JP2001270069A - グラビア彫刻装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 彫刻ヘッドにおけるシューと彫刻手段との間
隔が大きくても正確な彫刻が行えるグラビア彫刻装置を
提供する。 【解決手段】 制御手段４は、主走査方向の彫刻位置を
検出するためのエンコーダ１５と副走査方向の彫刻位置
を検出するためのエンコーダ３９とからのパルス信号を
カウントしてシリンダー上の座標を演算するパルスカウ
ンタ基板４０と、シリンダーと彫刻ヘッド２との間の距
離を測定する距離センサ３６から得た測定データをパル
スカウンタ基板４０の演算した座標情報に基づいてメモ
リ４１に格納するデジタルシグナルプロセッサ（ＤＳ
Ｐ）４２と、ＤＳＰ４２を介してメモリ４１から読み出
した測定データに基づいて彫刻ヘッド２に供給する彫刻
データを補正する補正手段４３とを有する。シリンダー
と彫刻ヘッド２との間の距離を測定してメモリ４１に格
納するので、彫刻する際には測定データに基づいて彫刻
データを補正することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、画像データに応じて
グラビアシリンダーにグラビア印刷用のセル（小孔）を
彫刻するグラビア彫刻装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】グラビアシリンダーにグラビア印刷用の
セルを形成する装置の１つとして、ダイヤモンド製のバ
イト（彫刻針）を備えたスタイラスの振動により当該シ
リンダー表面を機械的に彫刻するグラビア彫刻装置があ
る。このグラビア彫刻装置では、回転するシリンダーに
対し前記スタイラスを備えた彫刻ヘッドをシリンダー軸
芯方向に沿って移動させることで前記シリンダー上を走
査して彫刻を行う。（以下、シリンダーの回転方向を主
走査方向、シリンダーの軸線方向を副走査方向という）

【０００３】このグラビア彫刻装置では、彫刻針の振動
量に応じて前記セルの大きさ（深さや幅）が可変され
る。そしてグラビア印刷では、前記セルの大きさにより
転写するインキ量が決まり、画像の濃淡を表現すること
ができる。

【０００４】一般的なグラビアシリンダーは鉄芯に銅メ
ッキがなされたものであって、当該シリンダー表面には
微妙な湾曲（凹凸）が存在する。そしてシリンダー周面
に湾曲があると、前記スタイラスの振動量が正確であっ
ても、彫刻されるセルの大きさが正確に反映されず、前
記湾曲量に起因して画像濃度に変動が生じてしまうとい
う問題がある。

【０００５】従って、従来のグラビア彫刻装置では、前
記彫刻ヘッドとシリンダー表面との間隔を一定に保つた
めにシューと呼ばれる摺接手段が彫刻ヘッドに設けられ
ていた。このシューが備えられた彫刻ヘッドは前記シリ
ンダー表面に対し接離する方向に移動可能に設けられて
おり、またシューが常にシリンダー表面に対し当接する
ようバネなどで付勢されていた。従って、シリンダー周
面に湾曲があっても、前記シューがシリンダー表面上に
沿って摺動することで、シューとシリンダー表面との間
隔、すなわち彫刻ヘッドとシリンダー表面との間隔を一
定に保つことができた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】上記シューを用いたグ
ラビア彫刻装置では、彫刻ヘッドとシリンダー表面との
間隔を一定に保つことはできるが、まだ次の点で問題が
あった。すなわち、前記シューとスタイラスとは物理的
に同位置には設けることができないので、近接して設け
られても数ｍｍ程度の間隔が開く。従って、実際の彫刻
が行われる彫刻針の位置とシューの位置とでシリンダー
表面の凹凸が異なる場合はセルの大きさは変動する。

【０００７】例えばシリンダー作成工程では、メッキ処
理の後その周面を砥石などにより研磨する工程がある
が、この場合シリンダー表面には前記砥石の幅に応じて
微妙な凹凸が線状に存在する、いわゆる、研磨ムラがあ
った。このシリンダーの凹凸により従来のグラビア彫刻
装置では画像ムラが生じる可能性がある。特に特願平１
０−１５８１８０号に示すように複数の彫刻手段を併設
した場合や、彫刻手段をシリンダー回転方向に沿った縦
方向に駆動する場合には、スタイラスとシューとの間隔
を小さくできないため上記問題は発生しやすい。

