JP2001298032A - 半導体パッケージとその製造方法 - Google Patents

半導体パッケージとその製造方法

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 中空タイプの半導体パッケージを製造するに
際し、ダイボンド工程での素子の傾きを確実に防止す
る。 【解決手段】 パッケージ面から突出して形成された素
子搭載部13を有するとともに、この素子搭載部13上
に凹状の逃げ部16が形成されたパッケージ本体11
と、このパッケージ本体11の素子搭載部13に搭載さ
れた固体撮像素子20とを備える半導体パッケージにお
いて、パッケージ本体11の構成として、素子搭載部1
3に固体撮像素子20を搭載した状態で、逃げ部16内
の空間と素子搭載部13周辺の空間とを連通する切り欠
き部18を有するものとする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、中空タイプのパッ
ケージ構造を採用してなる半導体パッケージとその製造
方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、CCD型、C−MOS型等の固
体撮像素子を気密封止するにあたっては、中空タイプの
パッケージ構造が採用されている。パッケージ材料とし
ては、これまでセラミックスが多用されてきたが、近年
では材料コストが安くしかも量産性に優れるプラスチッ
クが主流になってきている。
【0003】パッケージ材料となるプラスチックには熱
硬化性樹脂が用いられ、この熱硬化性樹脂を加熱可塑さ
せて成形金型のキャビティ内に流し込み、成形硬化させ
ることにより、プラスチックによる成形品(プリモール
ドパッケージ)が得られる。さらに、こうして得られた
パッケージ本体に固体撮像素子を搭載した後、ワイヤボ
ンディング、気密封止、リード成形等の各工程を経て、
固体撮像素子による半導体パッケージ(中空パッケー
ジ)が得られる。
【0004】図5は従来の半導体パッケージの構成とし
て、特に、そのパッケージ本体の構造を示すもので、
(A)はその平面図、(B)はそのX−X断面図であ
る。図示のようにパッケージ本体1は断面略凹状に形成
されている。パッケージ本体1の凹部底面2には素子搭
載部(ダイアタッチ部)3が形成されている。この素子
搭載部3は、そこに搭載される固体撮像素子の外形に合
わせて平面視矩形状に形成されている。また素子搭載部
3は、パッケージ本体1の凹部底面2から突出する状態
で形成され、かつその外形寸法が固体撮像素子の外形寸
法(チップサイズ)よりも小さく設定されている。この
ように素子搭載部3を形成する理由は、仮に素子搭載部
3を凹部底面2と面一に形成した場合、凹部底面2(素
子搭載部3を含む)の反りによって固体撮像素子のエッ
ジ(チップエッジ)が素子搭載部3の表面に接触し、チ
ップ欠けを招く恐れがあるためである。
【0005】また、パッケージ本体1の凹部内には、素
子搭載部3の両サイドに位置してワイヤボンディングの
ための段部4が設けられている。さらに、素子搭載部3
上には凹状の逃げ部6が形成されている。この逃げ部6
は、次のような理由により設けられている。即ち、先述
のようにパッケージ本体1をモールド成形する場合、成
形金型から成形品を取り出すためのエジェクトピンを素
子搭載部3の中央に突き当てて押し出すようにしてい
る。そのため素子搭載部3には、エジェクトピンによる
跡(以下、エジェクトピン跡という)7が残る。このエ
ジェクトピン跡7には、例えば成形金型とエジェクトピ
ンとの隙間に入り込んだ樹脂などによってバリが発生す
る。このバリが素子搭載部3の上面5から突出した状態
になると、そこに搭載される固体撮像素子がバリに接触
して姿勢変化を起こし、素子搭載時の取付精度(ダイボ
ンド精度)を低下させる要因となる。そのため、上述の
ように素子搭載部3の上面4に凹状の逃げ部6を設ける
ことにより、エジェクトピン跡7にバリがあっても、こ
のバリが固体撮像素子に接触しないようにしている。
【0006】ところで、一般に、パッケージ本体1の素
子搭載部3に固体撮像素子を搭載するいわゆるダイボン
ド工程では、ダイボンド剤と呼ばれる接合材料が用いら
れる。このダイボンド工程においては、ディスペンス方
式等によりパッケージ本体1の素子搭載部3上にダイボ
ンド剤を塗布している。そして、その上から固体撮像素
子を押し付けて仮固定し、さらに熱キュアを行ってダイ
ボンド剤を硬化させることにより、パッケージ本体1の
