JP2001515025A - ビス(レゾルシニル)トリアジン誘導体の化粧品への応用 - Google Patents

ビス(レゾルシニル)トリアジン誘導体の化粧品への応用

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Abstract

(57)【要約】 式(1) 【化36】

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 本発明は、人間ならびに動物の皮膚および毛髪を、UV線の損傷効果から保護
するための、選択されたビス(レゾルシニル)トリアジン誘導体の用途、ならび
にこれらのビス(レゾルシニル)トリアジン誘導体を含む化粧品製剤に関する。
【0002】 本発明によって使用されるビス(レゾルシニル)トリアジン類は、式:
【0003】
【化11】
【0004】 (式中、 R1およびR2は、たがいに独立して、水素、分岐鎖状のC5〜C18アルキル、 C2〜C18アルケニル、式:−CH2−CH(−OH)−CH2−O−T1の基、式
【0005】
【化12】
【0006】 の基、または式
【0007】
【化13】
【0008】 の基であり; R3およびR4は、たがいに独立して、水素またはC1〜C5アルキルであり; R5は、ヒドロキシ;非置換であるか、1個もしくは数個のOH基によって置 換されているC1〜C5アルコキシ;アミノ;モノ−もしくはジ−C1〜C5アルキ
ルアミノ;M;または式:
【0009】
【化14】
【0010】 の基であり; R6は、直接結合、直鎖状または分岐鎖状のC1〜C4アルキレン基、または式 :
【0011】
【化15】
【0012】 の基であり; R7、R8およびR9は、たがいに独立して、C1〜C18アルキル、C1〜C18ア ルコキシ、または式:
【0013】
【化16】
【0014】 の基であり; R10、R11およびR12は、たがいに独立して、非置換であるか、1個または数
個のOH基によって置換されているC1〜C14アルキルであり、 R13は、水素、M、C1〜C5アルキル、または式:
【0015】
【化17】
【0016】 の基であり; R14は、C1〜C5アルキルであり; Mは、金属カチオンであり; T1は、水素またはC1〜C8アルキルであり; m1は、1〜3であり; m2は、2〜14であり;そして p1は、0または1〜5の数である) に対応する。
【0017】 C1〜C5アルキル、C1〜C8アルキルおよびC1〜C18アルキルは、直鎖状ま たは分岐鎖状のアルキル基、たとえばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロ
ピル、n−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、アミル、イソアミルもしくはt
ert−アミル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、ノニル、デシル、ウンデシ ル、ドデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシルまた
はオクタデシルである。
【0018】 C1〜C5アルコキシおよびC1〜C18アルコキシは、直鎖状または分岐鎖状の アルコキシ基、たとえばメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ
、n−ブチルオキシ、sec−ブチルオキシ、tert−ブチルオキシ、アミルオキシ 、イソアミルオキシもしくはtert−アミルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオ
キシ、イソオクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ、ウンデシルオキシ、
ドデシルオキシ、テトラデシルオキシ、ペンタデシルオキシ、ヘキサデシルオキ
シ、ヘプタデシルオキシまたはオクタデシルオキシである。
