JP2001318180A - オーバランセンサを備えたステージ装置 - Google Patents
オーバランセンサを備えたステージ装置Info
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Abstract
に移動させるステージ装置において、ステージのX,
Y,θ方向のオーバランを独立して検出してステージの
正常動作を確保すること。 【解決手段】 ステージ20をX,Y方向に移動させる
と、X動ドグ1がX方向センサ2bにあるいはY動ドグ
がY方向センサ4bに接近する。XY方向の移動量が制
限値を越えるとX方向センサ2bまたはY方向センサ4
bが出力を発生し、ステージ20の移動を停止させオー
バーランを防ぐ。また、ステージ20が回転する(θ方
向に移動)すると、2本の押し棒5,6のうち1本のみ
が押されて+X方向に移動し、もう1本は−X方向に移
動し、ドグバー7とセンサバー8とは互いに逆方向に回
転する。ステージの回転量が制限値を越えるとθセンサ
8bが出力を発生し、ステージの移動を停止させオーバ
ーランを防ぐ。
Description
学機械、測定器、工作機械、スクリーン印刷機など、各
種の機械、器具に適用できるXYθの3軸を移動するス
テージ装置に関し、さらに詳細には、ステージが必要以
上に移動するのを防止するためのオーバランセンサを備
えたステージ装置に関するものである。
の移動制御を行なうステージ装置としては、例えば特開
平8−25163号公報に示されるものが提案されてい
る。図8は上記ステージ装置の構成を示す図であり、同
図(b)は同図(a)のA−A断面図を示している。同
図において、基台21の上に平面ガイド22を介してス
テージ20がXYθ方向に移動可能に載置されている。
なお、以下では、図示のようにX方向を同図左右方向、
Y方向を同図の上下方向と言い、「θ方向に移動する」
とはXY平面に垂直な軸を中心として回転することを言
う。ステージ20と基台21の中央部分は貫通窓が設け
られており、例えばステージ20上にマスクを載置して
図示しない光源からマスクに光を照射して図示しないワ
ークステージ上に載置されたワークの露光処理等を行
う。23,24,25は第1〜第3の駆動機素であり、
駆動機素23,24,25はモータ等のアクチュエータ
を備え、駆動部23a,24aをX方向、駆動部25a
をY方向に駆動する。駆動部23a,24a,25aに
はスライド軸23b,24b,25bが取り付けられ、
スライド軸23b,24b,25bは、ステージ20の
アーム20a,20b,20cに取り付けられた被駆動
機素である回転及びスライド部材23c,24c,25
cと係合している。
5bと回転及びスライド部材23c,24c,25cの
取り付け構造を示す。回転及びスライド部材23c,2
4c,25cはアーム20a,20b,20cに、軸2
3d,24d,25dを介して回転可能に取り付けられ
ており、回転及びスライド部材23c,24c,25c
は、スライド軸23b,24b,25bに沿って同図の
矢印方向に摺動可能である。
の一方端は固定され、他方端はステージ20のアーム2
0a,20b,20cを駆動機素23,24,25方向
に付勢している。図8において、ステージ20は次のよ
うに駆動される。ステージ20をX方向に移動させる場
合には、第1、第2の駆動機素23,24を駆動して駆
動部23a,24aを等しい量だけ同図のX方向に移動
させる。これにより、ステージ20のアーム20cに取
り付けられた回転及びスライド部材25cはスライド軸
25bに沿って摺動し、ステージ20はX方向に移動す
る。ステージ20をY方向に移動させるには、第1,第
2の駆動機素23,24を駆動せず、第3の駆動機素2
5を駆動して駆動部25aを移動させる。これにより、
ステージ20のアーム20a,20bに取り付けられた
回転及びスライド部材23c,24cはスライド軸23
b,24bに沿って摺動し、ステージ20はY方向に移
動する。
(回転させる)場合には、第1,第3の駆動機素23,
25により駆動部23a,25aをそれぞれ第1の方向
(例えば駆動部23a,25aがステージ20のアーム
