JP2001505601A

JP2001505601A - ビニル単量体の重合方法

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Publication number: JP2001505601A
Application number: JP52420698A
Authority: JP
Inventors: リンチ，ジョン; ズトリス，ハインツ，フリードリヒ; ツビラー，ユルゲン; アウミュラー，アレクサンダー
Original assignee: BASF SE
Current assignee: BASF SE
Priority date: 1996-11-27
Filing date: 1997-11-11
Publication date: 2001-04-24
Anticipated expiration: 2017-11-11
Also published as: EP0941254A1; JP3791931B2; US6268441B1; AU5481398A; EP0941254B1; WO1998023649A1; DE19648811A1; DE59701956D1

Abstract

(57)【要約】反応器内壁表面における堆積物の形成を防止するために、α−炭素において水素原子を持たない、少なくとも一種類の二級アミンＮ−オキシル化合物の存在下に重合を行なうことを特徴とする、ビニル単量体の水性相重合方法。

Description

【発明の詳細な説明】ビニル単量体の重合方法本発明は、ビニル単量体の水性相における付加重合方法に関する。重合反応の過程において、反応器壁面上に重合体が付着堆積するのは一般的である。しかしながら、このような重合体堆積は処理を厄介にする。このような堆積物は定期的に、一般的には各重合反応ごとに除去されねばならず、これには著しいコストを必要とするからである。さらに、例えば分子量分布に関して非典型的な重合体から成る堆積物は、場合により剥離して、生成重合体を非均質的にする可能性がある。そこで、このような堆積物の形成を回避する対策が開発されている。堆積物形成の程度は、反応器壁の表面的構造、例えばその粗さに著しく依存しているので、対策は一次的に表面を平滑化することに向けられている。機械的な対策に加えて、重合反応混合物に腐蝕防止剤を添加し、壁体表面の平滑性を維持することも試みられている（例えば、１９８６年、ミュンヘン、ウィーンのハンゼル、フェルラーク社刊、Ｇ．Ｗ．ベッカー、Ｄ．ブラウン編、「クンストシュトフ、ハントブーフ」、２／１巻、１５３頁参照）。しかしながら、これらの対策は、通常、堆積物の形成を妥当に防止することはできない。初期独国特願１９６０９３１２．０号明細書には、ある種のビニル単量体の、例えば蒸留、精製、貯蔵、輸送の過程において、二級アミンのＮ−オキシル化合物を添加することにより、その過早の重合を防止する方法が記載されている。このＮ−オキシル化合物は、またスチレンその他のビニル芳香族化合物の蒸留の間の安定性をもたらすために使用される（米国特許５２５４７６０号明細書）。しかしながら、このようなニトロキシル化合物は、たとえ痕跡量であっても、その後の重合処理を阻害し、重合遅延および制御不能の連鎖停止反応をもたらし、再重合不能の重合体、連鎖長の短かい重合体が製造されることも知られている。このような有害な効果については、マーデアらのＰｏｌｙｍ．Ｐｒｅｐ．（Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｄｉｖ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．）３５（１）７７８（１９９４）に記載されている。そこで、本発明の目的は、重合方法に認知可能の悪影響をもたらすことなく、反応器壁面上における重合体堆積物の形成を実質的に阻止し得るビニル単量体の重合方法を提供することである。しかるに、この目的は、反応器壁面における堆積物形成を阻止するため、α− 炭素に水素原子を持たない、少なくとも一種類の二級アミンＮ−オキシル化合物の存在下に重合を行なうことを特徴とする、水性相におけるビニル単量体の付加重合方法により達成されることが本発明者らにより見出された。本発明は、また、α−炭素に水素原子を持たない二級アミンＮ−オキシル化合物の、ビニル単量体水性相重合の間における反応容器壁面の堆積物形成を防止するための用途を提供する。ここで、ビニル単量体と称するのは、オレフィン性末端二重結合を有するすべての付加重合可能単量体を意味する。その例としては、アクリル酸およびメタクリル酸ならびにこれらの誘導体、例えばニトリルおよびエステル、ことにメチル、エチル、プロピルおよびブチルアクリラートおよびメタクリラート、さらにＣ₂ −Ｃ₅カルボン酸のビニルエステル、ことにビニルアセタート、ビニルプロピオナート、ビニルブタノアート、芳香族ビニル化合物、ことにスチレン、ジエン、ことにブタジエン、ビニルハロゲン化物、ことに塩化ビニル、ビニルエーテル、例えばメチル、エチルまたはブチルビニルエーテル、ビニルチオエーテル、ビニルカルバゾール、ビニルピロリドン、ビニルフタルイミド、ビニルイソシアナート、ビニルカプロラクタム、ビニルイミダゾール、ビニルスルホン酸、ビニルシラン、例えばビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシランが挙げられる。 α−オレフィンも適当であって、例えばエチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ヘキセン、１−オクテンが、ことに共重合方法において、他のコモノマーと共に使用される。本発明方法は、このような共重合方法の場合にことに有利に使用され得る。この方法で製造され得る適当な共重合の例としては、スチレン／ブタジエン共重合体、合成ゴム状ブロック重合体、例えばスチレン／ブタジエン／ブタジエン／スチレン共重合体、スチレン／ブチルアクリラート共重合体、ブタジエン／アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル／ブタジエン／スチレン共重合体およびエチレン／塩化ビニル共重合体が挙げられる。本発明方法は、スチレンを単独で、または他のコモノマーと共に、必要に応じて、揮発性発泡剤、例えばペンタンの存在下において重合させるために、また塩化ビニルを重合させるために、ことに適当である。本発明方法は、水性相における重合に関する。ここで水性相と称するのは、水を可成りの重量割合、例えば少なくとも２０重量％含有する、水と溶媒の混合液中における、各種単量体もしくは重合体の溶液、乳濁液および懸濁液を意味するための用語である。