【0019】 C2〜C18アルケニルは、たとえば、アリル、メタリル、イソプロペニル、2 −ブテニル、3−ブテニル、イソブテニル、n−ペンタ−2,4−ジエニル、3
−メチル−ブト−2−エニル、n−オクト−2−エニル、n−ドデス−2−エニ
ル、イソ−ドデセニル、n−ドデス−2−エニルまたはn−オクタデス−4−エ
ニルである。
【0020】 モノ−またはジ−C1〜C5アルキルアミノの例は、メチルアミノ、エチルアミ
ノ、プロピルアミノ、n−ブチルアミノ、sec−ブチルアミノ、tert−ブチルア ミノ、ペンチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、
ジブチルアミノまたはメチルエチルアミノである。
【0021】 金属カチオンの例は、リチウム、カリウム、ナトリウム、カルシウム、マグネ
シウム、銅または亜鉛イオンである。
【0022】 本発明によれば、式:
【0023】
【化18】
【0024】 (式中、 R15およびR16は、たがいに独立して、分岐鎖状のC5〜C18アルキルまたは −CH2−CH(−OH)−CH2−O−T1であり; R17およびR18は、たがいに独立して、水素またはC1〜C5アルキルであり;
そして T1は、水素またはC1〜C5アルキルである) のビス(レゾルシニル)化合物を使用することが好ましい。
【0025】 きわめて興味深い化合物は、 R15およびR16が、たがいに独立して、分岐鎖状のC5〜C18アルキルまたは −CH2−CH(−OH)−CH2−O−T1であり; R17およびR18が、水素であり;そして T1が、水素またはC1〜C5アルキルである、式(2)の化合物であり、特に 、 R15およびR16が、たがいに独立して、分岐鎖状のC5〜C18アルキルであり ;そして R17およびR18が、水素である、式(2)の化合物である。
【0026】 非常に特に好ましいものは、R15とR16とが同じ意味を有する、式(2)のト
リアジン化合物である。
【0027】 本発明によって使用することができる他のトリアジン誘導体は、式:
【0028】
【化19】
【0029】 (式中、 R19およびR20は、たがいに独立して、式:
【0030】
【化20】
【0031】 の基であり、 R21、R22およびR23は、たがいに独立して、水素またはC1〜C10アルキル である) に対応するものである。
【0032】 式(1)の化合物として挙げられる例は、 2−(4′−メチルフェニル)−4,6−ビス(2′−ヒドロキシ−4′−n
−オクチルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、 2−(2′,4′−ジメチルフェニル)−4,6−ビス(2′−ヒドロキシ−
4′−n−オクチルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、 2−フェニル−4,6−ビス(2′−ヒドロキシ−4′−n−オクチルオキシ
フェニル)−1,3,5−トリアジン、 2−フェニル−4,6−ビス(2′−ヒドロキシ−4′−n−オクチルオキシ
フェニル)−1,3,5−トリアジン、 2−フェニル−4−{〔4−(3−(2−プロピルオキシ)−2−ヒドロキシ
プロピルオキシ)−2−ヒドロキシ〕フェニル}−6−(4−メトキシフェニル
)−1,3,5−トリアジン、 2−(4′−メチルフェニル)−4,6−ビス{〔4−(2−エチルヘキシル
オキシ)−2−ヒドロキシ〕フェニル}−1,3,5−トリアジン、 2−(2′,4′−ジメチルフェニル)−4,6−ビス{〔4−(2−エチル
ヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ〕フェニル}−1,3,5−トリアジン、 2−フェニル−4,6−ビス{〔4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒ
ドロキシ〕フェニル}−1,3,5−トリアジン、 2−フェニル−4,6−ビス{〔4−(トリス(トリメチルシロキシシリルプ
ロピルオキシ)−2−ヒドロキシ〕フェニル}−1,3,5−トリアジン、 2−フェニル−4,6−ビス{〔4−(2″−メチルプロペニルオキシ)−2
