JP2001297987A

JP2001297987A - 軸封装置

Info

Publication number: JP2001297987A
Application number: JP2000115093A
Authority: JP
Inventors: Manabu Noguchi; 学野口; Yuji Kobayashi; 勇二小林; Kiyoshi Akiyama; 皖史秋山
Original assignee: Rigaku Denki Co Ltd; Rigaku Corp
Current assignee: Rigaku Denki Co Ltd; Rigaku Corp
Priority date: 2000-04-17
Filing date: 2000-04-17
Publication date: 2001-10-26
Anticipated expiration: 2020-04-17
Also published as: JP3564038B2

Abstract

(57)【要約】【課題】軸封装置によって封止される運動軸のまわり
の構造を簡単にすることのできる軸封装置を提供する。【解決手段】被処理物体４を回転させる回転軸３が、
物体４を含む第１領域Ｒ１とそれとは異なった第２領域
Ｒ２との間にわたって設けられる。回転軸３の先端部分
に第１磁気シール装置７が設けられ、他端部分に第２磁
気シール装置１２が設けられる。これらのシール装置は
回転軸３の回転を許容しつつこの回転軸３を第１領域Ｒ
１と第２領域Ｒ２との間で軸封する。回転軸３は第１領
域Ｒ１に面する開口２２を有する中空軸であり、物体４
は開口２２を通して回転軸３に取り付けられる。物体４
は回転軸３の中空部を通して開口２２に取り付けられ
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、回転軸等といった
運動軸を異なる環境領域の間で軸封する軸封装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】近年の産業分野では、異なる環境に置か
れた２つの領域にわたって回転軸等といった運動軸を配
設し、一方の領域の環境が他方の領域の環境から影響を
受けないように軸封した状態で上記一方の領域内で上記
運動軸の運動を利用して適宜の処理を行うようにした処
理装置が知られている。

【０００３】例えば、ＰＶＤ（Physical Vapor Deposit
ion：物理的薄膜成長法）装置やＣＶＤ（Chemical Vapo
r Deposition：化学的薄膜成長法）装置では、真空環境
に置かれた処理領域又は特定のガス雰囲気に置かれた処
理領域内に半導体基板を配置すると共にそれらの領域内
へ回転軸を導入し、上記処理領域が外部環境によって汚
染されないように軸封した状態で、上記回転軸によって
半導体基板を回転させながらその半導体基板に対して所
定の処理が行われる。

【０００４】上記のような処理装置として、例えば図４
に示すように、例えば隔壁５２に囲まれて真空に設定さ
れた第１領域Ｒ１と大気圧である第２領域Ｒ２との間に
わたって運動軸としての回転軸５３を設けた処理装置が
ある。この装置では、回転軸５３を軸封装置５１によっ
て軸封して第１領域Ｒ１の真空状態が第２領域Ｒ２によ
って影響されないように保持し、回転軸５３の第１領域
Ｒ１内の先端に被処理物体、例えば半導体基板５４を取
り付け、さらに、回転軸５３の外部端にモータ５９及び
ベルト等といった動力伝達系５８を含んだ駆動機構５７
を取り付ける。駆動機構５７によって回転軸５３が回転
駆動されて被処理物体５４が回転する間に、真空環境を
必要条件とする所定の処理が被処理物体５４に対して行
われる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図４に
模式的に示した従来の軸封装置では、回転軸５３すなわ
ち運動軸が中実軸であり、その中実軸の先端に接着又は
適宜の固定具によって被処理物体５４が固定されてい
た。このため、隔壁５２には回転軸５３を導入するため
の開口以外に被処理物体５４を挿入するための挿入口が
必要であった。この挿入口に関しては、第１領域Ｒ１の
環境を保持するための特別な密封構造を施す必要があ
り、そのため、隔壁５２の構造が複雑且つ大型にならざ
るを得ないと共にコストが高くなるという問題があっ
た。