従って、慣用のすべての乳化重合、懸濁重合は、本発明方法により行なわれ得る。選定され得る反応条件は、このような重合法に慣用の諸条件および、例えばホウベン、ワイルの「メトーデン、オルガニッシェン、ヘミー」Ｅ２０巻、２１８頁以降、「ウルマンス、エンツィクロペディー、デル、テヒニッシェン、ヘミー」第４版、１９巻、１３２頁以降およびこれらに引用されている諸文献に記載されている諸条件である。本発明方法において、二級アミンのＮ−オキシル化合物は、重合反応の間、反応混合物中に存在する。このようなＮ−オキシル化合物の使用は、種々の態様で行なわれ得る。Ｎ−オキシル化合物は、重合反応混合物に添加されるのが有利であるが、早期重合をもたらさないように、あらかじめ単量体中に存在させることもできる。重合反応混合物中におけるＮ−オキシル化合物の量割合は、重合速度にほとんど影響を及ぼさないようになされるべきである。重合のＮ−オキシル化合物に対する感受性は、種々のパラメータ、ことに単量体の性質、Ｎ−オキシル化合物の構造、温度、反応混合物中に存在するべきフリーラジカル開始剤、フリーラジカル捕捉剤などに依存する。しかしながら、好ましい量割合は、所定の重合反応条件下における事前の数回の実験で決定され得る。重合反応混合物中のＮ−オキシル化合物の量割合は、０．５から５０ｐｐｍ、ことに１から２０ｐｐｍ、なかんずく２から１０ｐｐｍ（１ｐｐｍ＝単量体全量に対するＮ−オキシル化合物の１０^-6重量部）の範囲に在るのが有利であることが見出された。この量割合において、堆積物形成は、反応速度に実質的な影響を及ぼすことなく、一般的に完全に防止され得る。Ｎ−オキシル化合物を重合反応混合物に添加するほかに、変形実施態様として、反応器に重合反応混合物を装填する前に、Ｎ−オキシル化合物溶液で、反応器壁面を湿潤させるのがことに適当であることが実証されている。この湿潤処理は、反応器壁面および反応器内のその他の部分、例えば撹拌器に、Ｎ−オキシル化合物溶液を噴霧することにより簡単かつ効果的に行なわれ得る。Ｎ−オキシル化合物は、大部分が、水に難溶性であるが、メタノール、エタノール、プロパノール、アセトン、エチルアセタート、ジメチルホルムアミドなどの有機溶媒にはほとんど溶解する。多くのＮ−オキシル化合物にことに適する溶媒はメタノールである。噴霧溶液中におけるＮ−オキシル化合物の濃度は臨界的ではなく、溶液全量に対して０．０１から１重量％が適当である。反応器壁面の湿潤は、噴霧溶液と同様の溶液を容器に充満させ、次いでこれを排出することによっても行なわれ得る。Ｎ−オキシル化合物溶液による反応器壁面湿潤処理の利点は、重合反応混合物へのその添加以上に、重合速度に対する影響が極端に低く、液面より上方の部分、ことに堆積物が一般的に形成される液面直上部分における堆積物形成防止効果をも有することである。これら両形態の使用方法を併用するのも有利であって、この場合、重合材料溶液への直接添加量は極めて少量で充分である。本発明方法において使用するのに適当なＮ−オキシル化合物は、下式で表わされ、かつ式中の複数のＲが、相互に同じでも異なってもよく、それぞれアルキル、シクロアルキル、アルキルまたはアリールを意味するか、あるいはその一対が合体して環を形成し、Ｙが５員または６員の環を形成するに必要な基を意味する場合の化合物である。さらに具体的には、ＲはＣ₁−Ｃ₁₀、ことにＣ₁− Ｃ₈アルキル、Ｃ₅−もしくはＣ₆−シクロアルキル、ベンジルまたはフェニルである。Ｙは、例えばアルキレン基−（ＣＨ₂）₂−または−（ＣＨ₂）₃−である。また下式で表わされる構造を有し、芳香族環が１から３個の内部置換基、例えばＣ₁−Ｃ₄ アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシまたはシアノを持っていてもよいＮ−オキシル化合物も適当である。アミンとしては、環中にさらに他のヘテロ原子、例えば水素、酸素または硫黄を持っていてもよい、ピペリジン化合物またはピロリドン化合物のような環式アミンの立体障害アミン誘導体（上記ヘテロ原子は立体障害アミンの窒素原子に隣接しない）を使用するのが好ましい。立体障害はアミン窒素に隣接する両位置における置換基（好ましい置換基はα−ＣＨ₂基の４個の全水素原子を置換する炭化水素基である）によりもたらされる。この置換基として好ましいのは、フェニル、Ｃ₃−Ｃ₆シクロアルキル、ベンジル、ことにＣ₁−Ｃ₆アルキルであって、この場合、同じα−炭素に結合されているアルキル基は、相互に結合されて５員または６員環を形成してもよい。ことに好ましい基は、以下においてＲ¹、Ｒ²につき記述される基である。立体障害アミンのＮ−オキシル化合物として好ましいのは、２，２，６，６−テトラアルキルピペリジンである。本発明において使用される好ましいＮ−オキシル化合物は、下式Ｉで表わされ、Ｒ¹、Ｒ²が、それぞれＣ₁−Ｃ₄アルキルまたはフェニルを意味するか、あるいはこれらに結合されている炭素原子と共に５員または６員の飽和炭化水素環基を形成し、Ｒ³が水素、ヒドロキシル、アミノ、ＳＯ₃Ｈ、ＳＯ₃Ｍ、ＰＯ₃Ｈ₂、ＰＯ₃ＨＭ、ＰＯ₃Ｍ₂（Ｍはアルカリ金属である）、有機珪素、または酸素ないし窒素を介して結合されるｍ価の有機基を意味するか、あるいはＲ⁴と合体して、酸素またはＲ⁴につき下記する環状構造を形成し、Ｒ⁴が水素、Ｃ₁−Ｃ₁₂アルキルを意味するか、あるいは上記Ｒ³と共に酸素を、またはＲ³と合体して酸素を形成するか、またはＲ³およびこれらに結合されている炭素と共に、以下の構造を形成し、Ｒ³とＲ⁴が合体して１個の基を形成する場合にはｍは１であり、Ｒ⁵が水素、Ｃ₁−Ｃ₁₂アルキルまたは−（ＣＨ₂）_z−ＣＯＯＲ⁶を意味し、Ｒ⁶が相互に同じでも異なってもよく、それぞれＣ₁−Ｃ₁₈アルキルを意味し、ｋが０または１、ｚ、ｐが１から１２、ｍが１から１００の数値をそれぞれ意味する場合の化合物である。Ｒ¹、Ｒ²は、具体的にはメチル、エチル、プロピル、ブチルを意味するか、あるいは両者合体してテトラもしくはペンタメチレン基を形成し得る。Ｒ¹、Ｒ²はメチルであるのが好ましい。Ｒ⁴は、例えば水素、上述のＣ₁−Ｃ₄アルキル、さらにはペンチル、ｓ−ペンチル、ｔ−ペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、２−メチルペンチル、ヘプチル、２−メチルヘキシル、オクチル、イソオクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、２−メチルノニル、イソノニル、２−メチルオクチル、デシル、イソデシル、２−メチルノニル、ウンデシル、イソウンデシル、ドデシル、イソドデシル（イソオクチル、イソノニル、イソデシルなる名称は通称であって、オキソ合成により得られるカルボニルからの誘導体、「ウルマンス、エンサイクロピーディア、オブ、インダストリアル、ケミストリー」第５版、Ａｌ巻、２９０−２９３頁、同Ａ１０巻、２８４−２８５頁参照）を意味するのが適当である。