−ヒドロキシ〕フェニル}−1,3,5−トリアジン、 2−フェニル−4,6−ビス{〔4−(3−(2−プロピルオキシ)−2−ヒ
ドロキシプロピルオキシ)−2−ヒドロキシ〕フェニル}−1,3,5−トリア
ジン、または 2−フェニル−4,6−ビス{〔4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒ
ドロキシ〕フェニル}−1,3,5−トリアジンである。
【0033】 トリアジン誘導体の他の例を、表1に示す。
【0034】
【表1】
【0035】
【表2】
【0036】
【表3】
【0037】 本発明によって使用することができるビス(レゾルシニル)トリアジン類は、
異なる方法で、たとえば芳香族ニトリル化合物を出発化合物として用いて、調製
することができる。式:
【0038】
【化21】
【0039】 のジクロロトリアジン化合物は、たとえば、ベンゾニトリルをジシアンジアミド
と反応させてジアミノトリアジン化合物を得た後、それをジヒドロキシトリアジ
ン(互変異性体=−ジオン)に鹸化し、ついで塩化チオニルで、式(1k)のジ
クロロトリアジン化合物に転換することによって、調製することができる。つい
で、ルイス酸、好ましくは塩化アルミニウムの存在におけるレゾルシノールのフ
リーデル・クラフツアシル化反応により、一般に公知の方法で、2個のレゾルシ
ノール基を導入する。第三工程で、p−位置の遊離ヒドロキシル基を、式(1)
の化合物中のR1およびR2の意味に従い、アルキル化、またはグリシジルエーテ
ル類の酸触媒付加によってエーテル化する。
【0040】 本発明によって使用することができるトリアジン誘導体を調製するための他の
方法は、EP−A−0,775,698に記載されている。
【0041】 本発明によって使用される式(1)のビス(レゾルシニル)トリアジン化合物
は、UV遮蔽剤として、すなわち、紫外線感受性有機物質、特に人間ならびに動
物の皮膚および毛髪を、UV線の有害な作用から保護するのに、特に適している
。これらの化合物は、特に、UVB領域の部分を含む非常に強力なUVA吸収剤
であり、低いコストで製造することができる。したがって、これらの化合物は、
化粧品、医薬品および獣医学的組成物における光安定剤として使用するのに適し
ている。これらは、溶解状態および微粉砕状態で使用することができる。
【0042】 したがって、本発明はまた、少なくとも1種の式(1)の化合物、ならびに化
粧品適合性のキャリヤまたは助剤を含む化粧品製剤に関する。
【0043】 化粧品に使用する場合、本発明の光安定剤は、通常0.02〜2μm、好まし くは0.05〜1.5μm、最も好ましくは0.1〜1.0μmの範囲の平均粒径
を有する。本発明によって使用される不溶性UV吸収剤は、通例の方法により、
たとえばジェットミル、ボールミル、振動ミルまたはハンマーミルで磨砕するこ
とにより、所望の粒径にすることができる。磨砕は、好ましくは、UV吸収剤を
基準にして0.1〜30質量%、好ましくは0.5〜15質量%の磨砕助剤、た
とえばアルキル化ビニルピロリドンポリマー、ビニルピロリドン−酢酸ビニルコ
ポリマー、グルタミン酸アシル、または好ましくはリン脂質の存在下で実施する
【0044】 本発明のUV吸収剤に加えて、化粧品製剤はまた、1種以上の他のUV保護剤
、たとえばp−アミノ安息香酸誘導体、サリチル酸誘導体、ベンゾフェノン誘導
体、ジベンゾイルメタン誘導体、ジフェニルアクリラート誘導体、ベンゾフラン
誘導体、1種以上のオルガノシリコン基を含むポリマーUV吸収剤、ケイ皮酸誘
導体、ショウノウ誘導体、トリアニリノ−s−トリアジン誘導体、フェニルベン
ズイミダゾールスルホン酸およびその塩、メンチルアントラニラート、ベンゾト
リアゾール誘導体の分類からの有機UV吸収剤、および/あるいは酸化アルミニ
ウムもしくは二酸化ケイ素で被覆されたTiO2、酸化亜鉛または雲母からなる 群より選ばれる無機微細顔料を含むことができる。
