JP2001512083A - 粒状アルカリ金属ペルカルボネートの安定化法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は、好ましくは非還元性オリゴマーサッカライド、好ましくはスクロースと、特に無機塩の共被膜剤とが濃縮された水溶液で被膜することによる粒状アルカリ金属ペルカルボネートの安定化法に関する。好ましい共被膜剤は、アルカリ金属シリケート、スルフェート、カルボネート及びカルボネート／クロライドである。被膜されたペルカルボネートは、少量の被膜剤によってでさえ、溶解性、及び安定性の優れた組合せを有して提供される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】 本発明は、粒状アルカリ金属ペルカルボネートの安定化法に係り、詳細には、
安定化するための被膜方法、そのように生成されて安定性が改良された粒状ペル
カルボネート、及びそれを含有する洗浄又は漂白組成物に関する。

【０００２】 粒状アルカリ金属ペルカルボネートは、特にナトリウムペルカルボネートを含
め、洗剤組成物に添加する漂白添加剤として、また家庭用の衣類洗浄剤又は皿洗
い洗剤のような洗剤粉末混合物の漂白成分として使用できることは周知である。
それらは、アルカリ金属ペルボレートテトラハイドレートに比し、２０℃〜４０
℃の範囲の温度でより速やかに溶け、衣類洗浄が低温化する傾向及び漂白剤と組
み合わせた漂白活性剤の使用という点でより有利である。ペルカルボネートの他
の利点は、環境に優しいことである。しかし、ペルカルボネートは、粉末状態で
の貯蔵の間に、特に湿気のある環境及び洗浄又は洗剤組成物中で貯蔵されると、
ナトリウムペルボレートテトラハイドレートよりも速く分解するという欠点があ
ることが知られている。さらに、アルカリ性ビルダーのような洗浄組成物の他の
成分は、ペルカルボネートの分解を促進することが知られている。

【０００３】 ペルカルボネート、特にナトリウムペルカルボネートの安定性を改良するため
に、ペルカルボネート粒子の表面又は表面層を広範の材料で処理し、特にそれら
材料でペルカルボネートを被膜或いは被包することが提案されている。パラフィ
ン、酢酸、ポリオール、ビニル樹脂等のような広範な有機及び／又はポリマー化
合物及びシリケート、ボレート、ペルボレート、ホウ酸、カルボネート、クロラ
イド、スルフェート及びホスフェートのような無機化合物が被膜材料として提案
されている。しかし、ペルカルボネートの安定性を改良する代替的な或いは改良
された方法を位置付けることが継続的に要望されている。

【０００４】 ＷＯ９５／１８０６５において、Solvay Interoxは、ペルカルボネートの被膜
剤としてのホウ酸とポリオール又はヒドロキシカルボン酸との複合体の使用につ
いて、何ら特に強調せずに、ホウ酸とサッカライドとの複合体を含めて開示して
いる。ホウ酸又はホウ酸塩を取り込んだ被膜剤は、それらのポリオール／ヒドロ
キシカルボン酸との複合体を含め、ペルカルボネートの安定化に最も有効である
ことが研究によりわかっているが、ペルカルボネートの潜在的な顧客には、おそ
らく漂白又は洗浄組成物中での使用は禁止又は削減されるかもしれないことを危
惧してホウ素の存在を嫌う者がいる。さらに、ペルカルボネートの製造業者がホ
ウ素のない被膜剤の開発を試行し続けることが望まれている。

【０００５】 本発明を工夫する過程で、ＷＯ９５／１８０６５におけるオキシホウ素化合物
との複合体について考慮して多くの有機材料を試験した。それらの材料の中で、
サッカライドを試験し、それらにはペルカルボネートを安定化する性能において
、特にペルカルボネートが洗剤又は洗浄組成物中に取り込まれている場合に、重
要な相違があることがわかった。特に、ラクトース、別名乳糖は、Sunstar KKら
によりＪＰ６０１１６６２５において、１５〜２５％の乳糖で被膜されたペルオ
キシド（５％カリウムペルスルフェート及び２６％ナトリウムペルカルボネート
）は、人工歯クリーニング組成物中で良い安定性を示すことが主張されているに
もかかわらず、低率での使用では比較的安定性に劣った。

【０００６】 本発明は、有効量の被膜材料で粒状アルカリ金属ペルカルボネートを被膜して
それを安定化する方法であって、前記被膜材料が、被膜された材料を基準として
５質量％以下の非還元性のオリゴマーサッカライドを含むことを特徴とする方法
を提供する。

【０００７】 ここで、有効量とは、例えば、相対湿度８０％、３２℃で、それ自体の質量の
後述するゼオライト４Ａの存在下で、対応する被膜しないペルカルボネートに比
べてペルカルボネートの分解速度を減じるような量を意味する。

【０００８】 ここで、被膜工程の際、被膜材料は、特に水溶液の状態で粒状ペルカルボネー
トに接触させることが好適である。

【０００９】 何らかの理論に限定するわけではないが、本発明で得られた被膜の有効性は、
選択された非還元性オリゴマーサッカライド溶液の能力に助けられ、ペルカルボ
ネートの表面に容易に広がり、少量の被膜剤からさえもバリア又は層を形成し、
ペルカルボネート核と周囲、局所的大気中の水蒸気及び／又はペルカルボネート
が漂白剤として取り込まれている例えば洗剤組成物中の他の粒状物質との間の相
互作用を阻止或いは減じると考えられる。しかし、実際には、被膜剤溶液の易拡
散性は、どのように或いはなぜ選択された被膜剤がそのように有効であるかとい
う点に関しては、全体的な解釈のほんの一部のみが寄与すると考えられる。ラク
トースのような他の糖も同様に表面に拡散できるが、同様の能力を示さないから
である。

【００１０】 非還元性オリゴマーサッカライドは、二糖類、特にスクロースが好ましい。こ
こで使用されるスクロースとは、その分子自体及びペルカルボネートに被膜剤を
施す工程で誘導されうる何れのポリマー誘導体をも包含することがわかるだろう
。例えば、被膜剤を施すいくつかの工程の際及び被膜されたペルカルボネートを
乾燥する大部分の工程で、ペルカルボネート粒子を熱ガスと接触させることは通
常行われ、これは重合化を促進し得る。疑いを回避するため、いくらかでもあれ
ば、そのような被膜又は乾燥工程で生じるスクロースの誘導体は本発明に包含さ
れる。

【００１１】 用語オリゴマーサッカライドは、デンプンのような極度に高分子量の物質は除
外することがわかるだろう。

【００１２】 スクロース又は他の非還元性オリゴマーサッカライドが、被膜剤全体を構成す
る必要はない。実際、被膜剤は、カルボン酸又は有機ホスホン酸の塩でもあり得
るが有利には無機塩である、少なくとも１つの共被膜剤をさらに含むことが好ま
しい。その塩は、例えばカルボン酸は、被膜工程の際ペルカルボネートとの接触
によって中和される対応の酸として被膜に使用される溶液中に取り込むことがで
きるが、そのような場合に使用してよい。このように共剤を用いることによって
、ペルカルボネート上に被膜されるスクロース又は他の非還元性オリゴマーサッ
カライドの量を増やすことなく、全体的な被膜レベルを高め、或いはより少ない
割合のスクロース又は他の非還元性オリゴマーサッカライドでも同様の被膜総質
量を達成できる。本発明のいくつかの好ましい実施態様では、非還元性オリゴマ
ーサッカライドは被膜剤の総質量うちの少量である。

【００１３】 また、少量で、オリゴマーサッカライドはナトリウムペルカルボネートのよう
な酸化剤上の被膜剤として安全に、すなわち標準的な試験において低放射熱によ
って実証されるように使用できるが、かなり大量に使用すると、ずっと高放射熱
となり、生成物は被膜されない材料よりもかなり安全でなくなる。従って、本発
明で使用するスクロース又は他の非還元性オリゴマーサッカライドの割合は、厳
しく制限することが実際には重要である。すなわち、ナトリウムペルカルボネー
トとオリゴマーサッカライド間の潜在的な酸化的相互作用は、ナトリウムペルカ
ルボネートとゼオライトそれ自体又はそのような酸化的相互作用を起こさない添
加剤が吸収され担持するゼオライトのような他の洗剤成分との間の大きな相違を
意味する。

【００１４】 例えばペルカルボネート粒子床(bed)上に溶液で非還元性オリゴマーサッカラ イドを含む被膜を施す少なくともいくつかの方法において、非還元性オリゴマー
サッカライドの質量割合が約２％以上に増加すると、その生成物がアグロメレー
トを含む傾向が増加することがわかった。この傾向は、ここに記載したような共
被膜剤を使用することによって改善することができ、如何なる場合にもそのアグ
ロメレートは穏やかな圧力、すなわち圧縮が行われる圧力よりかなり低い圧力で
成分粒子に分解できる。ある方法の利点は、付加的な加工工程の使用を回避でき
ることであり、共被膜剤を用いることは明確に望ましく、実際、１以上の薬剤が
使用される場合、被膜剤混合物を別個の添加剤の代わりに使用することは望まし
いが、後者の方法も特にその添加剤が粒子の撹拌された床上に同時に生じる場合
には実行可能である。