素子搭載部3に固体撮像素子を接合固定している。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来にお
いては、パッケージ本体1に固体撮像素子を搭載するに
あたって、次のような問題があった。即ち、図6(A)
に示すように素子搭載部3上にダイボンド剤8を塗布し
て固体撮像素子9を押し付けたときに、素子搭載部3の
逃げ部6内にエアー10が閉じ込められることがある。
そうした場合、ダイボンド剤8を硬化させるために熱キ
ュアを行うと、図6(B)に示すように逃げ部6内に閉
じ込められたエアー10が膨張して固体撮像素子9を押
し上げてしまう。その結果、固体撮像素子9の姿勢に傾
きが生じて取付精度が悪化し、場合によっては規定の精
度を保証できなくなって不良となる。
【0008】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたもので、その目的とするところは、ダイボンド工程
での素子の傾きを確実に防止することができる半導体パ
ッケージとその製造方法を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するためになされたもので、パッケージ面から突出し
て形成された素子搭載部を有するとともに、この素子搭
載部上に凹状の逃げ部が形成されたパッケージ本体と、
このパッケージ本体の素子搭載部に搭載された半導体素
子とを備える半導体パッケージにおいて、特に、パッケ
ージ本体の構成として、素子搭載部に半導体素子を搭載
した状態で、逃げ部内の空間と素子搭載部周辺の空間と
を連通させる連通部を有した構成となっている。
【0010】上記構成の半導体パッケージにおいては、
その製造過程において、パッケージ本体の素子搭載部に
ダイボンド剤を用いて半導体素子を搭載したときに、逃
げ部内の空間と素子搭載部周辺の空間とが連通部により
連通した状態となることで、逃げ部内にエアーが閉じ込
められるといった現象を回避することが可能となる。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、固体撮像素子を用いた半導
体パッケージとその製造方法に適用した場合の本発明の
実施の形態につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。
【0012】先ず、本発明の半導体パッケージを説明す
るにあたって、そのパッケージ製造に用いられるパッケ
ージ本体の構造につき、図1を用いて説明する。なお、
図1において、(A)はパッケージ本体の平面図、
(B)はそのX’−X’断面図を示している。
【0013】図示のように、パッケージ本体11は、例
えばエポキシ系等の熱硬化性樹脂を用いてモールド成形
されたもので、全体として断面略凹状に形成されてい
る。パッケージ本体11の凹部底面12には素子搭載部
(ダイアタッチ部)13が形成されている。この素子搭
載部13は、そこに搭載される固体撮像素子の外形に合
わせて平面視矩形状に形成されている。また素子搭載部
13は、パッケージ本体11の凹部底面12から突出す
る状態で形成され、かつその外形寸法が固体撮像素子の
外形寸法(チップサイズ)よりも小さく設定されてい
る。この理由は、先の従来技術で述べたとおりである。
この素子搭載部13は、凹部底面12を基準として、例
えば0.03〜0.1mmの突出寸法をもって形成され
ている。
【0014】また、パッケージ本体11の凹部内には、
素子搭載部13の両サイドに位置してワイヤボンディン
グのための段部14が設けられている。さらに、素子搭
載部13上には、その上面15中央部を凹状に凹ませた
かたちで逃げ部16が形成されている。この逃げ部6を
設ける理由は、先の従来技術で述べたとおりである。逃
げ部16の中央部には、モールド成形時のエジェクトピ
ン跡17が形成されている。
【0015】さらに、パッケージ本体11の凹部内に
は、2つの切り欠き部18が設けられている。これらの
切り欠き部18は、本発明における連通部を構成するも
のである。各々の切り欠き部18は、素子搭載部13の
周縁部においてその上面15を一部切り欠くかたちで形
成されている。また、各々の切り欠き部18は、素子搭
載部3の短辺側中央部に位置して形成されている。さら
に、各々の切り欠き部18は、例えば幅0.2〜1.0
mm、深さ0.03〜0.1mm(素子搭載部13の突
出寸法と同一)の寸法をもって形成されている。こうし
た切り欠き部18は、生産性等を考慮すると、モールド
