JP2001509214A - 蒸気蒸着構成要素及び対応する方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 織られた表面を有していて集められたスパッタされた金属を係止し、補足し、及び／又は、固着させるスパッタリングシールド１０及びリテイニングリング４のごとき蒸気蒸着室構成要素において、織られた表面は、複数個の突起、凹所、チャンネルあるいは溝、仕切体、あるいは、それらの組み合わせあるいは等化物のごとき特徴を備えた表面として定義されている。本発明の一実施例においては、スパッタリングシールド１０は織られた表面を有しており、該織られた表面は、内面１１に取り付けられた境界側壁１６を備えている複数個の上方に向けられた突起１５のごとき特徴を含んでいる。突起１５の境界側壁１６はスパッタリングシールド１０の内方側部１１に直角をなしていないが、好ましくは、内方側部１１に対して鋭角を形成しており、かくて、突起１５にアンダーカット１７を形成している。該アンダーカット１７はスパッタリングシールド１０の内方側部１１へのスパッタされた材料の保持を助けている。好ましくは、表面の特徴の全ては、少なくとも３つの頂点を備えた形状のごとき、いずれかの形状を有していてもよい。本発明の第２の実施例においては、マイクロ汚染物質を生成することができるはねかけられた金属も集める保持リング４は、上述したように織られた表面の特徴を有している。しかし、本発明は、いずれかの特定の蒸気蒸着室構成要素とともに、あるいは、いずれかの特定の蒸気蒸着室システム内で使用されるようには限定されていず、また、本発明は、いずれかの適宜の蒸気蒸着室構成要素とともに、あるいは、いずれかの適宜の蒸気蒸着室システム内で用いられてもよい。

Description

【発明の詳細な説明】 蒸気蒸着構成要素及び対応する方法 発明の分野 本発明は、概ね、蒸気蒸着室に用いられる構成要素に係り、より具体的には、 しゃ蔽及び保持器リングからはねかけられた材料の層割れ、即ち、剥離により作 られるかなりの量の汚染物質を大きく低減させる特徴を備えた該しゃ蔽及び保持 器リングに関する。 発明の背景 多くの異なる工業界において製造プロセスのためのクリーンな環境を有する必 要があることはよく知られている。クリーンな環境は、製造プロセスが、多くの 場合、マイクロ汚染物質と同じ程度の厚さを有している薄いフィルム材料の塗布 を伴う場合、特に重要である。これらの場合、マイクロ汚染物質は薄いフィルム 材料の特性に影響を及ぼす。それ故、マイクロ汚染物質が存在するということは これらのプロセスにおいて重大な問題である。 薄いフィルムを蒸着させるための一つの方法は、排出された室内に基板即ちウ ェーハを置き、且つ、目標とされる材料に気体イオンを衝撃させることである。 ガス状イオンは基板即ちウェーハの方向に目標とされる材料から原子を除去する 。次いで、はねかけられた材料は基板あるいは周囲にくっつく。この方法は、物 理的蒸気蒸着（ＰＶＤ）の一形態であるスパッタリングとして知られている。金 属が基板即ちウェーハ上にはねかけられる際、はねかけられた金属のあるものは 室の壁上に集まる。多くの室の壁は平坦で連続しているから、集められたはねか けられた金属の応力は、この応力が臨界点に達するまで、全面を横切って急速に 形成される。次いで、はねかけられた金属はくっつけられたものから表面に曲が ることにより応力を解除し、かくて、はねかけられた金属の小片を蒸気蒸着室に 解放させる。次いで、これらのマイクロ汚染物質はスパッタコーティングされて いる基板即ちウェーハに達し、そして、このマイクロ汚染物質は薄いフィルムの 特性に重大に影響を及ぼすことができる。 かなりの量のはねかけられた材料が蒸気蒸着室の壁に到達するのを低減させる ために、スパッタリングシールドが基板即ちウェーハのまわりに置かれている。 