JP2001345391A - 電子部品及びその製造方法 - Google Patents

電子部品及びその製造方法

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JP2001345391A
JP2001345391A JP2001093003A JP2001093003A JP2001345391A JP 2001345391 A JP2001345391 A JP 2001345391A JP 2001093003 A JP2001093003 A JP 2001093003A JP 2001093003 A JP2001093003 A JP 2001093003A JP 2001345391 A JP2001345391 A JP 2001345391A
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light
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functional element
chip
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JP2001093003A
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Mitsuji Kitani
充志 木谷
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Canon Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ビームリードでの反射光による不具合を抑制
する。 【解決手段】 光機能素子が形成された機能素子チップ
10と、機能素子チップ10の端子に先端付近が電気的
に接続される配線部材11と、機能素子チップ10と配
線部材11とを固定する封止材17と、を備えた電子部
品において、開口部18を有する遮光部材15が配線部
材11より機能素子チップ10の光入射側に設けられ、
開口部18の開口端部が配線部材11の先端より機能素
子チップ10の中心側になるようにしている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、固体撮像装置や発
光装置や表示装置などの電子部品及びその製造方法に関
するものであり、特に、たとえば機能素子チップの端子
と、その端子に電気的に接続される配線部材と、機能素
子チップと配線部材とを固定するための封止材とを備え
た電子部品及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、電子部品の一種としては、光情報
を電気信号に変えたり、電気信号を光情報に変えたり、
電気信号によって発光したり光変調したり、電気信号に
よって光路を変えたりすることができる装置が知られて
いる。このような装置には光機能素子を有するものが知
られており、光機能素子としては、受光素子、発光素
子、DMD(デジタルマイクロミラーデバイス)などが
知られている。
【0003】このうち、電子部品として、受光素子アレ
イを有する固体撮像装置を例に挙げて説明する。固体撮
像装置は、ビデオカメラ、デジタルスチルカメラなどの
画像入力機器によく備えられている。このような固体撮
像装置は、シリコンウエハなどの半導体基板上に、受光
素子としてのホトダイオードと、駆動読み出し回路とし
てのCCD、CMOSなどを集積化して集積回路を作製
した後に、撮像エリア(有効画素領域)の上方に、アク
リル系材料などを用いてカラーフィルタ及びマイクロレ
ンズを形成する。
【0004】そして、集積回路、カラーフィルタ及びマ
イクロレンズを形成したシリコンウエハをダイシングし
てチップ化し、そのチップをセラミックパッケージなど
に収納して、ワイヤボンディングなどによりチップとリ
ードとの間を電気的に接続する。その後、ガラス基板の
キャップをパッケージ上に接着して、外気からチップを
保護している。
【0005】ところで、近年、デジタルカメラなどの画
像入力機器は小型化が進められ、そのため、固体撮像装
置も小型化、薄型化が望まれており、たとえば特開平7
−099214号公報には、固体撮像装置を小型化する
手法が記載されている。
【0006】図10は、従来の固体撮像装置の断面図で
ある。図10に示す固体撮像装置は、ガラスキャップ1
