JP2001281483A - 導波路型可変グレーティング - Google Patents
導波路型可変グレーティングInfo
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Abstract
衰光が得られる素子を提供する。 【解決手段】 光を導波するコア3bと、該コア3bの
外周上に設けられたクラッド層3aとを有し、該コア3
bを、その長さ方向において、所定の周期で加熱する櫛
型ヒータ10が設けられていることを特徴とする導波路
型可変グレーティングを構成する。
Description
ティングに関し、特に装置構成を簡単にしたものであ
る。
反射する素子や減衰する素子が種々の用途で用いられて
いる。例えば利得等価器は、光増幅器などの利得の波長
依存性を改善するため、利得の大きい波長の光を減衰さ
せることにより、利得の平坦化を図るものである。一
方、半導体レーザの外部共振器においては、かかる素子
にレーザ光を入射し、特定波長の光を反射させることに
より、半導体レーザの発振波長を決定する。
ファイバグレーティングなどが用いられる。光ファイバ
グレーティングは、光を導波する高屈折率のコアの外周
上に、低屈折率のクラッド層が形成された光ファイバに
おいて、このコアの長さ方向にそって、周期的な屈折率
の変化が形成されたものである。光ファイバグレーティ
ングはこの屈折率の変化の周期によって短周期型と長周
期型に分類される。短周期型は特定波長の光を反射する
素子である。一方、長周期型は導波路(コア)を伝搬す
る光のうち特定の波長のものが、クラッドを伝搬するい
わゆるクラッドモードと結合し、導波路外を伝搬するこ
とにより、減衰するものである。短周期型は主に波長選
択性を備えた反射素子として、波長多重伝送などにおい
て波長合分波素子として用いられている。長周期型は主
に波長選択的な減衰素子として、上述のような利得等価
器に用いられている。なお、短周期型、長周期型のいず
れの場合においても、光ファイバグレーティングの透過
光の波長スペクトルでは反射もしくは減衰した光が損失
ピークとして現れる。すなわち、透過光のうち特定波長
の光が損失する作用は共通である。
を添加した石英ガラスに特定波長の紫外光を照射する
と、その屈折率が上昇する作用を利用して形成する。す
なわち、コアをゲルマニウム添加石英ガラスから形成
し、その長さ方向において、周期的に紫外光を照射する
と、この照射部分の屈折率が上昇し、屈折率の高い部分
と低い部分とが交互に配置されたグレーティング部が形
成される。グレーティング部においては、コアに入射し
た光のうち、特定波長の光が反射あるいは減衰する特性
が得られる。
イバグレーティングに張力を加えて屈折率変化の周期を
変化させたり、屈折率を変化させたりすることによって
変更することができる。グレーティング部が両端部に向
かって引っ張られると(張力が大きくなると)、屈折率
変化の周期が大きくなり、逆に張力が小さくなると屈折
率変化の周期が小さくなる。また、屈折率は温度を変化
させると変化するため、光ファイバグレーティングを加
熱あるいは冷却することによっても反射あるいは減衰す
る光の波長を変化させることができる。
は、例えば上述の光ファイバグレーティングの他、回折
格子、光学フィルタなどが用いられる。これらの素子の
反射光の波長は、素子自体を機械的に回転させ、入射す
るレーザ光の角度を変化させることによって選択するこ
とができる。
光ファイバグレーティングは、グレーティング部を保護
するため、グレーティング部を2層構造の補強部材内に
収め、この補強部材からグレーティング部の両端の光フ
ァイバが引き出された状態で用いられる。通常補強部材
の第1層は石英ガラスから形成され、第2層はセラミッ
クス、金属などから形成されている。したがって、グレ
ーティング部にかかる張力を変化させる場合は補強部材
全体に外力を加えなければならない。また、温度を変化
させて屈折率を変化させる場合は、補強部材全体を加熱
しなければならない。よって、本来必要とされるグレー
ティング部以外の部分に対しても外力を印加したり、温
度変化を生じさせなければならないため、装置が大がか
りとなるという問題があった。また、回折格子や光学フ