更に、保持リングは、蒸気蒸着室内の所定の場所にウェーハを保持するのにしば しば用いられている。シールドあるいは保持リング上に集められているはねかけ られた金属も結局は曲がり、あるいは、層割れするので、これらの構成要素のみ がマイクロ汚染物質の問題を軽減させ、もって、室及び／又はウェーハを汚染し ている。それ故、蒸気蒸着室内でのマイクロ汚染物質の形成を妨げ、あるいは、 阻止する改良された蒸気蒸着室構成要素に対する必要性が存在する。 はねかけられた材料のこの剥離あるいは曲がりを低減させ、あるいは、除去す る蒸気蒸着室構成要素を作る多くの試みがなされてきた。マイクロ汚染物質を低 減させる１つの方法は、該蒸気蒸着構成要素上にランダムでミクロ的に粗い表面 を作ることである。このような構成要素の１つの例はタリエその他（Talieh eia l）（以下、「タリエ」と言う）による米国特許第５，２０２，００８号に開示 されているスパッタリングシールドであり、その特許においては、このスパッタ リングシールドがビードブラストされかつスパッタエッチングされてきれいにさ れてはねかけられた材料がくっつくためのミクロ的に粗い表面を作り出している 。このミクロ的に粗い表面は、中間面空所の形成を最小化する核形成箇所の増大 を可能にし、もって、かなりの量のマイクロ汚染物質を低減させることができる 。スパッタリングシールドの別の例はミンツ（Mintz）（以下、「ミンツ」と言 う。）による米国特許第５，３９１，２７５号に開示されており、その米国特許 では、スパッタリングシールド及び締結リングはビードブラストされ、超音波で 洗浄され、そして、１）スパッタエッチされて洗浄され、２）プラズマで反応的 に洗浄され、あるいは、３）プラズマで非反応的に洗浄されて、のいずれかであ る。タリエ特許に教示されているごとく、これらのプロセスは同じ粗い表面を作 り出している。スパッタリングシールドの表面に微結晶アルミナ（酸化アルミニ ウム、Ａｌ₂Ｏ₃）の層を取り付けることにより、マイクロ汚染物質を減少させる ことが助けられることすらよく知られている。これらの構成要素の表面をマイク ロ的に荒くすることにより、蒸気蒸着室内でのマイクロ汚染物質の量が低減され るが、しかし、これらのマイクロ汚染物質の量を更に低減させる必要性は、尚、 存在している。 マイクロ汚染物質を低減させる別の方法は、はねかけられた材料を蒸気蒸着構 成要素の表面上に貼り、あるいは、コートすることである。このような方法の例 はアラノビヒ（Aranovich）（以下、「アラノビヒ」と言う。）による米国特許 第５，３８２，３３９号に開示されている。アラノビヒは、先に蒸着された材料 の頂部にアルミニウムあるいはチタンのごとき材料をスパッタリングすることに より、該先に蒸着された該表面上に材料を貼ることを教示している。この糊付け により、表面に対する潜在的なエクスフォリアント（exfoliant）が保持され、 曲がるのが阻止される。しかし、ラッカー塗りと等化であるこの糊付けは、同様 に曲がることもできる潜在的なエクスフォリアントの頂部に別の材料層を単に加 えているに過ぎない。更に、糊付けし、あるいは、コーティングを施すこの方法 はプロセスの複雑さを増し、また、有用だけれども、問題に対する最終的の解決 策ではない。 これらの方法及び装置は、薄いフィルムの蒸着に必要なクリーンな環境におけ る迷微粒子の問題を低減させるよう作用するが、剥離汚染の問題を低減させ、あ るいは、除去さえもする蒸気蒸着室構成要素に対する更なる必要性が残っている 。 発明の要約 前述した問題を解決するために、かつ、ここに実施化され且つ広く記載されて いるような、本発明の目的に従った前述の、且つ、他の目的、利益、及び、利点 を達成するために、本発明の簡単な要約が述べられる。 従って、本発明の目的並びに利点は、表面の複数部分を選択的にエッチングし 、もって、織られた表面を作り出す工程を含む蒸気蒸着室構成要素表面を作る方 法を提供することである。 