【００１５】 共被膜剤は、無機塩、特にアルカリ金属又はアルカリ土類金属塩から選択され
ることが多く、さらに好ましくは、アルカリ又はアルカリ土類金属のカルボネー
ト、セキカルボネート(sequicarbonate)又はシリケート又はクロライド、スルフ
ェート若しくはホスフェートのような鉱酸塩である。用語シリケートには、式Ｍ ₂ Ｏ.ｎＳｉＯ₂に適切に従う物質が包含され、ここでＭは、アルカリ金属好まし くはナトリウム又はアンモニウムを示し、ｎは0.5〜４の範囲で選択される。用 語ホスフェートには、オルト、ピロ及びメタホスフェート又はそれらの混合物が
包含される。非還元性オリゴマーサッカライドと組み合わせて使用する無機塩の
好ましい選択は、カルボネート、カルボネート／クロライド、カルボネート／ス
ルフェート、カルボネート／クロライド／スルフェート、スルフェート、スルフ
ェートクロライド及びシリケート又は上記組合せとシリケートとの組合せである
。カルボネートのそれぞれクロライド又はスルフェートに対する質量比及びスル
フェートのクロライドに対する質量比は、そのような組合せで１０：１〜１：１
０の範囲からよく選択される。シリケートが存在する場合は、それは２〜１５％
の無機塩を含む。

【００１６】 本発明の多くの好ましい実施態様において、ペルカルボネートに施される被膜
は、５〜８０質量部の非還元性オリゴマーサッカライドを含み、特に全体の質量
に対してアルカリ金属カルボネート、セキカルボネート(sequicarbonate)、シリ
ケートクロライド、スルフェート又はホスフェートから選択される１以上の無機
塩をそれぞれ９５〜２０質量部を有するスクロースであり、特に９０〜４０質量
部の前記選択された無機塩を有する１０〜６０質量部のスクロースである。さら
に、無機塩又はそれらの組合せは上記の好ましい選択から選択されることが望ま
しい。

【００１７】 本発明の被膜剤の特に望ましい組合せは、８５〜５０質量部のスルフェート又
はシリケートを組み合わせた１５〜５０質量部のスクロースを含む。

【００１８】 無機塩のすべて又は一部に代えて、塩、特にナトリウム又はマグネシウムのよ
うなアルカリ金属のカルボン酸又はヒドロキシカルボン酸の塩を使用できる。好
適な塩としては、酒石酸塩、クエン酸塩、コハク酸塩、グルタル酸塩、アジピン
酸塩及びアスコルビン酸塩があり、好ましくはナトリウム、カリウム又はマグネ
シウムのそれらの塩である。そのような塩の混合物、例えばコハク酸塩、グルタ
ル酸塩及びアジピン酸塩の混合物を使用できる。

【００１９】 共被膜剤として、約１０℃から４０℃又は６０℃のように穏やかに上昇された
周囲温度の範囲で容易に水に溶けるものを選択することが非常に望ましく、その
温度は、急冷及び低温の洗濯機若しくは手洗いの選択工程又は硬い面のクリーニ
ングにおいて通常遭遇する温度を包含する。このような共被膜剤は、アルカリ金
属のスルフェート、クロライド、ホスフェート及び酒石酸塩、アジピン酸塩又は
コハク酸塩のような低分子量のカルボン酸塩を含む。スクロース又は他のオリゴ
マーサッカライドを有する可溶性共剤を選択すると、使用中ペルカルボネートの
溶解を速めることができる。

【００２０】 本発明の被膜剤又は被膜剤の組合せは、水溶液の形態での使用に有利である。
実際、被膜剤の濃度、すなわち非還元性オリゴマーサッカライド及びすべての共
被膜剤の全体は、被膜剤水溶液中の少なくとも半分であり、好ましくは処理温度
におけるその溶液の飽和濃度に近いほど便利である。この場合、比較的少ない、
好ましくは最少の又はそれに近い実用的な量の水は、後で蒸発させて実質的に乾
燥したペルカルボネート粒子を生成する必要があり、それゆえ、より少ない又は
最少の熱を乾燥段階で必要とするが、ペルカルボネートの表面に拡散しうる溶液
中に被膜を施すという利点を有している。被膜剤水溶液中の被膜剤の濃度は、通
常少なくとも１５質量％、好ましくは少なくとも２０％である。約２５質量％以
上の濃度が特に有利であり、多くの例で、被膜剤は十分溶解するので、７０〜６
５質量％の水に３０〜３５質量％を含む溶液は、３０℃〜５０℃の範囲の溶液温
度で使用できる。可溶性シリケートを有するようないくつかの組合せにおいて、
３５〜４３質量％の被膜剤及びそのような温度における平衡水(６５〜５７％)を
含む被膜溶液でさえ使用することができる。ここで考慮される被膜剤溶液は、特
に非還元性オリゴマーサッカライドと共被膜剤との混合物を使用した場合には、
処理温度で自由な流れが残っており、それゆえ被膜剤を施す工程の際、ペルカル
ボネート粒子が溶液の少なくとも一部を吸収することを助け、粒子の表面を横断
する溶液の拡散率を高める。このような溶液のフリーフロー能力、被膜剤又は薬
剤の優れた水溶性、及び薬剤の混合物の使用もいずれも、酸素源となるものに接
触して又は近接して不慮にオリゴマーサッカライドダストが形成される危険性を
減ずる。

【００２１】 被膜剤又はその構成成分の溶解は、１５〜９５℃、好ましくは２０〜７０℃で
都合よく起こり得る。

【００２２】 すべての被膜剤の成分が単一の溶液に溶解する必要はなく、各成分又はサブコ
ンビネーションを別個に導入することができるが、そのような別々の使用は、被
膜剤の質量単位毎に必要な溶液の量が増える傾向があることがわかるだろう。

【００２３】 また、被膜剤のスラリーを溶液の代わりに、例えばスクロース又は他の非還元
性オリゴマーサッカライド溶液中の粒状無機塩の縣濁液を使用できることもわか
るだろう。このことは、単一の経路で施される被膜の質量を比較的大きくできる
が、実際には、処理するのに通常平均サイズが１００ミクロン以下の小さい粒子
が必要である。

【００２４】 非還元性オリゴマーサッカライド、特にスクロースと何らかの共被膜剤との両
方を含む被膜剤の総量は、被膜されたペルカルボネートの通常0.5〜２０％w/wを
示す。好ましくは、総量は１〜１５％w/wの範囲から選択され、多くの例で、被 膜されたペルカルボネートの２〜１０％である。多くの実施態様において、被膜
剤の総質量は２〜５％の範囲から選択される。スクロース又は他の非還元性オリ
ゴマーサッカライドの質量は５％以下であり、通常0.2〜３％の範囲内で選択さ れ、多くの例で0.5〜2.5％であり、多くの好ましい例では、１％〜２％の範囲内
であり、適量の共被膜剤又は薬剤、特にここで示したような無機剤によって与え
られる被膜剤の全質量とバランスをとる。共被膜剤又はそれらの混合物は、被膜
された材料の質量を基準にして被膜の0.5〜６％の質量を与えることがわかり、 多くの例で１〜３％である。

【００２５】 一般的な徴候のように、被膜剤が同一の方法で施される場合は、ペルカルボネ
ートの分解が改良される範囲は、非直線的であるが、被膜の厚さが増加するにつ
れて増加する。被膜の質量の選択は、被膜の様式、生成する組成物が安定を保つ
時間、貯蔵状態の温度や湿度及びゼオライトのような比較的攻撃的な洗浄組成物
成分の割合のようなペルカルボネートが使用される環境、及び製品の購入者がペ
ルカルボネートの有効酸素（Ａｖｏｘ）量の減少を許容する範囲を考慮する。

【００２６】 アルカリ金属ペルカルボネートは、好ましくはナトリウムペルカルボネートで
ある。本発明に従って生成される被膜されたペルカルボネート生成物の多くで、
そのように被膜されたペルカルボネートの嵩密度は、0.8〜1.2kg/lの範囲で選択
される。そのように被膜されたペルカルボネートの溶解速度は、国際標準ＩＳＯ
３１２３−１９７６から採用される方法に従って決定した場合に、ほとんど許容
できる速さである。本発明の被膜されたペルカルボネートの試料の９０％溶解に
相当する時間は、通常、2.5分を超えない。９０％溶解時間は、被膜されたナト リウムペルカルボネートを１５℃で２g/lの濃度で水に添加してから、その最終 的な値の９０％を達成するのに要する時間である。使用する方法は、工業的なペ
ルボレートについてのＩＳＯ３１２３−１９７６から採用し、唯一の相違はスタ
ーラーの高さであり、ビーカーの底から１mmで２リッターのビーカーである（内
部高さ１８３mm、内径１２７mm）。

【００２７】 本発明のいずれの方法でも被膜するのに適した粒状ペルカルボネートは、アル
カリ金属ペルカルボネートを作る如何なる公知の方法でも調製でき、例えば、直
説法によって、流動床法によって、又はペルカルボネートを飽和水溶液から再結
晶させるいわゆる湿式法によって、或いはしばしば冷却によって及び／又は任意
にアルカリ金属塩を添加して調製できる。

