JP2001320451A - 携帯型情報機器 - Google Patents
携帯型情報機器Info
- Publication number
- JP2001320451A JP2001320451A JP2000137373A JP2000137373A JP2001320451A JP 2001320451 A JP2001320451 A JP 2001320451A JP 2000137373 A JP2000137373 A JP 2000137373A JP 2000137373 A JP2000137373 A JP 2000137373A JP 2001320451 A JP2001320451 A JP 2001320451A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ultraviolet
- sensor
- portable information
- information device
- information display
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 38
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 15
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 21
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 16
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 10
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 claims description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 6
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 206010034960 Photophobia Diseases 0.000 abstract description 2
- 208000013469 light sensitivity Diseases 0.000 abstract description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 20
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 16
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 9
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 9
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 9
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 8
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 7
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 6
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 5
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 5
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 4
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 4
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 4
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 4
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 4
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 3
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 3
- XCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N trimethylgallium Chemical compound C[Ga](C)C XCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L copper;diiodide Chemical compound I[Cu]I GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000001678 elastic recoil detection analysis Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000464 lead oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N oxolead Chemical compound [Pb]=O YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005001 rutherford backscattering spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 239000010944 silver (metal) Substances 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- BSYNRYMUTXBXSQ-UHFFFAOYSA-N Aspirin Chemical compound CC(=O)OC1=CC=CC=C1C(O)=O BSYNRYMUTXBXSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHYQBXJRURFKIN-UHFFFAOYSA-N C1(C=CC=C1)[Mg] Chemical compound C1(C=CC=C1)[Mg] MHYQBXJRURFKIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHHSYTMEDOURFE-UHFFFAOYSA-N C[Ca]C Chemical compound C[Ca]C KHHSYTMEDOURFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCBWFLVNVLVYLR-UHFFFAOYSA-N C[Sr]C Chemical compound C[Sr]C PCBWFLVNVLVYLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004261 CaF 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005778 DNA damage Effects 0.000 description 1