【0045】 p−アミノ安息香酸誘導体化合物の例は: 4−アミノ安息香酸(PABA)、式:
【0046】
【化22】
【0047】 のエチルジヒドロキシプロピル−PABA、式:
【0048】
【化23】
【0049】 (式中、m、nおよびxは、同じ意味を有し、それぞれ最大25である) のPEG−25−PABA、式:
【0050】
【化24】
【0051】 のオクチルジメチルPABA、または式:
【0052】
【化25】
【0053】 のグリシルアミノベンゾアートである。
【0054】 サリチル酸誘導体化合物の例は: 式:
【0055】
【化26】
【0056】 のホモメンチルサリチラート、式:
【0057】
【化27】
【0058】 のトリエタノールアミノサリチラート、式:
【0059】
【化28】
【0060】 のアミル−p−ジメチルアミノベンゾアート、式:
【0061】
【化29】
【0062】 のオクチルサリチラート、または式:
【0063】
【化30】
【0064】 の4−イソプロピルベンジルサリチラートである。
【0065】 ベンゾフェノン誘導体化合物の例は: ベンゾフェノン−3−(2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン)、ベ
ンゾフェノン−4−(2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スル
ホン酸)またはベンゾフェノン−8−(2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシ
ベンゾフェノン)である。
【0066】 ジベンゾイルメタン誘導体化合物の例は: ブチルメトキシジベンゾイルメタン〔1−(4−tert-ブチル)−3−(4− メトキシフェニル)プロパン−1,3−ジオン〕である。
【0067】 ジフェニルアクリラート誘導体化合物の例は: オクトクリレン(2−エチルヘキシル−2−シアノ−3,3′−ジフェニルア
クリラート)またはエトクリレン(エチル−2−シアノ−3,3′−ジフェニル
アクリラート)である。
【0068】 ベンゾフラン誘導体化合物の例は: 3−(ベンゾフラニル)−2−シアノアクリラート、2−(2−ベンゾフラニ
ル)−5−tert−ブチルベンゾキサゾールまたは2−(p−アミノフェニル)ベ
ンゾフラン、および特に式:
【0069】
【化31】
【0070】 の化合物、ベンジリデンマロナート誘導体、特に式:
【0071】
【化32】
【0072】 (式中、 R24は、水素またはO−Meであり; rは、約7である) の化合物、式:
【0073】
【化33】
【0074】 の化合物である。
【0075】 シンナマート化合物の例は: メトキシケイ皮酸オクチル(4−メトキシケイ皮酸−2−エチルヘキシル)、
ジエタノールアミノメトキシシンナマート(4−メトキシケイ皮酸ジエタノール
アミン塩)、p−メトキシケイ皮酸イソアミル(4−エトキシケイ皮酸−2−イ
ソアミル)、2,5−ジイソプロピルメチルシンナマートまたはケイ皮酸アミド
誘導体である。
【0076】 ショウノウ誘導体化合物の例は: 4−メチルベンジリデンショウノウ〔3−(4′−メチル)ベンジリデンボル
ナン−2−オン〕、3−ベンジリデンショウノウ(3−ベンジリデンボルナン−
2−オン)、ポリアクリルアミドメチルベンジリデンショウノウ{N−〔2(お
よび4)−2−オキシボルン−3−イリデンメチル)ベンジル〕アクリルアミド
ポリマー}、トリモニウムベンジリデンショウノウ硫酸塩〔3−(4′−トリメ
チルアンモニウム)ベンジリデンボルナン−2−オンメチル硫酸塩〕、テレフタ
リデンジショウノウスルホン酸{3,3′−(1,4−フェニレンジメチン)ビ
ス(7,7−ジメチル−2−オキソビシクロ〔2.2.1〕ヘプタン−1−メタ
ンスルホン酸}もしくはその塩、またはベンジリデンショウノウスルホン酸〔3
−(4′−スルホ)ベンジリデンボルナン−2−オン〕もしくはその塩である。
【0077】 トリアニリノ−s−トリアジン誘導体化合物の例は: オクチルトリアジン−〔2,4,6−トリアニリノ−(p−カルボ−2′−エ