20a,20cを押す方向)に駆動し、第3の駆動機素
24により駆動部24aを上記第1の方向とは反対方向
(例えば駆動部24aがステージ20のアーム20bを
引く方向)に駆動する。例えば、ステージを時計方向に
回転させる場合には、駆動部23aを+X方向、駆動部
25aを+Y方向に駆動し、駆動部24aを−X方向に
駆動する。ここで+方向とは、駆動機素がアームを押す
方向、−方向とは、駆動機素がアームを引く方向をい
う。これにより、ステージ20は、回転及びスライド部
材23c,24cの軸23d,24dを結ぶ線A1と、
回転及びスライド部材25cの軸25dを通り駆動部2
5aの移動方向と直交する線A2の交点を中心として回
転する(この回転中心を基準軸という)。
いては、駆動機素23,24,25が制御装置によって
制御しきれなかった場合、ステージ20が必要以上に移
動(オーバーラン)して、装置の他の部分に接触した
り、駆動機素の機械的な移動範囲を越えて移動を続け、
各部の損傷を招くことがある。オーバーランを防止する
手段として、移動制限手段、即ちオーバーランセンサを
設けることが一般に行われる。例えば、駆動機素23,
24,25の駆動部23a,24a,25aが移動する
方向の両端に透過型のオーバランセンサを設け、また駆
動機素23,24,25の駆動部23a,24a,25
aには該センサを遮光するドグを設ける。駆動機素2
3,24,25の駆動部23a,24a,25aは上記
センサに挟まれた範囲の中を移動するが、駆動機素が該
範囲を越えて移動しようとすると、ドグがオーバーラン
センサを遮光し、オーバーランセンサがドグの検出信号
を制御部に送り、制御部は駆動機素23,24,25の
移動を停止する。
示すようなステージ装置の場合、各駆動機素23,2
4,25はXまたはY方向の移動と、θ方向の移動とを
兼ねる。そのため、上記のように駆動機素23,24,
25の移動する方向に2個のセンサを設けただけでは、
ステージのXまたはY方向移動とθ方向移動とを独立し
て検出できない。例えば、図10(a)のように、ステ
ージ20のX方向の移動に対して、駆動機素23または
24の一つにドグDを設け、X方向に2個のセンサS
1,S2を設け、駆動機素(ステージ)のX方向の移動
範囲を設定したとする。ステージ20のX方向の移動に
対してはこの範囲で良い。しかし、図8に示したステー
ジ20はθ方向にも移動する。このため、ステージがX
方向に移動後、θ方向に移動する時、図10(b)のよ
うに駆動機素がX方向の移動範囲の端近くまで接近して
いる場合、ステージ20をθ方向に移動させると、実際
にはθ方向の移動は可能であるにもかかわらず、ドグD
がセンサS2を遮光してしまい、ステージ20の移動が
停止してしまう。一方、このような場合でもステージの
θ移動が可能なように、例えばセンサS1,S2の位置
を移動させると、今度はX方向の移動に対してオーバー
ランを検出することができなくなる。
って、3つの駆動機素によりステージをXYθ方向に移
動させるステージ装置において、ステージのX,Y,θ
方向のオーバランを独立して検出してステージの正常動
作を確保することができるオーバランセンサを備えたス
テージ装置を提供することである。
題を次のようにして解決する。基準軸を含む第1の平面
上に、第1、第2の駆動機素を設け、また、該基準軸を
含み第1の平面と交わる第2の平面上に第3の駆動機素
を設け、上記第1、第2、第3の駆動機素により、上記
基準軸に対して垂直な平面内でステージを上記第1の平
面に直交する第1の方向、および、上記第2の平面に直
交する第2の方向に直線移動させるとともに、上記基準
軸を中心として回転させるステージ装置において、以下
のようにして第1の方向、第2の方向へのステージの移
動量の制限と、上記基準軸を中心としたステージの回転
量の制限を行う。 (1)直線移動量制限 上記ステージ面に平行に配置され、上記基準軸を中心と
して円弧状に形成された少なくとも2個の第1の被検知
部材(ドグ)を、それぞれの円弧が、上記基準軸を通り
上記第1、第2の方向に平行な直線と交わるようにステ
ージに取り付ける。そして、上記第1の被検知部材(ド
グ)の位置を検出する第1のセンサを設けて、該センサ