- 231100000277 DNA damage Toxicity 0.000 description 1
- 206010014970 Ephelides Diseases 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000003351 Melanosis Diseases 0.000 description 1
- 206010051246 Photodermatosis Diseases 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 208000000453 Skin Neoplasms Diseases 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000003796 beauty Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- OCFSGVNHPVWWKD-UHFFFAOYSA-N butylaluminum Chemical compound [Al].[CH2]CCC OCFSGVNHPVWWKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMBBYINYHYQUGH-UHFFFAOYSA-N butylindium Chemical compound CCCC[In] YMBBYINYHYQUGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001413 cellular effect Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N diethylzinc Chemical compound CC[Zn]CC HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- AXAZMDOAUQTMOW-UHFFFAOYSA-N dimethylzinc Chemical compound C[Zn]C AXAZMDOAUQTMOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 230000002500 effect on skin Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 229920006351 engineering plastic Polymers 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 229910021478 group 5 element Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 230000036541 health Effects 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical group 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Inorganic materials [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- NRQNMMBQPIGPTB-UHFFFAOYSA-N methylaluminum Chemical compound [CH3].[Al] NRQNMMBQPIGPTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013081 microcrystal Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910003465 moissanite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- HDZGCSFEDULWCS-UHFFFAOYSA-N monomethylhydrazine Chemical compound CNN HDZGCSFEDULWCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 230000008845 photoaging Effects 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000009774 resonance method Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 201000000849 skin cancer Diseases 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 230000007847 structural defect Effects 0.000 description 1
- WGPCGCOKHWGKJJ-UHFFFAOYSA-N sulfanylidenezinc Chemical compound [Zn]=S WGPCGCOKHWGKJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGGPNXQUMRMPRA-UHFFFAOYSA-N triethylgallium Chemical compound CC[Ga](CC)CC RGGPNXQUMRMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTRPZROOJRIMKW-UHFFFAOYSA-N triethylindigane Chemical compound CC[In](CC)CC OTRPZROOJRIMKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/42—Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors
- G01J1/429—Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors applied to measurement of ultraviolet light
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
- Calculators And Similar Devices (AREA)
- Telephone Set Structure (AREA)
- Telephone Function (AREA)
Abstract
ータ等の携帯型情報機器の表示機能を損なうことなく、
紫外線を測定することができる。 【解決手段】 携帯電話等の携帯型情報機器10の情報
表示領域12内に紫外線センサー14を設けた。紫外線
センサー14は紫外線のみに光感度を備えるセンサーで
あり、紫外線センサー14の受光面が化合物半導体であ
るものが好ましい。
Description
る紫外線を容易に検出することができる紫外線センサー
を備えた携帯型情報機器に関する。
つとして、オゾン層の破壊による地上での紫外線量が増
加していることが挙げられる。このような紫外線は皮膚
ガンの発生やDNAの損傷による光過敏症の増大、光老
化などの健康に重大な影響を及ぼす他、しみやそばかす
などの美容上の問題となる肌への影響が大きい。このた
め生活環境における紫外線の測定は美容や医療などで必
要性が増してきた。
量器を必要とし、またこのような専用のUV測定器を身
につけることは面倒であり、このような点からも紫外線
を簡単に測定することは従来できなかった。また、従来
の紫外線センサーは可視光に感度のあるものを可視光カ
ットフィルターを付け、かつ遮光して使用することが必
要であつたためセンサーは厚くなり、また、センサーの
構造が複雑化し、コストも高くなり、簡単に使用できな
かった。また、センサーの色は黒色で、かつ遮光するた
め紫外線計量器は紫外線センサーを独立に設置する必要
性から大きくなり、デザイン上からも問題があった。
に紫外線の測定機を用意しなくとも日常簡単に紫外線量
を測定できる携帯型情報機器を提供することにある。ま
た、本発明の目的はデザイン的にも優れた、紫外線量を
測定できる携帯型情報機器を提供することにある。
携帯型情報機器によって達成される。 (1) 所定の機能を有する携帯型情報機器の情報表示
領域内に、紫外線センサーを設けたことを特徴とする携
帯型情報機器である。 (2) 前記紫外線センサーが、実質的に紫外線光のみ
に光感度を備えるセンサーであることを特徴とする前記
(1)に記載の携帯型情報機器である。 (3) 前記情報表示領域が、情報表示手段と情報表示
手段を覆う可視光透過型保護カバーとを備え、前記紫外
線センサ受光面が前記保護カバー下に前記情報表示手段
と並列に配置されていることを特徴とする前記(1)に
記載の携帯型情報機器である。 (4) 前記紫外線センサーの前記受光面が、貴金属色
を有することを特徴とする前記(1)に記載の携帯型情
報機器である。 (5) 前記紫外線センサーの受光面が、化合物半導体
であり、前記センサーが貴金属色を有することを特徴と
する前記(4)に記載の携帯型情報機器である。 (6) 前記紫外線センサーの受光面が、化合物半導体
であり、前記化合物半導体が無色透明であることを特徴
とする前記(1)に記載の携帯型情報機器である。 (7) 前記受光面が、前記情報表示領域と同一または
近似色を有する前記(1)に記載の携帯型情報機器であ
る。 (8) 前記化合物半導体が、水素を有する非単結晶型
III−V族化合物半導体である前記(1)に記載の携
帯型情報機器である。
用され、かつ常時携行される携帯型情報機器の情報表示
領域内に紫外線センサー受光面が取りつけられており、
紫外線センサーで発生する光電流あるいは光起電圧を利
用し、紫外線測定量を情報表示面に表示することができ
る。したがって、携帯型情報機器の情報表示面が有効に
利用され、特別な紫外線計量器を必要としない。
態について説明する。本発明において、携帯情報機器と
は通信による入力・出力の情報を電子的に表示する表示
面を有する機器を意味し、例えば、携帯電話、携帯電子
メール器、携帯ナビケータ、小型コンピューター、電卓
を兼ねた機器等が挙げられる。これらの携帯情報機器
は、小さい容積に多機能を搭載しているため、新たに大
きなセンサーを設置する場所はない。本発明において
は、極めて小さいセンサー受光面を使用することができ
るため、情報表示領域内にセンサー受光面を取りつける
ことができる。
は、通常、ガラス、有機ガラス等が保護窓としては使用
されている。地上に到達する太陽光の紫外線は酸素の吸
収のため、200nmよりも長波長となる。さらに成層
圏オゾンによる吸収は360nmから300nmに亘っ
ている。このなかで320nm以下の紫外線はUV−B
と呼ばれ、400−320nmをUV−Aと呼ばれる。
ソーダガラスなどの通常のガラスでは300nm以下の
紫外線はほとんど透さないが、300nm以上の紫外線
はほとんど透過している。また、透明な有機ガラスとし
て多く使用されているエンジニアリングプラスチックの
多くも300−400nmの紫外線を多く透過する。し
たがって、携帯型情報機器の情報表示領域内に紫外線セ
ンサーを取り付けることによって、紫外線を測定し、測
定結果を情報表示面に表示することができ、また、遠隔
地へ情報の入力・出力に用いることができる。
する領域の内部を意味する。携帯型情報機器の情報表示
面は、その表面がガラスや有機ガラス面等の保護窓で構
成されており、その下面に偏光フィルム、液晶層等が介
在する。本発明において、紫外線センサーの受光面は保
護窓の裏面、偏光フィルム面または液晶層、電極面等の
紫外線が到達し、かつ情報表示に支障のない任意の部位
に取りつけられる。
線センサー受光面の色相に応じて任意の形態を採用する
ことができる。例えば、紫外線センサー受光面が透明な
場合、情報表示に支障を生じないので、情報表示面の全
面または任意の領域に紫外線センサー受光面を取り付け
ることが可能である。また、紫外線センサー受光面の形
態あるいは色相は、携帯型情報機器の情報表示面におけ
るデザイン面を考慮して任意に設定することができる。
例えば、紫外線センサーの受光面を貴金属金の色相とす
ると、デザイン的に高級なイメージを付与することがで
き、また、紫外線センサーの受光面を情報表示色と同一
または近似した色相とすると、デザイン的に紫外線セン
サー受光面が取りつけられた領域を意識することがな
く、既存の情報表示面を意識させることができる。
ての携帯電話における紫外線センサー受光面の設置例を
示す説明図である。図1において、携帯電話10の情報
表示面12内の一隅部に紫外線センサ14の受光面が取
りつけられている。図2は携帯電話における紫外線セン
サー受光面の他の設置例を示す説明図である。図2にお
いて、携帯電話10の情報表示面12を囲む窓枠材16
とこの窓枠材16を含む情報表示面12との間の保護窓