チル−1′−オキシ)−1,3,5−トリアジンであり、また、US−A−5,
332,568、US−A−5,252,323、WO93/17002および
WO97/03642ならびにEP−A−0,517,104に開示されている
トリアニリノ−s−トリアジン誘導体である。
【0078】 ベンゾトリアゾール化合物の例は: 2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾールである。
【0079】 新規な化粧品製剤は、UV吸収剤またはUV吸収剤の混合物を、製剤の総質量
を基準にして0.1〜15質量%、好ましくは0.5〜10質量%、ならびに化
粧品適合性の助剤を含む。
【0080】 化粧品製剤は、通例の方法、たとえば個々の成分を単にいっしょに攪拌して、
UV吸収剤を助剤と物理的に混合することにより、調製することができる。
【0081】 新規な化粧品製剤は、油中水形もしくは水中油形エマルションとして、アルコ
ール中油形ローションとして、イオン性もしくは非イオン性の両親媒性脂質の小
泡状分散液として、ゲルとして、固形スティックとして、またはエアゾール製剤
として調合することができる。
【0082】 油中水形もしくは水中油形エマルションとして、化粧品適合性助剤は、好まし
くは、油相5〜50%、乳化剤5〜20%および水30〜90%を含む。油相は
、化粧品製剤に適した油、たとえば1種以上の炭化水素油、ワックス、天然油、
シリコーン油、脂肪酸エステルまたは脂肪アルコールを含有することができる。
好ましいモノ−またはポリオール類は、エタノール、イソプロパノール、プロピ
レングリコール、ヘキシレングリコール、グリセリンおよびソルビトールである
【0083】 本発明の化粧品製剤には、従来の乳化剤、たとえば1種以上の天然誘導体のポ
リオキシエチレンエステル、たとえば水素化ひまし油のポリオキシエチレンエス
テルまたはシリコーン油乳化剤、たとえばシリコーンポリオール、場合によって
ポリオキシエチレン脂肪酸石鹸、ポリオキシエチレン脂肪アルコール、場合によ
ってポリオキシエチレンソルビタンエステル、ポリオキシエチレン脂肪酸または
ポリオキシエチレングリセリドを使用することが可能である。
【0084】 化粧品製剤はまた、他の成分、たとえば皮膚軟化剤、エマルション安定剤、皮
膚湿潤剤、日焼け促進剤、キサンタンのような増粘剤、グリセリンのような水分
保持剤、防腐剤、香料および着色剤を含有することができる。
【0085】 新規な化粧品製剤は、人間の皮膚を、太陽光の有害作用から顕著に保護するこ
とによって卓越している。
【0086】 以下の例では、%値は、すべて質量%である。ビス(レゾルシニル)トリアジ
ン化合物に関して記す量は、純物質に関するものである。
【0087】 例: 化粧品光保護の使用例 光安定剤は、SPF分析装置(Optometrix、SPF 290)を使用して、Diffeyお よびRobsonの方法(J. Soc. Cosmet. Chem. 40, 127-133(1989))によって測定 した。
【0088】 光安定性を決定するために、遮蔽剤物質をエタノールに溶解し(c=1・10 -5 〜5・10-5M)、石英キュベット中で、攪拌しながらメタルハライドランプ (Macam)を使用して光を照射した(IUVB=0.4〜8.0mW/cm2)。太陽光ス
ペクトル(CIE D65−正規昼光、IUVB=0.127mW/cm2に標準化)に 変換するため、波長分解ランプ強度と、290〜400nmの各UV吸収剤の対応
する吸収値との積の積分値を計算した後、D65光強度と、290〜400nmの
各UV吸収剤の対応する吸収値との積の積分値によって除算した。この因数を、
メタルハライドランプ照射の下における分解の半減期に乗じて、太陽照射の下に
おける対応する半減期を得た。ランプ照射の下における光分解の半減期を、最大
吸収の波長における吸光度のUV分光測定、およびその後の指数関数を当てはめ
ることによって決定した。上に述べた方法を使用して、D65光における光分解
の半減期を得た。