本発明の態様及び利点は、表面の複数部分を選択的にエッチングする工程が、 該表面上にパターンを写真平板的に形成する工程と、形成されたパターンを該平 面にエッチングする工程とを更に含んでいる蒸気蒸着室構成表面を作る方法を提 供することである。 本発明の別の目的並びに利点は、織られた表面を有するシールドあるいは保持 リングのごとき蒸気蒸着室構成要素を提供することである。 本発明の更なる態様並びに利点は、織られた表面が複数個の突起、凹所、チャ ンネルあるいは溝、仕切体、あるいは、それらの組み合わせまたは等化物のごと き特徴を備えた表面として定義される蒸気蒸着室構成要素を提供することである 。 本発明の別の目的並びに利点は、織られた表面を備えた蒸気蒸着室構成要素を 用いる方法であって、はねかけられた材料を蒸気蒸着室構成要素上に積む工程と 、織られた表面を備えた該蒸気蒸着室構成要素上にはねかけられた材料を固着さ せる工程とを含む前記方法を提供することである。 本発明の目的は、蒸気蒸着室におけるマイクロ汚染物質の量を低減する該蒸気 蒸着室構成要素を提供することである。 本発明の更なる目的は、蒸着された材料を補足し、該補足された材料の剥離の 可能性を少なくする蒸気蒸着室構成要素を提供することである。 本発明の尚更なる目的は、構成要素の表面上の多くの突起、凹所、チャンネル あるいは溝、仕切体、あるいは、それらの組み合わせ、あるいは、等化物を利用 して蒸着された材料の補足を助ける蒸気蒸着室構成要素を提供することである。 本発明の更に尚一層の目的は、蒸気蒸着室のクリーンな環境のマイクロ汚染を 阻止するために、突起、凹所、チャンネルあるいは溝、仕切体、あるいは、それ の組み合わせ、あるいは、様々な鋭角を備えた等化物を有する蒸気蒸着室構成要 素を提供することである。 本発明の別の目的は、蒸気蒸着室内の蒸着された材料を補足するための多数の 突起、凹所、チャンネルあるいは溝、仕切体、あるいは、それらの組み合わせ、 あるいは、等化物を備えた該蒸気蒸着室構成要素を製造するための方法を提供す ることである。 本発明の尚一層の別の目的は、蒸気蒸着室内のかなりの量のマイクロ汚染物質 を低減させる織られた表面で、スパッタリングシールド及び保持リングのごとき 蒸気蒸着室構成要素の複数部分を選択的にエッチングするための方法を提供する ことである。 本発明の尚一層の別の目的は、蒸気蒸着室構成要素上に多数の突起を作り出す ために、酸性エッチング石版印刷のごとき方法を提供することで、前記突起は蒸 気蒸着室構成要素の表面上に蒸着された材料の層を貼るために用いられている。 図面の簡単な説明 本発明の特性と考えられる新規な特徴は添付請求項に詳細に記載されている。 しかし、付加的な目的及び利点とともに構造及びそれの作動の双方に関して本発 明それ自体は、添付図面に関連して読まれる際、本発明の好適実施例の以下の記 載から最もよく理解されよう。その添付図面において、 図１は、蒸気蒸着室の断面側面図であり； 図２は、本発明によるスパッタリングシールドの実施例の１／４裁断斜視図で あり； 図３は、本発明による織られた表面を特徴とするパターンの形状を示す図２の 区域Ａの拡大図であり； 図４は、本発明による境界側壁の形状を図示している図２の区域Ｂの部分断面 側面図であり； 図５は、本発明によるスパッタリングシールド及びリテイニングリングを備え た蒸気蒸着室の一実施例の分解図であり； 図６は、ウェーハを所定の場所に保持しているリテイニングリングの部分断面 図であり； 図７は、本発明の別の実施例の１／４裁断側面図であり； 図８は、６個の尖った星形外形を備えている本発明による突起あるいは凹所の 頂面図であり； 図９は、三角形の外形を備えている本発明による突起あるいは凹所の頂面図で あり； 図１０は、本発明の尚別の実施例の１／４裁断側面図であり； 図１１は、別のスパッタリングシールドの実施例の斜視図であり； 