JP2001335573A

JP2001335573A - シクロヘキセノン系化合物、それらの製造方法及びそれらを含有する除草剤

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Publication number: JP2001335573A
Application number: JP2000154970A
Authority: JP
Inventors: Yuji Nakamura; 裕治中村; John Parmer Christopher; クリストファー・ジョン・パーマー; Koji Kikukawa; 弘司菊川; Makiko Sano; 真喜子佐野; Ken Ono; 研大野
Original assignee: Ishihara Sangyo Kaisha Ltd
Current assignee: Ishihara Sangyo Kaisha Ltd
Priority date: 2000-05-25
Filing date: 2000-05-25
Publication date: 2001-12-04

Abstract

(57)【要約】【目的】除草剤の有効成分として有用なシクロヘキセ
ノン系化合物を提供する。【構成】式（Ｉ）；【化１】 [式中、ＸはＷにより中断されているアルキレンであ
り、Ｗは酸素原子又は硫黄原子であり、Ａは酸素原子及
び硫黄原子からなる群より選ばれた少なくとも１種のヘ
テロ原子を１〜２含有する５若しくは６員飽和ヘテロ環
基(ヘテロ環基はアルキルで置換されていてもよい)又は
ジアルコキシメチルであり、Ｑはハロゲン、-O-(CH₂)_n-
R₅などであり、Ｒ₁及びＲ₂はハロゲン、アルキルなどで
あり、Ｒ₃及びＲ₄は水素原子、アルキルなどである]で
表されるシクロヘキセノン系化合物又はその塩。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、除草剤の有効成分
として有用な新規シクロヘキセノン系化合物に関する。

【０００２】

【従来の技術】ＷＯ９９／１０３２７には、２−ベンゾ
イル−シクロヘキサン−１，３−ジオン系化合物が開示
されているが、後記式（I）で表されるシクロヘキセノ
ン系化合物に係る記載は見られない。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題とその手段】本願発明者
等は、より優れた除草剤を見出すべくシクロヘキセノン
系化合物につき種々検討した結果、本発明を完成した。
すなわち本発明は、式（I）；

【０００４】

【化６】

【０００５】[式中、ＸはＷにより中断されているアル
キレンであり、Ｗは酸素原子又は硫黄原子であり、Ａは
酸素原子及び硫黄原子からなる群より選ばれた少なくと
も１種のヘテロ原子を１〜２含有する５若しくは６員飽
和ヘテロ環基(ヘテロ環基はアルキルで置換されていて
もよい)又はジアルコキシメチルであり、Ｑはハロゲ
ン、-O-(CH₂)_n-R₅、-O-(CH₂)_n-C(=O)-R₅、-O-C(=O)-(CH
₂)_n-R₅、-O-C(=L)-M-R₅、-O-C(=L)-N(R₅)R₆、-O-SO₂-N
(R₅)R₆、-O-SO₂-R₅、-S(O)_m-R₅又は-N(R₅)R₆であり、Ｌ
及びＭは各々酸素原子又は硫黄原子であり、ｎは０〜３
であり、ｍは０〜２であり、Ｒ₁はハロゲン、アルキ
ル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アル
キルチオ、ハロアルキルチオ、アルキルスルフィニル、
ハロアルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、ハロ
アルキルスルホニル、ニトロ又はシアノであり、Ｒ₂は
ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロ
アルコキシ、アルキルチオ、ハロアルキルチオ、アルキ
ルスルフィニル、ハロアルキルスルフィニル、アルキル
スルホニル、ハロアルキルスルホニル、ジアルキルアミ
ノスルホニル、ジ(ハロアルキル)アミノスルホニル、ニ
トロ又はシアノであり、Ｒ ₃は水素原子、アルキル又は
シクロアルキルであり、Ｒ₄は水素原子又はアルキルで
あり、Ｒ₃とＲ₄は一緒になってケトンを形成してもよ
く、Ｒ₅及びＲ₆は各々水素原子、アルキル、アルコキシ
アルキル、アルコキシ、置換されてもよいフェニル又は
置換されてもよいベンジルであり、Ｒ₅とＲ₆は一緒にな
って５若しくは６員飽和ヘテロ環基を形成してもよい]
で表されるシクロヘキセノン系化合物又はその塩、それ
らの製造方法並びにそれらを含有する除草剤に関する。

【０００６】Ｒ₅及びＲ₆中の置換されてもよいフェニル
又は置換されてもよいベンジルのその置換基としては、
例えばハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキ
シ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、ハロアルキルチ
オ、アルキルスルフィニル、ハロアルキルスルフィニ
ル、アルキルスルホニル、ハロアルキルスルホニル、ニ
トロ、シアノなどが挙げられる。

【０００７】Ｘ、Ａ、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅及びＲ₆
中のアルキル又はアルキル部分としては、各々炭素数１
〜６の直鎖又は分枝状のもの、例えばメチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、tert−ブチル、ペン
チル、ヘキシルなどが挙げられる。

【０００８】Ｒ₃中のシクロアルキルとしては、炭素数
３〜４のもの、例えばシクロプロピル、シクロブチルな
どが挙げられる。Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₅、Ｒ₆及びＱ中のハロゲ
ン又は置換基としてのハロゲンとしては、弗素、塩素、
臭素又は沃素の各原子が挙げられる。置換基としてのハ
ロゲンの数は１又は２以上であってよく、２以上の場
合、各ハロゲンは同一でも相異なってもよい。また、ハ
ロゲンの置換位置はいずれの位置でもよい。

【０００９】Ｘ中のＷにより中断されているアルキレン
は、酸素原子又は硫黄原子を任意の部分に含むアルキレ
ンであり、例えば−ＯＣＨ₂−、−ＳＣＨ₂−、−ＣＨ₂
Ｏ−、−ＣＨ₂Ｓ−、−Ｏ(ＣＨ₂)₂−、−Ｓ(ＣＨ₂)₂−
などが挙げられる。

【００１０】Ａ中の酸素原子及び硫黄原子からなる群よ
り選ばれた少なくとも１種のヘテロ原子を１〜２含有す
る５若しくは６員飽和ヘテロ環基としては、例えばテト
ラヒドロフラン−２−イル、テトラヒドロフラン−３−
イル、ジオキソラン−２−イル、ジオキソラン−４−イ
ル、テトラヒドロピラン−２−イル、１，４−ジオキサ
ン−２−イル、１，３−ジオキサン−２−イル、１，３
−ジオキサン−４−イル、テトラヒドロチオフェン−２
−イル、テトラヒドロチオピラン−２−イル、１，３−
ジチアン−２−イル、１，４−ジチアン−２−イル、
１，４−チオキサン−２−イル、１，４−チオキサン−
３−イルなどが挙げられる。尚、該ヘテロ環基は炭素数
１〜６のアルキルで置換されていてもよい。

【００１１】Ｒ₃とＲ₄は一緒になってケトンを形成して
もよく、以下のような式で表される化合物となる。

【００１２】

【化７】

【００１３】Ｒ₅とＲ₆は一緒になって５若しくは６員飽
和ヘテロ環基を形成してもよく、該飽和ヘテロ環基とし
ては、例えばピロリジニル、ピペリジニル、モルホリニ
ルなどが挙げられる。

【００１４】前記式（I）で表されるシクロヘキセノン
系化合物は、塩を形成することが可能である。その塩と
しては、農業上許容されるものであればあらゆるものが
含まれるが、例えば塩酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、硝酸
塩のような無機酸塩；酢酸塩、メタンスルホン酸塩のよ
うな有機酸塩などが挙げられる。前記式（I）で表され
るシクロヘキセノン系化合物には、光学異性体が存在
し、本発明には各異性体及び異性体混合物の双方が含ま
れる。

【００１５】前記式（I）で表されるシクロヘキセノン
系化合物又はその塩（以下本発明化合物と略す）は、以
下の反応〔Ａ〕〜〔Ｉ〕或は通常の塩の製造方法に従っ
て製造することができる。

【００１６】

【化８】

【００１７】反応〔Ａ〕中、Ｘ、Ａ、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃及
びＲ₄は前述の通りであり、Halはハロゲンである。反応
〔Ａ〕は、通常ハロゲン化剤、触媒及び溶媒の存在下で
行う。ハロゲン化剤としては、例えば塩化オキザリル、
臭化オキザリルなどが挙げられる。ハロゲン化剤は、式
（II）の化合物に対して１〜３倍モル、望ましくは１〜
２倍モル使用する。

【００１８】触媒としては、例えばジメチルホルムアミ
ドなどが挙げられる。溶媒としては、反応に不活性な溶
媒であればいずれのものでもよく、例えば四塩化炭素、
塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロ
エタン、トリクロロエタンのような脂肪族炭化水素類；
ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルの
ようなエーテル類などから１種又は２種以上が適宜選択
される。反応〔Ａ〕の反応温度は、通常−２０〜＋５０
℃、望ましくは０〜２５℃であり、反応時間は、通常
０．５〜２４時間、望ましくは１〜３時間である。

【００１９】

【化９】

【００２０】反応〔Ｂ〕中、Ｘ、Ａ、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃及
びＲ₄は前述の通りである。反応〔Ｂ〕は、通常溶媒の
存在下で行う。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であ
ればいずれのものでもよく、例えばテトラヒドロフラ
ン、ジエチルエーテルのようなエーテル類などから１種
又は２種以上が適宜選択される。反応〔Ｂ〕の反応温度
は、通常０〜５０℃、望ましくは０〜３０℃であり、反
応時間は、通常０．１〜１２時間、望ましくは０．５〜
２時間である。

【００２１】

【化１０】

【００２２】反応〔Ｃ〕中、Ｘ、Ａ、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、
Ｒ₄及びHalは前述の通りであり、Ｒ₈は-(CH₂)_n-R₅、-M-
R₅又は-N(R₅)R₆（R₅、R₆、Ｍ及びｎは前述の通り）であ
る。反応〔Ｃ〕は、通常塩基及び溶媒の存在下で行う。
塩基としては、例えばナトリウムメチラート、ナトリウ
ムエチラート、カリウム第３級ブチレートのようなアル
カリ金属アルコレート；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
のような炭酸塩；水素化ナトリウム、水素化カリウムの
ような金属水素化物；モノメチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリエチルアミンのようなアミン類；ピリジン、４
−ジメチルアミノピリジンのようなピリジン類などから
１種又は２種以上が適宜選択される。塩基は、式（II）
の化合物に対して１〜３倍モル、望ましくは１〜２倍モ
ル使用する。

【００２３】溶媒としては、反応に不活性な溶媒であれ
ばいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、
キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類；
四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタ
ン、ジクロロエタン、トリクロロエタンのような脂肪族
炭化水素類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチ
ルエーテルのようなエーテル類；酢酸メチル、酢酸エチ
ルのようなエステル類；アセトニトリル、プロピオニト
リルのようなニトリル類；アセトン、メチルエチルケト
ンのようなケトン類などから１種又は２種以上が適宜選
択される。反応〔Ｃ〕の反応温度は、通常−２０〜＋５
０℃、望ましくは０〜３０℃であり、反応時間は、通常
０．１〜１２時間、望ましくは０．５〜２時間である。

