JP4237115B2 - 帯域可変型光フィルタ - Google Patents
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Description
本発明の一実施形態では、光サーキュレータを介して互いに連結された2つのチャープファイバグレーティングのそれぞれに対して、各チャープファイバグレーティングを伝播する光を遮断もしくは減衰することにより、光フィルタの帯域幅を制御する。なお、本明細書において、「チャープファイバグレーティング」とは、光ファイバのコア部の長手方向に対する屈折率周期を変化させた光ファイバグレーティングを指す。
図5において、3ポート型光サーキュレータ9aの第1の端から入射した光は、まず、第2の端へと伝達され、短波長側結合のチャープファイバグレーティング10で反射される。このとき、チャープファイバグレーティング10において、入射光の波長により反射される場所が異なる。波長がλSより短い光とλLより長い光とは反射されないでそのまま通過し、ファイバ外へ放射される。チャープファイバグレーティング10から反射された光は、3ポート型光サーキュレータの第2の端から第3の端へと伝達され、第3の端から出射される。その出射光は、3ポート型光サーキュレータ9bの第1の端から該サーキュレータ9bに入射し、第2の端へと伝達され、長波長側結合のチャープファイバグレーティング11で上記と同様に反射される。その反射された光は、3ポート型光サーキュレータ9bの第2の端から第3の端へと伝達され、第3の端から出射される。
図7は、本発明の原理を説明するために設定したチャープファイバグレーティング上の座標を示す図である。図7において、チャープファイバグレーティング10および11では、Bragg波長は長手方向に分布している。短波長側結合のチャープファイバグレーティング10の場合、反射光の最短波長λSがz=0にあるとし、最長波長λLがz=Lにあるとする。長波長側結合のチャープファイバグレーティング11の場合、反射光の最長波長λLがz=0にあるとし、最短波長λSがz=Lにあるとする。短波長側結合のチャープファイバグレーティング10上のある点z=LaでのBragg波長をλ’Lとし、長波長側結合のチャープファイバグレーティング11上のある点z=LbでのBragg波長をλ’Sとする。
まず、帯域について不連続変化で十分な場合は、それぞれのチャープファイバグレーティング中に、光スイッチを複数個挿入すればよい。どの光スイッチにより光を遮断するかによって光フィルタの帯域が決定される。
帯域について連続可変が必要な場合、チャープファイバグレーティング中の任意の領域で、何らかの手段を用いて信号光を減衰させる必要がある。
本発明に係る実施例1では、図5に示すような基本構成の光フィルタにおいて、チャープファイバグレーティング10および11のそれぞれ一箇所に光スイッチを設けた帯域可変型光フィルタの構成例を示す。
本発明に係る実施例2では、図5に示すような基本構成の光フィルタにおいて、希土類イオンであるエルビウムイオン(Er3+)を添加して作製されたチャープファイバグレーティング10および11を用いた帯域可変型光フィルタの構成例を示す。
実施例2のように信号光の減衰のために希土類イオンを用いる方法では、イオンの吸収スペクトルが決まっているため必ずしも所望の特性が設計できない場合がある。これは、遷移金属イオンを用いる場合においても同様である。希土類イオンもしくは遷移金属イオンの基底準位吸収が利用できない場合、可逆的に形成できる長周期ファイバグレーティングを用いればよい。この場合、伝搬光の大部分をコア外へ放射させることにより、信号光の減衰を行うことになる。
λm=(neff―ncl m)Λ
で表される(非特許文献4参照)。ここで、neffとncl mとは、それぞれ波長λmでのLP01導波モードとm次のクラッドモードとの有効屈折率である。この波長をピークとしてその周辺の数nmが損失帯になる。このため側圧を均一な周期Λで付与すると、特定の波長の信号光しか減衰しないことになる。そこで広い波長帯で損失帯を形成するためには側圧の周期も徐々に変化させる必要がある。
実施例3のように側圧を付与して長周期ファイバグレーティングを形成する場合、側圧のため光ファイバを損傷する可能性がある。しかし、周期的な温度変化の付与により屈折率変化を誘起すれば光ファイバヘの物理的損傷の懸念はなくなる。そこで、本発明の実施例4では、図5に示すような基本構成の光フィルタにおいて、チャープファイバグレーティング10および11に対して、周期的な温度分布を生じさせることによって形成された長周期ファイバグレーティングを有する帯域可変型光フィルタの構成例を示す。
9a、9b 3ポート型光サーキュレータ
10 短波長側結合のチャープファイバグレーティング
11 長波長側結合のチャープファイバグレーティング
12 光スイッチ
13 チャープ溝板
14 平板
15 分割型チャープ溝板
16 薄膜の厚い部分
17 薄膜の薄い部分
18 導線
Claims (7)
- 少なくとも1つの光サーキュレータと、