との間に紫外線センサー18の受光面が取りつけられて
いる。図3は、携帯電話における紫外線センサー受光面
の更に他の設置例を示す説明図であり、情報表示面12
の全域あるいは一部の領域をセンサー受光面で覆った場
合を示している。この場合、発生した光起電力は電力と
して供給することができる。上記においては、特に携帯
電話を例に説明したが、紫外線センサーの設置機器部位
は、携帯電子メール器、携帯ナビケータ等の場合も同様
である。
一実施の形態を示す構成図である。図4において、20
は紫外線センサー、22は電流増幅器、24はA/D変
換器、26はコンピュータ、28はLCDドライブ、3
0はLCD(情報表示面)である。本発明の紫外線セン
サー(受光面)20では電極間に流れる光起電流として
取り出しても良いし、電圧を印加することによって、光
電流を取り出すことができる。携帯機器の電力を消費し
ない点から、光起電流型が好ましい。また、光起電圧を
測定してもよい。
された後、A/D変換24を通して、デジタル信号に変
換され、コンピュータ26に至る。コンピュータ26で
は、例えば、人体に有害な紫外線量の閾値が予め設定さ
れており、測定された紫外線量がこの閾値を超えたとき
にLCDドライブ28を介してLCD(情報表示面)3
0に有害な紫外線量であることを表示あるいは警報ブザ
ー出力を出すことができる。このLCD(情報表示面)
30には、情報表示面12自体に表示できるようにする
ことによって、既存の携帯電話の機構をそのまま利用す
ることができる。
線量)でもUV指標でも良い。出力変換は出力電流を適
当な抵抗を加えることによるアナログ変換でも良いし、
係数を設定したデジタルによる変換でも良い。
取り付ける部位、例えば、保護窓(窓材)、偏光フィル
ム、液晶層等の厚みに支配されるが、0.05〜2m
m、好ましくは0.1〜0.5mmの厚さが好ましい。
るのは、可視域に感度があるGaPやSiなどのフォト
ダイオードなどをフィルターで可視部をカットした紫外
線センサーを用いることができるし、酸化チタンや酸化
亜鉛などの酸化物半導体を使用することもできる。特に
光応答が速く、吸収域を組成によって調整でき、表示部
に余分なスペースを必要としない小型で薄型などの点や
色などのデザイン性に優れた窒化物系化合物半導体を用
いた紫外線センサーが望ましい。
きる半導体は、基板の上にAl, Ga,Inの少なくとも一つ
以上の元素とチッ素からなる化合物半導体を形成したも
のが用いることが望ましい。この半導体は単結晶でも非
単結晶でも良い。また、光感度は主に400nmより短
波長にあるものを用いることができるが、感度の長波長
のすそは400nmより長波長側に延びていても良い。
本発明において、紫外線センサーとして窒化物系化合物
半導体を用いた紫外線センサーは、可視光に感度が無い
ため明るいままで使用できる利点がある。この半導体受
光素子は一つでも良いし、複数並べて設けても良い。
いは微結晶からなる非単結晶光半導体は、非晶質相であ
っても微結晶相からなっていてもまた微結晶相と非晶質
相の混合状態であっても良い。また単結晶状の膜であっ
ても良い。結晶系は立方晶あるいは6方晶系のいずれか
一つであっても複数の結晶系が混合された状態でもよ
い。微結晶の大きさは5nmから5μmであり、X線回折や電
子線回折および断面の電子顕微鏡写真を用いた形状測定
などによって測定できることができる。また柱状成長し
たものでも良いし、X線回折スペクトルで単一ピークで
あり、結晶面方位が高度に配向した膜でも良いし、また
単結晶でも良い。
0.5at%以上から50at%以下の水素を含む半導体であって
も良い。また、一配位のハロゲン元素が含まれていても
良い。この半導体に含まれる水素が0.5原子%未満では、
結晶粒界での結合欠陥とあるいは非晶質相内部での結合
欠陥や未結合手を水素との結合によって無くし、バンド
内に形成する欠陥準位を不活性化するのに不十分であ
り、結合欠陥や構造欠陥が増大し、暗抵抗が低下し光感
度がなくなるため実用的な光導電体として機能すること
ができない。
ると、水素がIII族元素及びV族元素に2つ以上結合
する確率が増え、これらの元素が3次元構造を保たず、2
次元および鎖状のネットワークを形成するようになり、
とくに結晶粒界でボイドを多量に発生するため結果とし
てバンド内に新たな準位を形成し、電気的な特性が劣化
すると共に硬度などの機械的性質が低下する。さらに膜
が酸化されやすくなり、結果として膜中に不純物欠陥が
多量に発生することとになり、良好な光電気特性が得ら
れなくなる。
電気的特性を制御するためにドープするドーパントを水
素が不活性化するようになるため結果として電気的に活
性な非晶質あるいは微結晶からなる非単結晶光半導体が
得られない。水素量についてはハイドジェンフォワード
スキャタリング(HFS)により絶対値を測定することがで
きる。また加熱による水素放出量の測定あるいはIRスペ
クトルの測定によっても推定することができる。また、
これらの水素結合状態は赤外吸収スペクトルによって容
易に測定することできる。
下の場合, あるいは1:0.5以上ではIII族とV族の結
合において閃亜鉛鉱(Zincblende)型を取る部分が少なく
なり欠陥が多くなり良好な半導体として機能しなくな
る。
によって任意にかえることができる。GaN:Hを基準にす
ると3.2-3.5eVより大きくする場合にはAlを加えること
によって300nmから330nmの吸収が可能なバン
ドギャップ程度まで変化させることができ、主にUV−
Bの紫外線を測定することができる。またAlとInを
同時に加えることによってもバンドギヤップを調整する
ことができる。
エレクトロンマイクロプローブ、ラザフォードバックス
キャタリング(RBS)、二次イオン質量分析計等の方法で
測定することが出来る。
少なくとも一つ以上の元素とチッ素からなる半導体層
は、次のように製造することができる。以下、図に従っ
て説明する。図5の方法はプラズマを活性化手段とする
方法である。51は真空に排気しうる容器、52は排気
口、53は基板ホルダー、54は基板加熱用のヒータ
ー、56は容器51に接続された石英管であり、ガス導
入管59、60に連通している。また、石英管55には
ガス導入管61に接続され、石英管56にはガス導入管
62が接続されている。
て、例えば、N2 を用いガス導入管59から石英管55
に導入する。マグネトロンを用いたマイクロ波発振器
(図示せず)に接続されたマイクロ導波管58に2.45GHz
のマイクロ波が供給され石英管55内に放電を発生させ
る。別のガス導入口60から、例えばH2 を石英管56
に導入する。高周波発振器(図示せず)から高周波コイル
57に13.56MHzの高周波を供給し、石英管56内に放電
を発生させる。放電空間の下流側よりトリメチルガリウ
ムをガス導入管62より導入することによって基板上に
非晶質あるいは微結晶の非単結晶チッ化ガリウム光半導
体を成膜することができる。
向した柱状成長した多結晶、単結晶になるかは基板の種