【００２４】

【化１１】

【００２５】反応〔Ｄ〕中、Ｘ、Ａ、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、
Ｒ₄及びHalは前述の通りであり、Ｒ₉は-M-R₅又は-N(R₅)
R₆（R₅、R₆及びＭは前述の通り）である。反応〔Ｄ〕
は、通常塩基及び溶媒の存在下で行う。塩基としては、
例えば前記反応〔Ｃ〕で挙げられたものなどから１種又
は２種以上が適宜選択される。塩基は、式（II）の化合
物に対して１〜３倍モル、望ましくは１〜２倍モル使用
する。

【００２６】溶媒としては、反応に不活性な溶媒であれ
ばいずれのものでもよく、例えば前記反応〔Ｃ〕で挙げ
られたものなどから１種又は２種以上が適宜選択され
る。反応〔Ｄ〕の反応温度は、通常０〜１００℃、望ま
しくは０〜５０℃であり、反応時間は、通常１〜１２０
時間、望ましくは１〜２４時間である。

【００２７】

【化１２】

【００２８】反応〔Ｅ〕中、Ｘ、Ａ、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、
Ｒ₄及びHalは前述の通りであり、Ｒ₁ ₀はＲ₅又は-N(R₅)R
₆（R₅及びR₆は前述の通り）である。反応〔Ｅ〕は、通
常塩基及び溶媒の存在下で行う。塩基としては、例えば
前記反応〔Ｃ〕で挙げられたものなどから１種又は２種
以上が適宜選択される。塩基は、式（II）の化合物に対
して１〜３倍モル、望ましくは１〜２倍モル使用する。

【００２９】溶媒としては、反応に不活性な溶媒であれ
ばいずれのものでもよく、例えば前記反応〔Ｃ〕で挙げ
られたものなどから１種又は２種以上が適宜選択され
る。反応〔Ｅ〕の反応温度は、通常０〜５０℃、望まし
くは０〜３０℃であり、反応時間は、通常１〜２４時
間、望ましくは１〜１２時間である。

【００３０】

【化１３】

【００３１】反応〔Ｆ〕中、Ｘ、Ａ、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、
Ｒ₄及びHalは前述の通りであり、Ｒ₇は-(CH₂)_n-R₅又は-
(CH₂)_n-C(=O)-R₅（R₅及びｎは前述の通り）である。反
応〔Ｆ〕は、通常塩基及び溶媒の存在下で行う。塩基と
しては、例えばナトリウムメチラート、ナトリウムエチ
ラート、カリウム第３級ブチレートのようなアルカリ金
属アルコレート；水素化ナトリウム、水素化カリウムの
ような金属水素化物などから１種又は２種以上が適宜選
択される。塩基は、式（I−1）の化合物に対して１〜３
倍モル、望ましくは１〜２倍モル使用する。

【００３２】溶媒としては、反応に不活性な溶媒であれ
ばいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、
キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類；
テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルのようなエーテ
ル類；ジメチルホルムアミドのような極性非プロトン性
溶媒；アセトニトリルのようなニトリル類などから１種
又は２種以上が適宜選択される。反応〔Ｆ〕の反応温度
は、通常０〜１００℃、望ましくは０〜３０℃であり、
反応時間は、通常０．５〜４８時間、望ましくは１〜２
４時間である。

【００３３】

【化１４】

【００３４】反応〔Ｇ〕中、Ｘ、Ａ、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、
Ｒ₄及びＲ₅は前述の通りである。反応〔Ｇ〕は、通常塩
基及び溶媒の存在下で行う。塩基としては、例えばナト
リウムメチラート、ナトリウムエチラート、カリウム第
３級ブチレートのようなアルカリ金属アルコレート；炭
酸ナトリウム、炭酸カリウムのような炭酸塩；水素化ナ
トリウム、水素化カリウムのような金属水素化物；トリ
メチルアミン、トリエチルアミンのような３級アミン
類；ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンのようなピ
リジン類などから１種又は２種以上が適宜選択される。
塩基は、式（I−1）の化合物に対して１〜３倍モル、望
ましくは１〜２倍モル使用する。

【００３５】溶媒としては、反応に不活性な溶媒であれ
ばいずれのものでもよく、例えば前記反応〔Ｃ〕で挙げ
られたものなどから１種又は２種以上が適宜選択され
る。反応〔Ｇ〕の反応温度は、通常−２０〜＋５０℃、
望ましくは０〜３０℃であり、反応時間は、通常０．１
〜２４時間、望ましくは１〜１２時間である。

【００３６】

【化１５】

【００３７】反応〔Ｈ〕中、Ｘ、Ａ、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、
Ｒ₄、Ｒ₅及びＲ₆は前述の通りである。反応〔Ｈ〕は、
通常塩基及び溶媒の存在下で行う。塩基としては、例え
ば前記反応〔Ｇ〕で挙げられたものなどから１種又は２
種以上が適宜選択される。塩基は、式（I−1）の化合物
に対して１〜３倍モル、望ましくは１〜２倍モル使用す
る。

【００３８】溶媒としては、反応に不活性な溶媒であれ
ばいずれのものでもよく、例えば前記反応〔Ｃ〕で挙げ
られたものなどから１種又は２種以上が適宜選択され
る。反応〔Ｈ〕の反応温度は、通常０〜５０℃、望まし
くは０〜３０℃であり、反応時間は、通常０．５〜４８
時間、望ましくは１〜２４時間である。

【００３９】

【化１６】

【００４０】反応〔Ｉ〕中、Ｘ、Ａ、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、
Ｒ₄及びＲ₅は前述の通りであり、ｑは１又は２である。
反応〔Ｉ〕は、通常酸化剤及び溶媒の存在下で行う。酸
化剤としては、例えばメタクロロ過安息香酸、過酸化水
素、過酢酸、tert−ブチルハイドロパーオキサイドなど
から１種又は２種以上が適宜選択される。酸化剤は、式
（I−7）の化合物に対して１〜５倍モル、望ましくは１
〜３倍モル使用する。

【００４１】溶媒としては、反応に不活性な溶媒であれ
ばいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、
キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類；
四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタ
ン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シ
クロヘキサンのような脂肪族炭化水素類；酢酸メチル、
酢酸エチルのようなエステル類；メタノール、エタノー
ル、プロパノール、tert−ブタノールのようなアルコー
ル類；酢酸、プロピオン酸のような有機酸；水などから
１種又は２種以上が適宜選択される。反応〔Ｉ〕の反応
温度は、通常−２０〜＋１００℃、望ましくは−５〜＋
５０℃であり、反応時間は、通常０．１〜４８時間、望
ましくは０．１〜２４時間である。

【００４２】前記反応〔Ａ〕〜〔Ｅ〕で使用される式
（II）の化合物は新規化合物を含み、以下の反応〔Ｊ〕
又は〔Ｋ〕に従って製造することができる。

【００４３】

【化１７】

【００４４】反応〔Ｊ〕中、Ｘ、Ａ、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃及
びＲ₄は前述の通りである。反応〔Ｊ〕は、通常塩基、
シアナイド化合物及び溶媒の存在下で行う。

【００４５】塩基としては、例えばトリアルキルアミ
ン、トリアルカノールアミン、ピリジンのような３級ア
ミン類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのような炭酸塩
などから１種又は２種以上が適宜選択される。塩基は、
式（III）の化合物に対して１〜４倍モル、望ましくは
２〜３倍モル使用する。シアナイド化合物としては、例
えばシアン化ナトリウム、シアン化カリウムのようなア
ルカリ金属シアナイド；アセトンシアノヒドリン、メチ
ルイソブチルケトンシアノヒドリン、ベンズアルデヒド
シアノヒドリン、アセトアルデヒドシアノヒドリン、プ
ロピオンアルデヒドシアノヒドリンのようなシアノヒド
リンなどから１種又は２種以上が適宜選択される。シア
ナイド化合物は、式（III）の化合物に対して０．０１
〜０．５倍モル、望ましくは０．１〜０．２倍モル使用
する。

【００４６】溶媒としては、反応に不活性な溶媒であれ
ばいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、
キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類；
四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタ
ン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シ
クロヘキサンのような脂肪族炭化水素類；酢酸メチル、
酢酸エチルのようなエステル類；ジメチルスルホキシ
ド、スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホル
ムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ピリジンのような極
性非プロトン性溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリ
ル、アクリロニトリルのようなニトリル類などから１種
又は２種以上が適宜選択される。

【００４７】反応〔Ｊ〕は、必要に応じて相間移動触媒
の存在下で行なう。該相間移動触媒としては、クラウン
エーテル類などが挙げられる。反応〔Ｊ〕の反応温度
は、通常０〜５０℃、望ましくは室温であり、反応時間
は、通常０．５〜４８時間、望ましくは１〜２４時間で
ある。

【００４８】

【化１８】

【００４９】反応〔Ｋ〕中、Ｘ、Ａ、Ｒ₁、Ｒ₃、Ｒ₄及
びｑは前述の通りであり、Ｒ₁₁はアルキル又はハロアル
キルである。反応〔Ｋ〕は、前記反応〔Ｉ〕に準じて行
われる。

【００５０】前記反応〔Ｊ〕で使用される式（III）の
化合物（エノールエステル）は新規化合物を含み、以下
の反応〔Ｌ〕又は〔Ｍ〕に従って製造することができ
る。

【００５１】

【化１９】

【００５２】反応〔Ｌ〕中、Ｘ、Ａ、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃及
びＲ₄は前述の通りである。反応〔Ｌ〕は、通常塩基及
び溶媒の存在下で行う。

【００５３】塩基としては、例えばナトリウム、カリウ
ムのようなアルカリ金属；ナトリウムメチラート、ナト
リウムエチラート、カリウム第３級ブチレートのような
アルカリ金属アルコレート；炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウムのような炭酸塩；重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウ
ムのような重炭酸塩；水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ムのような金属水酸化物；水素化ナトリウム、水素化カ
リウムのような金属水素化物；モノメチルアミン、ジメ
チルアミン、トリエチルアミンのようなアミン類；ピリ
ジン、４−ジメチルアミノピリジンのようなピリジン類
などから１種又は２種以上が適宜選択される。塩基は、
式（V）の化合物に対して１〜３倍モル、望ましくは１
〜１．５倍モル使用する。

【００５４】溶媒としては、反応に不活性な溶媒であれ
ばいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、
キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類；
四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタ
ン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シ
クロヘキサンのような脂肪族炭化水素類；ジオキサン、
テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルのようなエーテ
ル類；酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類；ジ
メチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミ
ド、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ピ
リジンのような極性非プロトン性溶媒；アセトニトリ
ル、プロピオニトリル、アクリロニトリルのようなニト
リル類；アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン
類などから１種又は２種以上が適宜選択される。