【０００６】本発明は、上記の問題点に鑑みて成された
ものであって、軸封装置によって封止される運動軸のま
わりの構造を簡単にすることのできる軸封装置を提供す
ることを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】（１）上記の目的を達
成するため、本発明に係る軸封装置は、物体に運動を与
える運動軸であって前記物体を含む第１領域とそれとは
異なった第２領域との間にわたって設けられた運動軸に
設けられたシール手段を有し、該シール手段は前記運動
軸の運動を許容しつつ該運動軸を前記第１領域と前記第
２領域との間で封止する軸封装置において、前記運動軸
は前記第１領域に面する開口及び該開口につながる中空
部を有し、前記物体は該中空部を介して前記開口に取り
付けられることを特徴とする。

【０００８】上記構成において、「運動軸」とは、回転
軸、直動軸、その他任意の運動を行う軸部材である。ま
た、「第１領域」と「第２領域」とは、何等かの意味で
環境が異なっている領域のことであり、例えば、気圧が
異なっていたり、ガス雰囲気が異なっていたりする複数
の領域のことである。また、「シール手段」としては、
磁気シール装置、メカニカルシール装置、その他任意の
シール用機器を用いることができる。

【０００９】上記構成の軸封装置によれば、運動軸によ
って運動を与えられる物体は該運動軸の中空部を通して
第１領域内へ装着されるので、第１領域を形成する部
材、例えば隔壁には物体を挿入するための挿入口等を設
ける必要がなくなる。よって、運動軸のまわりの構造を
小型且つ簡単にすることができ、コストも低減できる。

【００１０】なお、本発明の軸封装置は種々の条件の第
１領域及び第２領域にわたって配設できる。例えば、第
２領域は作業員が存在する空間と同じ気圧及びガス雰囲
気である大気圧領域とし、第１領域は真空とすることが
できる。また、第１領域を真空に代えて、低圧力や、大
気圧のガス雰囲気や、圧力の高いガス雰囲気等とするこ
ともできる。

【００１１】（２）上記（１）項に記載した構成の軸
封装置において、前記運動軸の前記開口には前記物体を
支持するための物体支持部を設けることが望ましい。こ
の物体支持部は任意の構造によって構成できるが、例え
ば、運動軸の半径方向すなわち内部方向へ適宜の寸法で
張り出す張出し部を数ヶ所設けることによって構成で
き、この場合には、それらの張出し部によって物体を受
けることにより、物体を運動軸の開口の所に支持でき
る。

【００１２】（３）上記各項に記載した構成の軸封装
置において、前記運動軸は回転軸であることが望まし
い。

【００１３】（４）上記各項に記載した構成の軸封装
置において、前記シール手段は前記運動軸の外周に磁性
流体膜を形成して該磁性流体膜によって該運動軸を前記
第１領域と前記第２領域との間で封止することが望まし
い。この構成はシール手段として、いわゆる磁気シール
装置を用いる構成である。

【００１４】「磁性流体」は、磁性体から成る金属微粒
子を界面活性剤の助けを借りて非磁性の流体媒体にコロ
イド状に分散させることによって形成された流体であ
る。例えば、炭化水素、炭化フッ素、脂肪酸等から成る
流体にフェライトその他の磁性流体粉を分散させた流体
とすることができる。また、金属微粒子は、例えば、Ｍ
ｎＺｎＦｅ₂Ｏ₃から成る直径１００Å程度の微粒子によ
って構成できる。

【００１５】磁気シール装置を用いて軸封を行えば、メ
カニカルシール装置やＯリング等を用いて軸封を行う場
合に比べて、第１領域及び第２領域のそれぞれの環境を
明確に遮蔽でき、特に低圧領域への圧力漏れや、不純ガ
スを含まないクリーンな領域へのガス漏れ等を確実に防
止できる。