4とTABテープ11と固体撮像素子チップ10とを有
するものである。まず、ビームリード12及び絶縁フィ
ルム4を含むTABテープ11と、ガラスキャップ14
とを光透過性の接着層30を介して接着する。また、図
示しない固体撮像素子及びマイクロレンズ16を有する
有効画素領域5を形成した固体撮像素子チップ10にバ
ンプ13を形成し、バンプ13及びその周辺に、異方性
導電性接着材7をデスペンサーなどで塗布する。そし
て、ガラスキャップ14に接着層30により接着された
TABテープ11を、チップ10に位置合わせした後
に、バンプ13とTABテープ11とを加熱圧着する。
こうして図10に示したような固体撮像装置が得られ
る。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】(技術課題1)しかし
ながら、ガラスキャップ14、接着材30、絶縁フィル
ム4などは、光透過性であるため、光沢をもつ金属から
なるビームリード12の前面に入射した光が、反射し、
その反射光が、また各界面において反射し、有効画素領
域に迷いこむことがあった。このような迷光があると、
得られる画像の品質が低下する。また、DMDのような
表示装置においては、ビームリードによる反射光が表示
品質を低下させることもある。
【0008】(技術課題2)また、ガラスキャップ14
に接着層30により接着されたTABテープ11を、固
体撮像素子チップ10に位置合わせした状態で加熱圧着
する場合、加熱圧着時に異方性導電性接着材7が有効画
素領域5にはみ出さないように塗布量を制御している。
【0009】しかし、従来の技術では、有効画素領域5
に異方性導電接着材7がはみ出さないように努力して
も、現実には異方性導電接着材7の塗布量の精密な制御
は困難であり、現実には図11のように有効画素領域に
異方性導電接着材7が内側にはみ出してしまう。
【0010】有効画素領域5へ異方性導電接着材7がは
み出ると、目的とする撮像を行えなくなるので、これを
防止するために異方性導電接着材7の塗布量を減らす
と、電気的接続性と機械的接合強度とのいずれもが不十
分になり、バンプとビームリードとの接続部のオープン
や、ビームリードの断線、TABフィルムの破損などが
発生して、固体撮像装置の信頼性が低下したり、製造歩
留まりが低下したりする。
【0011】そこで、本発明は、ビームリードでの反射
光による不具合を抑制することを課題とする。
【0012】本発明は、電子部品の信頼性を向上させ、
電子部品を安価に提供することを課題とする。
【0013】本発明は、ビームリードでの反射光による
不具合を抑制し、高信頼性で安価な電子部品を提供する
ことを課題とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明の骨子は、光機能
素子が形成された機能素子チップと、前記機能素子チッ
プの端子に先端付近が電気的に接続される配線部材と、
前記機能素子チップと前記配線部材とを固定する封止材
と、を備えた電子部品において、開口部を有する遮光部
材が前記配線部材より前面側に設けられ、前記開口部の
開口端部が前記配線部材の前記先端より前記機能素子チ
ップの中心側にあることを特徴とする。
【0015】また、本発明の別の骨子は、光半導体素子
が形成された半導体チップと、前記半導体チップの端子
に先端付近が電気的に接続される配線部材と、前記半導
体チップと前記配線部材とを固定する封止材と、前記機
能素子チップの光作用面側に設けられた前記光半導体素
子を保護する光透過性の保護部材と、を備えた電子部品
において、開口部を有する遮光部材が前記配線部材と前
記保護部材との間に設けられ、前記開口部の開口端部が
前記配線部材の前記先端より前記機能素子チップの中心
側にあり、前記封止材は光硬化性樹脂の硬化物であっ
て、前記開口部の開口端部と前記封止材の表面の一部と
が整合していることを特徴とする。
【0016】そして、本発明の他の骨子は、端子を有す
る機能素子チップと、前記端子に先端付近が電気的に接
続される配線部材と、前記機能素子チップと前記配線部
材とを固定する封止材と、前記機能素子チップの光作用
面側に設けられた前記光半導体素子を保護する光透過性
の保護部材と、を備えた電子部品の製造方法において、
開口部を有する遮光部材を、前記配線部材と前記保護部
材との間に、前記開口部の開口端部が前記配線部材の前
記先端より前記機能素子チップの中心側になるように配