ィルタなどにおいても、これらを回転させる装置が大が
かりとなるという問題があった。
で、できるだけ簡単な構成で、所望の波長の光を反射も
しくは減衰させることができる素子を提供することを課
題とする。具体的には、グレーティング部以外の部分に
外力や温度変化などの作用を生じさせずに、光学特性を
変更することができる導波路型可変グレーティングを提
供することを目的とする。
に、本発明の導波路型可変グレーティングは、光を導波
するコアと、該コアの外周上に設けられたクラッド層と
を有し、該コアを、その長さ方向において、所定の周期
で加熱する櫛型ヒータが設けられていることを特徴とす
る。また、櫛型ヒータが設けられている範囲のコア全体
を加熱する補助ヒータを設けることもできる。さらに、
例えばコアの長さ方向において、コアの幅方向と平行方
向の長さ(幅)が変化している補助ヒータを用いること
により、前記長さ方向においてコアの加熱温度を変化さ
せて温度分布を形成し、チャープトグレーティングとす
ることができる。
ーティングの一例を示したものであって、図1(a)は
斜視図、図1(b)はコアと櫛型ヒータとの関係を示し
た説明図である。この導波路型可変グレーティング1に
おいては、長方形板状の基板2の上にクラッド層3aが
形成され、その内部に断面長方形の柱状のコア3bが設
けられている。光はコア3bを導波するため、コア3b
の屈折率はその外周上のクラッド層3aよりも高くなっ
ている。一方、基板2とクラッド層3aとの間には櫛型
ヒータ10が設けられている。この櫛型ヒータ10は、
コア3bを挟んで対向配置された長方形状の薄膜からな
る電力パッド部11、11と、これら電力パッド部1
1、11の間に掛け渡されるように設けられた複数の直
線状のヒータ部12、12…から構成されている。これ
らのヒータ部12…はコア3bの長さ方向と直交方向に
対して平行に、かつ所定の周期で配列されている。
シリコン基板などが用いられる。クラッド層3aは例え
ばシリカ(シリコン酸化物)から形成されている。コア
3bはゲルマニウムを添加したシリカから形成された石
英系導波路であり、クラッド層3aと比較して屈折率が
わずかに低くなっている。この屈折率の差は通常は0.
3%程度である。櫛型ヒータ10は金属製の薄膜からな
り、例えばチタン、金、アルミニウムなどが用いられ
る。
えば以下のようにして製造することができる。基板2の
上に、蒸着法などによってチタン、金、アルミニウムな
どからなる導電体薄膜を形成する。そしてこの導電体薄
膜を加工してパターンを形成し、櫛型ヒータ10を完成
させる。この加工方法は、ヒータ部12…の周期が比較
的長周期、すなわち光が減衰する長周期型の場合はフォ
トリソグラフィーなどが用いられる。比較的短周期、す
なわち光が反射する短周期型の場合は位相マスク法、干
渉露光法などによって形成することができる。
出した基板2の上に、スピンコート法などにより、コア
3bの下のクラッド層3aの厚さに相当する下部クラッ
ド層を形成し、その上面全体にコア3bの厚さに相当す
るコア層を形成する。そして、このコア層をコア3bの
パターンに沿ってイオンエッチング法などによって加工
し、コア3bを形成するとともに、コア3bの周囲に下
部クラッド層を露出させる。そして、さらにスピンコー
ト法などにより、これら下部クラッド層とコア3bの上
に上部クラッド層を形成し、下部クラッド層と上部クラ
ッド層とが一体化したクラッド層3aを完成させる。
ては、櫛型ヒータ10を作動させると、図2(a)に示
した側断面図、図2(b)に示した屈折率の変化のグラ
フからわかるように、ヒータ部12、12…の温度が上
昇し、その下に位置するコア3bの屈折率が熱光学効果
によってヒータ部12、12…の周期に対応して周期的
に変化し、グレーティング特性が得られる。そして、櫛
型ヒータ10の加熱温度によってコア3bの屈折率変化
量を変化させることができるため、このグレーティング
において反射する光(短周期型)あるいは減衰する光
(長周期型)の波長を変更することができる。このコア
3bにおける屈折率の変化の周期Λをグレーティングピ
ッチという。なお、短周期型の場合は通常グレーティン
グピッチが0.5μm以下であり、光の波長オーダであ
る。この場合はブラッグ回折によって特定の波長(ブラ