【０００８】本発明は上記課題を解決するためになされ
たものであり、スタイラスとシューとの間隔が大きくて
も画像ムラなどが生じないグラビア彫刻装置を提供する
ことを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、シリンダーを支持し主走査方向に回転させるシリン
ダー回転手段と、前記シリンダーに対し彫刻針を振動さ
せてセルを形成する彫刻ヘッドと、前記彫刻ヘッドに設
けられ前記彫刻針に対し先導して前記シリンダーの周面
に摺接する摺接手段と、前記彫刻ヘッドを前記シリンダ
ーに対し接離する方向に移動可能に保持しシリンダーの
軸線方向に沿って副走査移動させる副走査テーブルと、
前記副走査テーブル上において前記彫刻ヘッドをシリン
ダーに向かって付勢する付勢手段とを備えており、前記
主走査および副走査移動にともなって前記彫刻ヘッドが
前記摺接手段の摺接により前記シリンダーの湾曲に応じ
て移動するグラビア彫刻装置において、前記彫刻ヘッド
の主走査位置を検出する主走査位置検出手段と、前記彫
刻ヘッドの副走査位置を検出する副走査位置検出手段
と、前記摺接手段に対し先導するように前記彫刻ヘッド
に設けられ、前記彫刻ヘッドと前記シリンダーとの間の
距離を非接触で測定する測定手段と、前記彫刻ヘッドの
主走査方向位置および副走査方向位置に応じて、前記測
定手段の測定結果を記憶する記憶手段と、前記彫刻針の
位置する座標に対応して予め記憶された測定結果を前記
記憶手段から読み出すとともに、読み出した測定結果に
基づいて前記彫刻針の振動量を補正する補正手段と、を
備える。

【００１０】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
の発明において、前記彫刻針、測定手段、ならびに摺接
手段が、主走査方向において同一位置に並設されてお
り、前記彫刻針と摺接手段との副走査方向間の距離Ａ
と、前記測定手段と摺接手段との間の副走査方向間の距
離Ｂとが略同一である。

【００１１】請求項３に記載の発明は、請求項２に記載
の発明において、前記記憶手段は、彫刻ヘッドを副走査
方向にステップ送りするステップ送り量ｓと前記距離Ａ
とに基づくライン数分のラインバッファメモリを有し、
前記彫刻ヘッドを副走査方向へ移動させるに合わせて、
前記ラインバッファメモリを線順次に繰り返して使用す
るようにした。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面に基づいて説明する。図１は本発明に係るグラビア彫
刻装置のシリンダー軸線方向から見た断面図、図２は同
軸線方向から見た彫刻ヘッドの拡大図、図３は彫刻ヘッ
ドを正面から見た平面図である。また、図４は本実施の
形態に係るグラビア彫刻装置主要部の電気構成を表すブ
ロック図である。

【００１３】図１において、グラビア彫刻装置は、グラ
ビアシリンダーＣの両端を回転可能に支持するシリンダ
ー支持手段１と、このグラビアシリンダーＣに対し彫刻
を行う彫刻ヘッド２と、この彫刻ヘッドを前記シリンダ
ーの軸線方向に沿って移動させる副走査移動手段３と、
これら各部を制御するための制御手段４とからなる。

【００１４】シリンダー支持手段１は、グラビアシリン
ダーＣを挟持するためシリンダーの両端に形成された貫
通孔に対し嵌装される１対の保持部材１１と、この保持
部材１１をそれぞれ対向した状態で回転可能に支持する
１対の支持台１２と、この支持台１２の少なくとも一方
を他方の支持台１２に対し接離する方向に移動させる支
持台移動手段１３とからなる。