【0089】 例1:式(101)の化合物を有するO/Wエマルション
【0090】
【化34】
【0091】 λmax:356nm(エタノール) εmax:41400M-1cm-1
【0092】
【表4】
【0093】 エマルションの調製 相(A) まずUV吸収剤をゴマ油に溶解し、次に、(A)の他の成分を加え、ともに融
解した。
【0094】 相(B) プロピルパラベンおよびメチルパラベンを、プロピレングリコールに溶解した
。次に、水60mlを加え、混合物を70℃に加熱して、Carbomer 934をその中に
乳化した。
【0095】 エマルション: 激しい機械的エネルギーを入力しながら、(A)をゆっくりと(B)に加えた
。水の添加によって、量を100mlに調節した。
【0096】 得られた日焼け止め係数および光安定性を表1にまとめる。
【0097】
【表5】
【0098】 UV吸収剤の濃度によって、日焼け止め係数を変化させることができる。
【0099】 得られた結果は、活性物質が、高い光安定性を有し、低濃度でも良好な日焼け
止め係数を達成できることを示す。
【0100】 他の物理的に決定されるUVA特性の測定:
【0101】
【表6】
【0102】 例2:新規な油溶性遮蔽剤(101)およびメトキシケイ皮酸オクチルを含有す
る日焼け止めエマルション
【0103】
【表7】
【0104】 手順:(A)の成分を順に混合し、75℃に加熱した。(B)の成分を混合し、
75℃に加熱して、遮蔽剤が溶解するまで攪拌した。次に、(C)を(B)に加
え、20分間混合した(=混合物(BC))。次に、(D)を(BC)に加えた
(=混合物(BCD))。混合し、室温まで冷却しながら(A)を(BCD)に
加えた。
【0105】 得られたSPF(太陽光保護係数):16(例1の方法による)
【0106】 例3:式(102)の新規な水溶性遮蔽剤およびメトキシケイ皮酸オクチルを含
有する日焼け止め製剤
【0107】
【化35】
【0108】 Imax=352nm(エタノール) emax=39800M-1cm-1
【0109】
【表8】
【0110】 手順:(A)を(B)に分散させ、均一になったところで、(C)(=混合物(
ABC))の成分を順に加えた。85℃に加熱している間に、別の容器で(D)
の成分を合わせ、混合しながら85℃に加熱した。(ABC)および(D)が両
方とも85℃で均一になると、強く攪拌しながら(D)をゆっくりと(ABC)
に加えた。(D)の最後の部分を加えて15分後に、バッチの冷却を開始し、室
温に冷却した。
【0111】 得られたSPF(太陽光保護係数):12(例1の方法による)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,SD,SZ,UG,ZW),EA(AM ,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM) ,AL,AM,AT,AU,AZ,BA,BB,BG, BR,BY,CA,CH,CN,CU,CZ,DE,D K,EE,ES,FI,GB,GE,GH,GM,HR ,HU,ID,IL,IS,JP,KE,KG,KP, KR,KZ,LC,LK,LR,LS,LT,LU,L V,MD,MG,MK,MN,MW,MX,NO,NZ ,PL,PT,RO,RU,SD,SE,SG,SI, SK,SL,TJ,TM,TR,TT,UA,UG,U S,UZ,VN,YU,ZW (72)発明者 ルター,ヘルムート ドイツ連邦共和国 デー−79639 グレン ツァハ−ヴィーレン テュリンガーヴェー ク 3アー (72)発明者 ライネール,ディーター ドイツ連邦共和国 デー−79400 カンデ ルン ヴォルフスホイレ 10 Fターム(参考) 4C083 AA122 AC072 AC122 AC242 AC342 AC352 AC422 AC482 AC532 AC542 AC682 AC851 AC852 AD152 AD352 CC01 CC19 EE17