ｐは６−１２、ことに９を意味するのが好ましく、ｚは１−４、ことに２を意味するのが好ましい。Ｒ⁵は、水素以外には、例えば上述したＣ₁−Ｃ₁₂アルキルを意味するのが適当であり、ことに水素、Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、（ＣＨ₂）_z−ＣＯＯ（Ｃ₁−Ｃ₆アルキル）、なかんずく、−ＣＨ₂−ＣＨ₂−ＣＯＯ（ＣＨ₂）₁₁−ＣＨ₃および−ＣＨ₂ −ＣＨ₂−ＣＯＯ（ＣＨ₂）₁₃−ＣＨ₃を意味するのが好ましい。Ｒ⁶は、上述Ｃ₁−Ｃ₁₂アルキルのほかに、トリデシル、イソトリデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシルを意味し得る。Ｒ³は例えば以下のようなｍ価の基を意味するのが好ましい。ただし、式中のＲ⁷はＣ₁−Ｃ₁₂アルキルまたは−（ＣＨ₂）_z−ＣＯＯＲ⁶を、Ｒ⁸は水素またはＣ₁−Ｃ₁₈アルキルを、Ｒ⁹はＣ₁−Ｃ₁₈アルキル、ビニル、またはイソプロペニルを、Ｒ₁₀はＣ₈−Ｃ₂₂アルキルを、Ｒ₁₁は水素または頭初単量体のフリーラジカル重合において通常形成されるような有機基をそれぞれ意味し、ｋは０または１、ｘは１から１２、ｎは偶数ｍを意味する。Ｒ³がこれらのいずれかの基を意味する場合には、Ｒ⁴は水素であるのが好ましい。この場合にはｍは１から１００の数値を意味するが、ことに１、２、３、４または１０から５０であるのが好ましい。ことにオリゴマーもしくはポリマー基の場合には、混合物を使用するのが好ましい。Ｒ⁷として適当であるのは、Ｒ⁵について上述したと同様であるが、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルを意味するのが好ましい。Ｒ⁸は水素以外に適当であるのは、Ｒ⁸について上述したと同様であるが、水素を意味するのが好ましい。Ｒ⁹としては、ビニル、イソプロペニル、Ｃ₁₅−Ｃ₁₇アルキルがことに適当である。Ｒ¹⁰として適当であるのは、上述のＣ₈−Ｃ₁₈アルキル、さらにはノナデシル、アイコシル、ウンアイコシル、ドアイコシルである。ことに好ましいのは、炭素連鎖長さの異なる、複数種類のＲ¹⁰の混合物の場合である。Ｒ¹¹は、上述したように、水素または頭初単量体、この場合、エチレン誘導体、マレインイミド誘導体のフリーラジカル重合において通常形成されるような有機基、換言すれば、重合開始剤から形成される基、あるいは中間生成物として生成する遊離基から形成される基、さらには、この分野の技術者に周知のこのような基である。本発明においては、また下式Ｉａで表わされるＮ−オキシル化合物を使用するのも有利である。式中のＲ¹、Ｒ²はＮ−オキシル化合物Ｉについて前述した意味を有するが、Ｒ¹²は炭素、酸素または窒素を介して結合されるｍ’価の基、Ｒ¹³は水素、Ｃ₁−Ｃ₁₂アルキルまたはＣ₁−Ｃ₁₂アルコキシを意味するか、あるいはＲ¹²と合体して、炭素または酸素を介して、化合結合により、これら両者に結合されている炭素に結合されるｍ’価の基を形成し、あるいはＲ¹²およびＲ¹² 、Ｒ¹³に結合されている炭素と合体して、不飽和の３から６員同素環または複素環（この場合ｍ’は１である）を形成し、ｍ’は１、２または３を意味する。適当なｍ’価の基Ｒ¹²は、Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、非置換フェニル、または１から３個のＣ₁−Ｃ₄アルキル置換基を有するフェニル基である。これらの基のピペリジン環への結合は、酸素、ＮＨ基またはＮ（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル）基を介して行なわれ得る。適当な基Ｒ¹²の例は以下に示される（線は自由原子価を表わす）。基Ｒ¹³であってもよいＣ₁−Ｃ₁₂アルキルおよびＣ₁−Ｃ₁₂アルコキシについては、Ｒ⁴に関してすでに例示した。Ｒ¹²、Ｒ¹³は、また合体して、炭素または窒素を介して、化学的結合により、これら両者に結合されている炭素（ピペリジン環の４−位における炭素）に結合されるｍ’価の基を形成する。このようなｍ’ 価の基の例を下記に示す（線は自由原子価を表わす）。Ｒ¹²とＲ¹³は、さらにこれら結合されている炭素原子と共に、３員から７員の同素環または複素環を形成し得る。このような環を下記に例示する。上述した式中のＲ¹⁴は、相互に同じでも異なってもよく、それぞれ、水素、Ｃ₁ −Ｃ₁₂アルキル、非置換フェニル、１から４個のＣ₁−Ｃ₄アルキル置換基を持っている置換フェニルを意味する。Ｃ₁−Ｃ₁₂アルキルおよびフェニル環の置換基としてのＣ₁−Ｃ₄アルキルについては、具体例につき前述した。上述式中のｋ’は０、１または２を意味する。式中のＣ^*は環中に組込まれているピペリジンの４−位炭素を意味する。その他の好ましいニトロキシル（Ｎ−オキシル）化合物は、以下に列記される。すなわち、１−オキソ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−オキソ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オール、１−オキソ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オン、１−オキソ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル−アセタート、１−オキソ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル２−エチルヘキサノアート、１−オキソ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イルステアラート、１−オキソ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イルベンゾアート、１−オキソ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル４−ｔ− ブチルベンゾアート、ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）スクシアート、ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アジパート、ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバカート、ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