置する工程、前記封止材になる光硬化性樹脂を前記配線
部材と前記機能素子チップの端子との接続部周辺に配給
する工程、前記光硬化性樹脂の少なくとも一部を硬化さ
せるために前記保護部材側から光を照射する工程、を含
むことを特徴とする。
【0017】さらに、本発明の他の骨子は、第1の基板
と、前記第1の基板との間に間隔をおいて配された光透
過性の第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板
との間の空間を塞ぐように前記第1の基板及び前記第2
の基板の周辺部を固定する封止材と、を備えた電子部品
の製造方法において、開口部を有する遮光部材を、前記
第2の基板の周辺部に配置する工程、前記封止材になる
光硬化性樹脂を前記第1の基板及び前記第2の基板の周
辺部に配置する工程、前記光硬化性樹脂の少なくとも一
部を硬化させるために前記第2の基板側から光を照射す
る工程、を含むことを特徴とする。
【0018】さらにまた、本発明の骨子は、光機能素子
が形成された機能素子チップの少なくとも一辺に設けら
れた端子と、前記端子と電気的に接続される配線部材の
先端付近とを接続させた状態で該接触部分を覆うように
前記機能素子チップと前記配線部材とを光硬化型の封止
材によって封止してなる電子部品であって、前記機能素
子チップの光入射側に開口部を有する遮光部材を設け、
前記配線部材の前記先端よりも該機能素子チップの中心
側に該開口部の開口端部が位置するようにしていること
を特徴とする。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
図面を参照して説明する。
【0020】(実施形態1)図1は、本発明の実施形態
1の電子部品である固体撮像装置の断面図である。
【0021】この電子部品は、機能素子が形成された機
能素子チップ(第1の基板)10と、機能素子チップ1
0の端子13に電気的に接続される配線部材11と、機
能素子チップ10と配線部材11とを固定する封止材1
7と、を備えている。そして、開口部18を有する遮光
部材15が配線部材11より前面側(図1の下方側)に
設けられ、開口部18を通じて機能素子チップ10へ入
射する光を遮らないように遮光部15の内部端部15A
が配線部材11の内側端部12Aより機能素子チップ1
0の中心側にしている。
【0022】以下、詳しく説明するに、図1において、
機能素子チップとしての半導体チップ10は複数の光電
変換素子及びマイクロレンズ16を形成した固体撮像素
子チップであり、端子として金などからなるバンプ13
が設けられている。11はポリイミドなどを主成分とし
た絶縁性テープフィルム3に金メッキされたニッケル合
金などからなる導電性のビームリード12が設けられた
TAB(tape-automated bonding)テープである。4は
絶縁膜である。
【0023】光透過性の保護部材(第2の基板)として
のキャップ14は板状のガラスや樹脂からなる。15は
キャップ14の周辺部のたとえば半導体チップ10側に
形成された黒色のエポキシ樹脂などの光吸収体からなる
遮光部材(遮光マスク)である。18は遮光部材マスク
15の開口部を示している。
【0024】このように、金属のビームリード12の電
気的接続のために露出している部分の前面を覆うように
遮光マスク15が設けられているので、ビームリード1
2に光が入射することがなくなり、ビームリード12で
の反射光が迷光となって有効画素領域5に入射すること
が抑制される。
【0025】また、図1において、17は紫外線などを
照射すると硬化する光硬化性樹脂から形成された封止材
であり、半導体素子チップ10に設けたバンプ13とT
ABテープ11とを接着して固定する。また、これによ
り電子部品の耐湿性も向上する。19はキャップ14と
封止材17と半導体素子チップ10で囲まれた空間を示
している。この空間には空気や不活性ガスなどが存在す
ることになる。
【0026】なお、遮光マスク15の開口部18の面積
は、撮像対象(被写体)からの必要な光が半導体素子チ
ップ10の有効画素領域5に入射するような大きさで形
成されており、たとえば、後述するように、半導体素子
チップ10と遮光マスク15とを位置合わせしたとき
に、遮光部材15の内部端部15Aが有効画素領域5の
外側端部16Aから0.3μm程度外側になるような大
きさとしている。また、異方性導電性を有する封止材を
用いてもよい。
【0027】また、封止材17は、周知の、エポキシ系
