布在(透明的)聚对苯二甲酸乙二酯(PET)膜基片上时，明视反射率(定义如上)是0．094％，当其涂布在具有硬涂层的PET膜基片上时，明视反射率是0．175％。该硬涂层由高度交联的紫外固化丙烯酸酯组成，其厚度约为3．5μm。关于这种涂层的反射率曲线表示在附图8中的曲线E。
该涂层的薄膜电阻小于约250Ω／sq，取决于沉积的ITO材料的确切组成。
表1
    层     材料   折射率   光学厚度
    <空气>
    1     SiO2     1．46     0．26λ0
    2     TiO2     2．35     0．50λ0
    3     ITO     2．03     0．10λ0
    4     SiO2     1．46     0．09λ0
    5     TiO2     2．35     0．05λ0
    <基片>
实施例2
包括组成如表2所示叠层的抗反射涂层带宽是1．65，当其涂布在聚对苯二甲酸乙二酯(PET)膜基片上时，明视反射率(定义如上)是0．094％，当其涂布在具有硬涂层的PET膜基片上时，明视反射率是0．172％。该硬涂层由高度交联的紫外固化丙烯酸酯组成，其厚度约为3．5μm。关于这种涂层的反射率曲线表示在附图8中的曲线F，或附图7中的曲线D。
该涂层的薄膜电阻小于约200Ω／sq，取决于沉积的ITO材料的确切组成。
表2
    层     材料   折射率   光学厚度
    <空气>
    1     SiO2     1．46     0．26λ0
    2     TiO2     2．35     0．49λ0
    3     ITO     2．03     0．12λ0
    4     SiO2     1．46     0．09λ0
    5     TiO2     2．35     0．05λ0
    <基片>
实施例3
包括组成如表3所示叠层的抗反射涂层带宽是1．64，当其涂布在聚对苯二甲酸乙二酯(PET)膜基片上时，明视反射率(定义如上)是0．087％，当其涂布在具有硬涂层的PET膜基片上时，明视反射率是0．166％。该硬涂层由高度交联的紫外固化丙烯酸酯组成，其厚度约为3．5μm。关于这种涂层的反射率曲线表示在附图8中的曲线G。
该涂层的薄膜电阻小于约175Ω／sq，取决于沉积的ITO材料的确切组成。
表3
    层     材料   折射率   光学厚度
    <空气>
    1     SiO2     1．46     0．26λ0
    2     TiO2     2．35     0．46λ0
    3     ITO     2．03     0．14λ0
    4     SiO2     1．46     0．09λ0
    5     TiO2     2．35     0．04λ0
    <基片>
实施例4
包括组成如表4所示叠层的抗反射涂层带宽是1．6，当其涂布在聚对苯二甲酸乙二酯(PET)膜基片上时，明视反射率(定义如上)是0．081％，当其涂布在具有硬涂层的PET膜基片上时，明视反射率是0．161％。该硬涂层由高度交联的紫外固化丙烯酸酯组成，其厚度约为3．5μm。关于这种涂层的反射率曲线表示在附图8中的曲线H。
该涂层的薄膜电阻小于约150Ω／sq，取决于沉积的ITO材料的确切组成。
表4
    层     材料     折射率 光学厚度
    <空气>
    1     SiO2     1．46     0．26λ0
    2     TiO2     2．35     0．46λ0
    3     ITO     2．03     0．16λ0
    4     SiO2     1．46     0．10λ0
    5     TiO2     2．35     0．04λ0