【００５５】反応〔Ｌ〕の反応温度は、通常０〜５０
℃、望ましくは０〜３０℃であり、反応時間は、通常
０．５〜２４時間、望ましくは１〜１２時間である。

【００５６】

【化２０】

【００５７】反応〔Ｍ〕中、Ｘ、Ａ、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃及
びＲ₄は前述の通りである。反応〔Ｍ〕は、通常脱水縮
合剤及び溶媒の存在下で行なう。

【００５８】脱水縮合剤としては、例えばＮ，Ｎ'−ジ
シクロヘキシルカルボジイミドなどが挙げられる。脱水
縮合剤は、式（VI）の化合物に対して１〜３倍モル、望
ましくは１〜１．５倍モル使用する。溶媒としては、反
応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例え
ば四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメ
タン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、
シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類などから１種
又は２種以上が適宜選択される。

【００５９】反応〔Ｍ〕の反応温度は、通常０〜５０
℃、望ましくは０〜３０℃であり、反応時間は、通常
０．５〜４８時間、望ましくは１〜２４時間である。前
記反応〔Ｌ〕で使用される式（V）の化合物は新規化合
物を含み、以下の反応〔Ｎ〕に従って製造することがで
きる。

【００６０】

【化２１】

【００６１】反応〔Ｎ〕中、Ｘ、Ａ、Ｒ₁及びＲ₂は前述
の通りである。反応〔Ｎ〕は、通常塩素化剤の存在下で
行う。塩素化剤としては、塩化チオニル、塩化オキザリ
ルなどが挙げられる。塩素化剤は、式（VI）の化合物に
対して１〜５倍モル、望ましくは１〜２倍モル使用す
る。また塩素化剤は、過剰に用いれば溶媒を兼ねること
ができる。

【００６２】反応〔Ｎ〕は、必要に応じて溶媒の存在下
で行なう。該溶媒としては、反応に不活性な溶媒であれ
ばいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、
キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類；
四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタ
ン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シ
クロヘキサンのような脂肪族炭化水素類；ジオキサン、
テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルのようなエーテ
ル類；酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類；ア
セトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリルの
ようなニトリル類；アセトン、メチルエチルケトンのよ
うなケトン類などから１種又は２種以上が適宜選択され
る。

【００６３】反応〔Ｎ〕は、必要に応じて触媒の存在下
で行なう。該触媒としては、ジメチルホルムアミドなど
が挙げられる。反応〔Ｎ〕の反応温度は、通常０〜１２
０℃、望ましくは２０〜１００℃であり、反応時間は、
通常０．５〜１２時間、望ましくは１〜４時間である。

【００６４】前記反応〔Ｍ〕又は〔Ｎ〕で使用される式
（VI）の化合物は新規化合物を含み、以下の反応〔Ｏ〕
に従って製造することができる。

【００６５】

【化２２】

【００６６】反応〔Ｏ〕中、Ｘ、Ａ、Ｒ₁及びＲ₂は前述
の通りであり、Ｒ₁₂はアルキルである。反応〔Ｏ〕は一
般的な加水分解反応に準じて行えばよく、通常塩基及び
溶媒の存在下で行う。

【００６７】塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、
水酸化カリウムのような金属水酸化物などが挙げられ
る。塩基は、式（VII）の化合物に対して１〜５倍モ
ル、望ましくは１〜３倍モル使用する。溶媒としては、
反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例
えばアセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニト
リルのようなニトリル類；アセトン、メチルエチルケト
ンのようなケトン類；メタノール、エタノール、プロパ
ノール、tert−ブタノールのようなアルコール類；水な
どから１種又は２種以上が適宜選択される。

【００６８】反応〔Ｏ〕の反応温度は、通常０〜１００
℃、望ましくは０〜３０℃であり、反応時間は、通常
０．１〜１２時間、望ましくは０．５〜３時間である。
前記反応〔Ｏ〕で使用される式（VII）の化合物は新規
化合物を含み、以下の反応〔Ｐ〕、〔Ｑ〕又は〔Ｒ〕に
従って製造することができる。

【００６９】

【化２３】

【００７０】反応〔Ｐ〕中、Ｘ、Ｗ、Ａ、Ｒ₁、Ｒ₂及び
Ｒ₁₂は前述の通りであり、Ｇは水酸基、塩素原子又は臭
素原子であり、Ｔは塩素原子又は臭素原子であり、ｒは
１〜６であり、ｙは１〜６であり、ｊは１〜６であり、
但しｙ＋ｊは６以下である。反応〔Ｐ〕は通常溶媒の存
在下で行う。

【００７１】溶媒としては、反応に不活性な溶媒であれ
ばいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、
キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類；
四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタ
ン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シ
クロヘキサンのような脂肪族炭化水素類；ジオキサン、
テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルのようなエーテ
ル類；酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類；ジ
メチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミ
ド、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ピ
リジンのような極性非プロトン性溶媒；アセトニトリ
ル、プロピオニトリル、アクリロニトリルのようなニト
リル類；アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン
類などから１種又は２種以上が適宜選択される。

【００７２】反応〔Ｐ〕は、必要に応じて塩基の存在下
で行なう。該塩基としては、例えばナトリウム、カリウ
ムのようなアルカリ金属；ナトリウムメチラート、ナト
リウムエチラート、カリウム第３級ブチレートのような
アルカリ金属アルコレート；炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウムのような炭酸塩；水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ムのような金属水酸化物；水素化ナトリウム、水素化カ
リウムのような金属水素化物；モノメチルアミン、ジメ
チルアミン、トリエチルアミンのようなアミン類；ピリ
ジン、４−ジメチルアミノピリジンのようなピリジン類
などから１種又は２種以上が適宜選択される。塩基は、
出発物質であるカルボン酸化合物に対して１〜５倍モ
ル、望ましくは１〜３倍モル使用する。

【００７３】反応〔Ｐ〕は、必要に応じて脱水縮合剤の
存在下で行なう。該脱水縮合剤としては、例えばトリフ
ェニルホスフィン、ジエチルアゾジカルボキシレートな
どから１種又は２種以上が適宜選択される。脱水縮合剤
は、出発物質であるカルボン酸化合物に対して１〜５倍
モル、望ましくは１〜２倍モル使用する。

【００７４】反応〔Ｐ〕の反応温度は、通常０〜１５０
℃、望ましくは０〜１００℃であり、反応時間は、通常
０．５〜１２時間、望ましくは１〜３時間である。

【００７５】

【化２４】

【００７６】反応〔Ｑ〕中、Ｘ、Ａ、Ｒ₁、Ｒ₁₁及びＲ
₁₂は前述の通りであり、Ｂは塩素原子、臭素原子又はニ
トロであり、Ｙは水素原子又はアルカリ金属である。反
応〔Ｑ〕は通常溶媒の存在下で行う。

【００７７】溶媒としては、反応に不活性な溶媒であれ
ばいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、
キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類；
四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタ
ン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シ
クロヘキサンのような脂肪族炭化水素類；ジオキサン、
テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルのようなエーテ
ル類；ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルア
セトアミド、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリ
ドン、ピリジンのような極性非プロトン性溶媒などから
１種又は２種以上が適宜選択される。

【００７８】反応〔Ｑ〕は、必要に応じて塩基の存在下
で行なう。該塩基としては、例えばナトリウム、カリウ
ムのようなアルカリ金属；ナトリウムメチラート、ナト
リウムエチラート、カリウム第３級ブチレートのような
アルカリ金属アルコレート；炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウムのような炭酸塩；水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ムのような金属水酸化物；水素化ナトリウム、水素化カ
リウムのような金属水素化物；モノメチルアミン、ジメ
チルアミン、トリエチルアミンのようなアミン類；ピリ
ジン、４−ジメチルアミノピリジンのようなピリジン類
などから１種又は２種以上が適宜選択される。塩基は、
式（VII−１）の化合物に対して１〜５倍モル、望まし
くは１〜３倍モル使用する。

【００７９】反応〔Ｑ〕の反応温度は、通常０〜１５０
℃、望ましくは２０〜１２０℃であり、反応時間は、通
常０．１〜７２時間、望ましくは０．２〜２４時間であ
る。

【００８０】

【化２５】

【００８１】反応〔Ｒ〕中、Ｘ、Ａ、Ｒ₁、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂
及びｑは前述の通りである。反応〔Ｒ〕は、前記反応
〔Ｋ〕に準じて行われる。

【００８２】本発明化合物は、除草剤の有効成分として
使用した場合に優れた除草効果を示す。その適用範囲
は、水田、畑地、果樹園、桑園などの農耕地、山林、農
道、グランド、工場敷地などの非農耕地と多岐にわた
り、適用方法も土壌処理、茎葉処理、湛水処理等を適宜
選択できる。

【００８３】本発明化合物は、例えばイヌビエ、メヒシ
バ、エノコログサ、アキノエノコログサ、オヒシバ、カ
ラスムギ、セイバンモロコシ、シバムギ、ビロードキ
ビ、パラグラス、アゼガヤ、イトアゼガヤ、スズメノカ
タビラ、スズメノテッポウなどのイネ科雑草、コゴメガ
ヤツリ、ハマスゲ、キハマスゲ、ホタルイ、ミズガヤツ
リ、タマガヤツリ、マツバイ、クログワイなどのカヤツ
リグサ科雑草、ウリカワ、オモダカ、ヘラオモダカなど
のオモダカ科雑草、コナギ、ミズアオイなどのミズアオ
イ科雑草、アゼナ、アブノメなどのゴマノハグサ科雑
草、キカシグサ、ヒメミソハギなどのミソハギ科雑草の
他、イチビ、マルバアサガオ、シロザ、アメリカキンゴ
ジカ、スベリヒユ、アオビユ、アオゲイトウ、エビスグ
サ、イヌホウズキ、サナエタデ、ハコベ、オナモミ、タ
ネツケバナ、ホトケノザ、ブタクサ、ヤエムグラ、セイ
ヨウヒルガオ、チョウセンアサガオ、エゾノキツネアザ
ミ、エノキグサなどの広葉雑草などの有害雑草を防除す
ることができる為、有用作物、例えばトウモロコシ、ダ
イズ、ワタ、コムギ、イネ、オオムギ、エンバク、ソル
ガム、アブラナ、ヒマワリ、テンサイ、サトウキビ、
芝、ピーナッツ、アマ、タバコ、コーヒーなどの栽培に
おいて選択的に有害雑草を防除する場合或は非選択的に
有害雑草を防除する場合において有効に使用される。特
に本発明化合物は、トウモロコシ、コムギ、イネなどの
栽培、その中でもイネの栽培において選択的に有害雑草
を防除する場合において有効に使用される。