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式: 【化1】 (式中、 R1およびR2は、たがいに独立して、水素、分岐鎖状のC5〜C18アルキル、 C2〜C18アルケニル、式:−CH2−CH(−OH)−CH2−O−T1の基、式
    : 【化2】 の基、または式: 【化3】 の基であり; R3およびR4は、たがいに独立して、水素またはC1〜C5アルキルであり; R5は、ヒドロキシ;非置換であるか、1個もしくは数個のOH基によって置 換されているC1〜C5アルコキシ;アミノ;モノ−もしくはジ−C1〜C5アルキ
    ルアミノ;M;または式: 【化4】 の基であり; R6は、直接結合、直鎖状または分岐鎖状のC1〜C4アルキレン基、または式 : 【化5】 の基であり; R7、R8およびR9は、たがいに独立して、C1〜C18アルキル、C1〜C18ア ルコキシ、または式: 【化6】 の基であり; R10、R11およびR12は、たがいに独立して、非置換であるか、1個または数
    個のOH基によって置換されているC1〜C14アルキルであり;そして R13は、水素、M、C1〜C5アルキル、または式: 【化7】 の基であり; R14は、C1〜C5アルキルであり; Mは、金属カチオンであり; T1は、水素またはC1〜C8アルキルであり; m1は、1〜3であり; m2は、2〜14であり;そして p1は、0または1〜5の数である) のUV吸収剤の、人間ならびに動物の皮膚および毛髪を、UV線の損傷の影響か
    ら保護するための使用。
  2. 【請求項2】 使用されるビス(レゾルシニル)トリアジンが、式: 【化8】 (式中、 R15およびR16は、たがいに独立して、分岐鎖状のC5〜C18アルキルまたは −CH2−CH(−OH)−CH2−O−T1であり; R17およびR18は、水素であり;そして T1は、水素またはC1〜C5アルキルである) の化合物である、請求項1記載の使用。
  3. 【請求項3】 式(2)において、 R15およびR16が、たがいに独立して、C1〜C18アルキルまたは−CH2−C
    H(−OH)−CH2−O−T1であり; R17およびR18が、水素であり;そして T1が、水素またはC1〜C5アルキルである、請求項2記載の使用。
  4. 【請求項4】 式(2)において、 R15およびR16が、たがいに独立して、分岐鎖状のC5〜C18アルキルであり ;そして R17およびR18が、水素である、請求項3記載の使用。
  5. 【請求項5】 式(2)において、R15とR16とが同じ意味を有する、請求
    項2〜4のいずれか1項記載の使用。
  6. 【請求項6】 式: 【化9】 (式中、 R19およびR20は、たがいに独立して、式: 【化10】 の基であり;そして R21、R22およびR23は、たがいに独立して、水素またはC1〜C10アルキル である) のビス(レゾルシニル)トリアジンの使用を含む、請求項1記載の使用。
  7. 【請求項7】 請求項1記載の式(1)のUV吸収剤を、化粧品適合性のキ
    ャリヤまたは助剤とともに含む化粧品製剤。
  8. 【請求項8】 さらなるUV保護剤を含む、請求項7記載の製剤。
  9. 【請求項9】 さらなるUV保護剤が、p−アミノ安息香酸誘導体、サリチ
    ル酸誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ジベンゾイルメタン誘導体、ジフェニルア
    クリラート誘導体、ベンゾフラン誘導体、1種以上のオルガノシリコン基を含む
    ポリマーUV吸収剤、ケイ皮酸誘導体、ショウノウ誘導体、トリアニリノ−s−
    トリアジン誘導体、フェニルベンズイミダゾールスルホン酸およびその塩、メン
    チルアントラニラート、ベンゾトリアゾール誘導体の分類からの有機UV吸収剤
    、および/あるいは酸化アルミニウムもしくは二酸化ケイ素で被覆されたTiO 2 、酸化亜鉛または雲母より選ばれる無機微細顔料である、請求項7または8記 載の製剤。
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