類、基板温度,ガスの流量圧力、放電条件に依存する。
基板温度は100℃〜600℃である。基板温度が高い場合又
は/及びIII族原料ガスの流量が少ない場合には微結
晶や単結晶状になりやすい。基板温度が300℃より低い
場合にはIII族原料ガスの流量が少ない場合に結晶性
となり、また基板温度が300℃より高い場合には低温条
件よりもIII族原料ガスの流量が多い場合でも結晶性
となりやすい。また例えばH2放電を行った場合には行な
わないよりも結晶化を進めることができる。トリメチル
ガリウムの代わりにインジウム、アルミニウムを含む有
機金属化合物を用いることもできるし、また混合するこ
ともできる。また、これらの有機金属化合物は、ガス導
入管61から別々に導入しても良い。
一つ以上の元素を含むガス、あるいはBe,Mg,Ca,Zn,Srか
ら選ばれた少なくとも1つ以上の元素を含むガスを放電
空間の下流側(ガス導入管61又はガス導入管62から
導入することによってn型、p型等任意の伝導型の非晶質
あるいは微結晶のチッ化物半導体を得ることができる。
Cの場合には条件によっては有機金属化合物の炭素を使
用してもよい。
により形成される活性チッ素あるいは活性水素を独立に
制御してもよいし、NH3のようなチッ素と水素原子を同
時に含むガスを用いてもよい。さらにH2を加えてもよ
い。また、有機金属化合物から活性水素が遊離生成する
条件を用いることもできる。このようにすることによっ
て、基板上には活性化されたIII族原子、チッ素原子
が制御された状態で存在し、かつ水素原子がメチル基や
エチル基をメタンやエタン等の不活性分子にするために
低温にも拘わらず、炭素が入らず、膜欠陥が抑えられた
非晶質あるいは結晶が生成できる。またプラズマCVD装
置を用いてもよい。
周波発振器、マイクロ波発振器、エレクトロサイクロト
ロン共鳴方式やヘリコンプラズマ方式であっても良い
し、これらの一つを用いても良いし、二つ以上を用いて
もよい。また、二つ共マイクロ波発振器であっても良い
し、2つ共高周波発振器で有っても良い。また高周波放
電の場合、誘導型でも容量型でも良い。また2つ共エレ
クトロンサイクロトロン共鳴方式を用いても良い。異な
る活性化手段(励起手段)を用いる場合には、同じ圧力で
同時に放電が生起できるようにする必要があり、放電内
と成膜部(容器51内)に圧力差を設けても良い。また同
一圧力で行う場合、異なる活性化手段(励起手段)、例え
ば、マイクロ波と高周波放電を用いると励起種の励起エ
ネルギーを大きく変えることができ、膜質制御に有効で
ある。
きる半導体層は反応性蒸着法やイオンプレーイング、リ
アクティブスパッターなど少なくとも水素が活性化され
た雰囲気で成膜を行うことも可能である。
絶縁性でも良く、結晶あるいは非晶質でも良い。導電性
基板としては、アルミニウム、ステンレススチール、ニ
ッケル、クロム等の金属及びその合金結晶、Si,GaAs,Ga
P,GaN,SiC,ZnOなどの半導体を挙げることができる。
性基板を使用することもできる。絶縁性基板としては、
高分子フィルム、ガラス、石英、セラミック等を挙げる
ことができる。導電化処理は、上記の金属又は金、銀、
銅等を蒸着法、スパッター法、イオンプレーティング法
などにより成膜して行う。また、光の入射は基板側から
でも、半導体側でも良い。透明導電性基板側から光入射
を行う場合には透光性支持体としては、ガラス、石英、
サファイア、MgO,LiF,CaF2等の透明な無機材料、また、
弗素樹脂、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリエチ
レン、ポリエチレンテレフタレート、エポキシ等の透明
な有機樹脂のフィルムまたは板状体等が使用できる。
しては、ITO、酸化亜鉛、酸化錫、酸化鉛、酸化インジ
ウム、ヨウ化銅等の透明導電性材料を用い、蒸着、イオ
ンプレーティング、スパッタリング等の方法により形成
したもの、あるいはAl,Ni,Au等の金属を蒸着やスパッタ
リングにより半透明になる程度に薄く形成したものが用
いられる。330nm以下の短波長を測定する場合には
蒸着した半透明の金属電極が望ましく、この電極を通し
て光入射が行えば良い。
けても良いし、また電極が一定の隙間を挟んで設置した
一対の電極であっても良い。電極材料としては透光性電
極としては、ITO、酸化亜鉛、酸化錫、酸化鉛、酸化イ
ンジウム、ヨウ化銅等の透明導電性材料を用い、蒸着、
イオンプレーティング、スパッタリング等の方法により
形成したもの、あるいはAl,Ni,Au等の金属を蒸着やスパ
ッタリングにより半透明になる程度に薄く形成したもの
が用いられる。あるいは不透光電極としてはこれらの金
属を厚くしたものが用いられる。
ら選ばれる一つ以上の元素を含む有機金属化合物を用い
ることができる。これらの有機金属化合物としてはトリ
メチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、ターシ
ャリーブチルアルミニウム、トリメチルガリウム、トリ
エチルガリウム、ターシャリーブチルガリウム、トリメ
チルインジウム、トリエチルインジウム、ターシャリー
ブチルインジウムなどの液体や固体を気化して単独にあ
るいはキャリアガスでバブリングすることによって混合
状態で使用することができる。キャリアガスとしては水
素,N2 ,メタン,エタンなどの炭化水素、CF4 ,C2 F6 など
のハロゲン化炭素などを用いることができる。
2H4 、メチルヒドラジンなどの気体、液体を気化あるい
はキャリアガスでバブリングすることによって使用する
ことができる。
を膜中にドープすることができる。n型用の元素として
はIa族のLi, Ib族のCu,Ag,Au, IIa族のMg,IIb族
のZn,IVa族のSi,Ge,Sn,Pb,VIa族のS,Se,Teを用いること
ができる。p型用の元素としてはIa族のLi,Na, K, Ib
族のCu,Ag,Au, IIa族のBe,Mg,Ca,Sr,Ba,Ra,IIb族の
Zn,Cd,Hg,IVa族のC,Si,Ge,Sn,Pb, VIa族のS,Se,T
e、VIb族のCr,Mo,W, VIIIa族のFe,Co,Niなどを用
いることができる。
り、光感度を得るためにショットキーバリアを形成した
り、pn接合を形成したりして、内部に電界を形成する
ことができる。また内部の空乏層を広げるためにi型と
することもできる。この点から、特に、Be,Mg,Ca,Zn,Sr
が好ましい。
iH4 ,Si2 H6 ,GeH4 ,GeF4 ,SnH4 を、i型化およびp型
用としてはBeH2 ,BeCl2 ,BeCl4 ,シクロペンタジエニル
マグネシウム、ジメチルカルシウム、ジメチルストロン
チウム、ジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛、などのガス状態
で使用できる。また元素を膜中にドーピングするには、
熱拡散法、イオン注入法等の公知の方法を採用すること