【００８４】本発明化合物は通常各種農業上の補助剤と
混合して粉剤、粒剤、顆粒水和剤、水和剤、水性懸濁
剤、油性懸濁剤、水溶剤、乳剤、錠剤、カプセル剤など
の形態に製剤し、除草剤として使用されるが、本発明の
目的に適合するかぎり、通常の当該分野で用いられてい
るあらゆる製剤形態にすることができる。製剤に使用す
る補助剤としては、珪藻土、消石灰、炭酸カルシウム、
タルク、ホワイトカーボン、カオリン、ベントナイト、
カオリナイト及びセリサイトの混合物、クレー、炭酸ナ
トリウム、重曹、芒硝、ゼオライト、澱粉などの固型担
体；水、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ、ジオ
キサン、アセトン、イソホロン、メチルイソブチルケト
ン、クロロベンゼン、シクロヘキサン、ジメチルスルホ
キシド、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロ
リドン、アルコールなどの溶剤；脂肪酸塩、安息香酸
塩、アルキルスルホコハク酸塩、ジアルキルスルホコハ
ク酸塩、ポリカルボン酸塩、アルキル硫酸エステル塩、
アルキル硫酸塩、アルキルアリール硫酸塩、アルキルジ
グリコールエーテル硫酸塩、アルコール硫酸エステル
塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリールスルホン
酸塩、アリールスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、
アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩、ポリスチ
レンスルホン酸塩、アルキルリン酸エステル塩、アルキ
ルアリールリン酸塩、スチリルアリールリン酸塩、ポリ
オキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩、ポリ
オキシエチレンアルキルアリールエーテル硫酸塩、ポリ
オキシエチレンアルキルアリールエーテル硫酸エステル
塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸塩、ポ
リオキシエチレンアルキルアリールリン酸エステル塩、
ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物の塩のような陰
イオン系の界面活性剤や展着剤；ソルビタン脂肪酸エス
テル、グリセリン脂肪酸エステル、脂肪酸ポリグリセラ
イド、脂肪酸アルコールポリグリコールエーテル、アセ
チレングリコール、アセチレンアルコール、オキシアル
キレンブロックポリマー、ポリオキシエチレンアルキル
エーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテ
ル、ポリオキシエチレンスチリルアリールエーテル、ポ
リオキシエチレングリコールアルキルエーテル、ポリオ
キシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソル
ビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレングリセリン
脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、ポ
リオキシプロピレン脂肪酸エステルのような非イオン系
の界面活性剤や展着剤；オリーブ油、カポック油、ひま
し油、シュロ油、椿油、ヤシ油、ごま油、トウモロコシ
油、米ぬか油、落花生油、綿実油、大豆油、菜種油、亜
麻仁油、きり油、液状パラフィンなどの植物油や鉱物油
などが挙げられる。これら補助剤は本発明の目的から逸
脱しないかぎり、当該分野で知られたものの中から選ん
で用いることができる。また、増量剤、増粘剤、沈降防
止剤、凍結防止剤、分散安定剤、薬害軽減剤、防黴剤な
ど通常使用される各種補助剤も使用することができる。
本発明化合物と各種補助剤との配合割合は０．１：９
９．９〜９５：５、望ましくは０．２：９９．８〜８
５：１５である。

【００８５】本発明化合物を含有する除草剤の施用量
は、気象条件、土壌条件、製剤形態、対象雑草の種類、
施用時期などの相違により一概に規定できないが、一般
に１ヘクタール当り本発明化合物が０．５〜５０００
ｇ、望ましくは１〜１０００ｇ、さらに望ましくは５〜
５００ｇとなるように施用する。本発明には、このよう
な除草剤の施用による有害雑草の防除方法も含まれる。

【００８６】また、本発明化合物を含有する除草剤は、
他の農薬、肥料、薬害軽減剤などと混用或は併用するこ
とができ、この場合に一層優れた効果、作用性を示すこ
とがある。他の農薬としては、除草剤、殺菌剤、抗生物
質、植物ホルモン、殺虫剤などが挙げられる。特に、本
発明化合物と他の除草剤の有効成分化合物の１種又は２
種以上とを混用或は併用した混合除草性組成物は、適用
草種の範囲、薬剤処理の時期、除草活性等を好ましい方
向へ改良することが可能である。尚、本発明化合物と他
の除草剤の有効成分化合物は各々別々に製剤したものを
散布時に混合して使用しても、両者を一緒に製剤して使
用してもよい。本発明には、前記した混合除草性組成物
も含まれる。

【００８７】本発明化合物と他の除草剤の有効成分化合
物との混合比は、気象条件、土壌条件、薬剤の製剤形
態、施用時期、施用方法などの相違により一概に規定で
きないが、本発明化合物１重量部に対し、他の除草剤は
有効成分化合物を１種あたり０．００１〜１００００重
量部、望ましくは０．０１〜１０００重量部配合する。
また、施用適量は１ヘクタール当りの総有効成分化合物
量として０．１〜１００００ｇ、望ましくは０．２〜５
０００ｇである。本発明には、このような混合除草性組
成物の施用による有害雑草の防除方法も含まれる。

【００８８】他の除草剤の有効成分化合物としては、下
記するもの（一般名；一部申請中のものも含む）が例示
できるが、特に記載がない場合であってもこれら化合物
に塩、アルキルエステル等が存在する場合は、当然それ
らも含まれる。

【００８９】（１）２，４−Ｄ、ＭＣＰＡ、ＭＣＰＢ、
ナプロアニリド（ｎａｐｒｏａｎｉｌｉｄｅ）のような
フェノキシ系、２，３，６−ＴＢＡ、ジカンバ（ｄｉｃ
ａｍｂａ）、ピクロラム（ｐｉｃｌｏｒａｍ）、クロピ
ラリド（ｃｌｏｐｙｒａｌｉｄ）のような芳香族カルボ
ン酸系、その他ベナゾリン（ｂｅｎａｚｏｌｉｎ）、キ
ンクロラック（ｑｕｉｎｃｌｏｒａｃ）、キンメラック
（ｑｕｉｎｍｅｒａｃ）、ダイフルフェンゾピル（ｄｉ
ｆｌｕｆｅｎｚｏｐｙｒ）などのように植物のホルモン
作用を攪乱することで除草効力を示すとされているも
の。

【００９０】（２）ジウロン（ｄｉｕｒｏｎ）、リニュ
ロン（ｌｉｎｕｒｏｎ）、イソプロチュロン（ｉｓｏｐ
ｒｏｔｕｒｏｎ）、メトベンズロン（ｍｅｔｏｂｅｎｚ
ｕｒｏｎ）のような尿素系、シマジン（ｓｉｍａｚｉｎ
ｅ）、アトラジン（ａｔｒａｚｉｎｅ）、アトラトン
（ａｔｒａｔｏｎｅ）、シメトリン（ｓｉｍｅｔｒｙ
ｎ）、プロメトリン（ｐｒｏｍｅｔｒｙｎ）、ジメタメ
トリン（ｄｉｍｅｔｈａｍｅｔｒｙｎ）、メトリブジン
（ｍｅｔｒｉｂｕｚｉｎ）、テルブチラジン（ｔｅｒｂ
ｕｔｈｙｌａｚｉｎｅ）、シアナジン（ｃｙａｎａｚｉ
ｎｅ）、アメトリン（ａｍｅｔｒｙｎ）、シブトリン
（ｃｙｂｕｔｒｙｎｅ）、トリアジフラム（ｔｒｉａｚ
ｉｆｌａｍ）、プロパジン（ｐｒｏｐａｚｉｎｅ）のよ
うなトリアジン系、ブロマシル（ｂｒｏｍａｃｉｌ）、
レナシル（ｌｅｎａｃｉｌ）のようなウラシル系、プロ
パニル（ｐｒｏｐａｎｉｌ）、シプロミッド（ｃｙｐｒ
ｏｍｉｄ）のようなアニリド系、スエップ（ｓｗｅ
ｐ）、フェンメディファム（ｐｈｅｎｍｅｄｉｐｈａ
ｍ）のようなカーバメート系、ブロモキシニル（ｂｒｏ
ｍｏｘｙｎｉｌ）、ブロモキシニル・オクタノエート
（ｂｒｏｍｏｘｙｎｉｌ−ｏｃｔａｎｏａｔｅ）、アイ
オキシニル（ｉｏｘｙｎｉｌ）のようなヒドロキシベン
ゾニトリル系、その他ピリデート（ｐｙｒｉｄａｔ
ｅ）、ベンタゾン（ｂｅｎｔａｚｏｎ）、アミカルバゾ
ン（ａｍｉｃａｒｂａｚｏｎｅ）などのように植物の光
合成を阻害することで除草効力を示すとされているも
の。

【００９１】（３）それ自身が植物体中でフリーラジカ
ルとなり、活性酸素を生成させて速効的な除草効力を示
すとされているパラコート（ｐａｒａｑｕａｔ）、ジク
ワット（ｄｉｑｕａｔ）のような４級アンモニウム塩
系。

【００９２】（４）ニトロフェン（ｎｉｔｒｏｆｅ
ｎ）、クロメトキシフェン（ｃｈｌｏｍｅｔｈｏｘｙｆ
ｅｎ）、ビフェノックス（ｂｉｆｅｎｏｘ）、アシフル
オルフェンナトリウム塩（ａｃｉｆｌｕｏｒｆｅｎ−ｓ
ｏｄｉｕｍ）、ホメサフェン（ｆｏｍｅｓａｆｅｎ）、
オキシフルオルフェン（ｏｘｙｆｌｕｏｒｆｅｎ）、ラ
クトフェン（ｌａｃｔｏｆｅｎ）、エトキシフェンエチ
ル（ｅｔｈｏｘｙｆｅｎ−ｅｔｈｙｌ）のようなジフェ
ニルエーテル系、クロルフタリム（ｃｈｌｏｒｐｈｔｈ
ａｌｉｍ）、フルミオキサジン（ｆｌｕｍｉｏｘａｚｉ
ｎ）、フルミクロラックペンチル（ｆｌｕｍｉｃｌｏｒ
ａｃ−ｐｅｎｔｙｌ）、フルチアセットメチル（ｆｌｕ
ｔｈｉａｃｅｔ−ｍｅｔｈｙｌ）のような環状イミド
系、その他オキサジアルギル（ｏｘａｄｉａｒｇｙ
ｌ）、オキサジアゾン（ｏｘａｄｉａｚｏｎ）、スルフ
ェントラゾン（ｓｕｌｆｅｎｔｒａｚｏｎｅ）、カーフ
ェントラゾンエチル（ｃａｒｆｅｎｔｒａｚｏｎｅ−ｅ
ｔｈｙｌ）、チジアジミン（ｔｈｉｄｉａｚｉｍｉ
ｎ）、ペントキサゾン（ｐｅｎｔｏｘａｚｏｎｅ）、ア
ザフェニジン（ａｚａｆｅｎｉｄｉｎ）、ピラフルフェ
ンエチル（ｐｙｒａｆｌｕｆｅｎ−ｅｔｈｙｌ）、ベン
ズフェンジゾン（ｂｅｎｚｆｅｎｄｉｚｏｎｅ）、ブタ
フェナシル（ｂｕｔａｆｅｎａｃｉｌ）、メトベンズロ
ン（ｍｅｔｏｂｅｎｚｕｒｏｎ）、シニドンエチル（ｃ
ｉｎｉｄｏｎ−ｅｔｈｙｌ）、フルポキサム（ｆｌｕｐ
ｏｘａｍ）、フルアゾレート（ｆｌｕａｚｏｌａｔ
ｅ）、プロフルアゾール（ｐｒｏｆｌｕａｚｏｌ）、ピ
ラクロニル（ｐｙｒａｃｈｌｏｎｉｌ）などのように植
物のクロロフィル生合成を阻害し、光増感過酸化物質を
植物体中に異常蓄積させることで除草効力を示すとされ
ているもの。