樹脂、フェノール系樹脂、アクリル系樹脂又はウレタン
系樹脂などから選択される光硬化性樹脂から形成された
硬化物からなる。より好ましくは、光と熱の少なくとも
いずれか一方により硬化する熱光硬化性樹脂の接着材を
用いて形成されたものを用いるとよい。具体的には紫外
線硬化型のエポキシ樹脂を用いるとよい。
【0028】さらに、図1において、1は封止材17の
表面の一部、6は必要に応じて設けられる反射防止膜又
は赤外カットフィルタなどの光学薄膜である。
【0029】図2は、図1に示したような電子部品の製
造方法の概略を説明するための模式的断面図である。
【0030】まず、機能素子チップ10などの第1の基
板と、ガラス製或いは樹脂製のキャップ14などの第2
の基板を用意する。このうち光透過性の第2の基板14
の周辺部のたとえば第1の基板10との貼り合わせ面上
に、遮光部材15となる光吸収体などの層を形成してお
く。
【0031】そして、図2(A)に示すように、第1の
基板10と第2の基板14とをそれらの間に間隔をおい
て配置する。
【0032】図2(B)に示すように、ディスペンサの
ノズル41から、第1の基板10及び第2の基板14の
周辺部に封止材17となる光硬化性樹脂117を配給し
て、第1の基板10と第2の基板14との間の空間を塞
ぐ。
【0033】そして、図2(C)に示すように、光硬化
性樹脂117の少なくとも一部を硬化させるために、第
2の基板14側から遮光部材15の開口部18を通して
紫外線のような光を照射する。光硬化性樹脂117は第
1及び第2の基板間に流動するが、遮光部材15の内側
端部15Aに到達すると光源40からの光により硬化が
始まるので、遮光部材15の内側端部15Aより内方に
は樹脂が流入しない。つまり、内方に流入しようとする
樹脂は内側端部15Aにおいて自ずから停止する。こう
して、光硬化した封止材17の表面の一部(封止材17
の内側端部)1と遮光部材15の内側端部15Aとは自
己整合する。
【0034】その後は、必要に応じて、第1の基板10
側や第1,2の基板10,14の側面から光を照射すれ
ば、光硬化性樹脂117の未硬化部分があっても、それ
も硬化して封止材17となり、第1及び第2の基板を強
固に固定できる。光硬化性樹脂として熱によっても硬化
する熱光硬化性樹脂を用いれば、第2の基板10側から
の光照射の後、光硬化性樹脂117を加熱すれば、光硬
化性樹脂117を完全に硬化させることができる。
【0035】ここで再び図1を参照するに、光硬化性樹
脂117の硬化物からなる封止材17の表面の一部1
は、遮光部材15の内側端部15Aに整合している。ま
た、封止材17の中にリード12の内側端部12Aが位
置している。封止材17の表面の一部1の形状は、チッ
プ10の表面と光硬化性樹脂との濡れ性や、紫外線の照
射角度や反射の程度に依存するので、この例ではテーパ
ー形状を呈しているが、本発明はこれに限定されること
はない。
【0036】このように、本実施の形態による電子部品
は、開口部18を有する遮光部材15が配線部材11と
保護部材14との間に設けられ、開口部18の内部端部
15Aが配線部材11の内側端部12Aより機能素子チ
ップ10の中心側になるようにしている。また、光硬化
性樹脂117の硬化物である封止材17の内部端部と、
開口部18の内部端部15Aとを整合させている。
【0037】これにより、電気的接続性と機械的接合強
度を十分なものとし、接続部のオープンや、ビームリー
ドに断線、絶縁性テープフィルム3の破損などの発生の
防止を行っているので、固体撮像装置の信頼性が向上
し、製造歩留まりを高めることができる。
【0038】(実施形態2)図3から図6は、本発明の
実施形態2の電子部品の製造工程の概要図である。な
お、図3(B)〜図6(B)には平面図を示し、図3
(A)〜図6(A)には図3(B)〜図6(B)それぞ
れのA−A’,B−B’又はC−C’の断面図を示して
いる。
【0039】ここでは、図1に示したものと同じ固体撮
像装置を例に挙げて、より詳しく説明する。
【0040】まず、半導体基板に固体撮像素子を作製
し、さらに、図示しないカラーフィルタ及びマイクロレ
ンズ16を形成した固体撮像素子チップ(機能素子チッ
プ)10にバンプ13を形成する。
【0041】つづいて、バンプ13とTABテープ11
のビームリード12とを、デバイスホール20内におい
て電気的に接続する(図3参照)。
【0042】具体的には、固体撮像素子チップ10の電
極パッドにバンプ13を形成して、たとえばシングルポ