成形時にパッケージ本体11と一体に形成されることが
望ましいが、モールド成形後に機械加工によって形成し
ても構わない。
【0016】このような構造をなすパッケージ本体11
を用いて半導体パッケージを製造する場合は、図2に示
すように、パッケージ本体11の素子搭載部13上にダ
イボンド剤19を塗布する。ダイボンド剤19として
は、銀ペースト等を用いることができる。また、塗布方
式としては、ディスペンス方式、スタンピング方式等を
用いることができる。
【0017】このとき、ダイボンド剤19が切り欠き部
18に流れ込まないよう、例えば図1(A)に示すよう
に素子搭載部13の上面15四隅(コーナー部)P1〜
P4にそれぞれ適量ずつダイボンド剤19を塗布するも
のとする。ただし、ダイボンド剤19の塗布位置は上記
P1〜P4に限定されるものではない。
【0018】こうしてダイボンド剤19を塗布したら、
これに続いて、図2に示すように固体撮像素子20をパ
ッケージ本体11の凹部内に進出させて素子搭載部3の
上に載せ、そのまま所定の圧力で押し付ける。これによ
り、固体撮像素子20が素子搭載部3上でパッケージ本
体11に仮固定された状態となる。
【0019】このように固体撮像素子20を仮固定する
ことにより、図3(A),(B)に示すように、素子搭
載部13上でダイボンド剤19が固体撮像素子20に押
し潰されて拡がった状態となる。この状態においては、
先述のように素子搭載部13に形成された逃げ部16の
上方が固体撮像素子20によって塞がれるものの、逃げ
部16内の空間と素子搭載部13周辺の空間とが図中矢
印で示すように切り欠き部18を介して連通した状態と
なる。
【0020】このように逃げ部16内の空間と素子搭載
部13周辺の空間とを連通させることにより、固体撮像
素子20の搭載によって逃げ部16内にエアーが閉じ込
められるといった現象を回避することができる。したが
って、その後、ダイボンド剤19を硬化させるべく熱キ
ュア(固体撮像素子20の本固定)を行っても、逃げ部
16内でエアーが膨張して固体撮像素子20が押し上げ
られることがない。これにより、固体撮像素子20の姿
勢に傾き等を生じさせることなく、パッケージ本体1の
素子搭載部3に高精度に固体撮像素子20を搭載するこ
とが可能となる。
【0021】ちなみに、ダイボンド工程を終了した後
は、固体撮像素子20とインナーリードを金線等によっ
て電気的に接続するワイヤボンディング工程、パッケー
ジ本体11の上端面に透明ガラス等のリッドを接合して
固体撮像素子11を気密状態に封止する気密封止工程、
アウターリードを所定の形状に曲げ加工するリード成形
工程等を経て半導体パッケージが完成する。
【0022】なお、上記実施形態においては、素子搭載
部13に2つの切り欠き部18を設けるものとしたが、
本発明はこれに限らず、例えば図4に示すように素子搭
載部13に4つの切り欠き部18を設けるようにするな
ど、その形成個数は任意に変更可能(一つでも可)であ
り、またその切り欠き形状や寸法についても任意に変更
可能である。ただし、切り欠き部18の形成位置につい
ては、上述のようにダイボンド剤19が固体撮像素子2
0に押し潰されて拡がったときに、逃げ部16内の空間
と素子搭載部3周辺の空間とを連通し得る条件で設定す
る必要がある。
【0023】また本発明は、固体撮像素子を用いた半導
体パッケージやその製造方法への適用に限らず、例え
ば、記憶素子や演算素子など、他の半導体素子を用いた
半導体パッケージやその製造方法にも広く適用し得るも
のである。その場合、気密封止に用いられるリッドとし
ては、ガラスなどの透明基板でなくても構わない。
【0024】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、パ
ッケージ本体の素子搭載部に半導体素子を搭載するにあ
たって、逃げ部内でのエアーの閉じ込み現象を回避する
ことができるため、半導体素子の姿勢に傾き等を生じさ
せることなく、素子搭載部に高精度に半導体素子を搭載
することが可能となる。これにより、ダイボンド工程で
の歩留まりを向上させることが可能となる。また、ダイ
ボンド工程での処理条件(ダイボンド剤の塗布量、塗布
位置等)を厳密に管理しなくても、エアーの閉じ込み現
象を回避できるため、プロセス条件の範囲拡大並びに量
産プロセスの安定化を実現することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る半導体パッケージにおいて、パッ