【００１６】（５）上記（３）項に記載した構成、す
なわち、運動軸として回転軸を用いる構成の軸封装置に
関しては、前記運動軸を支持する一対の軸受と、それら
の軸受を支持するケーシングと、前記運動軸の軸方向に
関して前記一対の軸受の間に設けられると共に前記ケー
シングによって支持されるモータとを設けることが望ま
しい。そして、該モータは前記ケーシングに固定された
ステータを有すると共に前記運動軸をロータとすること
が望ましい。

【００１７】この構成は、運動軸としての回転軸を駆動
するための駆動源を軸封装置の内部に組み込まれる、い
わゆるビルトイン方式のモータ、特にダイレクトドライ
ブ方式のモータとするものである。

【００１８】回転軸の駆動方法としては、上記のビルト
イン方式以外に、外付けモータの動力をベルト等といっ
た動力伝達系を用いて回転軸へ伝達するという構成が考
えられるが、そのような外付け動力源を用いた方法で
は、振動が大きくなり、高速回転ができず、駆動系を含
めた軸封装置の形状が大きくなるという問題が考えられ
る。

【００１９】それに対し、ビルトイン方式を用いた構成
によれば、運動軸を回転させたときの振動が少なく、ベ
ルト荷重等の場合に見られる偏荷重もないので安定した
回転が得られる。この結果、長寿命、高速化、一定速回
転、クリーン環境を実現できるので、特に、ＰＶＤ装置
やＣＶＤ装置等といった塵等の無いクリーンな環境を必
要とする大型高速精密回転機器のシールに好適である。
また、外付け動力源を用いる場合に比べて形状を著しく
小型にできる。

【００２０】（６）上記（５）項に記載した構成の軸
封装置に関しては、前記ケーシングに蓋部材を設け、前
記運動軸は前記第１領域に面する開口の反対側に第２開
口を有し、該第２開口は前記蓋部材によって前記第２領
域から塞がれ、前記蓋部材には前記運動軸の中空部に挿
入される冷却液通流管が設けられることが望ましい。こ
の構成は、運動軸に設けた中空部を物体挿入用として用
いることに加えて、冷却機器の設置スペースとして用い
るものである。

【００２１】この構成によれば、第１領域を形成する部
材、例えば隔壁には物体を挿入するための挿入口等を設
ける必要がなくなると共に、冷却用機器を付設するため
の構造も必要が無くなるので、運動軸のまわりの構造を
より一層小型且つ簡単にすることができ、コストもより
一層低減できる。

【００２２】

【発明の実施の形態】（第１実施形態）図１は、本発明
に係る軸封装置の一実施形態を示している。ここに示す
軸封装置１は、隔壁２によって囲まれた第１領域Ｒ１と
隔壁１の外側領域である第２領域Ｒ２との間に設けられ
る運動軸としての回転軸３を第１領域Ｒ１と第２領域Ｒ
２との間で軸封するために用いられる。この軸封によ
り、回転軸３の自己軸Ｘまわりの回転が許容され、さら
に第１領域Ｒ１内の環境と第２領域Ｒ２内の環境とが互
いに影響を及ぼし合うことを防止する。

【００２３】第１領域Ｒ１は、例えば、大気圧よりも低
い気圧に減圧され、しかもその内部は塵等といった汚染
物が少ないクリーンな状態に設定される。そして、第２
領域Ｒ２は、例えば、一般的な地上雰囲気状態、具体的
には大気圧で塵等を含む状態に設定されている。第１領
域Ｒ１内に存在する回転軸３の先端には概ね円盤形状の
被処理物体４、例えば半導体基板が取り付けられ、この
物体４には、低圧でクリーンな環境下で物体４を回転さ
せることを必要条件とする適宜の処理、例えば薄膜形成
処理が行われる。

【００２４】軸封装置１は、ボルトその他の締結手段に
よって隔壁２に固定された第１ケーシング６ａと、隔壁
２の外側においてその第１ケーシング６ａに固定される
第２ケーシング６ｂとによって構成されるケーシング６
を有する。このケーシング６は、例えば概ね円筒形状に
形成される。