    <基片>
表1-4所示的涂层叠层的例子，彼此之间的ITO虚层的厚度不一样；所提出的涂层包括实际厚度分别为25，30，35和40nm的ITO层。表示这四种涂层反射率曲线的附图8，证明了ITO层的厚度实际上对该涂层的反射性能没有影响，证实了ITO层是虚层的论点。在另一方面，ITO虚层的厚度对该涂层的薄膜电阻有直接的影响；包括实际厚度为40nm ITO层的该涂层的薄膜电阻约比具有25nm ITO层的该涂层低约1．6倍。
实施例5
包括组成如表5所示叠层的本发明抗反射涂层，在具有三个沉积区的大卷筒涂布机或辊式涂布机双程沉积。该涂层叠层具有均匀的约为1000mm的宽度，并具有如下的特征：
●在450-650nm之间的平均光谱反射率：0．30-0．36％
●在波长450-650nm之间的最大反射率：0．51-1．62％
●带宽：1．55-1．58
●明视反射率：0．33％
●该涂层的薄膜电阻约500Ω／sq
表5
    层     材料   折射率   光学厚度
    <空气>
    1     SiO2     1．50     0．25λ0
    2     TiO2     2．41     0．51λ0
    3     ITO     2．03     0．13λ0
    4     SiO2     1．50     0．06λ0
    5     TiO2     2．41     0．04λ0
    <基片>
根据本发明，也推荐了一种在柔性基片上涂布抗反射涂层的方法，其中，该涂层是在一真空卷筒涂布机中以单程或双程真空磁控溅射的方法涂在该基片上的。这种溅射可在包括如下部分的真空室20中进行：(1)柔性基片解开和再缠绕的区域30；(2)组成该涂层的材料层被依次溅射至基片上的沉积区域；(3)一个中央冷却鼓24，在其表面上基片移动通过沉积区。该真空卷筒涂布机可以是具有例如3或5个沉积区的大型卷筒涂布机或辊式涂布机。
可以使用不同的溅射磁控管来得到根据本发明的涂层。例如可以使用采用硅，钛和铟／锡合金(90／10，重量百分数％)靶的可旋转的或平面式的磁控管在Ar／O2氛中进行活性溅射。
但是优选从固定在一个圆柱形支撑体上的(乏氧)TiOx(x＜2)可旋转的陶瓷靶溅射该二氧化钛层。
现有技术中提出要避免从二氧化钛(TiO2)靶溅射，因为从常规的平面式二氧化钛靶溅射的速度太低，以及用于该靶的功率必须保持在低水平，使得该工艺不适合于工业应用。在DC-模式中，靶上的功率密度必须保持在低水平以防止由于二氧化钛靶的低导电性而带来的电弧放电。在RF-模式中，靶上的功率密度因为屏蔽原因应保持在低水平，以避免在该溅射卷筒涂布机周围的电磁干扰。由于二氧化钛的高折射率而带来的优于其它材料的光学性能，仍然希望使用二氧化钛而不是其它任何替代材料。
在理论上，二氧化钛可以从平面的或可旋转的钛靶在富氧等离子体中通过DC(或RF)活性溅射沉积而成。但是可以看出，即使是用高的氧流速(可以导致电弧放电和低的沉积速率)，这种操作方法也很难得到化学计量的二氧化钛材料层。但是使用一低于化学计量的可旋转的TiOx(x＜2)靶，溅射速率就提高了，并且基本不需向等离子体中增加氧就可以得到化学计量的二氧化钛层。
另外，二氧化钛从低于化学计量的靶材料开始沉积会得到金红石而不是锐钛矿，并具有更好的光学性能，因为金红石的折射率比锐钛矿的折射率稍高一些。
采用单程操作，组成叠层的五层8-12(TiO2-SiO2-ITO-TiO2-SiO2，从基片开始)被在五个独立而又相邻的沉积区依次溅射至基片上。
附图9表示一种可能的单程操作。真空泵在包括柔性基片23的解开辊21和再缠绕辊22，溅射源或靶25-29以及冷却鼓24的室20产生真空。该柔性基片23被从解开辊21解开，移至冷却鼓24的表面通过沉积区，最后卷在再缠绕辊22上。距离基片最近的材料层第五层最先从可旋转的TiOx靶25上被溅射。在接下来的沉积区中，该叠层的第四，第三，第二和第一层分别从可旋转的硅靶26，平面的铟／锡或ITO靶27，可旋转的TiOx靶28和可旋转的硅靶29上被依次溅射。