【００２８】 有利には、多くの実施態様においては、原料としてクロライドのようなハライ
ドを有意な割合で含まない、すなわち１％w/w以下しか含まないペルカルボネー トを用いることが望ましい。適切にコントロールされ操作された流動床又は“湿
床”から得られるような原料を選択することによって、選択された被膜剤からの
特性部分と原料からの特性部分との特に有利な組合せが得られ、全体的に最良の
結果が達成される。

【００２９】 本発明の方法で被膜されるペルカルボネート核粒子は、広範囲の割合で、かつ
公知の技術及び／又は習慣に従って種々の添加剤を取り込むことができる。この
ような添加剤は、とりわけペルソルト安定剤、晶癖変性剤及び塩析剤を含む。

【００３０】 ペルソルト安定剤は、アルカリ金属及びアルカリ土類金属のシリケート、アル
カリ金属及びアルカリ土類金属のホスフェート、マグネシウムスルフェート、ク
ロライド又はオキシドのようなマグネシウム化合物、エチレンジアミンテトラ酢
酸及び／又は塩、或いはジエチレントリアミンペンタ酢酸及び／又は塩のような
有機錯化カルボン酸及びそれらの塩、及び／又はヒドロキシエチリデンジホスホ
ネートのような有機ポリホスホネート錯化剤、及びエチレンジアミンテトラメチ
レンホスホン酸及び／又は塩、ジエチレントリアミンペンタメチレンホスホン酸
及び／又は塩、シクロヘキサン−１,２−ジアミンテトラメチレンホスホン酸及 び／又は塩を含むアルキレンアミノポリメチレンホスホネートの１以上から選択
することができる。

【００３１】 非常に望ましいいくつかの実施態様において、本発明の方法を使用してナトリ
ウムペルカルボネートを被膜すると、時間経過及び粒状ペルカルボネートの結晶
化と再生の間の２段階で添加されたシリケートの拡散の結果、例えば、Interox
Chemicals Limitedという名称で公表されたGB-A-1 553 505又はPeroxid-Chemie
GmbHという名称で公表されたGB-A-1 578 062の何れかに記載された製造／安定化
方法で製造された製造物のように、ナトリウムペルカルボネート粒子内に分布さ
れた約0.5％w/wまでの少量のシリケート及び任意にその粒子表面上にさらに約0.
5％までの少量のシリケート又はシリケート誘導体を含む。

【００３２】 晶癖変性剤はペルカルボネート結晶の形態に作用し、またポリアクリレートの
ような有機高分子化合物及びポリホスフェート、例えばナトリウムヘキサメタホ
スフェートのような無機種を含む。

【００３３】 いくつかの薬剤は、安定化と晶癖の変性化のように同時に多くの異なった特性
を与え得ることが理解されるだろう。

【００３４】 塩析剤は商業的な方法で便利に使用され、溶液からのペルカルボネートの結晶
化のために最近の６０年間使用されており、特にナトリウムクロライド、ナトリ
ウムスルフェート、又はナトリウムヘキサメタホスフェートのような非常に水溶
性のアルカリ金属塩である。これとは別に、カルボネートでない塩析剤は用いな
いが、アルカリ条件下で約１０〜２５℃の範囲の温度でナトリウムカルボネート
に対してナトリウムペルカルボネートの相対的な不溶性を利用する結晶化法でペ
ルカルボネートを作ることができる。

【００３５】 いくつかの実施態様において、ペルカルボネート用の共被膜剤の性質を選択し
て、結晶化法でその製造の際に塩析剤が使用される場合には、塩析剤と調和させ
又は塩析剤を補完する。従って、ナトリウムペルカルボネートがクロライド塩析
剤で作られる場合は、スクロースに加えクロライド又はクロライド／カルボネー
トを含む被膜剤が便利に使用されることが多い。一方、クロライドのない結晶化
法を使用する場合は、それ自体クロライドを含まないかペルカルボネート上のク
ロライドが約0.3％以下であるごく少量のクロライドしか含まない被膜剤を使用 すると便利である。

【００３６】 本発明の方法で被膜されるペルカルボネート核粒子の平均径は、ユーザーが決
定する。平均径は通常少なくとも１００μmで、ほとんど２０００μm以下であり
、多くの例では、平均粒径（ＭＰＳ）は２５０〜１０００μmの範囲である。し かし、ＭＰＳが約５００〜８５０μmの範囲のペルカルボネートを使用すること が特に望ましい。本発明の多くの有利な実施態様では、少なくとも６００μm、 好ましくは約７００〜８５０μmの範囲のＭＰＳを有する被膜されるペルカルボ ネートが提供される。

【００３７】 ペルカルボネート粒子の拡散はペルカルボネート製造者の裁量であるが、実際
問題として、長年認識されてきたように、ペルカルボネートの粒状洗剤組成物に
おける取込は、約１００又は１５０μm以下のような微小な粒子は環境に起因す る分解に本来的に敏感であり−それらは大きい粒子よりも体積比に対して表面積
がかなり大きく、周囲の空気から湿気を容易かつ速く吸収しやすいので、避ける
ことが有利である。また、多くの粒状洗剤組成物については、約１５００μmよ り大きい粒子は避け或いは最小限にしてペルソルト／洗剤粒子の分離という潜在
的な問題を減じることが望ましい。従って、本発明の多くの実施態様では、被膜
されるすべて又は実質的にすべてのペルカルボネートは、１５００μmのふるい を通過し、１５０μmのふるい上には留まり、少なくともいくつかの好ましい実 施態様においては、少なくとも８０％w/wのペルカルボネートが３５０μmのふる
い上に保持され、１２００μmのふるいは通過し、望ましくは少なくとも６００ μm、最も望ましくは７００〜８５０μmのＭＰＳを有する。EP 451893における 定義の意味において、ＭＰＳが６００μm以上、かつ少なくとも８０質量％が３ ５０〜１２００μmであるペルカルボネート生成物は、0.03以下の形態指数を有 し、本発明によって被膜されてもなお優れた溶解度を示し、洗浄力に優れ、かつ
パック安定性に優れる。

【００３８】 上述の被膜剤でペルカルボネートを被膜する本発明の方法は、本来ペルソルト
を被膜剤と接触させる公知の何れの方法も含むことができる。被膜剤をペルカル
ボネートに接触させる好ましい方法は、被膜剤の水溶液をペルカルボネート粒子
上に噴霧することを含む。特にペルカルボネート粒子が動き続けることが望まし
い。従って、本発明の被膜法は、粒子を撹拌できる装置の範囲内で行うことが望
ましく、その実施例は、被膜剤溶液を噴霧するのに便利な流動床、回転板、及び
回転ミキサーのどれかを含んでいる。接触の過程で、ペルソルトは被膜剤溶液を
吸収する傾向があり、ある程度吸収し、同時に或いは続いて被膜剤溶液から溶媒
をエバポレートすると、ペルカルボネート核の周りに被膜が沈着する。

【００３９】 本発明の被膜法は、被膜装置による単一の経路か複数の経路で行うかはユーザ
ーの裁量であることがわかるだろう。複数経路は、特にヘビーな被膜用途に有効
であり、各経路で除去すべき溶媒量を減らすので、乾燥前にペルカルボネートが
過剰に湿ってしまうリスクを減少させ或いは取り除く。連続法又はバッチ法を使
用できる。

【００４０】 被膜剤溶液のペルカルボネートとの接触は、溶液からの溶媒のエバポレーショ
ン及び被膜層の形成と同時に同じ容器中で行うことができる。代わりに２工程を
別の容器で別個に行うこともでき、ある場合には、同じタイプ、例えば流動床で
両方行い、或いは混合工程は回転ミキサーでエバポレーション工程は流動床でと
いうように異なったタイプでもよい。

【００４１】 流動床のような装置は、噴霧とエバポレーションを同時に行うのに特に好適で
ある。そのような操作では、流動床の温度は、通常３０〜９５℃、好ましくは６
０〜８０℃に保持される。

【００４２】 特に有利な方法の変形は、分離ミキサー、特に回転ミキサー中に充填したペル
カルボネート粒子を本発明の被膜剤溶液と接触させ、引き続きその湿ったペルカ
ルボネートを流動床中で乾燥することを含む。その溶液は、噴霧によって或いは
１以上のノズルのような粗野なスプレーによってさえミキサー中に導入すること
ができる。この別個のミキサー変形においては、ミキサー温度は、１０〜６０℃
、好ましくは２０〜５０℃の範囲で選択されることが多い。スクロースを含む溶
液を用いる利点は、溶液がミキサー内でペルカルボネート粒子表面全体に拡散し
やすいことである。そして、流動床中での乾燥は、５０〜９０℃、好ましくは６
０〜７０℃の温度でよく行われる。