ッグ波長)の光のみを反射する。ブラッグ波長λBの光
は、伝搬モードの実効屈折率neffとグレーティングピ
ッチΛにより、以下の式(1)で表される。
の強度比)RBはグレーティング長L、すなわち櫛型ヒ
ータ10のコア3bの長さ方向にそう長さLとコア3b
における屈折率の変化量Δnによって以下の式(2)の
ように表される。
ピッチが数百μmと長い。そして、コア3bを伝搬する
光のうち、クラッド層3aを伝搬するクラッドモードと
の結合条件を満たす波長帯の光のみを減衰させる波長フ
ィルタとしての作用を奏する。クラッドモードとの結合
効率が最大になる条件を満たす波長をλpとすると、コ
ア3bの伝搬光の実効屈折率ncore とクラッドモード
の実効屈折率ncladから、グレーティングピッチΛにつ
いて、以下の式(3)が成り立つ。
式(4)、式(5)で表される。
に対する出射する光の強度比)Tpは以下の式(6)で
表される。
の振幅に比例した量である。式(6)中のδは以下の式
(7)で表される。
よび式(2)の関係から、所望のブラッグ波長と反射率
が得られるようにグレーティングピッチとグレーティン
グ長を決定すると好ましい。また、長周期型の場合は式
(3)および式(6)の関係から、所望の減衰光の波長
と透過率が得られるようにグレーティングピッチとグレ
ーティング長を決定すると好ましい。また、ヒータ部1
2の幅wはグレーティングピッチΛの半分以下とすると
好ましい。また、櫛型ヒータ10の幅(コア3bの長さ
方向に直交する方向の長さ)は、櫛型ヒータ10のヒー
タ部12…の熱伝導を考慮して、コア3bの幅の2倍以
上とすると好ましい。
ータ10をクラッド層3aの上に形成し、コア3bより
も上に配置することもできる。この場合は、上述の方法
と同様にして、基板2の上にクラッド層3aとコア3b
を形成した後、クラッド層3aの上に櫛型ヒータ10を
形成して製造することができる。そして、図3(a)、
図3(b)に示したように、櫛型ヒータ10を作動させ
ると、ヒータ部12、12…の温度が上昇し、その上に
位置するコア3bの屈折率が、熱光学効果によってヒー
タ部12、12…の周期に対応して周期的に変化し、グ
レーティング特性が得られる。そして、櫛型ヒータ10
の加熱温度によってコア3bの屈折率変化量を変化させ
て、このグレーティングにおいて反射する光あるいは減
衰する光の波長を変更することができる。
図1(c)に示した導波路型可変グレーティングの透過
光の波長スペクトル(波長と透過率との関係)を示した
もので、加熱温度を高くするにしたがって損失ピークが
大きくなっていく様子を示している。このように加熱温
度によって透過率が変化し、これと同時に反射する光あ
るいは減衰する光の波長帯幅(ピークの波長幅)も変化
している。
導波路型可変グレーティングにおいて、厚さ1mmの基
板2の上に、厚さ20μmのクラッド層3aを形成し、
その内部の中央付近に断面のサイズが7μm×7μmの
コア3bを設け、グレーティングピッチΛ600μm、
ヒータ部12の幅w20μm、櫛型ヒータ10の長さ
(グレーティング長)20mmのものを製造したとこ
ろ、反射光による損失ピークの大きさを0dBから2d
Bの範囲で変化させることができた。
ーティングを示した斜視図である。この導波路型可変グ
レーティングにおいては、クラッド層3aの上に櫛型ヒ
ータ10が設けられ、図6(a)、図6(b)に示した
ように、基板2とクラッド層3aとの間に薄膜状の補助
ヒータ15が設けられている。補助ヒータ15は、櫛型
ヒータ10と同様の材料からなり、櫛型ヒータ10と同
様にして形成することができる。
行に設けられた直線状のヒータ部16と、その両端部に
設けられた長方形状の電極パッド部17、17とから構
成されている。ヒータ部16のコア3bの長さ方向と平
行な長さは、櫛型ヒータ10よりも長いサイズに設計さ
れている。そのため、この補助ヒータ15により、櫛型
ヒータ10が設けられている範囲のコア3bの温度を一
律に上昇させることができる。したがって、補助ヒータ
15の幅は、コア3bの幅と同程度以上であれば特に制
限はない。
(b)に示したように、櫛型ヒータ10と補助ヒータ1
5の配置位置を逆にして、コア3bの下方の基板2とク
ラッド層3aとの間に櫛型ヒータ10を配置し、コア3