【００９３】（５）ノルフルラゾン（ｎｏｒｆｌｕｒａ
ｚｏｎ）、メトフルラゾン（ｍｅｔｆｌｕｒａｚｏｎ）
のようなピリダジノン系、ピラゾレート（ｐｙｒａｚｏ
ｌａｔｅ）、ピラゾキシフェン（ｐｙｒａｚｏｘｙｆｅ
ｎ）、ベンゾフェナップ（ｂｅｎｚｏｆｅｎａｐ）のよ
うなピラゾール系、その他フルリドン（ｆｌｕｒｉｄｏ
ｎｅ）、フルルタモン（ｆｌｕｒｔａｍｏｎｅ）、ジフ
ルフェニカン（ｄｉｆｌｕｆｅｎｉｃａｎ）、メトキシ
フェノン（ｍｅｔｈｏｘｙｐｈｅｎｏｎｅ）、クロマゾ
ン（ｃｌｏｍａｚｏｎｅ）、スルコトリオン（ｓｕｌｃ
ｏｔｒｉｏｎｅ）、メソトリオン（ｍｅｓｏｔｒｉｏｎ
ｅ）、イソキサフルトール（ｉｓｏｘａｆｌｕｔｏｌ
ｅ）、ジフェンゾコート（ｄｉｆｅｎｚｏｑｕａｔ）、
イソキサクロロトール（ｉｓｏｘａｃｈｌｏｒｔｏｌ
ｅ）、ベンゾビシクロン（ｂｅｎｚｏｂｉｃｙｃｌｏｎ
ｅ）、ピコリナフェン（ｐｉｃｏｌｉｎａｆｅｎ）、ビ
フルブタミド（ｂｅｆｌｕｂｕｔａｍｉｄ）などのよう
にカロチノイドなどの植物の色素生合成を阻害し、白化
作用を特徴とする除草効力を示すとされているもの。

【００９４】（６）ジクロホップメチル（ｄｉｃｌｏｆ
ｏｐ−ｍｅｔｈｙｌ）、ピリフェノップナトリウム塩
（ｐｙｒｉｐｈｅｎｏｐ−ｓｏｄｉｕｍ）、フルアジホ
ップブチル（ｆｌｕａｚｉｆｏｐ−ｂｕｔｙｌ）、ハロ
キシホップメチル（ｈａｌｏｘｙｆｏｐ−ｍｅｔｈｙ
ｌ）、キザロホップエチル（ｑｕｉｚａｌｏｆｏｐ−ｅ
ｔｈｙｌ）、シハロホップブチル（ｃｙｈａｌｏｆｏｐ
−ｂｕｔｙｌ）、フェノキサプロップエチル（ｆｅｎｏ
ｘａｐｒｏｐ−ｅｔｈｙｌ）のようなアリールオキシフ
ェノキシプロピオン酸系、アロキシジムナトリウム塩
（ａｌｌｏｘｙｄｉｍ−ｓｏｄｉｕｍ）、クレソジム
（ｃｌｅｔｈｏｄｉｍ）、セトキシジム（ｓｅｔｈｏｘ
ｙｄｉｍ）、トラルコキシジム（ｔｒａｌｋｏｘｙｄｉ
ｍ）、ブトロキシジム（ｂｕｔｒｏｘｙｄｉｍ）、テプ
ラロキシジム（ｔｅｐｒａｌｏｘｙｄｉｍ）、カロキシ
ジム（ｃａｌｏｘｙｄｉｍ）、クレフォキシジム（ｃｌ
ｅｆｏｘｙｄｉｍ）のようなシクロヘキサンジオン系な
どのようにイネ科植物に特異的に除草効力が強く認めら
れるもの。

【００９５】（７）クロリムロンエチル（ｃｈｌｏｒｉ
ｍｕｒｏｎ−ｅｔｈｙｌ）、スルホメツロンメチル（ｓ
ｕｌｆｏｍｅｔｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、プリミスル
フロンメチル（ｐｒｉｍｉｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈ
ｙｌ）、ベンスルフロンメチル（ｂｅｎｓｕｌｆｕｒｏ
ｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、クロルスルフロン（ｃｈｌｏｒｓ
ｕｌｆｕｒｏｎ）、メトスルフロンメチル（ｍｅｔｓｕ
ｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、シノスルフロン（ｃｉ
ｎｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ピラゾスルフロンエチル（ｐ
ｙｒａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｅｔｈｙｌ）、アジムス
ルフロン（ａｚｉｍｓｕｌｆｕｒｏｎ）、フラザスルフ
ロン（ｆｌａｚａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、リムスルフロン
（ｒｉｍｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ニコスルフロン（ｎｉｃ
ｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、イマゾスルフロン（ｉｍａｚｏ
ｓｕｌｆｕｒｏｎ）、シクロスルファムロン（ｃｙｃｌ
ｏｓｕｌｆａｍｕｒｏｎ）、プロスルフロン（ｐｒｏｓ
ｕｌｆｕｒｏｎ）、フルピルスルフロン（ｆｌｕｐｙｒ
ｓｕｌｆｕｒｏｎ）、トリスルフロンメチル（ｔｒｉｓ
ｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、ハロスルフロンメチ
ル（ｈａｌｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、チフ
ェンスルフロンメチル（ｔｈｉｆｅｎｓｕｌｆｕｒｏｎ
−ｍｅｔｈｙｌ）、エトキシスルフロン（ｅｔｈｏｘｙ
ｓｕｌｆｕｒｏｎ）、オキサスルフロン（ｏｘａｓｕｌ
ｆｕｒｏｎ）、エタメトスルフロン（ｅｔｈａｍｅｔｓ
ｕｌｆｕｒｏｎ）、フルピルスルフロン（ｆｌｕｐｙｒ
ｓｕｌｆｕｒｏｎ）、イオドスルフロン（ｉｏｄｏｓｕ
ｌｆｕｒｏｎ）、スルフォスルフロン（ｓｕｌｆｏｓｕ
ｌｆｕｒｏｎ）、トリトスルフロン（ｔｒｉｔｏｓｕｌ
ｆｕｒｏｎ）、フォーラムスルフロン（ｆｏｒａｍｓｕ
ｌｆｕｒｏｎ）、トリフルオキシスルフロン（ｔｒｉｆ
ｌｏｘｙｓｕｌｆｕｒｏｎ）のようなスルホニルウレア
系、フルメツラム（ｆｌｕｍｅｔｓｕｌａｍ）、メトス
ラム（ｍｅｔｏｓｕｌａｍ）、ジクロスラム（ｄｉｃｌ
ｏｓｕｌａｍ）、クロランスラムメチル（ｃｌｏｒａｎ
ｓｕｌａｍ−ｍｅｔｈｙｌ）、フロラスラム（ｆｌｏｒ
ａｓｕｌａｍ）、メトスルファム（ｍｅｔｏｓｕｌｆａ
ｍ）のようなトリアゾロピリミジンスルホンアミド系、
イマザピル（ｉｍａｚａｐｙｒ）、イマゼタピル（ｉｍ
ａｚｅｔｈａｐｙｒ）、イマザキン（ｉｍａｚａｑｕｉ
ｎ）、イマザモックス（ｉｍａｚａｍｏｘ）、イマザメ
ス（ｉｍａｚａｍｅｔｈ）、イマザメタベンズ（ｉｍａ
ｚａｍｅｔｈａｂｅｎｚ）、イマザピック（ｉｍａｚａ
ｐｉｃ）のようなイミダゾリノン系、ピリチオバックナ
トリウム塩（ｐｙｒｉｔｈｉｏｂａｃ−ｓｏｄｉｕ
ｍ）、ビスピリバックナトリウム塩（ｂｉｓｐｙｒｉｂ
ａｃ−ｓｏｄｉｕｍ）、ピリミノバックメチル（ｐｙｒ
ｉｍｉｎｏｂａｃ−ｍｅｔｈｙｌ）、ピリベンゾキシム
（ｐｙｒｉｂｅｎｚｏｘｉｍ）、ピリフタリド（ｐｙｒ
ｉｆｔａｌｉｄ）のようなピリミジニルサリチル酸系、
フルカーバゾン（ｆｌｕｃａｒｂａｚｏｎｅ）、プロカ
ーバゾンソディウム（ｐｒｏｃａｒｂａｚｏｎｅ−ｓｏ
ｄｉｕｍ）のようなスルホニルアミノカルボニルトリア
ゾリノン系、その他グリホサートアンモニウム塩（ｇｌ
ｙｐｈｏｓａｔｅ−ａｍｍｏｎｉｕｍ）、グリホサート
イソプロピルアミン塩（ｇｌｙｐｈｏｓａｔｅ−ｉｓｏ
ｐｒｏｐｙｌａｍｉｎｅ）、グルホシネートアンモニ
ウム塩（ｇｌｕｆｏｓｉｎａｔｅ−ａｍｍｏｎｉｕ
ｍ）、ビアラホス（ｂｉａｌａｐｈｏｓ）などのように
植物のアミノ酸生合成を阻害することで除草効力を示す
とされているもの。