【００４３】 ここで、被膜／乾燥組合せ工程又は乾燥段階でのみに使用する流動床は、ケー
スにより、被膜／乾燥又はペルソルトの乾燥のみのための公知の方法に従って操
作できる。従って、流動ガスとして何れの非反応性ガスも、特に空気も含め使用
できる。ガスは予備的に除湿し、所望により予備加熱して流動床の温度を所望の
値に保持してよい。また、流動床内に配置された管束又は床周りの熱ジャケット
のような流動床を直接加熱する方法も使用できる。流動ガスの上昇気流を制御し
てペルカルボネート粒子を撹拌状態、すなわち沈降しないが、微粒子以外の粒子
が流動容器から吹き飛ばないように維持する。

【００４４】 希薄被膜溶液及びペルカルボネート粒子は、通常それぞれ約３０℃以内、好ま
しくはそれぞれ約５℃以内の温度で接触させる。

【００４５】 被膜剤溶液とペルカルボネートの比率を選択して、乾燥後にペルカルボネート
核周囲に所望の質量の被膜剤を残すようにする。実際には、流動床又はミキサー
中のペルカルボネートへの溶液の添加は、最大水分量が約１５％w/wに制限して 湿気の問題を最少にし或いは無くすようにすることが望ましく、さらに好ましく
は約３〜１２％w/wの水分量の範囲で選択し、約６〜１２％w/wがよく選択される
。また、通常、被膜されたペルカルボネートの水分量が0.1〜0.7％w/w範囲のよ うに約１％以下になるまで乾燥し続けることが望ましい。乾燥工程の持続時間は
、通常、とりわけペルカルボネートの単位質量毎に施される被膜剤溶液の量、許
容できる残存含水量、流入する流動ガスの温度や含水量、床が付加的に加熱され
たかどうか及び床中をガスが流れる速度のような実際的な配慮によって決定され
る。従って、装置から装置で変化し、被膜ペルソルト技術における当業者は予備
的範囲の試行の助けによってコントロールできる。

【００４６】 ペルカルボネート上の被膜剤の最終形態は、その後の反応及び加工の結果によ
り変化することは当然わかるだろう。従って、例えば、アルカリ性のペルカルボ
ネートの表面上又は表面層中に酸性の被膜剤溶液を接触させると、酸とアルカリ
が相互作用し、乾燥段階は、外界温度で存在するであろう水和塩の水を、そのよ
うな塩の遷移温度を乾燥温度が超えていれば、いくらか或いはすべて除去できる
。

【００４７】 また、本発明は、優れた特性を有する被膜されたアルカリ金属、特にナトリウ
ムペルカルボネートを提供することがわかる。いくつかの実施態様において、被
膜剤及び核のペルカルボネートを適切に選択することによって、本発明は、後述
する溶解度試験における９０％溶解度が1.7分、かつ、後述する安定性試験（セ ットＡ）における６週間貯蔵後のＡｖｏｘ保持率が少なくとも６４％、好ましく
は少なくとも７０％である被膜されたナトリウムペルカルボネートを提供する。
このような有利な被膜されたペルカルボネートは、非還元性オリゴマーサッカラ
イド及び任意に共被膜剤でペルカルボネートを被膜することによって得られる。

【００４８】 好ましい実施態様においては、上記の被膜特性の組合せ、とりわけ速い溶解性
及び優れた貯蔵安定性が、被膜生成物の２〜５質量％を示す被膜によって達成さ
れる。このことは、優れた安定性という利点が、ほんの少量の被膜剤の利用で達
成されるという点で特に有益である。このことは、被膜剤を多量に使用する場合
に比し、コスト的に優れるばかりでなく、被膜されない原料のペルカルボネート
に比べて被膜されたペルカルボネートのＡｖｏｘ含量の不可避的な減少を最少に
することができる。従って、多くの好ましい実施態様において、原料の被膜され
ないペルカルボネートのＡｖｏｘに当然依存するが、約12.5％w/w、特に約13.5 ％、とりわけ約１４％以上のＡｖｏｘを保持しながら、高い安定性と速い溶解性
を達成できる。

【００４９】 さらに、特に有用な実施態様の少なくともいくつかでは、溶解度と安定性の所
望の組合せを有する被膜ペルカルボネートは、６００〜８５０μm、好ましくは 少なくとも７００μmの平均粒径を有している。このような平均粒径は、コンパ クト或いは超コンパクト或いは顆粒状の“伝統的な”洗剤組成物の他の成分から
ペルカルボネート粒子が分離する可能性を低減する。従って、有利に、その組合
せは少量の被膜で大きい粒径を達成でき、優れたパック安定性及び速い溶解性を
得る。

【００５０】 有利には、本発明の多くの好ましい被膜ペルカルボネートは、後述する熱放射
試験において、４０℃で４μW/g以下、好ましくは1.5μW/g以下の熱放射を有す る。

【００５１】 また、本発明は、上述した本発明の生成物及び／又は上述した本発明の方法に
よって生成されるような粒状の被膜ナトリウムペルカルボネートを含む洗浄又は
漂白組成物にも関する。

【００５２】 主として洗濯洗浄を意図した本発明の多くの好ましい洗浄組成物においては、
１以上の構成成分が、以下のより狭い範囲内で選択される。 ペルカルボネート ２〜４０％、特に５〜３０％ 界面活性剤 ２〜４０％、特に５〜２５％ ビルダー １〜６０％、特に５〜４０％ 希釈剤 １〜７０％、特に５〜５０％ 添加剤 １〜１０％（合計で）

【００５３】 多くの関連する漂白製剤においては、ほとんど或いは全く漂白剤を含まない洗
剤組成物と組み合わせて使用するか、又は漂白剤含有組成物の漂白補助剤として
使用することを意図していることが多く、このような漂白製剤は、以下の成分を
含む。 ペルカルボネート ５〜９０％、特に２０〜５０％ 界面活性剤 ０〜２０％、特に0.5〜５％ ビルダー １〜９５％、特に３０〜８０％ 希釈剤 １〜９５％、特に３０〜８０％ 添加剤 ０〜２０％（合計で）、特に１〜１０％

【００５４】 本発明の固形洗濯又は漂白剤組成物に取り込む界面活性剤は、粒状又はフレー
ク状のアニオン性、カチオン性、非イオン性、双性イオン、両性及び両性電解界
面活性剤から選択でき、天然又は合成石鹸のいずれでもよい。多くの好適な界面
活性剤は、1978年にGeorge Godwin Ltd及びJohn Wiley＆Sonsによって発行され 、参照文献として本明細書に取り入れられている、A Davidsohn及びB M Mildwis
kyによる『合成洗剤』（第６版）の第２章に記載されている。これらの界面活性
剤に限定するものではないが、アニオン性界面活性剤の代表的なサブクラスは、
カルボン酸石鹸、アルキルアリールスルホネート、オレフィンスルホネート、直
鎖アルカンスルホネート，ヒドロキシ−アルカンスルホネート、長鎖及びＯＸＯ
アルコールスルフェート、硫酸化グリセリド、硫酸化エーテル、スルホ−コハク
酸塩、アルカンスルホネート、ホスフェートエステル、スクロースエステル及び
アニオン性フルオロ界面活性剤であり；カチオン性界面活性剤の代表的なクラス
は、少なくとも１の疎水性のアルキル又はアラルキル基を含む四級アンモニウム
又は四級ピリジニウム塩を含み；非イオン性界面活性剤の代表的なクラスは、長
鎖アルカノールのポリエチレンオキシド若しくはフェノールとの縮合物、又は長
鎖カルボン酸若しくはアミン若しくはアミドのポリエチレンオキシドとの縮合物
、及びソルビトールのように長鎖部分が脂肪族ポリオールと縮合された関連化合
物又はエチレンとプロピレンオキシド若しくは脂肪酸アルカノールアミドとの縮
合生成物、ポリアルキルグリコリド、グルコースアミド及び脂肪酸アミンオキシ
ドを含み；両性／双性イオン界面活性剤の代表的なクラスは、任意にアニオン性
可溶化基で置換されたスルホニウム及びホスホニウム界面活性剤を含む。存在す
るすべての界面活性剤の部分として表される界面活性剤の比率は、１０分の２〜
１０分の８のアニオン性、０〜１０分の６の非イオン性、及び０〜１０分の３の
その他の界面活性剤であることが多い。

【００５５】 本発明の組成物に含まれる好適な洗剤ビルダーは、特にアルカリ金属ホスフェ
ート、とりわけトリポリホスフェートのみならずテトラピロホスフェート及びヘ
キサメタホスフェート、特にそれぞれのナトリウム塩、アルカリ金属（好ましく
はナトリウム）カルボネート、アルカリ金属（好ましくはナトリウム）ボレート
、及びベントナイトのようなクレイを含むケイ酸質ビルダー、Ａ、Ｘ、Ｙ、ＡＸ
及びＭＡＰゼオライト（EP-A-O 552 053）のようなゼオライト及び登録商標ＳＫ
Ｓ６で入手可能な製品のような層化シリケートを含む。スクロース又は本発明の
被膜剤を含む同等のもので達成可能な被膜は、比較的攻撃的な洗剤組成物、すな
わちアルミノケイ酸質ビルダーを含有する組成物に取り入れるのに特に好適であ
り、高レベルで被膜されたナトリウムペルカルボネートを与える。ゼオライトビ
ルダー同士及び／又は他のケイ酸質及び／又はホスフェート及び／又はカルボネ
ート及び／又はクレイビルダーとの混合物は、本発明の組成物に使用できる。ま
た、有用な洗剤組成物は、ニトリロトリナトリウムトリアセテート（ＮＴＡ）、
ＥＤＴＡ、ＥＤＴＭＰ及びＤＴＰＭＰのような有機キレートビルダーを含むこと
もできる。このようなキレートビルダーは、増強ビルダー及び過酸素安定剤とし
て、１〜１０％のように比較的少量で使用できる。