ができる。
も、異なるバンドギャップの半導体層を形成し異なる波
長帯の紫外線を分離測定できるようにした積層型であっ
てもよい。
な紫外線測定器を用意しなくとも日常常備している携帯
電話や携帯電子メール機器さらに屋外での携帯用のナビ
ゲータなどで、大きさや重さ、機能を損なわずに、デザ
イン上も優れた紫外線測定機能を有する携帯型情報機器
を構成することができる。
インジウムスズ(ITO)を100nmスパッタし透明
電極とした基板にリモートプラズマ有機金属気相成長法
を用いて、厚さ100nmのMgドープ水素化GaN膜を
作製した。この膜は透明であった。この上に直径2mm
のAuの電極を真空蒸着で作製した。それぞれの電極に
銀線を導電性接着剤にて端子として接続した。この素子
は金色で厚さが0.2mmと薄く、センサーの大きさは
4x4mmであった。このセンサーの分光感度特性グラ
フを図6に示す。図6から前記センサーは、400nm
付近から感度があり、350nm付近で感度がMaxで
あることを示している。このセンサーは光起電流が発生
し紫外線を無電圧で測定できた。この紫外線センサー7
0を図7に示すように携帯電話の表示面(保護窓)72
の裏側で、液晶部74の文字の無い部分に透明な接着材
をAu電極面を避けて付着させ貼りつけた。このセンサ
ーは金色であり、表示面の文字や記号の間に設置され、
デザイン上も特に問題とはならなかった。このセンサー
からの紫外線による光起電流をAD変換器を通して表示
用ドライバーに接続することによって、紫外線測定機能
を有する携帯電話とすることができる。
0を図8に示すようにアイコンの間になるように液晶部
74の表面上に透明粘着テープを用いて貼りつけた。こ
の場合、紫外線センサーの取りつけ部位として液晶素子
表面を利用できるためデザイン上も特に問題とはならな
かった。この紫外線センサーからの紫外線による光起電
流をAD変換器を通して表示用ドライバーに接続するこ
とによって、紫外線測定機能を有する携帯電話とするこ
とができる。
nmのMgドープ水素化GaN膜上に半透明のAu電極を
作製し、紫外線センサーとした。この紫外線センサーを
液晶表面の文字上に透明粘着剤を用いて貼りつけた。こ
のセンサーはうすい青色であり、下の文字を透過できる
ため、デザイン上も特に問題とはならなかった。この紫
外線センサーからの紫外線による光起電流をAD変換器
を通して表示用ドライバーに接続することによって、紫
外線測定機能を有する携帯電話とすることができる。
って測定されていた紫外線量を手軽にかつ簡便に常時、
高精度で測定することを可能とし、機能的にもデザイン
的にも本来の携帯機器の性能を損なうことなく低価格で
紫外線測定機能を有する携帯型情報機器を提供すること
ができる。
一実施の形態を示す概略的構成図である。
他の実施の形態を示す概略的構成図である。
更に他の実施の形態を示す要部の概略的構成図である。
機構の構成図である。
導体を製造するための方法を示す説明図である。
グラフである。
要部断面の概略的構成図である。
す要部断面の概略的構成図である。
Claims (8)
- 【請求項1】 所定の機能を有する携帯型情報機器の情
報表示領域内に、紫外線センサーを設けたことを特徴と
する携帯型情報機器。 - 【請求項2】 前記紫外線センサーが、実質的に紫外線
光のみに光感度を備えるセンサーであることを特徴とす
る請求項1に記載の携帯型情報機器。 - 【請求項3】 前記情報表示領域が、情報表示手段と情
報表示手段を覆う可視光透過型保護カバーとを備え、前
記紫外線センサ受光面が前記保護カバー下に前記情報表
示手段と並列に配置されていることを特徴とする請求項
1に記載の携帯型情報機器。 - 【請求項4】 前記紫外線センサーの受光面が、貴金属
色を有することを特徴とする請求項1に記載の携帯型情
報機器。 - 【請求項5】 前記紫外線センサーの受光面が、化合物
半導体であり、前記センサーが貴金属色を有することを
特徴とする請求項1に記載の携帯型情報機器。 - 【請求項6】 前記紫外線センサーの受光面が、化合物
半導体であり、前記化合物半導体が無色透明であること
を特徴とする請求項4に記載の携帯型情報機器。 - 【請求項7】 前記受光面が、前記情報表示領域と同一
または近似色を有することを特徴とする請求項1に記載
の携帯型情報機器。 - 【請求項8】 前記化合物半導体が、水素を有する非単
結晶型III−V族化合物半導体であることを特徴とす
る請求項1に記載の携帯型情報機器。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000137373A JP2001320451A (ja) | 2000-05-10 | 2000-05-10 | 携帯型情報機器 |
US09/843,812 US6541775B2 (en) | 2000-05-10 | 2001-04-30 | Portable information device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000137373A JP2001320451A (ja) | 2000-05-10 | 2000-05-10 | 携帯型情報機器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001320451A true JP2001320451A (ja) | 2001-11-16 |
JP2001320451A5 JP2001320451A5 (ja) | 2004-12-24 |
Family
ID=18645159
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000137373A Pending JP2001320451A (ja) | 2000-05-10 | 2000-05-10 | 携帯型情報機器 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6541775B2 (ja) |
JP (1) | JP2001320451A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100678233B1 (ko) | 2003-09-22 | 2007-02-02 | 삼성전자주식회사 | 자외선 정보를 제공하는 이동통신단말기 및 그 방법 |
JP2009194937A (ja) * | 2009-06-01 | 2009-08-27 | Fujitsu Ltd | 情報処理装置 |
US8467172B2 (en) | 2008-03-31 | 2013-06-18 | Fujitsu Limited | Mobile terminal device |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20030154055A1 (en) * | 2000-11-07 | 2003-08-14 | Kazuyoshi Yoshimura | System for measurement and display of environmental data |