イントでビームリード12とバンプ13とを一組づつ超
音波及び熱などによって熱圧着して接続する。なお、こ
れらの接続時には、有効画素領域5の中心とデバイスホ
ール20の中心とが一致するように位置合わせを行う。
【0043】なお、デバイスホール20は、保護部材と
してのキャップ14より小さく且つ固体撮像素子チップ
10より大きくなるように形成している。これは、後述
するように、遮光マスク15とビームリード12のバン
プ13が接続されていない側とを安定して仮固定できる
ようにするためである。また、バンプとリードとを異方
性導電性接着剤を用いて接続してもよい。
【0044】つづいて、たとえば図示しない透明なガラ
ス基板を切断して切断面を面取りしたキャップ14の表
面に、30μm程度の厚さの遮光マスク15を印刷す
る。そして、キャップ14の遮光マスク15を印刷した
側の面と固体撮像素子チップ10を所定の間隔をおいて
対向させ、遮光マスク15に形成されている開口部18
と有効画素領域5とを位置合わせする(図4参照)。
【0045】この状態で、たとえば遮光マスク15とT
ABテープ11とを、仮止め用シール材27で仮固定す
る。この仮止め用シール材27は、図5に示すように、
チップ10の四方の一部分にさえ設けられればよい。
【0046】なお、シール材27は、紫外線などが照射
されておらず、硬化していない状態のものである。ま
た、遮光マスク15の厚さは、紫外線を透過しないよう
な厚さであれば、30μmに限定されるものではない。
さらに、遮光マスク15は、たとえば樹脂製のシール状
のものをTABテープ11に貼布してもよい。
【0047】つぎに、図6に示すように、キャップ14
の遮光マスク15を形成していない側に、外部マスク4
3を取り付ける。外部マスク43は開口部を有してお
り、この開口部はキャップ14より小さく且つ遮光マス
ク15の開口部18より大きい。そして、キャップ14
側をたとえば下にして、ディスペンサ45のニードル先
端41から、光硬化性樹脂であるシール用樹脂117を
チップ10とTABテープ11の接続部の周辺部に配給
し、TABテープ11とバンプ13が形成されている固
体撮像素子チップ10とを接着固定できるように塗布す
る。
【0048】つづいて、キャップ14の下側、すなわち
遮光マスク15側から光ファイバのような光源40より
紫外線を照射する。このとき、紫外線は外部マスク4
3,遮光マスク15によって遮光されるため、塗布した
シール用樹脂117には直接照射されない。
【0049】一方、塗布したシール用樹脂117は、毛
管現象により、固体撮像素子チップ10とTABテープ
11との間や、ビームリード12と遮光部材15との間
や、ビームリード12相互の間に侵入する。なお、紫外
線を照射しながらシール用樹脂117を塗布してもよ
い。
【0050】その後、侵入したシール用樹脂117が、
封止材17の表面の一部1にまで到達すると、そのシー
ル用樹脂117に紫外線があたり、硬化反応が始まる。
そして、そのシール用樹脂117の粘度が高まり、有効
画素領域5側へこれ以上侵入することはない。このた
め、シール用樹脂117の塗布量を十分に多くすること
ができ、固体撮像素子チップ10とTABテープ11と
を頑丈に接着することができる。
【0051】その後、図示しない加熱手段により、シー
ル用樹脂117をマイクロレンズの耐熱温度より低い温
度であるたとえば100℃〜150℃に加熱する。その
結果、シール用樹脂は硬化して図1に示したように封止
材17となる。こうして、TABテープ11、バンプ1
3及び固体撮像素子チップ10が固定され、さらにこれ
らに仮固定していた遮光マスク15付きキャップ14と
が頑丈に接着され固定される。
【0052】なお、シール用樹脂117を加熱する前
に、図6の上方から紫外線を照射することにより、TA
Bテープ11の上側のシール用樹脂117をある程度硬
化させてもよい。そして、キャップ14から外部マスク
43を取り外して、図1に示したような固体撮像装置の
製造が終了する。
【0053】封止材17は、図7に示すように、接続部
分近傍でTABテープ11のビームリード12が露出し
ないように、それを覆い且つチップ10の全周囲を囲む
ように形成してもよい。この場合には、TABフィルム
とチップ及び保護部材がより一層頑丈に固定される。
【0054】また、図8に示すように、接続部分近傍で
TABテープ11のビームリード12の一部を露出する