【００２５】ケーシング６の内部には、第１領域Ｒ１側
から順に、第１磁気シール装置７、組合せアンギュラ軸
受８、ビルトイン・ダイレクト・モータ９、ラジアル軸
受１１、そして第２磁気シール装置１２が設けられる。
組合せアンギュラ軸受８は、周知の通り、ラジアル荷重
及びスラスト荷重の両方を受けることができる一対のア
ンギュラ軸受を予め予圧を与えて並列に取り付けること
により、軸方向の遊びを無くしたものである。回転軸３
は、組合せアンギュラ軸受８及びラジアル軸受１１によ
って回転可能且つ軸方向移動しないように支持される。

【００２６】第１磁気シール装置７は、図２に示すよう
に、ほぼ円筒形状のケーシング１３と、そのケーシング
１３の中に互いに平行に配列された複数の環状の磁石１
４と、それらの磁石１４の間に配置された環状の磁性部
材１６とを有する。磁性部材とは、磁場をかけられたと
きに磁化する性質を有する部材、すなわち磁石から出る
磁束線を通すことのできる性質を有する部材のことであ
る。

【００２７】各磁性部材１６と回転軸３との間には、磁
性流体１７が置かれている。また、各磁石１４は、Ｎ極
及びＳ極のうちの同極が互いに隣り合うように並べられ
ており、各磁石１４のＮ極から出る磁束線は、磁性部材
１６、磁性流体１７、そして回転軸３を通って各磁石１
４のＳ極へ到達する循環路を形成する。この磁束線によ
り、磁性流体１７が回転軸３及び磁性部材１６の両方に
磁力によって吸着して磁性流体膜を形成し、この磁性流
体膜により回転軸３が自己軸Ｘまわりの回転を許容され
た状態で第１領域Ｒ１と第２領域Ｒ２との間で軸封され
る。すなわち、回転軸３が回転する間、磁性流体１７に
よって、第２領域Ｒ２側の高圧空気が低圧領域である第
１領域Ｒ１へ漏れ出ることが防止される。この磁気シー
ル装置７を用いれば、確実な軸封効果が得られると共
に、回転軸３の磨耗が少なく、長寿命を確保できる。

【００２８】磁性流体１７は、非磁性の流体媒体に磁性
体の金属微粒子をコロイド状に分散させることによって
形成された流体のことである。例えば、炭化水素、炭化
フッ素、あるいは脂肪酸等といった液体にフェライトそ
の他の磁性体粉末を分散した流体を用いることができ
る。

【００２９】図１において、第１磁気シール装置７が設
けられた回転軸３の一端部の反対側の端部に設けられた
第２磁気シール装置１２は、第１磁気シール装置７と同
様に構成されているので、詳しい説明は省略する。

【００３０】ビルトイン・ダイレクト・モータ９は、ス
テータ１８及びロータ１９を有し、ステータ１８はケー
シング６、具体的には第１ケーシング６ａに固定され、
ロータ１９は回転軸３の一部分として形成されている。
このモータ９のステータ１８にはモータ制御装置２１が
電気的に接続され、ステータ１８への給電をモータ制御
装置２１によって制御することにより、ロータ１９すな
わち回転軸３の回転を制御する。

【００３１】ビルトイン・ダイレクト・モータ９は、ケ
ーシング６の内部であって回転軸３を支持する軸受８と
軸受１１との間に配置されるというビルトイン形式であ
ると共に、回転軸３それ自体をロータとするダイレクト
ドライブ形式であるので、回転軸３を回転させたときの
振動が少なく、偏荷重もないので、安定した回転が得ら
れる。