図１２は、図１１の線１２−１２による図１１のスパッタリングシールドの部 分断面図であり； 図１３ないし図２１は、実施例が写真平版を利用して蒸気蒸着室構成要素上に 織られた表面を作り出している本発明によるエッチング方法の２つの実施例を描 写しており、 図１３は、蒸気蒸着室構成要素上の金属表面を示しており； 図１４は、図１３の金属表面上に塗布されたフォトレジストを示しており； 図１５は、フォトレジストを覆いかぶさって置かれたマスクを示しており、ま た、マスクのされていない複数部分は照射されており； 図１６は、フォトレジストの照射された複数部分が第１の溶媒で除去された状 態を示しており； 図１７は、スパッタリングシールドの露出された金属表面がエッチングで落と された状態を示しており； 図１８は、フォトレジストの残りの部分が第２の溶媒で除去された状態を示し ており； 図１９は、図１５のフォトレジストの照射されていない部分が最初に除去され た別の実施例を示しており； 図２０は、スパッタリングシールドの露出された金属表面がエッチングされた 状態を示しており； 図２１は、フォトレジストの残りの照射された部分が除去された状態を示して いる。 発明の詳細な説明 蒸気蒸着は、図１に示されているような排出スパッタリング室システム１で一 般に行われ、基板２はスパッタリング源１００からのはねかけられた原子により 衝撃を受ける。基板２、代表的には、ウェーハは台３上に置かれており、また、 保持リング４で所定の位置に保持されている。はねかけられた金属により余分な 汚染物から蒸気蒸着室壁５を保護しているスパッタリングシールド１０はウェー ハ２のまわりに置かれている。 しかし、本発明は、何らかの適宜のシステム内で目的を達成するのに、あるい は、表面上に薄いフィルムを蒸着させるための方法を実施するのに用いることが でき、また、本発明は、図面あるいは明細書に示されあるいは記載された蒸気蒸 着システムあるいは装置内で用いるようには、いかようにも、限定されるもので はない。 蒸気蒸着室構成要素 本発明の蒸気蒸着室構成要素は、これらに限定されるものではないが、スパッ タリングシールド１０と保持リング４とを含んでいる。図１及び図２に示されて いるごとく、本発明のスパッタリングシールド１０は２つの側部と、内方側部１ １と、外方側部１２とを有している。スパッタリングシールド１０の内方側部１ １は織られた表面を有していて集められたスパッタされた金属を係止し、補足し 、及び／又は固着させている。ここで、織られた表面あるいは輪郭の付された表 面は、複数個の突起、凹所、チャンネルあるいは溝、仕切体、あるいは、それら の組み合わせ、あるいは、等化物のごとき特徴を備えた表面を意味する。 本発明の第１の実施例においては、スパッタリングシールド１０は織られた表 面を有しており、該織られた表面は、内面１１に取り付けられた境界側壁１６を 備えた複数個の上方に向けられた突起１５のごとき特徴を含んでいる。図４を参 照されたい。好ましくは、突起１５はスパッタリングシールド１０の内方側部１ １上に一体をなして形成されている。それの代わりとして、突起１５は、溶接あ るいは何らかの他の取付のやり方により取り付けられていてもよい。 突起１５あるいは空所１４の境界側壁１６はスパッタリングシールド１０の内 方側部１１に直角をなしていないが、好ましくは、内方側部１１に対して鋭角を 形成しており、かくて、突起１５に、あるいは、凹所１４にアンダーカット１７ を形成している。該アンダーカット１７はスパッタリングシールド１０の内方側 部１１上へのスパッタされた材料の保持を助けている。好ましくは、本発明の織 られた表面の特徴の全てはアンダーカット１７を有している。織られた表面の特 徴のこれらの特性は図４に示されており、該図４は、特徴の２つのタイプの、即 ち、１つの突起１５と１つの凹所１４との部分断面図である。 