【００５６】 また、洗剤組成物は、通常は約５０％w/w以下の量で希釈剤を含むことができ る。このような希釈剤はナトリウム及びマグネシウムスルフェートを含み、また
、洗剤組成物の製造業者には以前より少ない方が好まれる。製造業者は、近年、
組成物の濃縮化を促進して組成物はより高い嵩密度を有するからである。

【００５７】 また、本発明の洗剤組成物は、洗剤組成物の目的に貢献する任意の他の物質を
含むことができ、まとめて洗剤添加剤といわれることがある。このような添加剤
としては、以下のもの：ペルソルト活性化剤、蛍光増白剤、消泡剤、酵素、退色
阻止剤及び再析防止剤、着色剤、ｐＨ調節剤を挙げることができる。ペルソルト
含有洗剤組成物に取り込まれるこのような添加剤は、Davidsohn及びMildwiskyに
よる上述の研究の第４章に詳細に記載され、第７章で例証されており、当業者に
は周知である。従って、例えば、漂白活性化剤は、典型的にはペルオキシ酸又は
それらのアニオンがペルカルボネートと反応して生じる化合物であり、ペルカル
ボネート：モノ活性化活性化剤及び相応のマルチ活性化活性化剤のモル比が約４
：１〜１：２で使用される。ペルオキシ酸生成活性化剤は、一般的にＮ−アシル
又はＯ−アシル化合物であり、その化合物と、ペルカルボネートの溶解で遊離し
たペルヒドロキシルアニオンとの相互作用によって、過酸、多くはペルオキシ酢
酸からペルノナン酸が生じる。活性化剤は、低温での洗濯機用洗浄組成物の通常
の成分になってきている。ここで使用できる非排他的範囲の活性化剤ａ１〜ａ２
０を以下に示す。

【００５８】 （ａ１）カルボン酸又は無水安息香酸、無水フタル酸、ビス(エタンスルホン)酸
、無水物及びベンゼンスルホン酸／無水安息香酸のようなカルボン酸／スルホン
酸無水物混合物。 （ａ２）ビニル若しくはイソプロペニルアセテート若しくはベンゾエート又はジ
ビニルアジペートのようなエノールエステル。 （ａ３）エチリデン若しくはイソプロピリデンジアセテート若しくはジベンゾエ
ート、又はエチリデンベンゾエートアセテート若しくはヘプタノエート、又はビ
ス(エチリデンアセテート)アジペート若しくはアゼレートのようなgemジエステ ル。 （ａ４）グルコースペントアセテート又はラクトースオクトアセテートのような
糖エステル。 （ａ５）パラ(エトキシカルボニルオキシ)安息香酸又はパラ(プロピルオキシカ ルボニルオキシ)ベンゼンスルホン酸のアルカリ金属塩のような炭酸エステル。 （ａ６）Ｎ,Ｎ,Ｎ'Ｎ'-テトラアセチル(メチレン又はエチレン)ジアミン、Ｎ,Ｎ
-ジアセチルアニリン、Ｎ,Ｎ-ジアセチルメチルアミン又はＮ,Ｎ-ジアセチル-p-
トルイジンのようなＮ,Ｎ-ジアシル化アミン。 （ａ７）１,３-ジアセチル-５,５-ジメチルヒダントインのようなジアシル化ヒ ダントイン。 （ａ８）テトラアセチルグリコルリルのようなアシル化グリコルリル。 （ａ９）化合物Ｎ-メチル-Ｎ-メシルアセトアミド、Ｎ-メチル-Ｎ-メシル-ベン ズアミド、Ｎ-メチル-Ｎ-メシル-ニトロベンズアミド、及びＮ-メチル-Ｎ-メシ ル-p-メトキシベンズアミドのようなＮ-アルキル-Ｎ−スルホニルカーボンアミ ド。 （ａ１０）モノアセチルマレイン酸ヒドラジドのようなＮ-アシル化環状ヒドラ ジド、アシル化チアゾール又はウラゾール。 （ａ１１）１,４-ジアセチル-２,５-ジケトピペラジン、１,４-ジプロピオニル-
２,５-ジケトピペラジン及び１,４-ジプロピオニル-３,６-ジメチル-２,５-ジケ
トピペラジンのようなアシル化２,５-ジケトピペラジン。 （ａ１２）プロピレンジウレア又は２,２-ジメチルプロピレンジウレア(２,４, ６,８-テトラアザ-ビシクロ-(３,３,１)-ノナン-３,７-ジオン、又はその９,９-
ジメチル誘導体、特にテトラアセチル-又はテトラプロピオニルプロピレンジウ レア又はそれらのジメチル誘導体。 （ａ１３）Ｏ-ベンゾイル-Ｎ,Ｎ-スクシニル-ヒドロキシルアミン、Ｏ-アセチル
-Ｎ,Ｎ-スクシニル-ヒドロキシルアミン、Ｏ-アセチル-Ｎ,Ｎ-フタロイル-ヒド ロキシルアミン、Ｏ-p-メトキシベンゾイル-Ｎ,Ｎ-スクシニル-ヒドロキシルア ミン、Ｏ-p-ニトロベンゾイル-Ｎ,Ｎ-スクシニル-ヒドロキシルアミン及びＯ,Ｎ
,Ｎ-トリアセチルヒドロキシルアミンのようなＯ,Ｎ,Ｎ-三置換ヒドロキシルア ミン。 （ａ１４）Ｎ,Ｎ'-ジメチル-Ｎ,Ｎ'-ジアセチル-スルフリルアミド及びＮ,Ｎ'- ジエチル-Ｎ,Ｎ'-ジプロピオニル-スルフリルアミドのようなＮ,Ｎ'-ジアシル- スルフリルアミド。 （ａ１５）p-(アセチルアミノ)フェニルスルホニルクロライドのようなスルホニ
ルハライド。 （ａ１６）ジイソシアネート-s-トリアジン又はハロトリアジンのようなアジン 。 （ａ１７）Ｎ-スルホニルアゾール。 （ａ１８）Ｎ-アセチルカプロラクタム、Ｎ-アセチルジグリコールイミド、Ｎ- アセチルスクシンイミド及びＮ-アセチルフタルイミドのようなＮ-アシルカルボ
ン酸イミド。 （ａ１９）α-アセトキシ-α-メチル-Ｎ,Ｎ'-ジアセトキシマロンアミド又はＯ-
アセチル-Ｎ,Ｎ'-ジアセチルエタノールアミンのようなＯ-アシル、Ｎ-アシル化
合物の混合物。 （ａ２０）ナトリウムノナノイルオキシベンゼンスルホネート、ナトリウムベン
ゾイルベンゼンスルホネート又はナトリウムイソノナノイルベンゼンスルホネー
トのようなカルボン酸のベンゼンスルホン酸エステルの塩。

【００５９】 好ましい活性化剤は、ＴＡＥＤ、ＳＮＯＢＳ、ナトリウムイソノナノイルベン
ゼンスルホネート、ＴＡＧＵ及び糖エステルを含む。ペルカルボネートの活性化
剤に対する質量比は、１：１〜１０：１が多い。

【００６０】 洗浄／漂白組成物用の他のタイプの活性化剤は、特定の遷移金属の塩及び／又
は錯体、例えば特定のマンガン、コバルト、及びチタニウム錯体を含み、時には
、欧州特許出願-A-0,272,030に記載されているようなカルシウム促進剤と組み合
わせて使用される。通常使用される蛍光増白剤は、スチルベン誘導体を含む。一
般的な退色防止剤は、カルボキシメチルセルロース及びポリビニルピロリドンを
含む。

【００６１】 洗浄及び／又は漂白組成物は、手による又はトップローディング若しくはフロ
ントローディングを用いた洗濯機を使用し、洗濯に対する液体の長短の割合を使
用した家庭での洗濯のような洗浄又は漂白処理に使用できる。このような洗濯機
は、それぞれペルソルト又はペルソルトプラス活性化剤含有組成物に対して一般
的に記載された、低温浸漬温度、例えば約１０℃〜３０℃、３０℃から６０℃に
おける低温処理（好ましくは両方とも漂白活性化剤と共に）又は例えば約６０℃
から煮沸洗濯までの高温処理を含む操作条件に従って操作できる。洗剤組成物は
、容器上の使用説明に従って、手洗いでは洗濯液に直接入れ、又は洗濯機では水
を入れる前に洗濯機に入れ、或いは洗浄水が接触する供給トレイによって、又は
洗濯機内に設けられた供給ボール若しくは袋から供給される。