ようにして、チップ10の全周囲を囲むように形成して
もよい。この場合には、ビームリード12が露出した部
分での柔軟性が増す。図7の形態を選ぶか図8の形態を
選ぶかは、これら電子部品をどのように機器本体に実装
するかに依存する。
【0055】さらに、封止材17は、チップ10の全周
囲を完全に囲むように形成しても、或いはチップの周囲
に沿った複数の個所に離散的に設けられてもよい。
【0056】以上説明したように本実施形態では、開口
部18を有する遮光部材15を、配線部材11と保護部
材14との間に、遮光部材15の内部端部15Aが配線
部材11の内側端部12Aよりも機能素子チップ10の
中心側になるように配置する工程、封止材17になる光
硬化性樹脂117を配線部材11と機能素子チップ10
の端子13との接続部周辺に配給する工程、光硬化性樹
脂117の少なくとも一部を硬化させるために保護部材
14側から光を照射する工程、を含む。照射された光
は、遮光部材15の開口部18を通して光硬化性樹脂1
17を硬化させる。
【0057】このため、ビームリード12での反射光に
よる不具合を抑制し得、高信頼性で安価な電子部品及び
その製造方法を提供することができる。
【0058】本発明の各実施形態では光機能素子とし
て、ホトダイオードのような半導体受光素子、LEDの
ような半導体発光素子、マイクロミラーのような素子な
どを用いることができる。よって、機能素子チップとし
ては、固体撮像素子チップ以外に、LED、FEDのよ
うな発光素子チップや、DMDのような光変調素子チッ
プなども用いることができ、固体撮像素子チップでは半
導体受光素子が形成されたチップの受光面が光作用面と
なり、発光素子チップやDMDではチップの発光面や反
射面が光作用面となる。
【0059】(実施形態3)図9は、本発明の実施形態
3のスチルカメラ等の撮像システムの模式的なブロック
図である。なお、図9に示す固体撮像装置54は、たと
えば実施形態1等で説明したものを用いている。
【0060】図9において、51はレンズのプロテクト
とメインスイッチを兼ねるバリア、52は被写体の光学
像を固体撮像装置54に結像させるレンズ、53はレン
ズ52を通った光量を可変するための絞り、54はレン
ズ52で結像された被写体を画像信号として取り込むた
めの実施形態1又は2で説明した固体撮像装置、55は
固体撮像装置54から出力される画像信号に各種の補
正、クランプ等の処理を行う撮像信号処理回路、56は
固体撮像装置54より出力される画像信号のアナログ−
ディジタル変換を行うA/D変換器、57はA/D変換
器56より出力された画像データに各種の補正を行った
りデータを圧縮する信号処理部、58は固体撮像素子5
4,撮像信号処理回路55,A/D変換器56,信号処
理部57に各種タイミング信号を出力するタイミング発
生部、59は各種演算と撮像システム全体を制御する全
体制御・演算部、60は画像データを一時的に記憶する
ためのメモリ部、61は記録媒体に記録又は読み出しを
行うための記録媒体インターフェース部(I/F)、6
2は画像データの記録又は読み出しを行うための半導体
メモリ等の着脱可能な記録媒体、63は外部コンピュー
タ等と通信するための外部インターフェース部(I/
F)である。
【0061】つぎに、図9に示す撮像システムの撮影時
の動作について説明する。バリア51がオープンされる
とメイン電源がオンされ、つぎにコントロール系の電源
がオンし、更にA/D変換器56などの撮像系回路の電
源がオンされる。それから、露光量を制御するために、
全体制御・演算部59は絞り53を開放にし、固体撮像
装置54から出力された信号は撮像信号処理回路55を
スルーしてA/D変換器56へ出力される。A/D変換
器56は、その信号をA/D変換して、信号処理部57
に出力する。信号処理部57は、そのデータを基に露出
の演算を全体制御・演算部59で行う。
【0062】この測光を行った結果により明るさを判断
し、その結果に応じて全体制御・演算部59は絞りを制
御する。つぎに、固体撮像装置54から出力された信号
をもとに高周波成分を取り出し、被写体までの距離の演
算を全体制御・演算部59で行う。その後、レンズ52
を駆動して合焦か否かを判断し、合焦していないと判断
したときは、再びレンズを駆動し測距を行う。
【0063】そして、合焦が確認された後に本露光が始
まる。露光が終了すると、固体撮像装置54から出力さ
れた画像信号は、撮像信号処理回路55において補正等