出力により、上記ステージの上記第1、第2の方向への
移動の制限を行う。 (2)回転量制限 上記第1の駆動機素により駆動される第2の被検知部材
と、第2の駆動機素により駆動される第2のセンサから
構成され、ステージの上記第1、第2の方向(例えば
X,Y方向)への移動に対しては上記第2の被検知部材
と第2のセンサの相対位置が変わらず、上記基準軸を中
心としてステージが回転したときには上記第2の被検知
部材とセンサが互いに離反する方向に移動する手段を設
け、上記第2のセンサの出力によりステージの回転方向
の移動検出を行う。上記手段としては、例えば、第1、
第2の駆動機素の移動量の差を検出する機構と、該移動
量の差が所定値以上になったとき出力を発生するセンサ
から構成することができ、該センサの出力によりステー
ジの回転方向の移動検出を行う。本発明においては、上
記のようにステージの移動量検出、回転量検出を行って
いるので、ステージの第1、第2の方向の移動量、基準
軸を中心とした回転量を独立して検出し、移動量、回転
量の制限を行うことができる。このため、3つの駆動機
素によりステージを直線移動、回転させるステージ装置
の正常動作を確保することができる。
θ方向移動に対応したドグとセンサからなるオーバラン
センサを備えたステージ装置の構成を示す図であり、同
図(b)は同図(a)のA−A断面図を示している。図
1は前記図8に示したステージ装置に本発明の実施例の
オーバランセンサを取り付けた実施例を示しており図8
に示したものと同一のものには同一の符号が付されてい
る。同図において、基台21の上に平面ガイド22を介
してステージ20がXYθ方向に移動可能に載置されて
いる。23,24,25は第1〜第3の駆動機素であ
り、前記したように駆動部23a,24a,25aには
スライド軸23b,24b,25bが取り付けられ、ス
ライド軸23b,24b,25bは、ステージ20のア
ーム20a,20b,20cに取り付けられた回転及び
スライド部材23c,24c,25cと係合している。
回転及びスライド部材23c,24c,25cの取り付
け構造は前記図9に示したものと同じであり、回転及び
スライド部材23c,24c,25cはアーム20a,
20b,20cに、軸23d,24d,25dを介して
回転可能に取り付けられており、回転及びスライド部材
23c,24c,25cは、スライド軸23b,24
b,25bに沿って同図の矢印方向に摺動可能である。
26はばねであり、前記したように、ばね26の一方端
は固定され、他方端はステージ20のアーム20a,2
0b,20cを駆動機素23,24,25方向に押しつ
けるように付勢している。
したものと同様、次のように駆動される。ステージ20
をX方向に移動させる場合には、第1、第2の駆動機素
23,24を駆動して駆動部23a,24aを等しい量
だけ同図のX方向に移動させる。また、ステージ20を
Y方向に移動させるには、第1,第2の駆動機素23,
24を駆動せず、第3の駆動機素25を駆動して駆動部
25aを移動させる。さらに、ステージ20をθ方向に
移動させる(基準軸を中心として回転させる)場合に
は、前記したように第1、第2の駆動機素23,25に
より駆動部23a,25aをそれぞれ第1の方向(例え
ば駆動部23a,25aがステージ20のアーム20
a,20cを押す方向)に駆動し、第3の駆動機素24
により駆動部24aを上記第1の方向とは反対方向(例
えば駆動部24aがステージ20のアーム20bを引く
方向)に駆動する。これにより、ステージ20は、前記
した基準軸を中心として回転する。
次のようなオーバランセンサを設ける。図1において、
ステージ20の基準軸を含む第1の平面(ステージ面に
垂直な平面)方向に、基準軸を中心とする円の円弧を形
成するドグ1を設ける(これを、X動ドグとする)。X
動ドグ1のX方向両側の基台21上にX方向センサ2
a,2bを設ける。また、ステージ20の基準軸を含む
第2の平面方向(第2の平面は第1の平面と直交する)
に、基準軸を中心とする円の円弧を形成するドグを3を
設ける(Y動ドグとする)。Y動ドグ3のY方向両側の
基台上にY方向センサ4a,4bを設ける。このX動ド