【００６２】 洗浄水溶液中の本発明の被膜されたペルカルボネートの優れた安定性、及びそ
の優れたパック安定性のため、特に試験された最良の組合せの本発明の被膜ペル
カルボネートは、漂白可能な汚れの優れた汚れ除去に有効なばかりか、洗剤が配
給され、最終ユーザーに購入されてユーザーによって貯蔵される長期間の間、そ
のような性能が相当な範囲で保持され得る。

【００６３】 本発明のペルカルボネートを含有する組成物の他の変形においては、組成物は
皿洗い用に使用できる。このような皿洗い組成物は、質量で以下の成分を含むこ
とが多い。 ペルカルボネート ２〜３０％、特に５〜２０％ 界面活性剤 0.5〜３０％、特に１〜２５％ ビルダー １〜８０％、特に１０〜６０％ 添加剤 １〜５０％（合計で）、特に５〜３０％

【００６４】 皿洗い組成物では、界面活性剤は、量において及び低起泡性の界面活性剤が優
先されること及び／又は十分な泡抑制剤を加えて皿洗い洗剤内で最小限の起泡度
に調節すること以外は、洗濯用の配合について考慮された界面活性剤の範囲から
選択されることが多い。

【００６５】 皿洗い組成物においては、ビルダーは、通常、洗濯洗剤について簡単に記載し
たようなポリカルボキシレート、ホスフェート、シリケート、カルボネート及び
ホスホネートのような水溶性ビルダーから選択される。ポリカルボキシレートは
特に好ましいビルダーである。それらは非環式、脂環式芳香族又は複素環カルボ
ン酸を含むことができる。有用なポリカルボキシレートは、モノマー又はオリゴ
マーを含み、とりわけ、ジカルボン酸、トリカルボン酸及びテトラカルボン酸を
含むことができる。また、それらはヒドロキシ−置換されていてもよい。好適な
ポリカルボキシレートは、脂肪族Ｃ４〜Ｃ６α−ωジカルボキシレート、任意に
不飽和のクエン酸塩、シトラコン酸塩、カルボキシメチルオキシコハク酸塩、オ
キシポリカルボキシレート、エタン若しくはプロパンテトラカルボキシレート及
びメリテート又はピロメリテートを含み得る。他の好適なポリカルボキシレート
は、シクロペンタジエン又はテトラヒドロフランのテトラカルボキシレート誘導
体、ヘキサンのポリカルボキシレート誘導体及びカルボキシメチル誘導体多価ア
ルコール、例えばマンニトール、キシリトール又はソルビトールを含む。

【００６６】 ビルダーは、少ない比率(0.1〜２％)のポリホスホネートのような錯化ビルダ ー、例えばヒドロキシエタンジホスホネート又はエチレンジアミンテトラメチレ
ンホスホネート若しくはシクロヘキサン-１,２-テトラメチレンホスホネート若 しくはジエチレントリアミンペンタメチレンホスホネート、それ自体又は酸の形
態のようなアミン若しくはポリアミンのポリメチレンホスホネート誘導体を含む
ことが望ましい。

【００６７】 添加剤の中で、上記ａ１)〜ａ２０）のような漂白活性化剤を、洗濯組成物に ついて上述した組成物におけるペルカルボネートに対する比率及び質量比で使用
することが好ましい。腐食防止剤を約５％までの量で、好ましくは、存在しかつ
ある程度腐食を防止できる種々のホスフェートビルダーに加えて使用すると実用
的に有益である。このような付加的な腐食防止剤は、ラウリルメルカプタン、チ
オフェノール、チオナフトール、チオアントラノール及びチオナリドを含むベン
ゾトリアゾール及びその誘導体、芳香族メルカプタン及びジオールを含む。他の
タイプの腐食防止剤は、脂肪族カルボン酸及びそれらのヒドロキシ置換対応物そ
れ自体又は水溶性塩として、ヒドロキシ芳香族性酸化防止剤及びパラフィンオイ
ルを含み、好ましくは約３５０〜６００の分子量である。

【００６８】 存在できる他の添加剤は、好ましくは0.1〜３０％、特に１〜２５％の量の酸 性化剤を含む。酸性化剤は、便利なことに、溶液に導入されて上述のカルボキシ
レートビルダーのカルボン酸変形物である場合は、ビルダーとして作用できるこ
とが多い。他の好適な酸性化剤は、乳酸のような水溶性モノカルボン酸を含む。
酸性化剤が被膜されて有意量の漂白活性化剤がペルカルボネートと反応してより
活性な過酸種が生じるまで、酸性化剤の遊離を遅らせることが好ましい。好適な
被膜は、ハイドロカーボンワックス、水和植物油、脂肪酸、アミド誘導体又はグ
リセリドから選択されるあまり水に溶けない化合物の約３〜１０質量％であるこ
とが多い。４０〜５０℃あたりの軟化点を有する被膜は有益であることが多い。

【００６９】 本発明の被膜ペルカルボネートを含有する皿洗い洗剤組成物は、粉末の従来の
顆粒化、好ましくはペルカルボネートの顆粒を残りの洗剤成分の完成された顆粒
に添加する粉末の顆粒化によって、又は好ましくは典型的なタブレット潤滑剤の
存在下型中で従来の方法による成分の圧縮化によって得られる顆粒状又はタブレ
ット状の形態で通常提供される。

【００７０】 自動皿洗い機での洗浄工程は、よく４０〜７０℃の温度で行われる。

【００７１】 本発明の特定の実施態様については、より詳細に単に実施例として後述する。

【００７２】 実施例及び対照において、特に明示しない限り、被膜ナトリウムペルカルボネ
ートは、以下の一般的な方法で得、以下の試験手順によって示される試験を行っ
た。

【００７３】 （被膜工程Ｐ１） 定義された被膜剤成分の溶液は、その(或いはそれぞれの)成分の特定質量を特
定質量の脱塩水中で撹拌し、必要に応じ、浮遊物質のないきれいな溶液が熟練者
に目視されるまで約４０℃に加熱して調製した。特定原料の粒状ナトリウムペル
カルボネートは、通常１kgを実験室の室温でLodige M5R^TMミキサーに入れ、十分
な溶液をゆっくり撹拌された粒子上に注いで特定質量の被膜剤を添加した。撹拌
はさらに２〜３分間続けて溶液を実質的に一様に粒子の床全体に移動させた。生
成した湿った粒子を実験室スケール(Aeromatic^TMSTREA1)の流動床ドライヤーに 移して、それらを流動させ、入口温度約７０℃〜８５℃で床温度を約３０分間６
５〜７５℃に保持した熱乾燥空気の上昇気流で乾燥した。その後、粒子を冷たい
冷気の上昇気流で簡単に冷却して約４０℃の床温度にし、利用可能な一連の試験
を行い、被膜生成物の特性を測定した。

【００７４】 （原料のペルカルボネート粒子） Ｆ１ クロライド塩析剤の存在下水溶液からペルカルボネートを析出させる連続
的湿式法により、７６４μmの平均粒径、13.2％のＡｖｏｘ及び1.00の嵩密度を 有する原料を得た。 Ｆ２ クロライド塩析剤の存在下水溶液からペルカルボネートを析出させる連続
的湿式法により、５１６μmの平均粒径、13.65％のＡｖｏｘを有する第２の原料
を得た。 Ｆ３ クロライド塩析剤の存在下水溶液からペルカルボネートを析出させる連続
的湿式法により、４８９μmの平均粒径、13.8％のＡｖｏｘ及び1.01の嵩密度を 有する第３の原料を得た。 Ｆ４ クロライド塩析剤の存在下水溶液からペルカルボネートを析出させる連続
的湿式法により、４６５μmの平均粒径、14.2％のＡｖｏｘ及び0.99の嵩密度を 有する第４の原料を得た。 Ｆ５ クロライド塩析剤の存在しない水溶液からペルカルボネートを析出させる
連続的湿式法により、14.7％のＡｖｏｘ、７６５μmの平均粒径及び0.97の嵩密 度を有する第５の原料を得た。 Ｆ６ クロライド塩析剤の存在しない水溶液からペルカルボネートを析出させる
連続的湿式法により、14.8％のＡｖｏｘ、７５１μmの平均粒径及び1.04の嵩密 度を有する第６の原料を得た。

【００７５】 （粒径の測定） 粒度分布は、１４００〜７５μmの範囲の孔を有する９つのふるい１セットに よって材料をふるいにかけることで得た。各ふるい上に保持された質量から質量
比を決定し、その分布から平均粒径を計算した。

【００７６】 （嵩密度） 生成物のフリーフロー嵩密度は、試料を深さ６０mm、トップの直径５３mm及び
底の直径２１mm、加工面上２０cmの高さに底がある円錐体に入れ、重力によりそ
の加工面上の収集容器中に流動させて測定した。その容器の内容物を、ブレード
を水平に通過させて慎重に平らにして秤量した。密度は容器の既知の体積と比較
して決定した。

【００７７】 （溶解度） ここで、表に掲げた生成物の溶解度は、本明細書に記載されている国際標準Ｉ
ＳＯ３１２３−１９７６から採用した方法に従い、粒状生成物(２ｇ)を１５℃に
保持された脱塩水(1000g)と混合し、水相の電気伝導率をモニターすることによ って決定した。ペルカルボネートが溶解すると伝導率が増加し、最大変化の９０
％に達するのにかかる時間を記録してその生成物がどのように速く或いは遅く溶
解するかを調べた。これは、本明細書でクレームされる生成物の溶解度を判断す
る試験である。