ｎ−ブチルマロナート、ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）フタラート、ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）イソフタラート、ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）テレフタラート、ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ヘキサヒドロテレフタラート、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン− ４−イル）アジパミド、Ｎ−（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）カプロラクタム、Ｎ−（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ドデシルスクシンイミド、２，４，６−トリス［Ｎ−ブチル−Ｎ−（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）］ｓ−トリアジン、４，４’−エチレンビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペラジン−３−オン）およびトリス（２，２，６，６−テトラメチル−１−オキシピペリジン−４−イル）ホスファイトである。本発明方法においては、Ｎ−オキシル化合物として、ことにＮ，Ｎ’−ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−Ｎ，Ｎ ’−ビス−ホルミル−１，６−ジアミノヘキサンを使用するのが有利である。上述した各種のＮ−オキシル化合物は、対応するピペリジン化合物から出発して、これを例えば過酸化水素で酸化することにより製造され得る。この酸化に関する詳細は、例えば独国旧特願１９５１０１８４．７号明細書に記載されている。ピペリジン化合物のような、α−炭素において水素原子を持たない二級アミンおよびその製法は周知に属する。実施例１−３３１容積のオートクレーブに、１３００ｇの水、１０．５ｇの４重量％濃度ポリビニルアルコール（鹸化度８８％）溶液、０．３４ｇの４０重量％濃度ポリビニルアルコール（鹸化度４７％）溶液、１１．６５ｇの３重量％濃度ヒドロキシメチルプロピルセルロース溶液、０．５６ｇのｔ−ブチルペルネオデカノアート、１．７５ｇのナトリウムトリホスファート、および種に異なる量（下表を見よ）のＮ，Ｎ’−ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル）−Ｎ，Ｎ’−ビスホルミル−１，６−ジアミノヘキサンを装填した。次いでオートクレーブを閉鎖し、窒素を充填し、洩漏の点検をし、放圧した。次いで７００ｇの塩化ビニルを給送し、オートクレーブを５５℃に加熱し、圧力が４バール降下するまで重合を継続し、次いでオートクレーブを放圧、開放した。結果を下表に示す。実施例４メタノールにＮ，Ｎ’−ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−Ｎ，Ｎ’−ビスホルミル−１，６−ジアミノヘキサンを溶解させた０．１％濃度溶液を、オートクレーブの内壁表面に均斉に噴霧し、室温で乾燥させた。次いでオートクレーブに、重合反応混合物を装填し、実施例１−３に記載されたように、正確に、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−Ｎ，Ｎ’−ビスホルミル−１，６−ジアミノヘキサン重合反応混合物を添加することなく、重合反応させた。結果を下表に示す。対比例オートクレーブに同様に重合反応材料を装填し、実施例４に記載されているのと同様に正確に、ただしオートクレーブ内壁表面への噴霧を行なうことなく、重合反応させた。結果を下表に示す。表 ★ Ｎ，Ｎ’−ビス−（１−オキシル−２,２,６,６−テトラメチルピペリジン −４−イル）−Ｎ，Ｎ’−ビスホルミル−１,６−ジアミノヘキサン溶液を噴霧

【手続補正書】特許法第１８４条の８第１項【提出日】平成１０年１０月５日（１９９８．１０．５）【補正内容】明細書ビニル単量体の重合方法本発明は、ビニル単量体の水性相における付加重合の間の反応器壁面上への重合体堆積を阻止するための、Ｎ−オキシル化合物の用途に関する。重合反応の過程において、反応器壁面上に重合体が付着堆積するのは一般的である。しかしながら、このような重合体堆積は処理を厄介にする。このような堆積物は定期的に、一般的には各重合反応ごとに除去されねばならず、これには著しいコストを必要とするからである。さらに、例えば分子量分布に関して非典型的な重合体から成る堆積物は、場合により剥離して、生成重合体を非均質的にする可能性がある。そこで、このような堆積物の形成を回避する対策が開発されている。堆積物形成の程度は、反応器壁の表面的構造、例えばその粗さに著しく依存しているので、対策は一次的に表面を平滑化することに向けられている。機械的な対策に加えて、重合反応混合物に腐蝕防止剤を添加し、壁体表面の平滑性を維持することも試みられている（例えば、１９８６年、ミュンヘン、ウィーンのハンゼル、フェルラーク社刊、Ｇ．Ｗ．ベッカー、Ｄ．ブラウン編、「クンストシュトフ、ハントブーフ」、２／１巻、１５３頁参照）。しかしながら、これらの対策は、通常、堆積物の形成を妥当に防止することはできない。初期独国特願１９６０９３１２．０号明細書には、ある種のビニル単量体の、例えば蒸留、精製、貯蔵、輸送の過程において、二級アミンのＮ−オキシル化合物を添加することにより、その過早の重合を防止する方法が記載されている。このＮ−オキシル化合物は、またスチレンその他のビニル芳香族化合物の蒸留の間の安定性をもたらすために使用される（米国特許５２５４７６０号明細書）。しかしながら、このようなニトロキシル化合物は、たとえ痕跡量であっても、その後の重合処理を阻害し、重合遅延および制御不能の連鎖停止反応をもたらし、再重合不能の重合体、連鎖長の短かい重合体が製造されることも知られている。このような有害な効果については、マーデアらのＰｏｌｙｍ．Ｐｒｅｐ．（Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｄｉｖ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．）３５（１）７７８（１９９４）に記載されている。そこで、本発明の目的は、重合方法に認知可能の悪影響をもたらすことなく、反応器壁面上における重合体堆積物の形成を実質的に阻止し得るビニル単量体の重合方法を提供することである。