US20030121976A1 (en) * | 2002-01-03 | 2003-07-03 | Nokia Corporation | Organic light sensors for use in a mobile communication device |
US20040057341A1 (en) * | 2002-09-25 | 2004-03-25 | Weng Yuan Sung | Carry-on chronometric device having UV detection and warning functions |
US20040155199A1 (en) * | 2003-01-24 | 2004-08-12 | Wen-Wei Su | Mobile UV-intensity indicator and use thereof |
CN1430047A (zh) * | 2003-01-24 | 2003-07-16 | 中华研升科技股份有限公司 | 具有紫外线强度指示器的用具 |
US20040155172A1 (en) * | 2003-02-06 | 2004-08-12 | Anuthep Benja-Athon | Compact vitamin d-production monitor |
JP4232498B2 (ja) * | 2003-03-24 | 2009-03-04 | 富士ゼロックス株式会社 | 被写体撮影状態判定装置、画質調整装置、及び画像撮影装置 |
KR100594035B1 (ko) * | 2003-05-23 | 2006-07-03 | 삼성전자주식회사 | 휴대 단말기에서 자외선 지수에 따른 서비스 구현 방법 |
US20050064904A1 (en) * | 2003-09-22 | 2005-03-24 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Mobile communication terminal for providing UV information and method for providing UV information using the same |
US20060289779A1 (en) * | 2003-10-09 | 2006-12-28 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Uv radiation detection and warning apparatus and method |
KR100608804B1 (ko) | 2004-06-25 | 2006-08-08 | 엘지전자 주식회사 | 이동 통신 단말기의 통화대기 배경음 변경 시스템 및 방법 |
CN1832667A (zh) * | 2005-03-11 | 2006-09-13 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 便携式电子装置外壳及其制造方法 |
GB2427464A (en) * | 2005-06-22 | 2006-12-27 | Symbian Software Ltd | Mobile telephone featuring an ultra violet detector |
KR100744338B1 (ko) * | 2005-08-19 | 2007-07-30 | 삼성전자주식회사 | 휴대단말기의 자외선정보 제어방법 |
US7271393B2 (en) * | 2005-11-15 | 2007-09-18 | Nokia Corporation | UV radiation meter using visible light sensors |
CN100464215C (zh) * | 2006-06-09 | 2009-02-25 | 群康科技(深圳)有限公司 | 液晶显示器 |
TWI341406B (en) * | 2007-07-23 | 2011-05-01 | Au Optronics Corp | Diaply panel and its application |
CN100462780C (zh) * | 2007-07-31 | 2009-02-18 | 友达光电股份有限公司 | 显示面板、包含其的光电装置及其驱动方法、制造方法 |
US8324578B2 (en) | 2008-09-30 | 2012-12-04 | Apple Inc. | Hidden sensors in an electronic device |
US20110320981A1 (en) * | 2010-06-23 | 2011-12-29 | Microsoft Corporation | Status-oriented mobile device |
JP7507669B2 (ja) * | 2020-11-25 | 2024-06-28 | 新光電気工業株式会社 | 複合酸化物及び紫外線検出装置 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4239554A (en) * | 1978-07-17 | 1980-12-16 | Shunpei Yamazaki | Semiconductor photoelectric conversion device |
GB2181833A (en) * | 1985-09-13 | 1987-04-29 | Radtech Inc | Computing device for suntanning dose measurement, and process for producing optical filters |
US4733383A (en) * | 1986-09-16 | 1988-03-22 | Waterbury Nelson J | Combined digital and analog timepiece and radiation monitor assembly |
US4985632A (en) * | 1989-05-31 | 1991-01-15 | Elexis Corporation | Suntan indicator |
US5008548A (en) * | 1989-08-01 | 1991-04-16 | Nahum Gat | Personal UV radiometer |
JPH05240969A (ja) * | 1992-02-26 | 1993-09-21 | Casio Comput Co Ltd | センサ機能を有した電子機器 |