織られた表面の特徴はいかなる形状のものであってもよく、その形状は、少な くとも３つの頂点を備えたもののごとき形状に限定されるものではないが、該形 状は５つの尖った星形であるのが好ましい。あるいは、図８の６個の尖った星形 外形１８及び図９の三角形の外形１９に見られるごとく、他の形状を利用しても よい。頂点は蒸気蒸着構成要素の表面に対するはねかけられた材料の保持をも助 ける角度の付された尖端あるいは縁部を提供する。しかし、本発明は、ここに述 べたこれらの形状に限定されるものではない。 織られた表面の特徴の集中度は本発明の性能を示すものである。この集中度が 測定される比は剛率である。剛率は、全織られた表面区域により分割された上昇 していない織られた表面区域の量として定義されており、言い換えれば、滑らか な表面は１の比を有しており、無限に織られた表面は０に近ずく。本発明は０． ５と０．９５との間の剛率で最も有効に作動する。 本発明の第２の実施例においては、マイクロ汚染物質を生成することができる はねかけられた金属をも集める保持リング４はこの明細書で先に述べたように織 られた表面の特徴を有している。スパッタリングシールド１０上のごとく、複数 個の突起１５（図６参照）のような織られた表面の特徴は、スパッタリング源１ ００に面している保持リング４の側部に取り付けられており、次いで、はねかけ られた金属は、織られた表面の特徴により静止され、捕足され、及び／又は、固 着されている。図５を参照されたい。 しかし、何らかの適宜の蒸気蒸着構成要素形態あるいは幾何学的形状を利用し て本発明の目的を実施してもよく、該本発明の目的は、上記図面に示されたもの に限定されるものではない。例えば、図７、図１０及び図１１は、本発明を実施 化する異なる織られたあるいは輸郭の付されたスパッタリング表面シールド形態 １０Ａ、１０Ｂ及び１０Ｃを示している。 更に、突起、凹所、チャンネルあるいは溝、仕切体、あるいは、それらの組み 合わせ、あるいは、等化物は何らかの高さあるいは深さのものにすることができ 、この高さあるいは幅は０．３８１mm（１５ミル）の好ましい高さあるいは深さ に限定されるものではない。加えて、ビードブラスト、コーティング、あるいは 、従来技術の方法あるいは装置のごとき他の技術を本発明に関連して用いて蒸気 蒸着室あるいはプロセスに関連した剥離あるいは汚染の問題を更に低減あるいは 除去することができる。 本発明を創造する方法 本発明は、蒸気蒸着室内にマイクロ汚染物質の形成を禁止し、あるいは、阻止 する蒸気蒸着構成要素表面を作るための新規な方法を提供する。 本発明による蒸気蒸着構成要素表面を作る１つの方法は、蒸気蒸着構成要素の 面の選定された複数部分をエッチングして織られた表面を形成することである。 より具体的には、本発明は、保持リング４及びスパッタリングシールド１５の表 面の選択的エッチングを意図している。更に、これらの構成要素の表面はエッチ ングされて突起、凹所、チャンネルあるいは溝、仕切体、あるいは、それらの組 み合わせのごとき織られた表面の特徴は物理的に及び／又は目視的に蒸気蒸着構 成要素の表面上に存在する（言い換えれば、本発明は、ビードブラスト等のごと き方法を用いて表面のランダムでマイクロな粗面化を開示あるいは教示している 従来技術のあるものと同程度の比較的微視的なレベルで表面の選択的粗面化を教 示あるいは示唆している。）。 表面２０（言い換えれば、金属表面を含むが、これに限定されるものではない ）をエッチングするための１つの方法は写真平板を用いてこの表面２０上にパタ ーンを形成している。これらのパターンは、処理されるべき表面２０を有してい るスパッタリングシールド１０あるいは保持リング４のようなクリーンな蒸気蒸 着室構成要素を採用し（図１３）、そして、該表面２０にフォトレジスト３０を 塗布する（図１４）ことにより形成されている。フォトレジストとは、異なる複 数の溶媒が照射されていない複数部分よりも照射された複数部分を溶解するのに 必要とされるように照射される際、構造を変える材料である。