しかるに、この目的は、ビニル単量体の水性相における付加重合の間の反応器壁面における堆積物形成を阻止するために、α−炭素に水素原子を持たない二級アミンＮ−オキシル化合物の使用により達成されることが本発明者らにより見出された。ここで、ビニル単量体と称するのは、オレフィン性末端二重結合を有するすべての付加重合可能単量体を意味する。その例としては、アクリル酸およびメタクリル酸ならびにこれらの誘導体、例えばニトリルおよびエステル、ことにメチル、エチル、プロピルおよびブチルアクリラートおよびメタクリラート、さらにＣ₂ −Ｃ₅カルボン酸のビニルエステル、ことにビニルアセタート、ビニルプロピオナート、ビニルブタノアート、芳香族ビニル化合物、ことにスチレン、ジエン、ことにブタジエン、ビニルハロゲン化物、ことに塩化ビニル、ビニルエーテル、例えばメチル、エチルまたはブチルビニルエーテル、ビニルチオエーテル、ビニルカルバゾール、ビニルピロリドン、ビニルフタルイミド、ビニルイソシアナート、ビニルカプロラクタム、ビニルイミダゾール、ビニルスルホン酸、ビニルシラン、例えばビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシランが挙げられる。 α−オレフィンも適当であって、例えばエチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ヘキセン、１−オクテンが、ことに共重合方法において、他のコモノマーと共に使用される。本発明方法は、このような共重合方法の場合にことに有利に使用され得る。この方法で製造され得る適当な共重合の例としては、スチレン／ブタジエン共重合体、合成ゴム状ブロック重合体、例えばスチレン／ブタジエン／ブタジエン／スチレン共重合体、スチレン／ブチルアクリラート共重合体、ブタジエン／アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル／ブタジエン／スチレン共重合体およびエチレン／塩化ビニル共重合体が挙げられる。本発明方法は、スチレンを単独で、または他のコモノマーと共に、必要に応じて、揮発性発泡剤、例えばペンタンの存在下において重合させるために、また塩化ビニルを重合させるために、ことに適当である。本発明方法は、水性相における重合に関する。ここで水性相と称するのは、水を可成りの重量割合、例えば少なくとも２０重量％含有する、水と溶媒の混合液中における、各種単量体もしくは重合体の溶液、乳濁液および懸濁液を意味するための用語である。従って、慣用のすべての乳化重合、懸濁重合は、本発明方法により行なわれ得る。選定され得る反応条件は、このような重合法に慣用の諸条件および、例えばホウベン、ワイルの「メトーデン、オルガニッシェン、ヘミー」Ｅ２０巻、２１８頁以降、「ウルマンス、エンツィクロペディー、デル、テヒニッシェン、ヘミー」第４版、１９巻、１３２頁以降およびこれらに引用されている諸文献に記載されている諸条件である。本発明方法において、二級アミンのＮ−オキシル化合物は、重合反応の間、反応混合物中に存在する。このようなＮ−オキシル化合物の使用は、種々の態様で行なわれ得る。Ｎ−オキシル化合物は、重合反応混合物に添加されるのが有利であるが、早期重合をもたらさないように、あらかじめ単量体中に存在させることもできる。重合反応混合物中におけるＮ−オキシル化合物の量割合は、重合速度にほとんど影響を及ぼさないようになされるべきである。重合のＮ−オキシル化合物に対する感受性は、種々のパラメータ、ことに単量体の性質、Ｎ−オキシル化合物の構造、温度、反応混合物中に存在するべきフリーラジカル開始剤、フリーラジカル捕捉剤などに依存する。しかしながら、好ましい量割合は、所定の重合反応条件下における事前の数回の実験で決定され得る。重合反応混合物中のＮ−オキシル化合物の量割合は、０．５から５０ｐｐｍ、ことに１から２０ｐｐｍ、なかんずく２から１０ｐｐｍ（１ｐｐｍ＝単量体全量に対するＮ−オキシル化合物の１０^-6重量部）の範囲に在るのが有利であることが見出された。この量割合において、堆積物形成は、反応速度に実質的な影響を及ぼすことなく、一般的に完全に防止され得る。Ｎ−オキシル化合物を重合反応混合物に添加するほかに、変形実施態様として、反応器に重合反応混合物を装填する前に、Ｎ−オキシル化合物溶液で、反応器壁面を湿潤させるのがことに適当であることが実証されている。この湿潤処理は、反応器壁面および反応器内のその他の部分、例えば撹拌器に、Ｎ−オキシル化合物溶液を噴霧することにより簡単かつ効果的に行なわれ得る。Ｎ−オキシル化合物は、大部分が、水に難溶性であるが、メタノール、エタノール、プロパノール、アセトン、エチルアセタート、ジメチルホルムアミドなどの有機溶媒にはほとんど溶解する。多くのＮ−オキシル化合物にことに適する溶媒はメタノールである。噴霧溶液中におけるＮ−オキシル化合物の濃度は臨界的ではなく、溶液全量に対して０．０１から１重量％が適当である。反応器壁面の湿潤は、噴霧溶液と同様の溶液を容器に充満させ、次いでこれを排出することによっても行なわれ得る。Ｎ−オキシル化合物溶液による反応器壁面湿潤処理の利点は、重合反応混合物へのその添加以上に、重合速度に対する影響が極端に低く、液面より上方の部分、ことに堆積物が一般的に形成される液面直上部分における堆積物形成防止効果をも有することである。これら両形態の使用方法を併用するのも有利であって、この場合、重合材料溶液への直接添加量は極めて少量で充分である。本発明方法において使用するのに適当なＮ−オキシル化合物は、下式で表わされ、かつ式中の複数のＲが、相互に同じでも異なってもよく、それぞれアルキル、シクロアルキル、アルキルまたはアリールを意味するか、あるいはその一対が合体して環を形成し、Ｙが５員または６員の環を形成するに必要な基を意味する場合の化合物である。さらに具体的には、ＲはＣ₁−Ｃ₁₀、ことにＣ₁ −Ｃ₈アルキル、Ｃ₅−もしくはＣ₆−シクロアルキル、ベンジルまたはフェニルである。Ｙは、例えばアルキレン基−（ＣＨ₂）₂−または−（ＣＨ₂）₃−である。また下式で表わされる構造を有し、芳香族環が１から３個の内部置換基、例えばＣ₁−Ｃ₄ アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシまたはシアノを持っていてもよいＮ−オキシル化合物も適当である。アミンとしては、環中にさらに他のヘテロ原子、例えば水素、酸素または硫黄を持っていてもよい、ピペリジン化合物またはピロリドン化合物のような環式アミンの立体障害アミン誘導体（上記ヘテロ原子は立体障害アミンの窒素原子に隣接しない）を使用するのが好ましい。立体障害はアミン窒素に隣接する両位置における置換基（好ましい置換基はα−ＣＨ₂基の４個の全水素原子を置換する炭化水素基である）によりもたらされる。