【００３２】回転軸３は中空構造の円筒状部材によっ
て、例えば内径φ１２０ｍｍ程度に形成され、この中空
部は第１領域Ｒ１に面する開口２２及びその反対側に別
の第２開口２３を有する。また、回転軸３の第１磁気シ
ール装置７よりも先端側の適所には通気口２４が設けら
れている。この通気口２４の作用により、回転軸３の中
空部は気圧、クリーン度等に関して第１領域Ｒ１と同じ
環境に置かれる。そして、この中空部の環境と第２領域
Ｒ２の環境との間の環境封止は第２磁気シール装置１２
によって確保される。

【００３３】回転軸３によって回転運動を与えられる被
処理物体４は回転軸３の第１領域Ｒ１に面する開口２２
に取り付けられた状態で第１領域Ｒ１に露出する。そし
て、その露出部分に対して第１領域Ｒ１内の環境条件を
必要条件とする適宜の処理、例えばＰＶＤ処理やＣＶＤ
処理が行われる。

【００３４】なお、物体４を開口２２に取り付けるため
の方法は種々考えられる。例えば、本実施形態のよう
に、開口２２に半径方向へ張り出す張出し部５をストッ
パとして複数ヶ所に設け、これらの張出し部によって物
体４の外周フランジ部を受けることにより、物体４を開
口２２の所に支持することができる。もちろん、開口２
２に専用の取り付け治具を設け、この治具によって物体
２２を固定するという方法も考えられる。

【００３５】ケーシング６の第２領域Ｒ２側の端部、具
体的には第２ケーシング６ｂの端部には蓋部材２６がボ
ルト、その他適宜の締結具によって気密に固定される。
この蓋部材２６には冷却液供給装置２７から延びる冷却
液通流管２８が溶接その他適宜の固定方法によって固定
され、それらの冷却液通流管２８はそれらの先端におい
て円盤部材２９によってつながっている。円盤部材２９
の内部には２つの冷却液通流管２８を連通させるための
通路が形成されている。

【００３６】蓋部材２６は締結具を解除することにより
ケーシング６から取り外すことができ、この取り外し状
態において回転軸３の中空部が第２開口２３を通して第
２領域Ｒ２へ開放される。そして、この開放状態におい
て、第２開口２３及び中空部を介して第２領域Ｒ２側か
ら被処理物体４を挿入して所定の取り付け位置、すなわ
ち回転軸３の開口２２に装着できる。このとき、被処理
物体４は適宜の固定具によって回転軸３に固定しても良
いし、あるいは、何等の固定具を使うことなく単に開口
２２に置くだけでも良い。

【００３７】被処理物体４を上記のようにして開口２２
に装着したあと、蓋部材２６をケーシング６の端部に固
定すると、その蓋部材２６に固定した冷却液通流管２８
が回転軸３の中空部に挿入され、その先端の円盤部材２
９が開口２２に近い位置、すなわち被処理物体４に近い
位置に配置される。この状態で、冷却液供給装置２７が
作動して冷却液通流管２８へ冷却液、例えば冷却水が流
されると、被処理物体４が冷却される。これにより、温
度の調節が必要である処理を被処理物体４に施すことが
可能となる。

【００３８】本実施形態の軸封装置は以上のように構成
されているので、被処理物体４は蓋部材２６をケーシン
グ６から取り外した状態で回転軸３の中空部を通して開
口２２へ装着される。この装着は、必要に応じて、適宜
の固定具を用いた固着であったり、固定具を用いない装
着であったりする。その後、冷却液通流管２８を回転軸
３の中空部へ挿入しながら蓋部材２６をケーシング６の
端部に固着して回転軸３の第２開口２３を第２領域Ｒ２
から遮蔽する。

【００３９】次に、隔壁２によって遮蔽された第１領域
Ｒ１を図示しない空気吸引手段によって減圧して減圧状
態、例えば真空状態に設定し、さらに図示しない防塵手
段の働きによってクリーンな状態に設定する。なお、第
２領域Ｒ２は自然な大気圧の外部空間状態である。一
方、モータ制御装置２１によって回転軸３の回転、すな
わち被処理物体４の回転を制御すると共に、冷却液通流
管２８に冷却液を流すことによって被処理物体４の温度
を調節しながら、第１領域Ｒ１に面する被処理物体４に
対して所定の処理、例えば、ＰＶＤ処理、ＣＶＤ処理等
を行う。