采用双程操作，在基片通过沉积区的第一程，待沉积至距离基片最近的两个材料层(TiO2-SiO2)被溅射，并且剩余的三个材料层(ITO-TiO2-SiO2)被在第二程中溅射。这暗示着双程操作只需要三个沉积区。
附图10表示可能的双程操作。组成该涂层的叠层的第五层和第四层在柔性基片23通过沉积区的第一程，分别从可旋转的TiOx靶32和可旋转的硅靶33上被溅射。在第二程，各材料层从平面的铟／锡或ITO靶31，可旋转的TiOx靶32和可旋转的硅靶33上被依次溅射至基片23上。
从以上描述中可以清楚的看到，每一个可旋转的磁控管可以被平面的磁控管替换，反之亦然。
根据本发明的抗反射涂层可以成功的用作构成阴极射线管(在电视或计算机监视器中)或液晶显示器前表面的聚合物膜的涂层。

Claims (15)

1．一种涂布在柔性基片(13)上的具有预定光学性能的多层无机抗反射涂层(7)，其中所述涂层包括由五个材料层组成的叠层，从距离该基片最远的层开始，将其分别标记为第一，第二，第三，第四和第五层，其中所述第一层(8)的折射率小于所述基片，光学厚度为约四分之一波长(λ0／4)，所述第二层(9)折射率大于约2．2，其光学厚度约为二分之一波长(λ0／2)，所述第四层(11)折射率与所述第一层的折射率大致相同，其光学厚度小于约0．1λ0，所述第五层(12)折射率与所述第二层的折射率大致相同，其光学厚度约为0．04λ0，λ0是约510nm，其特征在于所述第三层(10)是一由导电材料组成的虚层，该导电材料使该涂层具有约25-2000Ω／sq的可调薄膜电阻，而不因此影响所述涂层的光学性能。
2．如权利要求1中所述的抗反射涂层，其薄膜电阻为25-500Ω／sq。
3．如权利要求1中所述的抗反射涂层，其中所述虚层由铟-氧化锡构成。
4．如权利要求1中所述的抗反射涂层，其中所述虚层的厚度在5-50nm之间。
5．如权利要求4中所述的抗反射涂层，其中所述虚层的厚度在20-40nm之间。
6．如权利要求1中所述的抗反射涂层，其中所述第一层和第四层由二氧化硅构成，所述第二层和第五层由二氧化钛构成。
7．如权利要求1中所述的抗反射涂层，当其涂布在柔性基片上时，在380-780nm波长区内产生的入射光明视反射率不超过0．60％。
8．如权利要求1中所述的抗反射涂层，当其涂布在具有硬涂层的柔性基片上时，在380-780nm波长区内产生的入射光明视反射率不超过0．70％。
9．如权利要求1中所述的抗反射涂层，其带宽大于约1．50。
10．如权利要求1中所述的抗反射涂层，其中所述第五层具有防潮性。
11．如权利要求1中所述的抗反射涂层，其中所述涂层的颜色是可调和可再现的。
12．一种用如权利要求1中所述的抗反射涂层涂布柔性基片的方法，其中所述涂层采用单程真空磁控溅射的方法涂布，这种操作在包括如下部分的真空室(20)中进行：(1)柔性基片(23)解开和再缠绕的区域(30)；(2)组成该涂层的各材料层被依次溅射至基片上的五个沉积区域；(3)一个中央冷却鼓(24)，在其表面上基片(23)移动通过所述靶区。
13．一种用如权利要求1中所述的抗反射涂层涂布柔性基片的方法，其中所述涂层采用双程真空磁控溅射的方法涂布，这种操作可在包括如下部分的真空室中进行：(1)柔性基片解开和再缠绕的区域(30)；(2)组成该涂层的各材料层被依次溅射至基片上的三个沉积区域；(3)一个中央冷却鼓(24)，在其表面上基片(23)移动通过所述靶区。
14．如权利要求12或13所述的方法，其中使用了可旋转的或平面的TiOx靶。
15．如权利要求1所述的抗反射涂层的用途，用作构成阴极射线管(CRT)前表面的聚合物膜的涂层。
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