この置換基として好ましいのは、フェニル、Ｃ₃−Ｃ₆シクロアルキル、ベンジル、ことにＣ₁−Ｃ₆アルキルであって、この場合、同じα−炭素に結合されているアルキル基は、相互に結合されて５員または６員環を形成してもよい。ことに好ましい基は、以下においてＲ¹、Ｒ²につき記述される基である。立体障害アミンのＮ−オキシル化合物として好ましいのは、２，２，６，６−テトラアルキルピペリジンである。本発明において使用される好ましいＮ−オキシル化合物は、下式Ｉで表わされ、Ｒ¹、Ｒ²が、それぞれＣ₁−Ｃ₄アルキルまたはフェニルを意味するか、あるいはこれらに結合されている炭素原子と共に５員または６員の飽和炭化水素環基を形成し、Ｒ³が水素、ヒドロキシル、アミノ、ＳＯ₃Ｈ、ＳＯ₃Ｍ、ＰＯ₃Ｈ₂、ＰＯ₃ＨＭ、ＰＯ₃Ｍ₂（Ｍはアルカリ金属である）、有機珪素、または酸素ないし窒素を介して結合されるｍ価の有機基を意味するか、あるいはＲ⁴と合体して、酸素またはＲ⁴につき下記する環状構造を形成し、Ｒ⁴が水素、Ｃ₁−Ｃ₁₂アルキルを意味するか、あるいは上記Ｒ³と共に酸素、またはＲ³と合体して酸素を形成するか、またはＲ³およびこれらに結合されている炭素と共に、以下の構造を形成し、Ｒ³とＲ⁴が合体して１個の基を形成する場合にはｍは１であり、Ｒ⁵が水素、Ｃ₁−Ｃ₁₂アルキルまたは−（ＣＨ₂）_z−ＣＯＯＲ⁶を意味し、Ｒ⁶が相互に同じでも異なってもよく、それぞれＣ₁−Ｃ₁₈アルキルを意味し、ｋが０または１、ｚ、ｐが１から１２、ｍが１から１００の数値をそれぞれ意味する場合の化合物である。Ｒ¹、Ｒ²は、具体的にはメチル、エチル、プロピル、ブチルを意味するか、あるいは両者合体してテトラもしくはペンタメチレン基を形成し得る。Ｒ¹、Ｒ²はメチルであるのが好ましい。Ｒ⁴は、例えば水素、上述のＣ₁−Ｃ₄アルキル、さらにはペンチル、ｓ−ペンチル、ｔ−ペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、２−メチルペンチル、ヘプチル、２−メチルヘキシル、オクチル、イソオクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、２−メチルノニル、イソノニル、２−メチルオクチル、デシル、イソデシル、２−メチルノニル、ウンデシル、イソウンデシル、ドデシル、イソドデシル（イソオクチル、イソノニル、イソデシルなる名称は通称であって、オキソ合成により得られるカルボニルからの誘導体、「ウルマンス、エンサイクロピーディア、オブ、インダストリアル、ケミストリー」第５版、Ａ１巻、２９０−２９３頁、同Ａ１０巻、２８４−２８５頁参照）を意味するのが適当である。ｐは６−１２、ことに９を意味するのが好ましく、ｚは１−４、ことに２を意味するのが好ましい。Ｒ⁵は、水素以外には、例えば上述したＣ₁−Ｃ₁₂アルキルを意味するのが適当であり、ことに水素、Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、（ＣＨ₂）_z−ＣＯＯ（Ｃ₁−Ｃ₆アルキル）、なかんずく、−ＣＨ₂−ＣＨ₂−ＣＯＯ（ＣＨ₂）₁₁−ＣＨ₃および−ＣＨ₂ −ＣＨ₂−ＣＯＯ（ＣＨ₂）₁₃−ＣＨ₃を意味するのが好ましい。Ｒ⁶は、上述Ｃ₁−Ｃ₁₂アルキルのほかに、トリデシル、イソトリデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシルを意味し得る。Ｒ³は例えば以下のようなｍ価の基を意味するのが好ましい。ただし、式中のＲ⁷はＣ₁−Ｃ₁₂アルキルまたは−（ＣＨ₂）_z−ＣＯＯＲ⁶を、Ｒ⁸は水素またはＣ₁−Ｃ₁₈アルキルを、Ｒ⁹はＣ₁−Ｃ₁₈アルキル、ビニル、またはイソプロペニルを、Ｒ¹⁰はＣ₈−Ｃ₂₂アルキルを、Ｒ¹¹は水素または頭初単量体のフリーラジカル重合において通常形成されるような有機基をそれぞれ意味し、ｋは０または１、ｘは１から１２、ｎは偶数ｍを意味する。Ｒ³がこれらのいずれかの基を意味する場合には、Ｒ⁴は水素であるのが好ましい。この場合にはｍは１から１００の数値を意味するが、ことに１、２、３、４または１０から５０であるのが好ましい。ことにオリゴマーもしくはポリマー基の場合には、混合物を使用するのが好ましい。Ｒ⁷として適当であるのは、Ｒ⁵について上述したと同様であるが、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルを意味するのが好ましい。Ｒ⁸は水素以外に適当であるのは、Ｒ⁸について上述したと同様であるが、水素を意味するのが好ましい。Ｒ⁹としては、ビニル、イソプロペニル、Ｃ₁₅−Ｃ₁₇アルキルがことに適当である。Ｒ¹⁰として適当であるのは、上述のＣ₈−Ｃ₁₈アルキル、さらにはノナデシル、アイコシル、ウンアイコシル、ドアイコシルである。ことに好ましいのは、炭素連鎖長さの異なる、複数種類のＲ¹⁰の混合物の場合である。Ｒ¹¹は、上述したように、水素または頭初単量体、この場合、エチレン誘導体、マレインイミド誘導体のフリーラジカル重合において通常形成されるような有機基、換言すれば、重合開始剤から形成される基、あるいは中間生成物として生成する遊離基から形成される基、さらには、この分野の技術者に周知のこのような基である。本発明においては、また下式Ｉａで表わされるＮ−オキシル化合物を使用するのも有利である。式中のＲ¹、Ｒ²はＮ−オキシル化合物Ｉについて前述した意味を有するが、Ｒ¹²は炭素、酸素または窒素を介して結合されるｍ’価の基、Ｒ¹³は水素、Ｃ₁−Ｃ₁₂アルキルまたはＣ₁−Ｃ₁₂アルコキシを意味するか、あるいはＲ¹²と合体して、炭素または酸素を介して、化合結合により、これら両者に結合されている炭素に結合されるｍ’価の基を形成し、あるいはＲ¹²およびＲ¹² 、Ｒ¹³に結合されている炭素と合体して、不飽和の３から６員同素環または複素環（この場合ｍ’は１である）を形成し、ｍ’は１、２または３を意味する。適当なｍ’価の基Ｒ¹²は、Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、非置換フェニル、または１から３個のＣ₁−Ｃ₄アルキル置換基を有するフェニル基である。これらの基のピペリジン環への結合は、酸素、ＮＨ基またはＮ（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル）基を介して行なわれ得る。適当な基Ｒ¹²の例は以下に示される（線は自由原子価を表わす）。基Ｒ¹³であってもよいＣ₁−Ｃ₁₂アルキルおよびＣ₁−Ｃ₁₂アルコキシについては、Ｒ⁴に関してすでに例示した。Ｒ¹²、Ｒ¹³は、また合体して、炭素または窒素を介して、化学的結合により、これら両者に結合されている炭素（ピペリジン環の４−位における炭素）に結合されるｍ’価の基を形成する。