次いで、マスク３ １がフォトレジスト３０上にかぶさって置かれ、また、マスクされていない複数 部分３２は照射される（図１５）。次いで、フォトレジスト３０の照射された複 数部分３２は第１の溶媒で取り除かれ、もって、表面２０の選定された複数部分 を露出させ（図１６）、次いで、該表面２０はエッチングされる（図１７）。こ のエッチングは、プラズマエッチングのごとき適宜の手段によりなされてもよい が、本発明にあっては、表面２０の金属を溶解することができる酸でエッチング をなすのが好ましい。最後に、フォトレジスト３０の残りの照射されていない部 分３３は第２の溶媒で溶解される（図１８）。超音波洗浄のごとき通常の工業プ ラクティスによる追加の洗浄をなして蒸気蒸着室構成要素を使用状態に置いても よい。 蒸気蒸着室構成要素の金属表面２０をエッチングすることにより、アンダーカ ット区域１７を備えた境界側壁１６を有する特徴を備えた織られた表面が作り出 される。この特徴の境界側壁は表面２０に対して鋭角に形成されている。 表面２０をエッチングするための別の写真平版的方法は、処理されるべき表面 ２０を有し（図１３）且つフォトレジスト３０を該表面２０に塗布する（図１４ ）スパッタリングシールド１０あるいは保持リング４のようなクリーンな蒸気蒸 着室構成要素を採用している。次いで、マスク３１がフォトレジスト３０を覆い かぶさって置かれ、マスクされていない部分３２は照射される（図１５）。次い で、フォトレジスト３０の照射されていない部分３３は第２の溶媒で取り除かれ （図１９）、次いで、スパッタリングシールド１０の露出された金属はエッチン グされる（図２０）。最後に、フォトレジストの残りの照射された部分３２は第 １の溶媒で取り除かれる（図２１）。超音波洗浄のごとき通常の工業プラクティ スによる追加の洗浄を行って蒸気蒸着室構成要素を使用状態に置いてもよい。 これらの写真平版プロセスの結果は、蒸気蒸着室システム１におけるマイクロ 汚染物質の形成を妨げる織られた表面を備えた蒸気蒸着室構成要素である。本発 明の織られた表面を作るための何等適宜の、あるいは、等化のエッチング方法を 利用することは本発明の範囲内であり、開示され、あるいは、図に示されたもの に限定されるものではない。 本発明の織られた表面を作り出すためのエッチング方法を上記したけれども、 織られた表面は他の方法によって作り出されてもよい。１つのこのような方法は 、予めスタンプされた金属板のごとき金属片を採用し、金型を板の表面上に熱間 押圧あるいはローリング掛けし、もって、表面上にテクスチャーを形成する。次 いで、織られた板は蒸気蒸着室構成要素に適した形態に形成される。蒸気蒸着室 構成要素は、一体に取り付けられるいくつかの片体を形成することにより作るこ とができる。図７及び図１０を参照されたい。しかし、織られた表面を作り出す ための何らかの他の方法も本発明の範囲内で考えられ、従って、本発明は、開示 され、あるいは、図に示された方法に限定されるものではない。 本発明の好適実施例が図及び詳細な説明で上記されている。特に注記されない 限り、明細書及び請求の範囲での言葉及び句には当業界の人々にとって通常の、 そして、慣れた意味が与えられているというのが発明者の意図である。好適実施 例及び本願を出願する時点で出願人に知られている発明の最良のモードの前述し た記載は図示及び記載の目的で提示された。本発明を開示された正確な形態に徹 底的であるようには、あるいは、それに限定されるようには意図されていず、多 くの変形及び変化が上記教示内容に照らして可能である。本発明の原理及びそれ の実際的応用例を最良に説明するために、また、当業者が様々な実施例で且つ意 図された実際の使用に適しているごとく様々な変形例で本発明を最良に利用する ことを可能にするために実施例は選定され、そして、記載された。 