がされ、さらにA/D変換器56でA/D変換され、信
号処理部57を通り全体制御・演算部59によりメモリ
部60に書き込まれる。その後、メモリ部60に蓄積さ
れたデータは、全体制御・演算部59の制御により記録
媒体制御I/F部51を通り半導体メモリ等の着脱可能
な記録媒体62に記録される。また、外部I/F部63
を通り直接コンピュータ等に入力して画像の加工を行っ
てもよい。
【0064】
【発明の効果】本発明によれば、ビームリードでの反射
光による不具合を抑制し得る。
【0065】また、本発明によれば、電子部品の信頼性
を向上させ、電子部品を安価に提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態による電子部品としての固体
撮像装置の断面図である。
【図2】本発明による電子部品の製造方法を説明するた
めの製造工程図である。
【図3】本発明の実施形態による固体撮像装置の製造工
程図である。
【図4】本発明の実施形態による固体撮像装置の製造工
程図である。
【図5】本発明の実施形態による固体撮像装置の製造工
程図である。
【図6】本発明の実施形態による固体撮像装置の製造工
程図である。
【図7】本発明の別の実施形態による固体撮像装置の図
である。
【図8】本発明の更に別の実施形態による固体撮像装置
の図である。
【図9】撮像装置の構成を示す図である。
【図10】従来の固体撮像装置の断面図である。
【図11】従来の固体撮像装置の断面図である。
【符号の説明】
5 有効画素領域 10 機能素子チップ 11 配線部材 12 ビームリード 13 端子 14 保護部材 15 遮光部材 16 マイクロレンズ 17 封止材 18 開口部 19 空間

Claims (27)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光機能素子が形成された機能素子チップ
    と、前記機能素子チップの端子に先端付近が電気的に接
    続される配線部材と、前記機能素子チップと前記配線部
    材とを固定する封止材と、を備えた電子部品において、 開口部を有する遮光部材が前記配線部材より前面側に設
    けられ、 前記開口部の開口端部が前記配線部材の前記先端より前
    記機能素子チップの中心側にあることを特徴とする電子
    部品。
  2. 【請求項2】 前記開口部の開口端部と前記封止材の表
    面の一部とが整合している請求項1記載の電子部品。
  3. 【請求項3】 前記封止材は、光硬化型樹脂から形成さ
    れたものである請求項1記載の電子部品。
  4. 【請求項4】 前記封止材は、熱光硬化型樹脂から形成
    されたものである請求項1記載の電子部品。
  5. 【請求項5】 前記機能素子チップの光作用面側には、
    前記光機能素子を保護するための光透過性の保護部材を
    備えている請求項1記載の電子部品。
  6. 【請求項6】 前記遮光部材は、光吸収体である請求項
    1記載の電子部品。
  7. 【請求項7】 前記封止材は、前記機能素子チップの周
    囲を連続的に囲んでいる請求項1記載の電子部品。
  8. 【請求項8】 前記配線部材の導電性のビームリートが
    前記機能素子チップの端子に接続されており、前記封止
    材によって該ビームリートが露出しないように覆ってい
    る請求項1記載の電子部品。
  9. 【請求項9】 前記光機能素子は、受光素子及び/又は
    発光素子である請求項1記載の電子部品。
  10. 【請求項10】 前記光機能素子は、デジタルマイクロ
    ミラーデバイスである請求項1記載の半導体装置。
  11. 【請求項11】 前記開口部の面積は、前記光機能素子
    が形成されている領域の面積より大きい請求項1記載の
    電子部品。
  12. 【請求項12】 光半導体素子が形成された半導体チッ
    プと、前記半導体チップの端子に先端付近が電気的に接
    続される配線部材と、前記半導体チップと前記配線部材
    とを固定する封止材と、前記機能素子チップの光作用面
    側に設けられた前記光半導体素子を保護する光透過性の
    保護部材と、を備えた電子部品において、 開口部を有する遮光部材が前記配線部材と前記保護部材
    との間に設けられ、 前記開口部の開口端部が前記配線部材の前記先端より前
    記機能素子チップの中心側にあり、 前記封止材は光硬化性樹脂の硬化物であって、前記開口