このようなｍ’ 価の基の例を下記に示す（線は自由原子価を表わす）。Ｒ¹²とＲ¹³は、さらにこれら結合されている炭素原子と共に、３員から７員の同素環または複素環を形成し得る。このような環を下記に例示する。上述した式中のＲ¹⁴は、相互に同じでも異なってもよく、それぞれ、水素、Ｃ₁ −Ｃ₁₂アルキル、非置換フェニル、１から４個のＣ₁−Ｃ₄アルキル置換基を持っている置換フェニルを意味する。Ｃ₁−Ｃ₁₂アルキルおよびフェニル環の置換基としてのＣ₁−Ｃ₄アルキルについては、具体例につき前述した。上述式中のｋ’は０、１または２を意味する。式中のＣ^*は環中に組込まれているピペリジンの４−位炭素を意味する。その他の好ましいニトロキシル（Ｎ−オキシル）化合物は、以下に列記される。すなわち、１−オキソ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−オキソ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オール、１−オキソ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オン、１−オキソ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル−アセタート、１−オキソ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル２−エチルヘキサノアート、１−オキソ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イルステアラート、１−オキソ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イルベンゾアート、１−オキソ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル４−ｔ− ブチルベンゾアート、ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）スクシアート、ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アジパート、ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバカート、ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ｎ−ブチルマロナート、ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）フタラート、ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）イソフタラート、ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）テレフタラート、ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ヘキサヒドロテレフタラート、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン− ４−イル）アジパミド、Ｎ−（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）カプロラクタム、Ｎ−（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ドデシルスクシンイミド、２，４，６−トリス［Ｎ−ブチル−Ｎ−（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）］ｓ−トリアジン、４，４’−エチレンビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペラジン−３−オン）およびトリス（２，２，６，６−テトラメチル−１−オキシピペリジン−４−イル）ホスファイトである。本発明方法においては、Ｎ−オキシル化合物として、ことにＮ，Ｎ’−ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−Ｎ，Ｎ ’−ビス−ホルミル−１，６−ジアミノヘキサンを使用するのが有利である。上述した各種のＮ−オキシル化合物は、対応するピペリジン化合物から出発して、これを例えば過酸化水素で酸化することにより製造され得る。この酸化に関する詳細は、例えば独国旧特願１９５１０１８４．７号明細書に記載されている。ピペリジン化合物のような、α−炭素において水素原子を持たない二級アミンおよびその製法は周知に属する。実施例１−３３１容積のオートクレーブに、１３００ｇの水、１０．５ｇの４重量％濃度ポリビニルアルコール（鹸化度８８％）溶液、０．３４ｇの４０重量％濃度ポリビニルアルコール（鹸化度４７％）溶液、１１．６５ｇの３重量％濃度ヒドロキシメチルプロピルセルロース溶液、０．５６ｇのｔ−ブチルペルネオデカノアート、１．７５ｇのナトリウムトリホスファート、および種に異なる量（下表を見よ）のＮ，Ｎ’−ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル）−Ｎ，Ｎ’−ビスホルミル−１，６−ジアミノヘキサンを装填した。次いでオートクレーブを閉鎖し、窒素を充填し、洩漏の点検をし、放圧した。次いで７００ｇの塩化ビニルを給送し、オートクレーブを５５℃に加熱し、圧力が４バール降下するまで重合を継続し、次いでオートクレーブを放圧、開放した。結果を下表に示す。実施例４メタノールにＮ，Ｎ’−ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−Ｎ，Ｎ’−ビスホルミル−１，６−ジアミノヘキサンを溶解させた０．１％濃度溶液を、オートクレーブの内壁表面に均斉に噴霧し、室温で乾燥させた。次いでオートクレーブに、重合反応混合物を装填し、実施例１−３に記載されたように、正確に、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−Ｎ，Ｎ’−ビスホルミル−１，６−ジアミノヘキサン重合反応混合物を添加することなく、重合反応させた。結果を下表に示す。対比例オートクレーブに同様に重合反応材料を装填し、実施例４に記載されているのと同様に正確に、ただしオートクレーブ内壁表面への噴霧を行なうことなく、重合反応させた。結果を下表に示す。表 ^★ Ｎ，Ｎ’−ビス−（１−オキシル−２,２,６,６−テトラメチルピペリジン −４−イル）−Ｎ，Ｎ’−ビスホルミル−１,６−ジアミノヘキサン溶液を噴霧請求の範囲１．