【００７８】 （吸湿量）（３２／８０） １cm深さのリムを有する９cm径のシャーレを４桁小数点のプレイス天秤で正確
に秤量した（Ｗ１）。乾燥ナトリウムペルカルボネート(約２０ｇ)の試料をシャ
ーレに入れて穏やかに撹拌してシャーレの底全体に一様な粒子層を生成し、同じ
天秤で再秤量した（Ｗ２）。シャーレ上の試料を高さ幅及び長さが約３mの室内 で、２４時間、サーモスタット制御ヒーターで３２℃に維持された環境で、湿度
検出器の制御下微小滴水スプレーを導入することによって相対湿度（ＲＨ）を８
０％に維持して貯蔵し、同一の天秤で秤量した（Ｗ３）。遮蔽物で試料をスプレ
ーから保護した。

【００７９】 ナトリウムペルカルボネートの吸湿量は下式で計算する。

【数１】

【００８０】 吸湿量の程度は、生成物の隣接環境から水分を抽出する可能性の指標であり、
湿潤状態、例えば有意な割合の水分を吸収し放出することのできる分子ふるいの
ような物質を含有する洗剤又は漂白剤／添加剤組成物に生じ得る状態にさらされ
た場合の生成物の安定性の指標である。

【００８１】 表中、これはＭＰＵによって表されている。

【００８２】 （熱放射） これは、ペルカルボネートの試料を、マイクロカロリメーター、モデルＬＫＢ
2277（熱活性検出器ともいわれ、SwedenのThermometric Limitedによって市販さ
れている）に移し、温度を４０℃に保持して測定した。標準的な１６時間の間、
試料からの熱を測定した。表中、この測定は、ＬＫＢ４０によって表されている
。これは、本明細書でクレームされる生成物の熱放射を判断する試験である。

【００８３】 低い読取りは、本来安定な生成物、すなわち洗剤組成物又は如何なる他の希釈
剤にも接触させる前の生成物を示す。

【００８４】 （有効酸素−Ａｖｏｘ） ここで、Ａｖｏｘは、秤量した試料(約0.2ｇ)を約１００mlの１０％w/w硫酸に
溶解し、その溶液を標準過マンガン酸カリウム溶液で滴定して測定した。

【００８５】 （貯蔵安定性） 生成物の貯蔵安定性は、２つの一般的な方法で試験した。

【００８６】 高速法では、５０質量部のペルカルボネートを５０質量部の洗剤成分、具体的
には洗剤ビルダー、Aldrich Chemicalsから入手したゼオライト４Ａ粉末とブレ ンドし、均一に分布させて有効酸素（Ａｖｏｘ）を測定した。３２℃／相対湿度
８０％の一定環境のチャンバーに設置された開放ビーカー内でブレンドを貯蔵し
、特定期間貯蔵後、試料を取り出して残存する有効酸素を分析した。貯蔵前後の
Ａｖｏｘを比較して、生成物の安定性が実証される。

【００８７】 ペルカルボネートの安定性を決定するこの方法は、表中“Ａｖｏｘ回収率高速
”として言及されている。

【００８８】 第２の方法は、通常数週間にわたって行われ、１５質量部のペルカルボネート
を、以下に示した洗剤組成物の１つの８５質量部とブレンドし、５０ｇの試料を
、透湿度が65.31ｇｍ^-2日^-1の小さい密封ポリエチレンコート厚紙カートン(Howa
rth Packaging)に入れ、３２℃／相対湿度８０％で測定した。カートンを３２℃
／相対湿度８０％の一定環境のチャンバー内に貯蔵し、貯蔵後のＡｖｏｘ含量を
測定して貯蔵前と比較した。

【００８９】 被膜ペルカルボネート(本発明の組成物を得るための)とブレンドされるペルカ
ルボネートのない基準組成物は、以下の通りである。

【００９０】

【００９１】 ペルカルボネートを洗剤Ａと混ぜて小さいポリエチレンコートカートン中に貯
蔵するというペルカルボネートについての長期試験は、クレームされた生成物の
安定性を判断する試験である。

【００９２】 （基準洗剤Ｂ） ゼオライト４Ａビルダーを含有する市販の入手可能な洗濯洗剤組成物の漂白剤
のない洗剤ベース

【００９３】 （基準洗剤Ｃ） ゼオライト４Ａビルダーを含有する市販の入手可能な第２の洗濯洗剤組成物の
漂白剤のない洗剤ベース

【００９４】 ここで、基準洗剤の１つと混合して貯蔵している間のペルカルボネートの安定
性を決定する方法は、表中、ケースにより、“Ａｖｏｘ回収率洗剤Ａ、Ｂ又はＣ
”として言及されている。安定性は、特に明記しない限り、６週間の貯蔵後に残
存するＡｖｏｘの比率に置き換えて示されている。

【００９５】 （実施例１及び２） これらの実施例では、水(7009)中にスクロース(3009)の溶液を調製し、工程Ｐ
１で使用して、原料Ｆ５上にそれぞれ1.8質量％及び3.0質量％の被膜を得た。

【００９６】

【表１】

【００９７】 表１から、得られた各生成物は、優れたＡｖｏｘ及び溶解度を有することがわ
かる。この試験条件下の熱放射は、被膜された生成物は熱放射が増加するにもか
かわらず、典型的な被膜されていない従来のクロライド−塩析“湿式経路”のペ
ルカルボネートで観測されるであろう範囲内の絶対値を示し、塩のない原料と本
発明の被膜工程の組合せは、有効な組合せであることを表している。

【００９８】 （実施例３、４及び対照Ｃ５〜Ｃ１４） これらの実施例及び対照では、工程Ｐ１で、表２にまとめられている被膜溶液
を原料Ｆ１の１kgに対して103.1ｇを用いて、３質量％被膜剤の全被膜を得た。 被膜溶液は、スクロース又は対照材料にナトリウムスルフェート及びクロライド
が添加されている。

【００９９】

【表２】

【０１００】 生じた被膜生成物はフリーフロー粉末であることがわかり、その生成物の洗剤
ベースの存在下での安定性を、基準洗剤Ｃを用いて標準法で比較した。結果を表
３にまとめた。

【０１０１】

【表３】

【０１０２】 表３から、スクロース含有混合物で被膜された生成物は、同量のグルコース、
ラクトース、アスコルビン酸塩、マンニトール又はソルビトール含有の関連生成
物よりも顕著に安定であり、１〜２％w/wの範囲の少量でさえペルカルボネート を被膜するスクロースの傑出した性質を表していることがわかる。

【０１０３】 （実施例１５〜２８） これらの実施例では、多くの他のペルカルボネート生成物を得、スクロースと
１以上の共被膜剤を組み合わせて使用し、特定原料を被膜して、下表４に示され
る全被膜量を得た。ＮａＧはグルコン酸ナトリウム；ＮａＴは酒石酸ナトリウム
；ＮａＣはクエン酸三ナトリウムを表す。

【０１０４】

【表４】

【０１０５】 生じた生成物はすべて0.90〜1.04g/cm³の範囲の嵩密度を有することがわかっ た。生成物の他の物性を下表５にまとめた。

【０１０６】

【表５】

【０１０７】 比較のため、原料Ｆ２〜Ｆ４を製造すると同様の方法で得た被膜されていない
ペルカルボネート原料は、本明細書における長期貯蔵安定性試験で、洗剤組成物
Ａと混合して６週間、すなわち３２℃で８０％の相対湿度の小箱内で貯蔵後の、
Ａｖｏｘが平均して約２５を保持していた。

【０１０８】 表５から、スクロースと、共被膜剤として選択した無機塩及びカルボン酸塩の
混合物で被膜された生成物は、かなり改良された溶解度を示し、また、放射熱は
ナトリウム塩の存在でより低く、マグネシウム又はカルシウム塩の存在でより高
くなる傾向があることがわかる。被膜生成物は、少なくともいくつかの実施例で
ほとんど或いは全くＡｖｏｘを失わずに生成された。本発明の被膜生成物は、被
膜されない原料ペルカルボネートよりもかなり安定であった。

【０１０９】 （実施例２９〜３７） これらの実施例では、ナトリウムペルカルボネートは、表６にまとめられ、そ
の特性が表７に示されているスクロースと共被膜剤との種々の組合せによって被
膜される。次の表中、ＮａＣＭＣはカルボキシメチルセルロースのナトリウム塩
を表し、シリケートは、Ｎａ₂Ｏ：ＳｉＯ₂のモル比が１：２であるナトリウムシ
リケートを表し、ＭｇＣはＭｇＣｌ₂.２Ｈ₂Ｏを表す。実施例３５及び３７では 、被膜溶液の処理間に中間乾燥をして２層に被膜を施した。