グ1及びY動ドグ3と、X方向センサ2a,2b及びY
方向センサ4a,4bとによって、ステージ20のX方
向、Y方向のオーバーランを検出する。
とセンサ2a,2b(またはセンサ4a,4b)の部分
の拡大して示す。センサ2a,2bは透過型のセンサで
あり、コの字型をしていて、例えばコの字の下側の突起
には受光素子31aが、コの字の上側の突起には発光素
子31bが設けられている。動作中は発光素子31aか
らの光を受光素子31bで常に受光する。遮光物がコの
字の突起間に挿入され、上記光が遮光されると、遮光物
の検出信号を出力する。この、センサ用の遮光物をここ
ではドグと呼ぶ。
の平面上に設けた第1及び第2の駆動機素23,24の
駆動部23a,24aに、駆動部23a,24aのX方
向の移動によって一端を押され、直線動する押し棒5,
6をそれぞれ設ける。駆動機素25によりステージ20
がY方向に移動する場合には、駆動部23a,24a
は、押し棒5,6と駆動部23a,24aとの接触面に
対し平行に移動する。2本の押し棒5,6の他端には、
押し棒5,6の直線動を回転動に変換する回転バー7,
8をそれぞれ設ける。回転バー7,8は一端をそれぞれ
押し棒5,6によって押されることにより、回動軸7
a,8aを中心に回転動する。回転バー7,8が押し棒
5,6に接する端には、該端を押し棒に押し付けるため
のばね9が設けられている。
(θ動ドグと言う)が、回転バー8のもう一端の側に
は、該ドグ7bを挟むように2個のセンサ8b(θセン
サという)が設けられている。以下では、θ動ドグ7b
が設けられた回転バー7をドグバー、θセンサ8bが設
けられた回転バーをセンサバーと呼ぶことにする。この
ドグバー7のθドグ7bとセンサバー8のθセンサ8b
とによって、ステージ20のθ方向のオーバーランを検
出する。図3にθ動ドグ7bと2個のθセンサ8bから
なる部分の拡大図を示す。θセンサ8bは、前記X方向
センサ2a,2b、Y方向センサ4a,4bと同様のコ
の字型のセンサであり、θ動ドグ7bにより遮光される
ことによって、ドグ(遮光板)が検出される。
の検出動作を説明する。図4は、ステージ20がX方向
(図面右方向)とY方向(図面上方向)とに移動し、X
動ドグ1がX方向センサ2bに、Y動ドグ3がY方向セ
ンサ4bに接近した状態を示している。さらにステージ
20がX方向またはY方向に移動すると、X動ドグ1ま
たはY動ドグ3がX方向センサ2bまたはY方向センサ
4bを切る。X方向センサ2a,2bまたはY方向セン
サ4a,4bの出力は図示しない制御装置に与えられ、
X動ドグ1またはY動ドグ3がX方向センサ2bまたは
Y方向センサ4bを切ると、図示しない制御装置は、ス
テージ20の移動を停止させ、オーバーランを防ぐ。
と、基準軸を通る同一の平面上に設けられた2つのアー
ム23,24の駆動部23a,24aは、それぞれ接す
る押し棒5,6を同じ方向に押す。このため、図4に示
すようにドグバー7とセンサバー8とが互いに同じ方向
に回動し、θドグ7bとθセンサ8bの位置関係が、ス
テージ移動前とほぼ同じ状態に保たれる。また、ステー
ジ20がY方向に移動しても、上記アーム23,24の
駆動部23a,24aは、押し棒5,6と駆動部23
a,24aとの接触面に対し平行移動するだけなので、
θドグ7bとθセンサ8bの位置関係は変化しない。即
ち、ステージ20のX方向移動、またはY方向移動によ
って、θ方向のオーバーランセンサが動作することはな
い。したがって、図4の状態からステージを設定された
範囲内でθ方向に移動させることが可能である。
θドグ7bがθセンサ8bの一方を切っていた場合を示
す。ステージ20がθ方向に移動すると、図5に示すよ
うに2本の押し棒5,6のうち1本のみが押されて同図
のX右方向(+X方向)に移動し、もう1本は、ばね9
に押されて、図面X左方向(−X方向)に移動する。し
たがって、ドグバー7とセンサバー8とは互いに逆方向
に回動し、θドグ7bと、θセンサ8bの一方が接近す
る。ステージ20がさらに同じ方向に回転すると、図5
に示すようにθドグ7bがθセンサ8bを切り、前記し
たようにステージ20の移動が停止し、オーバーランを
防ぐ。