bの上方のクラッド層3aと基板2との間に補助ヒータ
15を配置することもできる。また、図8(a)、図8
(b)に示したように、基板2とクラッド層3aの間に
補助ヒータ15を配置し、コア3bの下方のクラッド層
3a内に、櫛型ヒータ10を配置することもできる。さ
らに図9(a)、図9(b)に示したように、クラッド
層3aの上に補助ヒータ15を配置し、コア3bの上方
のクラッド層3a内に、櫛型ヒータ10を配置すること
もできる。
で、櫛型ヒータ10による加熱温度を変化させると、図
10に示したように透過率と反射あるいは減衰する光の
波長幅を一定に維持した状態で損失ピークがシフトし、
反射あるいは減衰する光の波長帯のみを変化させること
ができる。
型可変グレーティングにおいて、厚さ1mmの基板2の
上に、厚さ20μmのクラッド層3aを形成し、その内
部の中央付近に断面のサイズが7μm×7μmのコア3
bを設け、グレーティングピッチΛ600μm、ヒータ
部12の幅w20μm、櫛型ヒータ10の長さ(グレー
ティング長)20mm、補助ヒータ15の幅20μmの
ものを製造したところ、損失波長帯の中心波長を0.5
nmの範囲で変化させることができた。
ィングをチャープトグレーティングにすることもでき
る。チャープトグレーティングとは、コア3bの屈折率
の変化量や屈折率の変化の周期(グレーティングピッ
チ)が、コア3bの長さ方向において徐々に変化してい
るものをいう。チャープトグレーティングにすることに
よって、反射あるいは減衰する光の波長帯の幅(損失波
長幅)を広くすることができる。ヒータ部12…の周期
(グレーティングピッチ)Λを徐々に短く、あるいは長
くすることによって、チャープトグレーティングとする
こともできるが、図11に示したように、ヒータ部12
…を一定周期とし、補助ヒータ15のヒータ部16の形
状を、コア3bの長さ方向において徐々に変化させてチ
ャープトグレーティングとすることもできる。この例に
おいては、ヒータ部16の幅を徐々に変化させている。
すなわち、コア3bの長さ方向において、コア3bの幅
方向における櫛型ヒータ10による加熱範囲を変化させ
ている。その結果、この長さ方向におけるコア3bの加
熱温度を変化させてこのコア3bに温度分布を形成し、
コア3bの長さ方向において屈折率の変化量が変化し、
チャープトグレーティングを実現することができる。
変グレーティングの波長と透過率の関係を示したグラフ
であって、このグラフに示すように、コア3bの長さに
対するヒータ部16の加熱温度を変更することにより、
反射あるいは減衰する光の波長幅を変化させることがで
きる。
ーティングにおいて、厚さ1mmの基板2の上に、厚さ
20μmのクラッド層3aを形成し、その内部の中央付
近に断面のサイズが7μm×7μmのコア3bを設け、
グレーティングピッチΛ600μm、ヒータ部12の幅
w20μm、櫛型ヒータ10の長さ(グレーティング
長)20mm、補助ヒータ15の幅が10〜40μmに
変化しているものを製造したところ、損失波長幅を20
〜25nmの範囲で変化させることができた。
に、3つの導波路型可変グレーティングA、B、Cを形
成したものである。導波路型可変グレーティングA、
B、Cはいずれも一対の櫛型ヒータ10と補助ヒータ1
5を備えている。これらの櫛型ヒータ10…は全て同じ
形状のものである。上述のように、本発明の導波路型可
変グレーティングにおいては、櫛型ヒータ10と補助ヒ
ータ15による加熱温度を変化させることにより、透過
率、反射あるいは減衰する光の波長幅、反射もしくは減
衰する光の波長などを任意に変化させることができる。
したがって、これら導波路型可変グレーティングA、
B、Cは、同じ櫛型ヒータ10と補助ヒータ15とから
なるが、それぞれの加熱条件によって、異なる反射ある
いは減衰特性を実現させることができる。
Cのように、導波路型可変グレーティングA、B、Cに
おいてそれぞえ異なる反射あるいは減衰特性を実現さ
せ、これらを合成することにより、ピークRのように複
雑な反射あるいは減衰特性を備えた反射あるいが減衰素
子を提供することができる。
%(1×10-5/℃×100℃)であり、グレーティン
グにおける反射あるいは減衰光の大きさの制御を行うに