ビニル単量体の水性相重合の間の反応器内壁表面上への重合体堆積を阻止するために、α−炭素において水素原子を持たない二級アミンＮ−オキシル化合物を、単量体に対して２から５０ｐｐｍの量で使用することを特徴とする、上記Ｎ−オキシル化合物の用途。２．Ｎ−オキシル化合物を、重合反応混合物に添加することを特徴とする、請求項１の用途。３．重合反応混合物を反応器に装填する前に、反応器内壁表面を、Ｎ−オキシル化合物溶液で湿潤させることを特徴とする、請求項１の用途。４．必要に応じて、発泡剤の存在下に、スチレンを、単独で、または他のコモノマーと共に重合させる場合の、請求項１から３のいずれかの用途。５．塩化ビニルを重合させる場合の、請求項１から３のいずれかの用途。６．使用される上記Ｎ−オキシル化合物が、以下の一般式Ｉで表わされ、かつＲ¹、Ｒ²が、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルまたはフェニルを意味するか、あるいはこれらが、これらに結合されている炭素と共に５員もしくは６員の飽和炭化水素環を形成し、Ｒ³が水素、ヒドロキシル、アミノ、ＳＯ₃Ｈ、ＳＯ₃Ｍ、ＰＯ₃Ｈ₂、ＰＯ₃ＨＭ、ＰＯ₃Ｍ₂、有機珪素基または酸素もしくは窒素を介して結合されているｍ価有機基を意味するか、あるいはＲ⁴と共に酸素または下記Ｒ⁴で定義される環状構造を形成し（Ｍはアルカリ金属である）、Ｒ⁴が水素またはＣ₁−Ｃ₁₂アルキル基を意味するか、またはＲ³と共に酸素あるいはＲ³およびこれらに結合されている炭素と共に、以下の環構造（Ｒ³、Ｒ⁴が合体して基を形成する場合、ｍは１である）を形成し、Ｒ⁵が水素、Ｃ₁−Ｃ₁₂アルキルまたは−（ＣＨ₂）_z−ＣＯＯＲ⁶を意味し、Ｒ⁶が、相互に同じでも異なってもよく、それぞれＣ₁−Ｃ₁₈アルキルを意味し、ｋが０または１、ｚ、ｐが１から１２、ｍが１から１００の数値をそれぞれ意味する場合の化合物であることを特徴とする、請求項１から５のいずれかの用途。７．式ＩのＲ³がで表わされ、かつ式中のＲ⁷がＣ₁−Ｃ₁₂アルキルまたは−（ＣＨ₂）_z−ＣＯＯＲ⁶を、Ｒ⁸が水素またはＣ₁−Ｃ₁₈アルキルを、Ｒ⁹がＣ₁−Ｃ₁₈アルキル、ビニルまたはイソプロペニルを、Ｒ¹⁰がＣ₈−Ｃ₂₂アルキルを、Ｒ¹¹が水素または頭初単量体のフリーラジカル重合において通常形成されるような有機基を、ｋが０または１を、ｘが１から１２を、ｎが偶数ｍをそれぞれ意味する場合の基であることを特徴とする、請求項６の用途。８．上記Ｎ−オキシル化合物として、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−Ｎ，Ｎ’−ビスホルミル− １，６−ジアミノヘキサンを使用することを特徴とする、請求項１から７のいずれかの用途。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＵ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＮ，ＣＺ，ＧＥ，ＨＵ，ＩＬ，ＪＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＴ，ＬＶ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＴＲ，ＵＡ，ＵＳ (72)発明者ツビラー，ユルゲンドイツ国、Ｄ―67655、カイゼルスラウテルン、ヘルツォーク―フォン―ヴァイマル ―シュトラーセ、19 (72)発明者アウミュラー，アレクサンダードイツ国、Ｄ―67435、ノイシュタット、リースリングヴェーク、25

Claims

【特許請求の範囲】１．反応器内壁表面における堆積物の形成を防止するために、α−炭素において水素原子を持たない、少なくとも一種類の二級アミンＮ−オキシル化合物の存在下に重合を行なうことを特徴とする、ビニル単量体の水性相重合方法。２．上記Ｎ−オキシル化合物を、重合反応混合物に添加することを特徴とする、請求項１の方法。３．上記Ｎ−オキシル化合物を、０．５から５０ｐｐｍの濃度で、重合反応混合物に添加することを特徴とする、請求項１または２の方法。４．重合反応容器に重合反応混合物を装填する前に、上記Ｎ−オキシル化合物の溶液で、反応器内壁表面を湿潤処理することを特徴とする、請求項１の方法。５．必要に応じて、発泡剤の存在下に、スチレンを、単独で、または他のコモノマーと共に重合させることを特徴とする、請求項１から４のいずれかの方法。６．塩化ビニルを重合させることを特徴とする、請求項１から４のいずれかの方法。７．使用される上記Ｎ−オキシル化合物が、以下の一般式Ｉで表わされ、かつＲ¹、Ｒ²が、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルまたはフェニルを意味するか、あるいはこれらが、これらに結合されている炭素と共に５員もしくは６員の飽和炭化水素環を形成し、Ｒ³が水素、ヒドロキシル、アミノ、ＳＯ₃Ｈ、ＳＯ₃Ｍ、ＰＯ₃Ｈ₂、ＰＯ₃ＨＭ、ＰＯ₃Ｍ₂、有機珪素基または酸素もしくは窒素を介して結合されているｍ価有機基を意味するか、あるいはＲ⁴と共に酸素または下記Ｒ⁴で定義される環状構造を形成し（Ｍはアルカリ金属である）、Ｒ⁴が水素またはＣ₁−Ｃ₁₂アルキル基を意味するか、あるいはＲ³と共に酸素を、またはＲ³およびこれらに結合されている炭素と共に、以下の環構造（Ｒ³、Ｒ⁴が合体して基を形成する場合、ｍは１である）を形成し、Ｒ⁵が水素、Ｃ₁−Ｃ₁₂アルキルまたは−（ＣＨ₂）_z−ＣＯＯＲ⁶を意味し、Ｒ⁶が、相互に同じでも異なってもよく、それぞれＣ₁−Ｃ₁₈アルキルを意味し、ｋが０または１、ｚ、ｐが１から１２、ｍが１から１００の数値をそれぞれ意味する場合の化合物であることを特徴とする、請求項１から６のいずれかの方法。８．式ＩのＲ³が以下の式で表わされ、かつ式中のＲ⁷がＣ₁−Ｃ₁₂アルキルまたは−（ＣＨ₂）_z−ＣＯＯＲ⁶を、Ｒ⁸が水素またはＣ₁−Ｃ₁₈アルキルを、Ｒ⁹がＣ₁−Ｃ₁₈アルキル、ビニルまたはイソプロペニルを、Ｒ¹⁰がＣ₈−Ｃ₂₂アルキルを、Ｒ¹¹が水素または頭初単量体のフリーラジカル重合において通常形成されるような有機基を、ｋが０または１を、ｘが１から１２を、ｎが偶数ｍをそれぞれ意味する場合の基であることを特徴とする、請求項７の方法。９．上記Ｎ−オキシル化合物として、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−Ｎ，Ｎ’−ビスホルミル− １，６−ジアミノヘキサンを使用することを特徴とする、請求項１から８のいずれかの方法。１０．α−炭素において水素原子を持たない、二級アミンＮ−オキシル化合物の、ビニル単量体の水性相重合の間における反応器内壁表面における堆積物形成を防止するための用途。