第1の端から第2の端に向かって屈折率周期が変化している第1のチャープファイバグレーティングであって、前記第1の端で前記少なくとも1つの光サーキュレータに連結された第1のチャープファイバグレーティングと、
該第1のチャープファイバグレーティングと同一の波長分散値を有し、前記第1のチャープファイバグレーティングの前記第1の端から前記第2の端への屈折率周期の変化方向と同一になるように第3の端から第4の端に向かって屈折率周期が変化している第2のチャープファイバグレーティングであって、前記第4の端で前記少なくとも1つの光サーキュレータに連結された第2のチャープファイバグレーティングと、
前記第1および第2のチャープファイバグレーティング上の単一あるいは複数の領域で、前記少なくとも1つの光サーキュレータからの入射光を所定の時間だけ遮断することにより、所望でない波長の信号光の前記第1の端および第4の端への反射を抑える光スイッチと
を備えることを特徴とする帯域可変型光フィルタ。 - 少なくとも1つの光サーキュレータと、
平面光波回路に形成された、第1の端から第2の端に向かって屈折率周期が変化している第1のチャープファイバグレーティングであって、前記第1の端で前記少なくとも1つの光サーキュレータに連結された第1のチャープファイバグレーティングと、
前記平面光波回路と同一もしくは別個の平面光波回路に形成された、該第1のチャープファイバグレーティングと同一の波長分散値を有し、前記第1のチャープファイバグレーティングの前記第1の端から前記第2の端への屈折率周期の変化方向と同一になるように第3の端から第4の端に向かって屈折率周期が変化している第2のチャープファイバグレーティングであって、前記第4の端で前記少なくとも1つの光サーキュレータに連結された第2のチャープファイバグレーティングと、
前記第1および第2のチャープファイバグレーティング上の単一あるいは複数の領域で、前記少なくとも1つの光サーキュレータからの入射光を所定の時間だけ遮断することにより、所望でない波長の信号光の前記第1の端および第4の端への反射を抑える光スイッチと
を備えることを特徴とする帯域可変型光フィルタ。 - 少なくとも1つの光サーキュレータと、
第1の端から第2の端に向かって屈折率周期が変化している第1のチャープファイバグレーティングであって、前記第1の端で前記少なくとも1つの光サーキュレータに連結された第1のチャープファイバグレーティングと、
該第1のチャープファイバグレーティングと同一の波長分散値を有し、前記第1のチャープファイバグレーティングの前記第1の端から前記第2の端への屈折率周期の変化方向と同一になるように第3の端から第4の端に向かって屈折率周期が変化している第2のチャープファイバグレーティングであって、前記第4の端で前記少なくとも1つの光サーキュレータに連結された第2のチャープファイバグレーティングと、
前記第1および第2のチャープファイバグレーティングにおいて、前記光サーキュレータからの入射光の入射側の第1の点から該入射側とは反対側の第2の点までの領域について、前記入射光を所定の時間だけ減衰させる減衰手段と
を備えることを特徴とする帯域可変型光フィルタ。 - 少なくとも1つの光サーキュレータと、
平面光波回路に形成された、第1の端から第2の端に向かって屈折率周期が変化している第1のチャープファイバグレーティングであって、前記第1の端で前記少なくとも1つの光サーキュレータに連結された第1のチャープファイバグレーティングと、
前記平面光波回路と同一もしくは別個の平面光波回路に形成された、該第1のチャープファイバグレーティングと同一の波長分散値を有し、前記第1のチャープファイバグレーティングの前記第1の端から前記第2の端への屈折率周期の変化方向と同一になるように第3の端から第4の端に向かって屈折率周期が変化している第2のチャープファイバグレーティングであって、前記第4の端で前記少なくとも1つの光サーキュレータに連結された第2のチャープファイバグレーティングと、
前記第1および第2のチャープファイバグレーティングにおいて、前記光サーキュレータからの入射光の入射側の第1の点から該入射側とは反対側の第2の点までの領域について、前記入射光を所定の時間だけ減衰させる減衰手段と
を備えることを特徴とする帯域可変型光フィルタ。 - 前記領域は、希土類イオンもしくは遷移金属イオンを含み、
前記第1および第2のチャープファイバグレーティングの側面に前記希土類イオンもしくは遷移金属イオンに対する励起光を照射する光源と、
前記領域の所定の領域に対して、前記励起光が照射されないようにする手段と
をさらに備えることを特徴とする請求項3または4記載の帯域可変型光フィルタ。 - 前記減衰手段は、前記第1および第2のチャープファイバグレーティングに対して、線形的に変化する距離間隔で側圧を付与する手段であることを特徴とする請求項3または4記載の帯域可変型光フィルタ。
- 前記減衰手段は、前記第1および第2のチャープファイバグレーティングに対して、線形的に変化する距離間隔で温度分布を形成させる手段であることを特徴とする請求項3または4記載の帯域可変型光フィルタ。
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