は十分である。しかし、反射あるいは減衰光の波長帯を
大きく変調するためには、コア3bを熱光学効果が大き
いプラスチックから形成すると好ましい。例えば、シリ
コーン樹脂、フッ化ポリイミドなどのポリイミド系樹
脂、フッ化メタクリレートなどのメタクリル系樹脂など
が用いられるが、ポリイミド系樹脂が好ましい。この場
合、クラッド層3aも、好ましくはコア3bの材料とし
て例示したものと同様のプラスチックなどから形成され
る。
されている、複屈折の大きさが同程度の2種類のポリイ
ミドの共重合体などを用いる。この2種類のポリイミド
の例としては、例えば2,2−ビス(3,4−ジカルボ
キシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物(6F
DB)と2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,
4’−ジアミノビフェニル(TFDB)から合成される
ポリイミド(6FDA/TFDB)と、6FDAと4,
4’−オキシジアニリン(4,4’−ODA)から合成
されるポリイミド(6FDA/4,4’−ODA)など
を挙げることができる。そして、これらのポリイミドの
共重合比を変更することによって、コア3bとクラッド
層3aとの屈折率差を変化させることができる。
コアを、その長さ方向において、所定の周期で加熱する
ヒータを設けることによってグレーティング特性を実現
し、このヒータの加熱温度を変化させることによって、
グレーティング特性を変化させるため、実質的に光を導
波させるコアのみを加熱するヒータを設ければよく、ま
た、機械的に駆動する部分もないため、簡単で、かつコ
ンパクトな構成とすることができる。また、さらに櫛型
ヒータが設けられている範囲のコア全体を加熱する補助
ヒータを設けたり、この補助ヒータによる加熱温度を変
化させることにより、種々のグレーティング特性を実現
することができる。
を示したものであって、図1(a)は斜視図、図1
(b)はコアと櫛型ヒータとの関係を示した説明図、図
1(c)はコアと櫛型ヒータの配置の変更例を示した説
明図である。
変グレーティングを櫛型ヒータによって加熱したときの
説明図であって、図2(a)は側断面図、図2(b)は
屈折率の変化のグラフである。
変グレーティングを櫛型ヒータによって加熱したときの
説明図であって、図3(a)は側断面図、図3(b)は
屈折率の変化のグラフである。
ングの波長と透過率との関係を示したグラフである。
ングを示した斜視図である。
ーティングのコアと櫛型ヒータとの関係を示した説明
図、図6(b)は側断面図である。
に示した導波路型可変グレーティングにおいて、コアと
櫛型ヒータと補助ヒータの配置の変更例を示した説明図
と側断面図である。
に示した導波路型可変グレーティングにおいて、コアと
櫛型ヒータと補助ヒータの配置の変更例を示した説明図
と側断面図である。
に示した導波路型可変グレーティングにおいて、コアと
櫛型ヒータと補助ヒータの配置の変更例を示した説明図
と側断面図である。
ィングの波長と透過率との関係を示したグラフである。
ィングのコアと櫛型ヒータと補助ヒータを示した説明図
である。
ティングの波長と透過率の関係を示したグラフである。
レーティングを形成したものを示した斜視図である。
したグラフである。
クラッド層、3b…コア、10…櫛型ヒータ、12…ヒ
ータ部、15…補助ヒータ、16…ヒータ部。
Claims (3)
- 【請求項1】 光を導波するコアと、該コアの外周上に
設けられたクラッド層とを有し、該コアを、その長さ方
向において、所定の周期で加熱する櫛型ヒータが設けら
れていることを特徴とする導波路型可変グレーティン
グ。 - 【請求項2】 請求項1に記載の導波路型可変グレーテ
ィングにおいて、櫛型ヒータが設けられている範囲のコ
ア全体を加熱する補助ヒータが設けられていることを特
徴とする導波路型可変グレーティング。 - 【請求項3】 請求項2に記載の導波路型可変グレーテ
ィングにおいて、コアの長さ方向において、補助ヒータ
による該コアの加熱温度が変化していることを特徴とす
る導波路型可変グレーティング。
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