ケージ本体の構造を説明する図である。
【図2】パッケージ本体に対するダイボンド剤の塗布状
態を説明する図である。
【図3】パッケージ本体に対する素子搭載状態を説明す
る図である。
【図4】本発明に係る半導体パッケージにおいて、パッ
ケージ本体の他の構造例を示す平面図である。
【図5】従来の半導体パッケージにおけるパッケージ本
体の構造を説明する図である。
【図6】従来の課題を説明する図である。
【符号の説明】
11…パッケージ本体、13…素子搭載部、16…逃げ
部、18…切り欠き部、19…ダイボンド剤、20…固
体撮像素子

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 パッケージ面から突出して形成された素
    子搭載部を有するとともに、この素子搭載部上に凹状の
    逃げ部が形成されたパッケージ本体と、このパッケージ
    本体の素子搭載部に搭載された半導体素子とを備える半
    導体パッケージにおいて、 前記パッケージ本体は、前記素子搭載部に前記半導体素
    子を搭載した状態で、前記逃げ部内の空間と前記素子搭
    載部周辺の空間とを連通する連通部を有することを特徴
    とする半導体パッケージ。
  2. 【請求項2】 前記パッケージ本体は、前記素子搭載部
    の周縁部に切り欠き部を有し、この切り欠き部によって
    前記連通部を構成してなることを特徴とする請求項1記
    載の半導体パッケージ。
  3. 【請求項3】 前記半導体素子が固体撮像素子であるこ
    とを特徴とする請求項1記載の半導体パッケージ。
  4. 【請求項4】 パッケージ面から突出して形成された素
    子搭載部を有するとともに、この素子搭載部の上面に凹
    状の逃げ部が形成されたパッケージ本体に半導体素子を
    搭載するにあたり、 予め前記素子搭載部の周縁部に切り欠き部を形成してお
    き、その後、前記素子搭載部に前記半導体素子を搭載す
    ることにより、前記逃げ部内の空間と前記素子搭載部周
    辺の空間とを前記切り欠き部を介して連通させることを
    特徴とする半導体パッケージの製造方法。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006332686A (ja) * 2006-07-03 2006-12-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd 固体撮像装置
US7586529B2 (en) 2003-10-23 2009-09-08 Panasonic Corporation Solid-state imaging device
JP2015065206A (ja) * 2013-09-24 2015-04-09 日本電気株式会社 モジュール部品及びモジュール部品の製造方法
JP2016014656A (ja) * 2014-06-12 2016-01-28 株式会社フジクラ 半導体装置及びその製造方法
CN113113837A (zh) * 2021-04-07 2021-07-13 深圳市东飞凌科技有限公司 管座固定装置以及固晶设备

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7586529B2 (en) 2003-10-23 2009-09-08 Panasonic Corporation Solid-state imaging device
US7719585B2 (en) 2003-10-23 2010-05-18 Panasonic Corporation Solid-state imaging device
JP2006332686A (ja) * 2006-07-03 2006-12-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd 固体撮像装置
JP2015065206A (ja) * 2013-09-24 2015-04-09 日本電気株式会社 モジュール部品及びモジュール部品の製造方法
JP2016014656A (ja) * 2014-06-12 2016-01-28 株式会社フジクラ 半導体装置及びその製造方法
CN113113837A (zh) * 2021-04-07 2021-07-13 深圳市东飞凌科技有限公司 管座固定装置以及固晶设备

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