も、X動ドグ1とY動ドグ3は、前記したようにステー
ジ20の回転軸である基準軸を中心として描かれる円の
円弧を形成するように設けられているので、X動ドグ1
とX方向センサ2a,2bの位置関係、及び、Y動ドグ
3とY方向センサ4a,4bの位置関係は変化しない。
すなわち、ステージ20がθ方向に移動することによ
り、XまたはY方向のオーバーランセンサが動作するこ
とはなく、θ方向移動後、さらにステージがX方向、ま
たはY方向に移動するような場合であっても、正確にX
方向、またはY方向のオーバーランを検出することがで
きる。
ジ面に平行に配置され、基準軸を中心として円弧状に形
成されたドグ1,3を、該円弧の接線がX,Y方向に平
行になるようにステージ20に取り付け、上記ドグ1,
3の位置を検出する第1のセンサ2a,2b,4a,4
bを設けて、該センサ2a,2b,4a,4bの出力に
より、上記ステージ20のXY方向の移動の制限を行
い、また、上記第1の駆動機素23により駆動されるド
グ7bと、第2の駆動機素24により駆動される第2の
センサ8bからなり、ステージのX,Y方向への移動に
対しては上記ドグ7bと第2のセンサ8bの相対位置が
変わらず、基準軸を中心としてステージ20が回転した
ときには上記ドグ7bと第2のセンサ8bが互いに離反
する方向に移動するステージ20の回転量検出手段を設
け、上記第2のセンサ8bの出力によりにより回転方向
の移動制限を行うようにしたので、XY方向のオーバラ
ンとθ方向のオーバランを独立して検出することができ
る。
出手段として、円弧状のX動ドグ1とY動ドグ3とをそ
れぞれ1個ずつ設ける場合について説明したが、X動ド
グとY動ドグを図6に示すように2個ずつ設けるように
してもよい。すなわち、図6に示すように、基準軸を中
心として円弧状に形成されたX動ドク1a,1bをステ
ージ20の両側に設けるとともにX方向センサ2a,2
bをステージ20の両側に配置する。同様に、基準軸を
中心として円弧状に形成されたY動ドク3a,3bをス
テージ20の上下側に設けるとともにY方向センサ4
a,4bをステージ20の上下側に配置する。このよう
に構成しても前記図1と同様にステージ20のXY方向
のオーバランを検出することができる。なお、図6で
は、前記した押し棒5,6、ドグバー7、センサバー8
等は省略されている。
り、本実施例はドグバー11、センサバー12を回転さ
せずに平行移動させるようにした実施例を示している。
本実施例では駆動機素とアームが平板とローラから構成
されているものを示している。図7において、23,2
4,25は第1〜第3の駆動機素であり、駆動機素2
3,24,25の駆動部23a,24a,25aは、平
板状に形成されており、アーム20a,20b,20c
に取り付けられたローラ23e,24e,25eと当接
している。
したものと同様、第1、第2の駆動機素23,24を駆
動して駆動部23a,24aを等しい量だけ移動させる
ことにより、ステージ20をX方向に移動させ、第1,
第2の駆動機素23,24を駆動せず、第3の駆動機素
25を駆動して駆動部25aを移動させることによりス
テージ20をY方向に移動させる。さらに、第1、第2
の駆動機素23,25により駆動部23a,25aをそ
れぞれ第1の方向に駆動し、第3の駆動機素24により
駆動部24aを上記第1の方向とは反対方向に駆動する
ことにより、ステージ20を基準軸を中心に回転させる
ことができる。
記図1と同様、第1及び第2の駆動機素23,24の駆
動部23a,24aのX方向の移動によって一端を押さ
れ、直線動する押し棒5,6がそれぞれ設けられてい
る。駆動機素25によりステージ20がY方向に移動す
る場合には、駆動部23a,24aは、押し棒5,6と
駆動部23a,24aとの接触面に対し平行に移動す
る。2本の押し棒5,6の他端には、バー11,12が
固定されており、押し棒5,6が移動すると、バー1
1,12は押し棒5,6と同方向に移動する。バー1
1,12のもう一端の側には、前記図1と同様、θ動ド
グ7bと、該ドグを挟むように2個のθセンサ8bが設
けられている。
動する場合には、前記と同様、バー11,12は同方向