【００１５】なお、前記保持部材１１の一方は図示しな
い駆動モータによって回転し、他方はこれにともない従
動回転するように構成されていて、グラビアシリンダー
Ｃを回転駆動させることができる。そして前記グラビア
シリンダーＣの回転位置（主走査方向座標）は保持部材
１１の回転軸に対し同軸に設けられたエンコーダ１５
（図４にのみ図示）により検出される。

【００１６】前記支持台移動手段１３は、サイズの異な
るグラビアシリンダーＣを挟持するために前記一方の支
持台１２をシリンダーの軸線方向（図１において紙面に
直交する方向）に移動させるものであって、一方の支持
台１２を前記移動方向に案内する２本のガイド部材１６
と、この支持台１２を直線駆動するためのボールネジ手
段１７と、このボールネジ手段１７を回転駆動するため
の図示しない駆動モータとからなる。

【００１７】彫刻ヘッド２は、図２および図３に示すよ
うに、彫刻ヘッド本体２１と、この彫刻ヘッド本体２１
に対し設けられた彫刻手段２２と、この彫刻手段２２に
並列して前記彫刻ヘッド本体２１に固設されたシュー２
３とからなる。

【００１８】彫刻ヘッド本体２１は前記彫刻手段２２を
収納する筐体であって、後述するヘッド載置テーブル３
３上において前記グラビアシリンダーＣに向かう方向に
回動可能なように設けられている。

【００１９】彫刻手段２２は、図示しない電磁駆動機構
により振動するスタイラス２４を備えており、このスタ
イラスの先端には前記グラビアシリンダーＣを彫刻する
ためのバイト（彫刻針）２５が設けられている。

【００２０】シュー２３はグラビアシリンダーＣの周面
に当接した状態で摺動可能な耐摩耗性部材からなり、前
記彫刻ヘッド２とシリンダーとの間の距離を一定に保つ
ように、前記彫刻ヘッド本体２１から予め定められた量
だけシリンダー側に突出している。なおシュー２３の突
出量はマイクロメータ２６によって手動調整可能なよう
に構成されている。

【００２１】前記副走査移動手段３は、図１に示すよう
に、副走査テーブル３１と、この副走査テーブル３１を
前記グラビアシリンダーＣの軸線方向（副走査方向）に
沿って移動させるテーブル移動手段３２とからなる。

【００２２】前記副走査テーブル３１は前記グラビアシ
リンダーＣに対し接離する方向に直線移動するヘッド載
置テーブル３３を備え、このヘッド載置テーブル３３上
には、図２に示すように、前記彫刻ヘッド２が軸３４を
中心として回動可能なように支持されている。そして彫
刻ヘッド２は、ヘッド載置テーブル３３に設けられたバ
ネ３５によって、常にシュー２３がシリンダー表面に当
接するように付勢されている。この構成によりシリンダ
ー表面に湾曲があっても彫刻ヘッドとシリンダーとの間
の間隔をシューによって一定に保つことができる。

【００２３】また図３に示すように彫刻ヘッド２には、
当該彫刻ヘッド２とグラビアシリンダーＣの表面との間
の距離を測定するための距離センサー３６が設けられて
いる。この距離センサー３６は、例えば光学式センサー
であって、前記グラビアシリンダーＣの表面までの距離
を非接触で検出するものである。

【００２４】なお、この実施の形態では、前記距離セン
サー３６は前記シュー２３および前記バイト２５と主走
査方向で同一位置（同一高さ）にあり、シュー２３とバ
イト２５との間の距離Ａとシュー２３と距離センサー３
６との間の距離Ｂとは同一である。

【００２５】図１に戻って、テーブル移動手段３２は前
記副走査テーブル３１を副走査方向に案内する２本のガ
イド部材３７と、この副走査テーブル３１を直線駆動す
るボールネジ手段３８と、このボールネジ手段３８を駆
動するための図示しない駆動モータとからなる。なお、
このテーブル移動手段３２にもエンコーダ３９（図４に
のみ図示）が設けられており、彫刻ヘッド２の副走査位
置（副走査方向座標）を検出することができる。