【０１１０】

【表６】

【０１１１】

【表７】

【０１１２】 表７にまとめられた結果から、選択された原料で作った本発明の被膜の多くが
、被膜後の非常に高いＡｖｏｘ保持性、速い溶解性、低い放射熱、及び低レベル
の被膜剤によってでさえも安定性が改良されることを含む特性の有益な組合せを
実証したことがわかる。

【０１１３】 （実施例３８〜５１） これらの実施例では、さらにスクロースと共被膜剤との組合せを調製し、それ
らの特性をそれぞれ表８及び９にまとめた。表中、ＮａＰはナトリウムトリポリ
ホスフェートを表す。＊は４週間貯蔵後の結果を示すことを表す。

【０１１４】

【表８】

【０１１５】

【表９】

【０１１６】 表９にまとめられた結果から、原料として従来の塩析ペルカルボネートを用い
ても、やはり速い溶解性、許容される放射熱及び改良された安定性を有する被膜
生成物を得ることが可能なことがわかる。

【０１１７】 （実施例５２〜５５及び対照Ｃ５６〜Ｃ５９） これらの実施例及び対照では、本発明の被膜剤の組合せで被膜された生成物を
公知の被膜材料と比較する。被膜条件及びその結果をそれぞれ表１０及び１１に
まとめた。Ｃ５９の結果は、ペルカルボネート原料Ｆ６のみについてである。

【０１１８】

【表１０】

【０１１９】

【表１１】

【０１２０】 表１１から、本発明の生成物が、特に、攻撃的な、すなわちナトリウムペルカ
ルボネートの分解を比較的速める洗剤組成物の存在下で、これまでに１以上のす
ぐれた特性を示すと認識されていた被膜生成物よりも顕著に優れた安定性を示す
ことが実証された。安定性の実証は、低レベルの被膜剤で、許容できないレベル
まで吸湿率及び熱放射率を高めることなく、その生成物を被膜されない原料と実
質的に同様の速さで溶解しうることが達成されるという点で注目すべきである。
また、いくつかの対照被膜ペルカルボネートがより低い吸湿量を示し、その他の
点では分解を促進すると予想されたであろう事実にもかかわらず、本発明の被膜
ペルカルボネートにおける貯蔵安定性の改良が達成されることも認められる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ) ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ， ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，Ｄ Ｋ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ， ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，Ｌ Ｖ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ， ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，Ｕ Ｓ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＷ (72)発明者 ベイカー ダニエル アール イギリス チェシャー ダブリューエイ４ ２ヴィージー ウォーリントン ストッ クトン ヒース ウォーバートン ストリ ート 28 Ｆターム(参考） 4H003 AB03 AB19 AC08 BA09 DA01 DA17 EA12 EA15 EA16 EA28 EB16 EB22 EB32 EB41 EB42 EC02 ED02 EE05 FA32 FA44

Claims (27)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 有効量の被膜材料で被膜することによって、粒状アルカリ金
   属ペルカルボネートを安定化する方法であって、前記被膜材料が、被膜された材
   料を基準として５質量％以下の非還元性オリゴマーサッカライドを含有すること
   を特徴とする粒状アルカリ金属ペルカルボネートの安定化法。
2. 【請求項２】 有効量の被膜材料で被膜することによって、安定性が改良さ
   れた粒状アルカリ金属ペルカルボネートであって、前記被膜材料が、被膜された
   材料を基準として５質量％以下の非還元性オリゴマーサッカライドを含有するこ
   とを特徴とする粒状アルカリ金属ペルカルボネート。
3. 【請求項３】 前記アルカリ金属ペルカルボネートが、ナトリウムペルカル
   ボネートであることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法又は生成物。
4. 【請求項４】 前記非還元性オリゴマーサッカライドがスクロースであるこ
   とを特徴とする、先行する請求項のいずれか１項に記載の方法又は生成物。
5. 【請求項５】 前記被膜材料が共被膜剤を含有することを特徴とする、先行
   する請求項のいずれか１項に記載の方法又は生成物。
6. 【請求項６】 前記共被膜剤が無機塩を含むことを特徴とする請求項５に記
   載の方法又は生成物。
7. 【請求項７】 前記無機塩の共被膜剤が、アルカリ又はアルカリ土類金属の
   カルボネート、セスキカルボネート、シリケート、クロライド、スルフェート又
   はホスフェートであることを特徴とする請求項６に記載の方法又は生成物。
8. 【請求項８】 前記共被膜剤が、スクロースと、シリケート又はスルフェー
   ト又はカルボネート／クロライドとを含有することを特徴とする請求項７に記載
   の方法又は生成物。
9. 【請求項９】 前記被膜が、0.5〜2.5質量％、好ましくは１〜２質量％のス
   クロースと、少なくとも0.5％、好ましくは１〜６質量％の無機共被膜剤とを含 有することを特徴とする、先行する請求項のいずれか１項に記載の方法又は生成
   物。
10. 【請求項１０】 前記無機共被膜剤が、アルカリ又はアルカリ土類金属のカ
    ルボネート、セスキカルボネート、シリケート、クロライド、スルフェート及び
    ホスフェートから選択されることを特徴とする、先行する請求項のいずれか１項
    に記載の方法又は生成物。
11. 【請求項１１】 前記無機共被膜剤が、アルカリ金属のシリケート、カルボ
    ネート及びスルフェートから選択されることを特徴とする、先行する請求項のい
    ずれか１項に記載の方法又は生成物。
12. 【請求項１２】 前記被膜剤が、被膜されたアルカリ金属ペルカルボネート
    の質量を基準として、0.5〜２０質量％に相当する量で使用されることを特徴と する、先行する請求項のいずれか１項に記載の方法又は生成物。
13. 【請求項１３】 前記被膜が、前記被膜剤の水溶液を粒状ペルカルボネート
    に接触させて湿った粒子を生成し、その後に該湿った粒子を撹拌しながら脱水ガ
    スと接触させて乾燥することによって施されることを特徴とする、請求項１又は
    請求項３〜１２のいずれか１項に記載の方法。
14. 【請求項１４】 前記被膜剤の溶液に、浮遊した共被膜剤がないことを特徴
    とする請求項１３に記載の方法。
15. 【請求項１５】 前記湿ったペルカルボネート粒子が、前記脱水ガスの上昇
    気流によって撹拌されかつ流動されることを特徴とする請求項１３又は１４に記
    載の方法。
16. 【請求項１６】 前記湿った粒子が、床温度が３０〜９５℃、好ましくは６
    ０〜８０℃の範囲で流動及び乾燥されることを特徴とする請求項１３〜１５のい
    ずれか１項に記載の方法。
17. 【請求項１７】 前記ペルカルボネート粒子が、ミキサー内で前記被膜溶液
    と接触させられ、それから流動床内で乾燥されることを特徴とする請求項１４に
    記載の方法。
18. 【請求項１８】 前記ミキサー内の溶液の温度が１０〜６０℃で、前記流動
    床の温度が５０〜９０℃、好ましくは６０〜８０℃であることを特徴とする請求
    項１７に記載の方法。
19. 【請求項１９】 請求項１又は請求項３〜１８のいずれか１項に記載の方法
    で得られる被膜されたアルカリ金属ペルカルボネート粒子。
20. 【請求項２０】 本明細書に記載された溶解度試験における９０％溶解度が
    、1.7分以内であり、かつ本明細書に記載された６週間貯蔵後の安定性試験にお いて、Ａｖｏｘの保持が少なくとも６４％、好ましくは少なくとも７０％である
    、被膜されたナトリウムペルカルボネート。
21. 【請求項２１】 非還元性オリゴマーサッカライド及び任意的な共被膜剤で
    ペルカルボネートを被膜することによって得られる、請求項２０に記載の被膜さ
    れたペルカルボネート。
22. 【請求項２２】 さらに、被膜が、被膜された生成物の２〜５質量％を示す
    ことを特徴とする請求項２０又は２１に記載の被膜されたペルカルボネート。
23. 【請求項２３】 前記ペルカルボネートの平均粒径が、６００〜８５０μm 、好ましくは少なくとも７００μmであることを特徴とする、請求項２０〜２２ のいずれか１項に記載の被膜されたペルカルボネート。
24. 【請求項２４】 本明細書に記載された熱放射試験において、４０℃におけ
    る熱放射が４μW/g以下、好ましくは1.5μW/g以下であることを特徴とする、請 求項２０〜２３のいずれか１項に記載の被膜されたペルカルボネート。
25. 【請求項２５】 少なくとも12.5％のＡｖｏｘ、好ましくは少なくとも１４
    ％のＡｖｏｘを含むことを特徴とする、請求項２０〜２４のいずれか１項に記載
    の被膜されたペルカルボネート。
26. 【請求項２６】 少なくとも１の洗浄剤と、請求項１又は３〜１２又は１８
    〜２５のいずれか１項に記載の被膜された粒状アルカリ金属ペルカルボネートと
    を含有する洗浄又は漂白組成物。
27. 【請求項２７】 いずれの新規な特徴又は特徴のいずれの新規な組合せにつ
    いても実質的に本明細書に記載されたような、アルカリ金属ペルカルボネートの
    安定化法、安定化されたアルカリ金属ペルカルボネート、及び安定化されたアル
    カリ金属ペルカルボネートを含有する洗浄又は漂白組成物。