に平行移動し、バー11,12の相対位置は変わらな
い。ステージ20がY方向に移動する場合には、駆動部
23a,24aは、押し棒5,6と駆動部23a,24
aとの接触面に対し平行に移動し、同様にバー11,1
2の相対位置は変わらない。ステージ20が回転する
と、2本の押し棒5,6のうち1本のみが押されて同図
のX右方向に+aに移動し、もう1本はばね9に押され
て、図面X左方向に−aに移動する。バー11,12は
互いに反対方向に平行移動するので、バー11,12の
相対的移動量は2aとなり、θドグ7bがθセンサ8b
を切り、前記したようにステージの移動が停止しオーバ
ーランを防ぐ。
以下の効果を得ることができる。 (1)第1、第2、第3の駆動機素を用いて、一つのス
テージをX、Y、θ方向に移動制御するステージ装置に
おいて、XY方向の移動制限手段として、ステージの回
転軸を中心とする円弧状のドグと、センサの組合せたも
のによりXY方向の移動制限を行い、θ方向の移動制限
手段として、ステージの回転軸を含む平面上に設けた、
第1及び第2の駆動機素の移動量の差を、センサで検出
することによりθ方向の移動制限をするようにしたの
で、ステージのX、Y、θ方向のオーバーランを独立し
て検出することができ、ステージの正常な移動が確保す
ることができる。
テージ装置の構成を示す図である。
ある。
す図である。
示す図である。
制御を行なうステージ装置の構成例を示す図である。
構造を示す図である。
設けて移動量を検出した場合に問題点を説明する図であ
る。
Claims (1)
- 【請求項1】 基準軸を含む第1の平面上に、第1、第
2の駆動機素を設け、また、該基準軸を含み第1の平面
と交わる第2の平面上に第3の駆動機素を設け、 上記第1、第2、第3の駆動機素により、上記基準軸に
対して垂直な平面内でステージを上記第1の平面に直交
する第1の方向、および、上記第2の平面に直交する第
2の方向に直線移動させるとともに、上記基準軸を中心
として回転させるステージ装置であって、 上記ステージ面に平行に配置され、上記基準軸を中心と
して円弧状に形成された第1の被検知部材をステージに
取り付け、 上記第1の被検知部材の位置を検出する第1のセンサを
設けて、該センサ出力により、上記ステージの上記第
1、第2の方向への移動検出を行い、 また、上記第1の駆動機素により駆動される第2の被検
知部材と、第2の駆動機素により駆動される第2のセン
サを有し、ステージの上記第1、第2の方向への移動に
対しては上記第2の被検知部材と第2のセンサの相対位
置が変わらず、上記基準軸を中心としてステージが回転
したときには上記第2の被検知部材と第2のセンサが互
いに離反する方向に移動する手段を設け、上記第2のセ
ンサの出力により回転方向の移動検出を行うことを特徴
とするオーバランセンサを備えたステージ装置。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001318180A true JP2001318180A (ja) | 2001-11-16 |
JP3963066B2 JP3963066B2 (ja) | 2007-08-22 |
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Country Status (1)
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---|---|
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---|---|---|---|---|
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- 2000-05-09 JP JP2000135573A patent/JP3963066B2/ja not_active Expired - Fee Related
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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