【００９６】（８）トリフルラリン（ｔｒｉｆｌｕｒａ
ｌｉｎ）、オリザリン（ｏｒｙｚａｌｉｎ）、ニトラリ
ン（ｎｉｔｒａｌｉｎ）、ペンディメタリン（ｐｅｎｄ
ｉｍｅｔｈａｌｉｎ）、エタルフルラリン（ｅｔｈａｌ
ｆｌｕｒａｌｉｎ）のようなジニトロアニリン系、アミ
プロホスメチル（ａｍｉｐｒｏｆｏｓ−ｍｅｔｈｙ
ｌ）、ブタミホス（ｂｕｔａｍｉｆｏｓ）、アニロホス
（ａｎｉｌｏｆｏｓ）、ピペロホス（ｐｉｐｅｒｏｐｈ
ｏｓ）のような有機リン系、クロルプロファム（ｃｈｌ
ｏｒｐｒｏｐｈａｍ）、バーバン（ｂａｒｂａｎ）のよ
うなフェニルカーバメート系、ダイムロン（ｄａｉｍｕ
ｒｏｎ）、クミルロン（ｃｕｍｙｌｕｒｏｎ）、ブロモ
ブチド（ｂｒｏｍｏｂｕｔｉｄｅ）のようなクミルアミ
ン系、その他アシュラム（ａｓｕｌａｍ）、ジチオピル
（ｄｉｔｈｉｏｐｙｒ）、チアゾピル（ｔｈｉａｚｏｐ
ｙｒ）などのように植物の細胞有糸分裂を阻害すること
で除草効力を示すとされているもの。

【００９７】ＥＰＴＣ、ブチレート（ｂｕｔｙｌａｔ
ｅ）、モリネート（ｍｏｌｉｎａｔｅ）、ジメピペレー
ト（ｄｉｍｅｐｉｐｅｒａｔｅ）、フルアゾレート（ｆ
ｌｕａｚｏｌａｔｅ）、エスプロカルブ（ｅｓｐｒｏｃ
ａｒｂ）、チオベンカルブ（ｔｈｉｏｂｅｎｃａｒ
ｂ）、ピリブチカルブ（ｐｙｒｉｂｕｔｉｃａｒｂ）、
トリアレート（ｔｒｉａｌｌａｔｅ）のようなチオカー
バメート系、アラクロール（ａｌａｃｈｌｏｒ）、ブタ
クロール（ｂｕｔａｃｈｌｏｒ）、プレチラクロール
（ｐｒｅｔｉｌａｃｈｌｏｒ）、メトラクロール（ｍｅ
ｔｏｌａｃｈｌｏｒ）、Ｓ−メトラクロール（Ｓ−ｍｅ
ｔｏｌａｃｈｌｏｒ）、テニルクロール（ｔｈｅｎｙｌ
ｃｈｌｏｒ）、ジメテナミド（ｄｉｍｅｔｈｅｎａｍｉ
ｄ）、アセトクロール（ａｃｅｔｏｃｈｌｏｒ）、プロ
パクロール（ｐｒｏｐａｃｈｌｏｒ）のようなクロロア
セトアミド系、その他エトベンザニド（ｅｔｏｂｅｎｚ
ａｎｉｄ）、メフェナセット（ｍｅｆｅｎａｃｅｔ）、
フルフェナセット（ｆｌｕｆｅｎａｃｅｔ）、トリディ
ファン（ｔｒｉｄｉｐｈａｎｅ）、カフェンストロール
（ｃａｆｅｎｓｔｒｏｌｅ）、フェントラザミド（ｆｅ
ｎｔｒａｚａｍｉｄｅ）、オキサジクロメフォン（ｏｘ
ａｚｉｃｌｏｍｅｆｏｎｅ）、インダノファン（ｉｎｄ
ａｎｏｆａｎ）などのように植物のタンパク質生合成あ
るいは脂質生合成を阻害することで除草効力を示すとさ
れているもの。

【００９８】（１０）Ｘａｎｔｈｏｍｏｎａｓｃａｍ
ｐｅｓｔｒｉｓ、Ｅｐｉｃｏｃｃｏｓｕｒｕｓｎｅｍ
ａｔｏｓｕｒｕｓ、Ｅｘｓｅｒｏｈｉｌｕｍｍｏｎｏ
ｓｅｒａｓ、Ｄｒｅｃｈｓｒｅｌａｍｏｎｏｃｅｒａ
ｓなどのように植物に寄生することで除草効力を示すと
されているもの。

【００９９】また本発明化合物は後記試験例１、２又は
３に見られるとおり、イネ、トウモロコシ、コムギなど
の作物に対し安全性を有し、且つ、雑草を良好に防除で
きる選択性を示すものを含むが、本発明化合物を前記作
物栽培において使用する際、前記他の除草剤の有効成分
化合物の中、例えば次のごとき化合物の１種又は２種以
上と混用或は併用すれば相乗効果が得られることがあ
る。

【０１００】イネの栽培；２，４−Ｄ、ＭＣＰＡ、ＭＣ
ＰＢ、ナプロアニリド、キンクロラック、シメトリン、
プロメトリン、ジメタメトリン、プロパニル、スエッ
プ、ベンタゾン、ニトロフェン、クロメトキシフェン、
ビフェノックス、オキサジアルギル、オキサジアゾン、
スルフェントラゾン、カーフェントラゾンエチル、ペン
トキサゾン、ピラゾレート、ピラゾキシフェン、ベンゾ
フェナップ、メトキシフェノン、シハロホップブチル、
ベンスルフロンメチル、シノスルフロン、ピラゾスルフ
ロンエチル、アジムスルフロン、イマゾスルフロン、シ
クロスルファムロン、エトキシスルフロン、ビスピリバ
ックナトリウム塩、ピリミノバックメチル、アニロホ
ス、ピペロホス、ダイムロン、クミルロン、ブロモブチ
ド、ジチオピル、モリネート、ジメピペレート、エスプ
ロカルブ、チオベンカルブ、ピリブチカルブ、テニルク
ロール、プレチラクロール、ブタクロール、エトベンザ
ニド、メフェナセット、フルフェナセット、カフェンス
トロール、フェントラザミド、オキサジクロメフォン、
インダノファン、ベンゾビシクロン、ピリベンゾキシ
ム、トリアジフラム、クレフォキシジム、ピラクロニ
ル、ピリフタリド

【０１０１】トウモロコシの栽培；２，４−Ｄ、ＭＣＰ
Ａ、ジカンバ、クロピラリド、ベナゾリン、ダイフルフ
ェンゾピル、ジウロン、リニュロン、メトベンズロン、
シマジン、アトラジン、アトラトン、メトリブジン、テ
ルブチラジン、シアナジン、アメトリン、シプロミッ
ド、ブロモキシニル、ブロモキシニル・オクタノエー
ト、ピリデート、ベンタゾン、パラコート、オキシフル
オルフェン、フルミクロラックペンチル、フルチアセッ
トメチル、フルリドン、スルコトリオン、メソトリオ
ン、イソキサフルトール、カーフェントラゾンエチル、
プリミスルフロンメチル、リムスルフロン、ニコスルフ
ロン、プロスルフロン、ハロスルフロンメチル、チフェ
ンスルフロンメチル、フルメツラム、メトスラム、イマ
ゼタピル、グリホサートアンモニウム塩、グリホサート
イソプロピルアミン塩、グルホシネートアンモニウム
塩、トリフルラリン、ペンディメタリン、ＥＰＴＣ、ブ
チレート、アラクロール、メトラクロール、Ｓ−メトラ
クロール、アセトクロール、プロパクロール、ジメテナ
ミド、トリディファン、フロラスラム、メトベンズロ
ン、メトスルファン、オキサスルフロン、テプラロキシ
ジム、アミカルバゾン、フォーラムスルフロン

【０１０２】コムギの栽培；ＭＣＰＢ、キンメラック、
リニュロン、イソプロチュロン、プロメトリン、ブロモ
キシニル、ブロモキシニル・オクタノエート、ピリデー
ト、ビフェノックス、カーフェントラゾンエチル、チジ
アジミン、ピラフルフェンエチル、フルルタモン、ジフ
ルフェニカン、スルコトリオン、ジクロホップメチル、
トラルコキジム、クロルスルフロン、メトスルフロンメ
チル、プロスルフロン、ハロスルフロンメチル、フルメ
ツラム、メトスラム、ペンディメタリン、バーバン、イ
マザメタベンズ、シニドンエチル、エトキシフェンエチ
ル、フロラスラム、フルアゾレート、フルポキサム、イ
オドスルフロン、メトスルファム、ピリベンゾキシム、
スルフォスルフロン、トラルコキシジム、フルカルバゾ
ンソディウム、ピコリノフェン、シクロスルファムロ
ン、エトキシスルフロン、イマザモックス、ビフルブタ
ミド、フルカーバゾン、プロカーバゾンソディウム

【０１０３】

【実施例】次に本発明の実施例を記載するが、本発明は
これらに限定されるものではない。まず本発明化合物の
合成例を記載する。

【０１０４】合成例１ 3-クロロ-2-[3'-(ジオキソラン-2-イル)メトキシ-2'-メ
チル-4'-メチルスルホニルベンゾイル]-2-シクロヘキセ
ン-1-オン（後記化合物No.1-20）の合成

【０１０５】(1)4-ブロモ-3-ヒドロキシ-2-メチル安息
香酸エチル3.85g及びジメチルホルムアミド38.5mlの混
合物に、2-ブロモメチル-1,3-ジオキソラン2.48g及び炭
酸カリウム4.12gを加え、100℃で2時間反応させた。反
応混合物を水中に投入し、塩化メチレンで抽出した後水
洗した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後減圧
濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開溶媒：酢酸エチル/n-ヘキサン＝1/9）にて精製し
て、油状の4-ブロモ-3-(ジオキソラン-2-イル)メトキシ
-2-メチル安息香酸エチル4.44gを得た。このもののＮＭ
Ｒスペクトルデータは以下の通りである。¹ H-NMR δppm ( Solvent : CDCl₃ ／400MHz ) 1.36(t,3H),2.55(s,3H),3.94〜3.97(m,6H),4.03〜4.35
(m,2H),4.33(q,2H),5.35(t,1H),7.41(d,1H),7.49(d,1H)

【０１０６】(2)4-ブロモ-3-(ジオキソラン-2-イル)メ
トキシ-2-メチル安息香酸エチル4.44g及びジメチルホル
ムアミド30mlの混合物にナトリウムチオメトキシド1.08
gを加え、50℃で0.5時間反応させた。反応混合物を水中
に投入し、塩化メチレンで抽出した後水洗した。有機層
を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後減圧濃縮し、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸
エチル/n-ヘキサン＝1/9）にて精製して、油状の3-(ジ
オキソラン-2-イル)メトキシ-2-メチル-4-メチルチオ安
息香酸エチル2.87gを得た。このもののＮＭＲスペクト
ルデータは以下の通りである。¹ H-NMR δppm ( Solvent : CDCl₃ ／400MHz ) 1.36(t,3H),2.41(s,3H),2.52(s,3H),3.90(d,2H),3.96
(m,2H),4.06(m,2H),4.31(q,2H),5.34(t,1H),6.97(d,1
H),7.67(d,1H)