    部の開口端部と前記封止材の表面の一部とが整合してい
    ることを特徴とする電子部品。
  13. 【請求項13】 前記封止材は、熱光硬化型樹脂から形
    成されたものである請求項12記載の電子部品。
  14. 【請求項14】 前記遮光部材は、光吸収体である請求
    項12記載の電子部品。
  15. 【請求項15】 前記封止材は、前記半導体チップの周
    囲を連続的に囲んでいる請求項12記載の電子部品。
  16. 【請求項16】 前記配線部材の導電性のビームリート
    が前記半導体チップの端部に接続されており、前記封止
    材によって該ビームリートが露出しないように覆ってい
    る請求項12記載の電子部品。
  17. 【請求項17】 前記光半導体素子は、受光素子及び/
    又は発光素子である請求項12記載の電子部品。
  18. 【請求項18】 前記光半導体素子は、デジタルマイク
    ロミラーデバイスである請求項12記載の半導体装置。
  19. 【請求項19】 前記開口部の面積は、前記光半導体素
    子が形成されている領域の面積より大きい請求項12記
    載の電子部品。
  20. 【請求項20】 前記封止材は、エポキシ系樹脂である
    請求項12記載の電子部品。
  21. 【請求項21】 端子を有する機能素子チップと、前記
    端子に先端付近が電気的に接続される配線部材と、前記
    機能素子チップと前記配線部材とを固定する封止材と、
    前記機能素子チップの光作用面側に設けられた前記光半
    導体素子を保護する光透過性の保護部材と、を備えた電
    子部品の製造方法において、 開口部を有する遮光部材を、前記配線部材と前記保護部
    材との間に、前記開口部の開口端部が前記配線部材の前
    記先端より前記機能素子チップの中心側になるように配
    置する工程、 前記封止材になる光硬化性樹脂を前記配線部材と前記機
    能素子チップの端子との接続部周辺に配給する工程、 前記光硬化性樹脂の少なくとも一部を硬化させるために
    前記保護部材側から光を照射する工程、 を含むことを特徴とする電子部品の製造方法。
  22. 【請求項22】 前記光硬化性樹脂は熱光硬化性樹脂で
    あり、前記光を照射する工程の後、前記熱光硬化性樹脂
    を加熱する工程を含む請求項21記載の電子部品の製造
    方法。
  23. 【請求項23】 前記機能素子チップの光作用面側と反
    対側から前記光硬化性樹脂を硬化させるための光を照射
    する工程を更に含む請求項21記載の電子部品の製造方
    法。
  24. 【請求項24】 前記光硬化性樹脂を供給する工程の前
    に、前記配線部材と前記機能素子チップの端子とを接合
    する工程を含む請求項21記載の電子部品の製造方法。
  25. 【請求項25】 前記保護部材の後面に、前記遮光部材
    となる層を形成する工程を含む請求項21記載の電子部
    品の製造方法。
  26. 【請求項26】 第1の基板と、前記第1の基板との間
    に間隔をおいて配された光透過性の第2の基板と、前記
    第1の基板と前記第2の基板との間の空間を塞ぐように
    前記第1の基板及び前記第2の基板の周辺部を固定する
    封止材と、を備えた電子部品の製造方法において、 開口部を有する遮光部材を、前記第2の基板の周辺部に
    配置する工程、 前記封止材になる光硬化性樹脂を前記第1の基板及び前
    記第2の基板の周辺部に配置する工程、 前記光硬化性樹脂の少なくとも一部を硬化させるために
    前記第2の基板側から光を照射する工程、 を含むことを特徴とする電子部品の製造方法。
  27. 【請求項27】 光機能素子が形成された機能素子チッ
    プの少なくとも一辺に設けられた端子と、前記端子と電
    気的に接続される配線部材の先端付近とを接続させた状
    態で該接触部分を覆うように前記機能素子チップと前記
    配線部材とを光硬化型の封止材によって封止してなる電
    子部品であって、 前記機能素子チップの光入射側に開口部を有する遮光部
    材を設け、前記配線部材の前記先端よりも該機能素子チ
    ップの中心側に該開口部の開口端部が位置するようにし
    ていることを特徴とする電子部品。
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