【００４０】以上のように回転軸３を回転させる間、回
転軸３に関する第１領域Ｒ１と第２領域Ｒ２との間の軸
封は、第１磁気シール装置７及び第２磁気シール装置１
２によって確実に達成される。磁気シール装置７及び１
２はメカニカルシール装置等に比べて回転軸３を摩耗や
損傷させることが少なく、また、第１領域Ｒ１のクリー
ン度を長時間にわたって高く維持できる。

【００４１】また、本実施形態のモータ９は、ビルトイ
ン方式且つダイレクトドライブ方式に構成されているの
で、回転軸３は低振動及び低回転ムラでバランス良く回
転する。また、ベルト駆動による方法に比べて軸受７及
び１２に対する偏荷重が小さいので、回転軸３を高速、
例えば１２００ｒｐｍで回転させることができる。

【００４２】さらに、被処理物体４は回転軸３の中空部
を通して第１領域Ｒ１内へ装着されるので、第１領域Ｒ
１を形成する隔壁２には被処理物体４を挿入するための
挿入口等を設ける必要がない。よって、回転軸３のまわ
りの構造を小型且つ簡単にすることができ、コストも低
減できる。

【００４３】（第２実施形態）図３は、本発明に係る軸
封装置の他の実施形態を示している。この実施形態が図
１に示した実施形態と大きく異なる点は、被処理物体４
を冷却するための装置が用いられていないことである。
つまり、本実施形態は被処理物体４を冷却する必要がな
い場合に好適な実施形態である。なお、図３において図
１と同じ部材は同じ符号を用いて示してある。

【００４４】本実施形態では、回転軸３の第２領域Ｒ２
側の端部にボルトその他の締結具によって蓋部材３６が
直接に且つ気密に固定され、これにより、回転軸３の開
口２３が第２領域Ｒ２から遮蔽されている。図１の実施
形態では、回転軸３の中空部の環境は第２磁気シール装
置１２によって第２領域Ｒ２から遮蔽されていたが、図
３に示す本実施形態では、蓋部材３６それ自体によって
回転軸３の中空部の環境が保持されている。被処理物体
４に対してＰＶＤ処理等といった所定の処理が行われる
ときには、モータ制御装置２１によって回転軸３の回転
を制御しつつ、被処理物体４を回転させる。

【００４５】被処理物体４を第１領域Ｒ１内の回転軸３
の先端開口２２に装着する際、あるいは被処理物体４を
先端開口２２から取り外す際には、回転軸３の後端の第
２開口２３から蓋部材３６を取り外し、その第２開口２
３を通して回転軸３の中空部に対して被処理物体４を出
し入れする。

【００４６】この実施形態においても、磁気シール装置
７を用いたクリーンで長寿命の軸封が得られる。また、
ビルトイン及びダイレクトドライブ形式のモータ９によ
り、低振動及び低回転ムラでバランスの良い回転を達成
でき、さらに、偏荷重が小さいので、回転軸３を高速、
例えば１２００ｒｐｍで回転させることができる。さら
に、被処理物体４は回転軸３の中空部を通して第１領域
Ｒ１内へ装着されるので、第１領域Ｒ１を形成する隔壁
２には被処理物体４を挿入するための挿入口等を設ける
必要がない。よって、回転軸３のまわりの構造を小型且
つ簡単にすることができ、コストも低減できる。

【００４７】（その他の実施形態）以上、好ましい実施
形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形
態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明
の範囲内で種々に改変できる。

【００４８】例えば、図１及び図３の実施形態では、シ
ール手段として磁気シール装置を用いたが、シール手段
としてはその他のシール要素、例えば、メカニカルシー
ル装置、Ｏリング等を用いることも可能である。