【０１０７】(3)3-(ジオキソラン-2-イル)メトキシ-2-
メチル-4-メチルチオ安息香酸エチル2.87g及びクロロホ
ルム82mlの混合物に、氷冷下でメタクロロ過安息香酸3.
94gを加え、室温に戻し15時間反応させた。反応混合物
を濾過し、濾液を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、
次いで水洗した。無水硫酸ナトリウムで乾燥した後減圧
濃縮し、油状の3-(ジオキソラン-2-イル)メトキシ-2-メ
チル-4-メチルスルホニル安息香酸エチル3.1gを得た。
このもののＮＭＲスペクトルデータは以下の通りであ
る。¹ H-NMR δppm ( Solvent : CDCl₃ ／400MHz ) 1.39(t,3H),2.54(s,3H),3.29(s,3H),3.97〜3.99(m,2H),
4.04〜4.06(m,2H),4.09(d,2H),4.38(q,2H),5.39(t,1H),
7.71(d,1H),7.85(d,1H)

【０１０８】(4)3-(ジオキソラン-2-イル)メトキシ-2-
メチル-4-メチルスルホニル安息香酸エチル3.1g及びエ
タノール10mlの混合物に、水酸化ナトリウム0.9g及び水
10mlの混合物を加え、室温で2時間反応させた。反応混
合物に水を加え、塩化メチレンで洗浄した。水層を塩酸
で酸性にし、塩化メチレンで抽出した後無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、減圧濃縮して融点170〜171℃の3-(ジオ
キソラン-2-イル)メトキシ-2-メチル-4-メチルスルホニ
ル安息香酸2.8gを得た。このもののＮＭＲスペクトルデ
ータは以下の通りである。¹ H-NMR δppm ( Solvent : CDCl₃ ／400MHz ) 2.61(s,3H),3.31(s,3H),3.98(m,2H),4.05〜4.07(m,2H),
4.11(d,2H),5.41(t,1H),7.91(s,2H)

【０１０９】(5)3-(ジオキソラン-2-イル)メトキシ-2-
メチル-4-メチルスルホニル安息香酸0.31g及びジクロロ
エタン10mlの混合物に、塩化チオニル0.14g及びジメチ
ルホルムアミド10mgを加え、還流下で2時間反応させ
た。反応混合物を減圧濃縮して3-(ジオキソラン-2-イ
ル)メトキシ-2-メチル-4-メチルスルホニル安息香酸塩
化物を得た。

【０１１０】(6)前工程で得た3-(ジオキソラン-2-イル)
メトキシ-2-メチル-4-メチルスルホニル安息香酸塩化物
及びジクロロエタン10mlの混合物を、氷冷下で、1,3-シ
クロヘキサンジオン0.12g、ジクロロエタン10ml及びト
リエチルアミン0.12gの混合物に滴下した。滴下終了後
室温に戻し、1.5時間反応させた。反応混合物を水洗
し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後減圧濃縮
してエノールエステル0.44gを得た。

【０１１１】(7)前工程で得たエノールエステル0.44g及
びアセトニトリル10mlの混合物にトリエチルアミン0.25
g及びアセトンシアノヒドリン21mgを加え、室温で3時間
反応させた。反応混合物を水中に投入し、塩化メチレン
で洗浄した。水層を塩酸で酸性にし、塩化メチレンで抽
出した後無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮してア
メ状の2-[3'-(ジオキソラン-2-イル)メトキシ-2'-メチ
ル-4'-メチルスルホニルベンゾイル]-1,3-シクロヘキサ
ンジオン0.4gを得た。このもののＮＭＲスペクトルデー
タは以下の通りである。¹ H-NMR δppm ( Solvent : CDCl₃ ／400MHz ) 2.04(t,2H),2.21(s,3H),2.41(t,2H),2.78(t,2H),3.29
(s,3H),3.95〜3.97(m,2H),4.02〜4.04(m,2H),4.12(d,2
H),5.37(t,1H),6.95(d,1H),7.81(d,1H)

【０１１２】(8)2-[3'-(ジオキソラン-2-イル)メトキシ
-2'-メチル-4'-メチルスルホニルベンゾイル]-1,3-シク
ロヘキサンジオン0.23g及びジクロロエタン2.3mlの混合
物に、塩化オキザリル0.107gを加え、次いでジメチルホ
ルムアミド10mgを加え室温で1時間反応させた。反応混
合物を塩化メチレンで希釈し、炭酸カリウム水溶液次い
で水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た後減圧濃縮して、アメ状の目的物0.24gを得た。この
もののＮＭＲスペクトルデータは以下の通りである。¹ H-NMR δppm ( Solvent : CDCl₃ ／400MHz ) 21(m,2H),2.54(t,2H),2.58(s,3H),2.89(t,2H),3.32(s,3
H),4.0(m,2H),4.07(m,2H),4.12(d,2H),5.42(t,1H),7.38
(d,1H),7.86(d,1H)

【０１１３】合成例２ 2-[3'-(ジオキソラン-2-イル)メトキシ-2'-メチル-4'-
メチルスルホニルベンゾイル]-3-フェニルチオ-2-シク
ロヘキセン-1-オン（後記化合物No.4-15）の合成

【０１１４】3-クロロ-2-[3'-(ジオキソラン-2-イル)メ
トキシ-2'-メチル-4'-メチルスルホニルベンゾイル]-2-
シクロヘキセン-1-オン0.24g及びテトラヒドロフラン4.
6mlの混合物に、トリエチルアミン62mg次いでチオフェ
ノール62mgを加え室温にて2時間反応させた。反応混合
物を減圧濃縮した後塩化メチレンで希釈し、水酸化ナト
リウム水溶液次いで水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナ
トリウムで乾燥した後減圧濃縮して、アメ状の目的物0.
25gを得た。このもののＮＭＲスペクトルデータは以下
の通りである。¹ H-NMR δppm ( Solvent : CDCl₃ ／400MHz ) 1.97(m,2H),2.39〜2.43(m,6H),2.51(s,3H),3.32(s,3H),
3.99(m,2H),4.07(m,2H),4.14(d,2H),5.42(t,1H),7.27
(d,1H),7.44〜7.53(m,5H),7.84(d,1H)

【０１１５】合成例3 2-[3'-(ジオキソラン-2-イル)メトキシ-2'-メチル-4'-
メチルスルホニルベンゾイル]-3-[（メチルチオ）カル
ボニルオキシ]-2-シクロヘキセン-1-オン（後記化合物N
o.5-39）の合成

【０１１６】2-[3'-(ジオキソラン-2-イル)メトキシ-2'
-メチル-4'-メチルスルホニルベンゾイル]-1,3-シクロ
ヘキサンジオン0.217g及びジクロロエタン5mlの混合物
に、トリエチルアミン64mg次いでメチルクロロチオー
ルフォーメート64mgを加え室温にて1時間反応させた。
反応混合物をジクロロエタンで希釈し、炭酸カリウム水
溶液次いで水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウム
で乾燥した後減圧濃縮して、アメ状の目的物0.23gを得
た。このもののＮＭＲスペクトルデータは以下の通りで
ある。¹ H-NMR δppm ( Solvent : CDCl₃ ／400MHz ) 16(t,2H),2.28(s,3H),2.49(s,3H),2.53(t,2H),2.79(t,2
H),3.31(s,3H),3.99(m,2H),4.08(m,2H),4.12(d,2H),5.4
1(t,1H),7.36(d,1H),7.84(d,1H)

【０１１７】次に、前記式（Ｉ）で表される本発明化合
物の代表例を第１〜９表に挙げるが、これら化合物は前
記合成例或は前記した本発明化合物の種々の製造方法に
基づいて合成することができる。尚、表中で使用する略
号は以下の通りである。Me：メチル基、Et：エチル基、
Pr：プロピル基、Bu：ブチル基、Ph：フェニル基、4-Cl
-Ph：４−クロロフェニル基、2-Me-Ph：２−メチルフェ
ニル基、4-Me-Ph：４−メチルフェニル基、

【０１１８】

【化２６】

【０１１９】

【表１】

【０１２０】

【表２】

【０１２１】

【表３】

【０１２２】

【表４】

【０１２３】

【表５】

【０１２４】

【表６】

【０１２５】

【表７】

【０１２６】

【表８】

【０１２７】

【表９】

【０１２８】

【表１０】

【０１２９】

【表１１】

【０１３０】

【表１２】

【０１３１】

【表１３】

【０１３２】

【表１４】

【０１３３】

【表１５】

【０１３４】

【表１６】

【０１３５】

【表１７】

【０１３６】

【表１８】

【０１３７】

【表１９】

【０１３８】

【表２０】

【０１３９】

【表２１】

【０１４０】

【表２２】

【０１４１】

【表２３】

【０１４２】

【表２４】

【０１４３】

【表２５】

【０１４４】

【表２６】

【０１４５】

【表２７】

【０１４６】

【表２８】

【０１４７】

【表２９】

【０１４８】次に本発明の試験例を記載する。試験例１１／１７０，０００ヘクタールポットに畑作土壌をつ
め、各種植物の種子を播種した。その後、植物が一定の
葉令（（１）ノビエ１．２〜２．１葉期、（２）メヒシ
バ１．３〜２．０葉期、（３）アオゲイトウ０．１〜
０．３葉期、（４）アメリカキンゴジカ０．１〜０．３
葉期、（５）マルバアサガオ０．２〜０．８葉期、
（６）オナモミ０．３〜０．６葉期、（７）イネ１．４
〜２．０葉期、（８）コムギ２．２〜３．０葉期、
（９）トウモロコシ２．２〜３．１葉期、（１０）ダイ
ズ初生葉期〜０．３葉期）に達したとき、本発明化合物
を通常の製剤方法に準じて調製した水和剤又は乳剤を所
定有効成分量となるように秤量し、１ヘクタール当り５
００リットルの水に希釈した。更にその希釈液に対して
農業用展着剤を０．１容量％加え、小型スプレーで茎葉
処理した。

【０１４９】薬剤処理後２１〜２２日目に各種植物の生
育状態を肉眼観察し、０（無処理区と同等）〜１００
（完全枯殺）の抑草率（％）で除草効果を評価し、第１
０表の結果を得た。

【０１５０】

【表３０】

【０１５１】試験例２１／１７０，０００ヘクタールポットに畑作土壌をつ
め、各種植物の種子（ノビエ、メヒシバ、アオゲイト
ウ、アメリカキンゴジカ、マルバアサガオ、オナモミ、
イネ、コムギ、トウモロコシ及びダイズ）を播種した。
播種翌日、本発明化合物を通常の製剤方法に準じて調製
した水和剤又は乳剤を所定有効成分量となるように秤量
し、１ヘクタール当り１５００リットルの水に希釈し、
小型スプレーで土壌処理した。

【０１５２】薬剤処理後１８〜２１日目に各種植物の生
育状態を肉眼観察し、０（無処理区と同等）〜１００
（完全枯殺）の抑草率（％）で除草効果を評価し、第１
１表の結果を得た。

