JP2001294633A - 不飽和ポリエステル樹脂成形材料 - Google Patents

不飽和ポリエステル樹脂成形材料

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JP2001294633A
JP2001294633A JP2000114731A JP2000114731A JP2001294633A JP 2001294633 A JP2001294633 A JP 2001294633A JP 2000114731 A JP2000114731 A JP 2000114731A JP 2000114731 A JP2000114731 A JP 2000114731A JP 2001294633 A JP2001294633 A JP 2001294633A
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JP
Japan
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styrene
molding material
polyester resin
unsaturated polyester
double bond
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JP2000114731A
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English (en)
Inventor
Fujio Kowada
二治男 小和田
Koji Murakami
浩司 村上
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Kyocera Chemical Corp
Original Assignee
Toshiba Chemical Corp
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Publication date
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  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 残留スチレンを従来に比べて非常に少なくし
て、成形後の乾燥をしなくても製品からスチレン臭が出
たり、他の部品に悪影響を及ぼすスチレンが放出されな
い成形品が得られる成形材料を提供する。 【解決手段】 (A)不飽和ポリエステル樹脂、(B)
反応希釈剤としてスチレンおよび(C)硬化剤としてt
−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネ
ートを必須成分とし、(A)の不飽和ポリエステル樹脂
中の二重結合と(B)のスチレンの二重結合の当量比
(B/A)を0.8〜1.5の範囲とすることを特徴と
する不飽和ポリエステル樹脂成形材料である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、残留スチレンを非
常に少なくした成形品を得ることができる不飽和ポリエ
ステル樹脂成形材料に関する。
【0002】
【従来の技術】従来から、不飽和ポリエステル樹脂を用
いた成形材料を使用して得られる成形品には、反応希釈
剤としてスチレンを用いるのが一般的である。しかし、
スチレンが成形品に在留し、これが使用時の熱により揮
散して、周囲にスチレン臭を放ったり、用途によっては
成形品の周囲で使用されている部品に悪影響を及ぼした
りする。これを防止する対策としては、一度成形した成
形品を後乾燥し、残留したスチレンを放出した後、製品
として使用してきた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の事情
に鑑みてなされたもので、残留スチレンを従来に比べて
非常に少なくして、成形後の乾燥をしなくても製品から
スチレン臭が出たり、他の部品に悪影響を及ぼすスチレ
ンが放出されない成形品が得られる成形材料組成物を提
供しようとするものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目
的を達成しようと鋭意研究を重ねた結果、特定のスチレ
ン配合量と特定の硬化剤を用いることにより、残存スチ
レンを低減できるとともに成形品の特性を維持すること
ができることを見いだし、本発明を完成したものであ
る。
【0005】即ち、本発明は、(A)不飽和ポリエステ
ル樹脂、(B)反応希釈剤としてスチレンおよび(C)
硬化剤としてt−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシ
ルモノカーボネートを必須成分とし、(A)の不飽和ポ
リエステル樹脂中の二重結合と(B)のスチレンの二重
結合の当量比(B/A)を0.8〜1.5の範囲とする
ことを特徴とする不飽和ポリエステル樹脂成形材料であ
る。
【0006】以下、本発明を詳細に説明する。
【0007】本発明に用いる(A)不飽和ポリエステル
樹脂は、不飽和酸を含む酸成分とアルコール成分を加え
て反応させて得られる。
【0008】ここで用いる酸成分としては、マレイン
酸、無水マレイン酸、フマル酸等の不飽和酸およびフタ
ル酸、無水フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テ
トラヒドロフタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、ヘキ
サヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、アジピ
ン酸等の飽和酸等が挙げられ、これらは単独または2種
以上混合して使用することができる。
【0009】アルコール成分としては、プロピレングリ
コール、エチレングリコール、ジプロピレングリコー
ル、ジエチレングリコール、1,3-ブタンジオール、ネオ
ペンチルグリコール、グリセリン、ペンタエリスリトー
ル、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレー
ト、ポリエーテルポリアルコール等が挙げられ、これら
は単独または2種以上混合して使用することができる。
【0010】本発明に用いる(B)反応希釈剤としてス
チレン、スチレン誘導体が用いられる。
