JP2577528B2 - 真空ハンドラー - Google Patents

真空ハンドラー

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JP2577528B2
JP2577528B2 JP5328604A JP32860493A JP2577528B2 JP 2577528 B2 JP2577528 B2 JP 2577528B2 JP 5328604 A JP5328604 A JP 5328604A JP 32860493 A JP32860493 A JP 32860493A JP 2577528 B2 JP2577528 B2 JP 2577528B2
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rotation
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毅 神保
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  • Manipulator (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造装置、TF
T製造装置等の真空装置に用いられる真空ハンドラーに
関する。
【0002】
【従来技術】半導体製造装置に用いられる真空ハンドラ
ーは、現在いろいろなタイプのものが市販されている
が、機構部が真空雰囲気にあるものが多く、駆動系から
の発塵やベアリングのかじりの発生により、半導体の歩
留りが低下し、信頼性に欠けるものがある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、真空
チャンバー等の真空雰囲気中において、長期間安定した
作動を行うことができ、且つ駆動系からの発塵のない半
導体製造装置等に用いられる真空ハンドラーを提供する
ことにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】第1の駆動軸を有し中空
に形成された第1のアームと、回転軸を有する第2のア
ームと、第1の駆動軸の内部に同軸状に取付けられた第
2の駆動軸と、前記第2の駆動軸の回転を前記回転軸に
伝える駆動伝達手段と、を有し、前記第1の駆動軸はチ
ャンバーに気密に、且つ回転可能に取り付けられ、前記
回転軸は前記第1のアームの先端部に気密に、且つ回転
可能に取り付けられ、前記第1の駆動軸と前記第2の駆
動軸を、チャンバーの外側に設けられた駆動手段によ
り、独立して駆動することができるようにした真空ハン
ドラーである。また、回転軸或いは駆動軸の回りに真空
シールとしてフェローシール(磁気流体)を利用するこ
とにより大気との気密性が完全に保つことができるもの
である。本発明はこのように、駆動系が実質的に大気雰
囲気中にあるため、異常な摩擦やかじり等が発生しても
半導体に悪影響を及ぼすことがない。また機構部を潤滑
するためのメンテナンスが容易であり、機器の寿命を延
ばすことができる。
【0005】
【実施例】本発明の実施例を図1の断面図および図2の
上面図を参照して説明する。本実施例は2本のアームに
よる2自由度を有する構造である。アーム1と駆動軸3
を一体に、且つ中空に構成し、駆動軸3を真空チャンバ
ー11にベアリング4,5により回転自在に保持する。
また、チャンバーの内側(真空側)にはフローシール
(磁気シール)6を施し、真空チャンバーの気密性を保
持する。アーム1の先端部には、アーム2と一体に構成
された回転軸7がベアリング8,9により保持され、ア
ーム2の先端部には半導体ウエーハを載置できるように
なっている。また、チャンバーの真空側にはフローシー
ル(磁気シール)10を施し、真空チャンバーの気密性
を保持する。回転軸或いは駆動軸の回りの真空シールに
フェローシール(磁気流体)を利用することにより大気
との気密性が完全に保つことができるものである。さら
に回転軸1の内部には同軸状に駆動軸12がベアリング
により回転自在に支持されている。駆動軸2とアーム2
に取付けられた回転軸7はベルト、チェーン等の駆動伝
達装置13により連結されており、駆動軸12の回転が
回転軸7に伝達され、回転軸7が回転するようになって
いる。駆動軸3と12は独立した駆動源(図示せず)に
連結されており、それぞれ独立に回転することが可能で
ある。
【0006】本発明は、以上の基本構成を有しているの
で、駆動軸3と12を独立に回転することにより、アー
ム1の長さとアーム2の長さの和を半径とする円内の位
置にウエーハを自由に移動することができる。以上、2
つのアームで構成した真空ハンドラーについて説明を行
ったが、アーム数は2に限定することなく、3以上のア
ームを用いた真空ハンドラーに応用できることは勿論で
ある。
【0007】
【発明の効果】本発明のアーム1の内部に設けられた駆
動軸を支持するベアリング4,5および8,9、駆動軸
12、駆動伝達手段13等負荷のかる駆動系の機構部が
大気と連通した構成になっているから、潤滑が可能であ
り、かじり等の心配が少なく、装置全体の稼働率が向上
する。また、仮にかじり等により発塵が起きても、真空
側に入り込むことはなく、半導体製造の歩留りの向上が
期待できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の真空ハンドラーの断面図である。
【図2】本発明の真空ハンドラーの上面図である。
【符号の説明】
1、2 アーム 3 駆動軸 4、5 ベアリング 6 フェローシール 7 回転軸 8、9 ベアリング 10 フェローシール 11 真空チャンバー 12 駆動軸 13 駆動伝達装置 14 半導体ウエーハ

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 回転可能な、円筒形の第1の駆動軸であ
    って、真空チャンパーに気密に取付けられ、その一部が
    前記真空チャンバー内に突出する第1の駆動軸と、 中空の第1のアームであって、その一端が前記第1の駆
    動軸の先端部に結合され、第1の駆動軸の回転によって
    回転する第1のアームと、 回転可能な回転軸であって、前記回転軸は前記第1のア
    ームの他端部に気密に取付けられ、その先端部は前記第
    1のアームを貫通している回転軸と、 第2のアームであって、その一端が前記回転軸の先端部
    に結合され、前記回転軸の回転により回転する第2のア
    ームと、 第2の駆動軸であって、その先端部が前記第1のアーム
    内に突出して、前記第1の駆動軸内に同軸状に配置され
    た第2の駆動軸と、 前記第1のアーム内で、前記第2の駆動軸と前記回転軸
    が係合され、前記第2の駆動軸の回転を前記回転軸に伝
    える駆動伝達手段と、 を有する真空ハンドラー。
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6122642A (ja) * 1984-07-10 1986-01-31 Ulvac Corp ウエハ搬送装置
JPH05326671A (ja) * 1992-05-15 1993-12-10 Tel Varian Ltd 真空処理装置
JP3126583U (ja) * 2006-08-21 2006-11-02 マルカ株式会社 氷枕兼用湯たんぽ

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