【０１５３】

【表３１】

【０１５４】試験例３１／１，０００，０００ヘクタールポットに水田土壌を
詰め、ノビエ及びホタルイの種子を播種し、その上に軽
く覆土した。その後湛水深０．５〜１ｃｍの状態で温室
内に静置し、翌日又は２日後にウリカワの塊茎を植え込
んだ。その後湛水深を３〜４ｃｍに保ち、ノビエ及びホ
タルイが０．５葉期、ウリカワが初生葉期に達した時点
で、本発明化合物を通常の製剤方法に準じて調製した水
和剤又は乳剤の水希釈液を、所定有効成分量になるよう
にピペットで均一に滴下処理した。

【０１５５】また１／１，０００，０００ヘクタールポ
ットに水田土壌を詰め、代かきを行い、湛水深を３〜４
ｃｍとし、翌日に２葉期のイネ（品種：日本晴）を移植
深３ｃｍに移植した。移植後４日目に本発明化合物を前
述と同様に処理した。

【０１５６】薬剤処理後１４日目にノビエ、ホタルイ及
びウリカワの生育状態を、薬剤処理後２１日目にイネの
生育状態を各々肉眼観察し、０（無処理区と同等）〜１
００（完全枯殺）の抑草率（％）で除草効果を評価し、
第１２表の結果を得た。

【０１５７】

【表３２】

【０１５８】次に、本発明の製剤例を記載する。製剤例１（１）本発明化合物７５重量部（２）ゲロポンＴ−７７（商品名；ローヌ・プーラン社製）１４．５重量部（３）ＮａＣｌ１０重量部（４）デキストリン０．５重量部以上の各成分を高速混合細粒機に入れ、さらにそこへ２
０％の水を加え造粒、乾燥して顆粒水和剤が得られる。

【０１５９】製剤例２（１）カオリン７８重量部（２）ラベリンＦＡＮ（商品名；第一工業製薬（株）製）２重量部（３）ソルポール５０３９（商品名；東邦化学工業（株）製）５重量部（４）カープレックス（商品名；塩野義製薬（株）製）１５重量部以上、（１）〜（４）の成分の混合物と本発明化合物と
を９：１の重量割合で混合して水和剤が得られる。

【０１６０】製剤例３（１）ハイフィラーＮｏ．１０（商品名；松村産業（株）製）３３重量部（２）ソルポール５０５０（商品名；東邦化学工業（株）製）３重量部（３）ソルポール５０７３（商品名；東邦化学工業（株）製）４重量部（４）本発明化合物６０重量部以上の（１）〜（４）の各成分を混合して水和剤が得ら
れる。

【０１６１】製剤例４（１）本発明化合物４重量部（２）ベントナイト３０重量部（３）炭酸カルシウム６１．５重量部（４）トキサノンＧＲ−31A（商品名；三洋化成工業（株）製）３重量部（５）リグニンスルホン酸カルシウム塩１．５重量部予め粉砕した（１）と、（２）及び（３）とを混合し、
そこへ（４）、（５）及び水を加えて混合し、押出し造
粒する。その後、乾燥、整粒して粒剤が得られる。

【０１６２】製剤例５（１）本発明化合物３０重量部（２）ジークライト（商品名；ジークライト（株）製）６０重量部（３）ニューカルゲンＷＧ−１（商品名；竹本油脂（株）製）５重量部（４）ニューカルゲンＦＳ−７（商品名；竹本油脂（株）製）５重量部（１）、（２）及び（３）を混合し、粉砕機を通した
後、（４）を加えて混練後、押出し造粒する。その後、
乾燥、整粒して顆粒水和剤が得られる。

【０１６３】製剤例６（１）本発明化合物２８重量部（２）ソプロポールＦＬ（商品名；ローヌ・プーラン社製）２重量部（３）ソルポール３５５（商品名；東邦化学工業（株）製）１重量部（４）IPソルベント1620（商品名；出光石油化学（株）製）３２重量部（５）エチレングリコール６重量部（６）水３１重量部以上の（１）〜（６）の成分を混合し、湿式粉砕機（ダ
イノ−ミル）を用いて粉砕して水性懸濁剤が得られる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｃ０７Ｄ 307/12 Ｃ０７Ｄ 307/12 ４Ｈ０１１ 309/06 309/06 319/06 319/06 319/12 319/12 333/16 333/16 335/02 335/02 339/08 339/08 (72)発明者佐野真喜子滋賀県草津市西渋川二丁目３番１号石原産業株式会社中央研究所内 (72)発明者大野研滋賀県草津市西渋川二丁目３番１号石原産業株式会社中央研究所内Ｆターム(参考） 4C022 GA04 JA02 4C023 BA01 JA01 PA03 4C037 CA08 4C062 AA06 4H006 AA01 AA02 AA03 AB04 AC24 AC30 AC41 AC43 AC62 AC63 BA02 BA28 BA32 BA51 BA65 BB11 BB12 BB15 BB17 BB20 BB25 BC10 BC19 TA01 TA02 TA04 4H011 AB01 BA01 BB05 BB06 BB07 BB08 BB09 BB10 BC03 BC07 BC18 BC19 BC20 DA02 DA14 DA15 DA16 DC05 DC06 DD03 DD04 DH03

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】式（I）；【化１】 [式中、ＸはＷにより中断されているアルキレンであ
り、Ｗは酸素原子又は硫黄原子であり、Ａは酸素原子及
び硫黄原子からなる群より選ばれた少なくとも１種のヘ
テロ原子を１〜２含有する５若しくは６員飽和ヘテロ環
基(ヘテロ環基はアルキルで置換されていてもよい)又は
ジアルコキシメチルであり、Ｑはハロゲン、-O-(CH₂)_n-
R₅、-O-(CH₂)_n-C(=O)-R₅、-O-C(=O)-(CH₂)_n-R₅、-O-C(=
L)-M-R₅、-O-C(=L)-N(R₅)R₆、-O-SO₂-N(R₅)R₆、-O-SO₂-
R₅、-S(O)_m-R₅又は-N(R₅)R₆であり、Ｌ及びＭは各々酸
素原子又は硫黄原子であり、ｎは０〜３であり、ｍは０
〜２であり、Ｒ₁はハロゲン、アルキル、ハロアルキ
ル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、ハロ
アルキルチオ、アルキルスルフィニル、ハロアルキルス
ルフィニル、アルキルスルホニル、ハロアルキルスルホ
ニル、ニトロ又はシアノであり、Ｒ₂はハロゲン、アル
キル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、ア
ルキルチオ、ハロアルキルチオ、アルキルスルフィニ
ル、ハロアルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、
ハロアルキルスルホニル、ジアルキルアミノスルホニ
ル、ジ(ハロアルキル)アミノスルホニル、ニトロ又はシ
アノであり、Ｒ ₃は水素原子、アルキル又はシクロアル
キルであり、Ｒ₄は水素原子又はアルキルであり、Ｒ₃と
Ｒ₄は一緒になってケトンを形成してもよく、Ｒ₅及びＲ
₆は各々水素原子、アルキル、アルコキシアルキル、ア
ルコキシ、置換されてもよいフェニル又は置換されても
よいベンジルであり、Ｒ₅とＲ₆は一緒になって５若しく
は６員飽和ヘテロ環基を形成してもよい]で表されるシ
クロヘキセノン系化合物又はその塩。
【請求項２】式（I）；【化２】 [式中、ＸはＷにより中断されているアルキレンであ
り、Ｗは酸素原子又は硫黄原子であり、Ａは酸素原子及
び硫黄原子からなる群より選ばれた少なくとも１種のヘ
テロ原子を１〜２含有する５若しくは６員飽和ヘテロ環
基(ヘテロ環基はアルキルで置換されていてもよい)又は
ジアルコキシメチルであり、Ｑはハロゲン、-O-(CH₂)_n-
R₅、-O-(CH₂)_n-C(=O)-R₅、-O-C(=O)-(CH₂)_n-R₅、-O-C(=
L)-M-R₅、-O-C(=L)-N(R₅)R₆、-O-SO₂-N(R₅)R₆、-O-SO₂-
R₅、-S(O)_m-R₅又は-N(R₅)R₆であり、Ｌ及びＭは各々酸
素原子又は硫黄原子であり、ｎは０〜３であり、ｍは０
〜２であり、Ｒ₁はハロゲン、アルキル、ハロアルキ
ル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、ハロ
アルキルチオ、アルキルスルフィニル、ハロアルキルス
ルフィニル、アルキルスルホニル、ハロアルキルスルホ
ニル、ニトロ又はシアノであり、Ｒ₂はハロゲン、アル
キル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、ア
ルキルチオ、ハロアルキルチオ、アルキルスルフィニ
ル、ハロアルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、
ハロアルキルスルホニル、ジアルキルアミノスルホニ
ル、ジ(ハロアルキル)アミノスルホニル、ニトロ又はシ
アノであり、Ｒ ₃は水素原子、アルキル又はシクロアル
キルであり、Ｒ₄は水素原子又はアルキルであり、Ｒ₃と
Ｒ₄は一緒になってケトンを形成してもよく、Ｒ₅及びＲ
₆は各々水素原子、アルキル、アルコキシアルキル、ア
ルコキシ、置換されてもよいフェニル又は置換されても
よいベンジルであり、Ｒ₅とＲ₆は一緒になって５若しく
は６員飽和ヘテロ環基を形成してもよい]で表されるシ
クロヘキセノン系化合物又はその塩の製造方法であっ
て、（１）式（II）；【化３】（式中、Ｘ、Ａ、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃及びＲ₄は前述の通りで
ある）で表される化合物と、[A]ハロゲン化剤、[B]CH₂N
₂、[C]R₈-C(=O)-Halで表される化合物、[D]R₉-C(=S)-Ha
lで表される化合物又は[E]R₁₀SO₂-Halで表される化合物
（式中、Halはハロゲンであり、Ｒ₈は-(CH₂)_n-R₅、-M-R
₅又は-N(R₅)R₆であり、Ｒ₉は-M-R₅又は-N(R₅)R₆であ
り、Ｒ₁₀はＲ₅又は-N(R₅)R₆であり、R₅、R₆、Ｍ及びｎ
は前述の通りである）とを反応させるか、（２）式（I
−１）；【化４】（式中、Ｘ、Ａ、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄及びHalは前述の
通りである）で表される化合物と、[F]R₇OHで表される
化合物、[G]R₅SHで表される化合物又は[H]R₅(R₆)NHで表
される化合物（式中、Ｒ₇は-(CH₂)_n-R₅又は-(CH₂)_n-C(=
O)-R₅であり、R₅、R₆及びｎは前述の通りである）とを
反応させるか、或は（３）式（I−７）；【化５】（式中、Ｘ、Ａ、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄及びＲ₅は前述の
通りでありる）を酸化することを特徴とする、前記式
（I）の化合物の製造方法。
【請求項３】請求項１のシクロヘキセノン系化合物又
はその塩を有効成分として含有する除草剤。
【請求項４】請求項１のシクロヘキセノン系化合物又
はその塩の有効成分量を施用する有害雑草の防除方法。