【００４９】また、図１及び図３の実施形態では運動軸
として回転軸を考えたが、運動軸としては回転以外の運
動をするもの、例えば、直動軸とすることもできる。ま
た、図１及び図３の実施形態では、回転軸３の先端開口
２２に被処理物体４を直接に装着してその開口２２を遮
蔽する構造を採用したが、この構造に代えて、専用の遮
蔽部材を用いて開口２２を遮蔽した上で、その遮蔽部材
に被処理物体４を取り付けるという構造を採用すること
もできる。

【００５０】なお、図２に示した磁気シール装置の構造
は単なる一例であり、回転軸３の外周に磁性流体膜を形
成できる構造であれば、磁気シール装置としてその他種
々の構造を採用できることはもちろんである。

【００５１】

【発明の効果】本発明に係る軸封装置によれば、回転軸
等といった運動軸によって運動を与えられる被処理物体
は該運動軸の中空部を通して第１領域内へ装着されるの
で、第１領域を形成する部材、例えば隔壁には物体を挿
入するための挿入口等を設ける必要がなくなる。よっ
て、運動軸のまわりの構造を小型且つ簡単にすることが
でき、コストも低減できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る軸封装置の一実施形態を示す側面
断面図である。

【図２】図１の要部である磁気シール装置の断面構造を
示す断面図である。

【図３】本発明に係る軸封装置の他の一実施形態を示す
側面断面図である。

【図４】従来の軸封装置の一例を示す側面断面図であ
る。

【符号の説明】

１軸封装置２隔壁３回転軸（運動軸）４被処理物体６ケーシング７第１磁気シール装置（シール手段）９ビルトイン・ダイレクトドライブ・モータ１２第２磁気シール装置（シール手段）１８ステータ１９ロータ２２開口２３開口２４通気口２６蓋部材２８冷却液通流管２９円盤部材３６蓋部材Ｒ１第１領域Ｒ２第２領域

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者秋山皖史東京都昭島市松原町３丁目９番12号理学電機株式会社拝島工場内Ｆターム(参考） 3J042 AA03 BA04 CA17 DA06 DA20 5F045 BB14 EM01 EM10

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】物体に運動を与える運動軸であって前記
物体を含む第１領域とそれとは異なった第２領域との間
にわたって設けられた運動軸に設けられたシール手段を
有し、該シール手段は前記運動軸の運動を許容しつつ該
運動軸を前記第１領域と前記第２領域との間で封止する
軸封装置において、前記運動軸は前記第１領域に面する
開口及び該開口につながる中空部を有し、前記物体は該
中空部を介して前記開口に取り付けられることを特徴と
する軸封装置。
【請求項２】請求項１において、前記運動軸の前記開
口には前記物体を支持するための物体支持部が設けられ
ることを特徴とする軸封装置。
【請求項３】請求項１又は請求項２において、前記運
動軸は回転軸であることを特徴とする軸封装置。
【請求項４】請求項１から請求項３の少なくともいず
れか１つにおいて、前記シール手段は前記運動軸の外周
に磁性流体膜を形成して該磁性流体膜によって該運動軸
を前記第１領域と前記第２領域との間で封止することを
特徴とする軸封装置。
【請求項５】請求項３において、前記運動軸を支持す
る一対の軸受と、それらの軸受を支持するケーシング
と、前記運動軸の軸方向に関して前記一対の軸受の間に
設けられると共に前記ケーシングによって支持されるモ
ータとを有し、該モータは前記ケーシングに固定された
ステータを有すると共に前記運動軸をロータとすること
を特徴とする軸封装置。
【請求項６】請求項５において、前記ケーシングには
蓋部材が設けられ、前記運動軸は前記第１領域に面する
開口の反対側に第２開口を有し、該第２開口は前記蓋部
材によって前記第２領域から塞がれ、前記蓋部材には前
記運動軸の中空部に挿入される冷却液通流管が設けられ
ることを特徴とする軸封装置。