EP0562201B1 (en) * | 1992-03-23 | 1997-04-23 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | UV-A, UV-B discrimination sensor |
JPH0618325A (ja) | 1992-06-30 | 1994-01-25 | Rohm Co Ltd | 光量検知装置 |
JP3094799B2 (ja) * | 1993-10-25 | 2000-10-03 | セイコーエプソン株式会社 | 携帯機器 |
US5500532A (en) * | 1994-08-18 | 1996-03-19 | Arizona Board Of Regents | Personal electronic dosimeter |
WO1996010165A1 (en) * | 1994-09-28 | 1996-04-04 | Seeuv | Ultraviolet exposure detection apparatus |
US5677538A (en) * | 1995-07-07 | 1997-10-14 | Trustees Of Boston University | Photodetectors using III-V nitrides |
JPH11259004A (ja) * | 1998-03-10 | 1999-09-24 | Citizen Watch Co Ltd | 表示部を備えた電子機器 |
-
2000
- 2000-05-10 JP JP2000137373A patent/JP2001320451A/ja active Pending
-
2001
- 2001-04-30 US US09/843,812 patent/US6541775B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100678233B1 (ko) | 2003-09-22 | 2007-02-02 | 삼성전자주식회사 | 자외선 정보를 제공하는 이동통신단말기 및 그 방법 |
US8467172B2 (en) | 2008-03-31 | 2013-06-18 | Fujitsu Limited | Mobile terminal device |
JP2009194937A (ja) * | 2009-06-01 | 2009-08-27 | Fujitsu Ltd | 情報処理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20010048081A1 (en) | 2001-12-06 |
US6541775B2 (en) | 2003-04-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2001320451A (ja) | 携帯型情報機器 | |
US6713785B2 (en) | Thin film transistor and display device having the same | |
US7858206B2 (en) | Transparent conductor, transparent electrode, solar cell, light emitting device and display panel | |
KR20070119702A (ko) | 태양 전지 | |
JP4465941B2 (ja) | 紫外線受光素子 | |
US6297442B1 (en) | Solar cell, self-power-supply display device using same, and process for producing solar cell | |
CN101533868B (zh) | 一种异质pn结型日盲紫外探测器 | |
WO2002082557B1 (en) | Thin film infrared transparent conductor | |
JP2001024212A (ja) | Iii−v族化合物半導体、及びそれを用いた半導体素子 | |
Jheng et al. | MgZnO/SiO2/ZnO metal–semiconductor–metal dual-band UVA and UVB photodetector with different MgZnO thicknesses by RF magnetron sputter | |
JP2004311783A (ja) | 光検出装置、及びその実装方法 | |
JP2001336977A (ja) | 紫外線センサー及びその取りつけ方法 | |
JP2002277323A (ja) | 紫外線受光器、紫外線光量測定装置、及び紫外線光量測定方法 | |
JP2002344001A (ja) | 波長分離型紫外線受光器 | |
JP4182648B2 (ja) | 半導体紫外線受光素子およびその製造方法 | |
JP2003046112A (ja) | 紫外光/可視光分離型受光素子 | |
JP2004251754A (ja) | 紫外線センサー | |
JP2001133814A (ja) | 自己電力供給型調光素子 | |
JP2004311784A (ja) | 光検出装置、及びその実装方法 | |
JPH10256577A (ja) | 微結晶化合物光半導体及びその製造方法並びに光半導体素子 | |
JP2002062257A (ja) | オゾン濃度測定器 | |
JP2001244495A (ja) | 紫外線検出器 | |
JP2003028711A (ja) | 紫外線受光器 | |
JP3838121B2 (ja) | 紫外線受光素子及び紫外線光量測定装置 | |
JP2003249666A (ja) | 太陽電池及びそれを用いた表示パネル、窓材 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040126 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040126 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060210 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060221 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060424 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061205 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070205 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070605 |