同様に、詳細な説明における言葉「機能」あるいは「手段」のいかなる使用も ３５Ｕ．Ｓ．Ｃ．第１１２条、第６項の特殊な条項に訴える望みを示して彼の発 明を定義するようには意図されていない。それに対し、３５Ｕ．Ｓ．Ｃ．第１１ ２条、第６項の条項が発明を定義するように訴えられていると求められている場 合、請求の範囲は、「するための手段」あるいは「するための工程」なる句及び 機能を、かような句で、機能を支持する何等の構造、材料あるいは行為を記載す ることなく、具体的に述べている。請求の範囲が機能を遂行する「ための手段」 あるいは「ための工程」を記載している場合であっても、それらもその手段ある いは工程を支持する何らかの構造、材料あるいは行為を記載している場合、その 場合、本発明は３５Ｕ．Ｓ．Ｃ．第１１２条、第６項の条項に訴えることはない 。更に、仮に発明者が３５Ｕ．Ｓ．Ｃ．第１１２条、第６項の条項に訴えて本発 明を定義しても、本発明は彼の好適実施例に記載されている特殊な構造、材料あ るいは行為にのみ限定されるものではないというのが意図である。むしろ、請求 の範囲が３５Ｕ．Ｓ．Ｃ．第１１２条、第６項の条項に具体的に訴えた場合、そ れでもなお、請求の範囲に記載された機能を遂行するための何らかの、そして、 全ての知られた、あるいは、後に開発された等化構造体、材料、あるいは、行為 とともに、請求の範囲に記載された機能を遂行する何らかの、そして、全ての構 造、材料、あるいは、行為を網羅し、そして、含むのが意図である。 ここに記載された発明は好適実施例に開示された特殊なアルゴリズム、方法、 あるいは、工程に限定されるものではなく、むしろ、何らかの及び全てのかよう な方法、アルゴリズムあるいは工程とともに用いられるよう意図されている。好 適形態においては、出願人は、表面をエッチングするための方法をいくつかの工 程に分割している。しかし、適宜の知識並びに当業者へのその知識の適用をもっ てした場合、該工程のあるものは１つの工程で履行することができる。同様に、 出願人はテクスチャーを表面上に熱間プレスし、あるいは、ロール掛けする方法 をいくつかの工程に分割している。しかし、適宜の知識及び当業者へのその知識 の応用でもってした場合、工程のうちのいくつかは１つの工程で履行することが できる。かくて、本発明を、何らかの特定の形態に、あるいは、いずれの数の方 法工程に、あるいは、何らかの特殊な手続き構成に限定するようには意図されて いない。

───────────────────────────────────────────────────── 【要約の続き】 第２の実施例においては、マイクロ汚染物質を生成する ことができるはねかけられた金属も集める保持リング４ は、上述したように織られた表面の特徴を有している。 しかし、本発明は、いずれかの特定の蒸気蒸着室構成要 素とともに、あるいは、いずれかの特定の蒸気蒸着室シ ステム内で使用されるようには限定されていず、また、 本発明は、いずれかの適宜の蒸気蒸着室構成要素ととも に、あるいは、いずれかの適宜の蒸気蒸着室システム内 で用いられてもよい。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 1. 蒸気蒸着室構成要素の表面を作る方法にして、 前記表面の複数部分を選択的にエッチングし、もって、織られた表面を作り出 す工程、 を特徴とする方法。 2. 請求項１に記載の方法において、前記表面の複数部分を選択的にエッチン グする前記工程は、 前記表面上に写真平板的にパターンを形成する工程と、 該形成されたパターンを前記表面にエッチングする工程と、 を更に特徴とする方法。 3. 