【0011】(A)の不飽和ポリエステル樹脂中の二重
結合と(B)のスチレンの二重結合の当量比(B/A)
は0.8〜1.5の範囲であることが望ましい。該当量
比が0.8未満であると硬化性が不十分であり、1.5
を超えると本発明のスチレンの残存量が多くなるので前
記目的が達せられない。
【0012】本発明に用いる硬化剤として(C)t−ブ
チルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネート
が用いられる。この(C)硬化剤の使用により限定され
たスチレンの配合の場合にも充分な硬化状態を得ること
ができる。この(C)硬化剤には、1,1−ビイス(t
−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロ
ヘキサンなどの他の硬化剤を適宜併用して使用すること
ができる。
【0013】
【発明の実施形態】次に、本発明を実施例によって具体
的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定
されるものではない。
【0014】実施例1〜4 二重結合当量比が1.44〜0.87となるように、不
飽和ポリエステル樹脂、低収縮剤、スチレンモノマー、
炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、硬化触媒、ステ
アリン酸亜鉛、顔料等を、表1に示す割合で混合機(ニ
ーダ)に入れ、約20分間混練する。その後、ガラス繊
維を入れ、10分間混練し、バルク状の成形材料を得
た。得られた製品の各特性を試験して表2に示す。
【0015】比較例1 上記成分にて二重結合等量比を1.26、硬化触媒とし
てt−ブチルパーオキシベンゾエートを使用し、表3に
示す割合で混合機(ニーダ)に入れ、約20分間混練す
る。その後、ガラス繊維を入れ、10分間混練し、バル
ク状の成形材料を得た。得られた製品の各特性を試験し
て表4に示す。
【0016】比較例2 上記成分にて二重結合等量比を1.80、硬化触媒とし
てt−ブチルパーオキシベンゾエートを使用し、表3に
示す割合で混合機(ニーダ)に入れ、約20分間混練す
る。その後、ガラス繊維を入れ、10分間混練し、バル
ク状の成形材料を得た。得られた製品の各特性を試験し
て表4に示す。
【0017】比較例3 上記成分にて二重結合等量比を1.80、硬化触媒とし
てt−ブチルパーオキシ2−エチルヘキシルモノカーボ
ネートを使用し、表3に示す割合で混合機(ニーダ)に
入れ、約20分間混練する。その後、ガラス繊維を入
れ、10分間混練し、バルク状の成形材料を得た。得ら
れた製品の各特性を試験して表4に示す。
【0018】
【表1】 *1:t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノ
カーボネート、 *2:1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,
3,5−トリメチルシクロヘキサン。
【0019】
【表2】
【表3】 *1:t−ブチルパーオキシベンゾエート、 *2:1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,
3,5−トリメチルシクロヘキサン、 *3:t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノ
カーボネート。
【0020】
【表4】
【0021】
【発明の効果】以上の説明および表1から明らかなよう
に、本発明の成形材料より得られる成形品は、従来の成
形材料より得られる成形品(比較例1)に比べ著しく残
存スチレンモノマー量が少なくなることがわかる。した
がって本発明の成形材料を使用することにより、成形品
の残存スチレンを減少させるための後加熱等を行うこと
なく、残存スチレンモノマー量の極めて少ない成形品が
得られるものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4J015 BA03 4J027 AB02 AB06 AB07 AB15 AB16 AB18 AB19 AB23 AB24 AB25 AB28 AB32 BA05 CB03

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (A)不飽和ポリエステル樹脂、(B)
    反応希釈剤としてスチレンおよび(C)硬化剤としてt
    −ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネ
    ートを必須成分とし、(A)の不飽和ポリエステル樹脂
    中の二重結合と(B)のスチレンの二重結合の当量比
    (B/A)を0.8〜1.5の範囲とすることを特徴と
    する不飽和ポリエステル樹脂成形材料。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1657273A1 (en) * 2004-11-10 2006-05-17 Basf Aktiengesellschaft A method of reducing a content of a residual styrene monomer in a polyol
CN101575445B (zh) * 2009-03-17 2012-04-11 无锡新宏泰电器科技股份有限公司 低温快速固化聚酯模塑料及其制备方法

Cited By (3)

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EP1657273A1 (en) * 2004-11-10 2006-05-17 Basf Aktiengesellschaft A method of reducing a content of a residual styrene monomer in a polyol
US7605216B2 (en) 2004-11-10 2009-10-20 Basf Corporation Method of reducing a content of a residual styrene monomer in a polyol
CN101575445B (zh) * 2009-03-17 2012-04-11 无锡新宏泰电器科技股份有限公司 低温快速固化聚酯模塑料及其制备方法

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