請求項２に記載の方法において、前記表面上に写真平板的にパターンを形 成する前記工程及び前記形成されたパターンを前記表面にエッチングする前記工 程は、 フォトレジスト材料の層を前記表面に塗布する工程と、 前記フォトレジスト材料の層よりも上にマスクを置く工程と、 前記フォトレジスト材料の少なくとも１つのマスクされていない部分を照射す る工程と、 前記フォトレジスト材料の前記少なくとも１つの照射された部分を取り除き、 もって、少なくとも１つの下に横たわる表面を露出させる工程と、 前記少なくとも１つの下に横たわる表面をエッチングする工程と、 前記フォトレジスト材料のいずれかの残りの部分を除去する工程と、 を更に有している方法。 4. 請求項１に記載の方法において、前記織られた表面は複数個の突起を更に 特徴とする方法。 5. 請求項４に記載の方法において、前記織られた表面に備えられている前記 突起は、少なくとも３つの頂点を備えた形状を更に特徴とする方法。 6. 請求項５に記載の方法において、前記突起の形状は５つの尖った星形を更 に特徴とする方法。 7. 請求項１に記載の方法において、前記織られた表面はアンダーカットされ た境界側壁を更に特徴とする方法。 8. 請求項２に記載の方法において、パターンを平面上に写真平板的に形成す る前記工程及び該形成されたパターンを該表面にエッチングする前記工程は、 前記表面にフォトレジスト材料の層を塗布する工程と、 前記フォトレジスト材料の層よりも上にマスクを置く工程と、 前記フォトレジスト材料の少なくとも１つのマスクされていない部分を照射す る工程と、 前記フォトレジスト材料のいずれかの照射されていない部分を取り除き、もっ て、少なくとも１つの下に横たわっている表面を露光させる工程と、 前記少なくとも１つの下に横たわっている表面をエッチングする工程と、 前記フォトレジスト材料のいずれかの残っている部分を取り除く工程と、 を更に有している方法。 9. 織られた表面を備えた構成要素を特徴とする蒸気蒸着室構成要素。 10．請求項９に記載の蒸気蒸着室構成要素において、前記構成要素は蒸気蒸着 スパッタリングシールドである蒸気蒸着室構成要素。 11．請求項９に記載の蒸気蒸着室構成要素において、前記構成要素は蒸気蒸着 保持リングである蒸気蒸着室構成要素。 12．請求項９に記載の蒸気蒸着室構成要素において、前記織られた表面は、前 記構成要素に取り付けられた複数個の突起を更に特徴とする蒸気蒸着室構成要素 。 13．請求項９に記載の蒸気蒸着室構成要素において、前記織られた表面は、前 記構成要素に備えられた複数個の凹所を更に特徴とする蒸気蒸着室構成要素。 14．請求項９に記載の蒸気蒸着室構成要素において、前記織られた表面は、前 記構成要素に備えられた少なくとも１つのチャンネルを更に特徴とする蒸気蒸着 室構成要素。 15．請求項９に記載の蒸気蒸着室構成要素において、前記織られた表面は、前 記構成要素に取り付けられた少なくとも１つの仕切体を更に特徴とする蒸気蒸着 室構成要素。 16．請求項９に記載の蒸気蒸着室構成要素において、前記織られた表面は、突 起、凹所、チャンネル、及び、仕切体の組み合わせを更に特徴とする蒸気蒸着室 構成要素。 17．請求項１２に記載の蒸気蒸着室構成要素において、前記突起の各々は少な くとも３つの頂点を特徴とする蒸気蒸着室構成要素。 18．請求項１２に記載の蒸気蒸着室構成要素において、前記突起の各々は５つ の尖った星形外形を特徴とする蒸気蒸着室構成要素。 19．請求項９に記載の蒸気蒸着室構成要素において、前記織られた表面は、ア ンダーカットされた側部を特徴とする蒸気蒸着室構成要素。 20．織られた表面を備えた蒸気蒸着室構成要素を用いる方法にして、 スパッタされた材料を蒸気蒸着室構成要素上に積む工程、 を有している前記方法において、 前記スパッタされた材料を、前記織られた表面を備える蒸気蒸着室構成要素上 に固着させる工程、 を特徴とする方法。 21．請求項２０に記載の方法において、前記固着工程は、前記スパッタされた 材料を、境界側壁を備えた複数個の突起を有する表面を備えている前記蒸気蒸着 室構成要素上に固着させる工程を更に特徴とする方法。