【００２６】制御手段４は、各種入出力手段や信号処理
手段などを備えたマイクロコンピュータを基幹とするシ
ステムであって、グラビア彫刻装置の各部の制御を行う
ものである。一方、この制御手段４には、本発明に係る
構成として、前記エンコーダ１５、３９からのパルス信
号をカウントしてシリンダーＣ上の座標を演算するパル
スカウンタ基板４０と、前記距離センサ３６から得た測
定データを前記パルスカウンタ基板４０の演算した座標
情報に基づいて記憶手段としてのメモリ４１に格納する
デジタルシグナルプロセッサ（ＤＳＰ）４２と、前記Ｄ
ＳＰを介してメモリ４１から読み出した測定データに基
づいて彫刻ヘッド２に供給する彫刻信号を補正する補正
手段４３とを有する。

【００２７】前記パルスカウンタ基板は、彫刻線数やセ
ルフォーメーションにより予め定められた分周値を記憶
し、エンコーダ１５、３９のパルス信号を分周して彫刻
条件に応じた座標位置を算出するものである。

【００２８】前記メモリ４１は、主走査座標の幅と同一
のアドレス幅を有するラインメモリを後述する副走査ラ
イン数分備える記憶手段であり、前記ＤＳＰ４２を介し
て入出力が行われる。

【００２９】前記ＤＳＰ４２は、前記パルスカウンタ基
板４０で算出した座標情報に対応したアドレスに前記距
離センサー３６で得た測定データを格納する、または読
み出すものである。

【００３０】補正手段４３は、制御手段４内の図示しな
い彫刻信号生成手段から得た彫刻信号に対し前記メモリ
４１に記憶された測定データによる補正を行うものであ
り、補正された彫刻データは彫刻ヘッド２へ転送され
る。なお、この補正手順の詳細については後述する

【００３１】次に図５および図６を用いて本発明の動作
説明を行う。なお図５は彫刻手段２２のバイト２５、シ
ュー２３ならびに距離センサー３６の位置の関係を模式
的に示した説明図、図６は本実施の形態における彫刻動
作を表すフローチャートである。

【００３２】まず図５を用いて本発明における原理を説
明する。この図５（Ａ）では、図の左から右に向かう方
向がシリンダー表面における副走査方向で、図の上から
下に向かう方向が主走査方向を表わす。そして丸印はシ
リンダー表面におけるバイト２５の位置を、同じく四角
印はシュー２３の位置を、三角印は距離センサー３６の
位置を模式的に表している。

【００３３】この実施の形態では、バイト２５、シュー
２３、距離センサー３６は全て主走査方向で同一位置に
あり、バイト２５とシュー２３との間の距離はシュー２
３と距離センサー３６との間の距離と同じである。な
お、説明のため、副走査方向の座標をｐとして、各主走
査ラインは副走査方向に向かって線順次にｐ＝１、２、
３・・と符号をつけるものとする。また図を見やすくす
るため各主走査ラインはずらせて描画している。

【００３４】この図５（Ａ）では、まずバイト２５が主
走査ラインｐ＝１に位置決めされて、主走査方向に彫刻
が行われる。ｐ＝１における１主走査ラインの彫刻が完
了すれば、彫刻ヘッド２が副走査方向にステップ量ｓだ
けステップ送りされ、バイト２５が主走査ラインｐ＝２
に位置決めされる。このように、本実施の形態では、副
走査方向にステップ量ｓだけステップ送りされながら、
順次１主走査ラインずつ彫刻が行われる。

【００３５】一方、本実施の形態では、シュー２３に先
行して距離センサー３６が設けられており、前記彫刻作
業にともなって彫刻ヘッド２とシリンダー表面との間の
距離を距離センサー３６により測定する。

【００３６】以下の説明では、バイト２５がｐ＝１の主
走査ラインにあるときを例とし、この場合はシュー２３
はｐ＝５の主走査ライン位置にあり、距離センサー３６
はｐ＝９の主走査ライン上にある。

【００３７】図５（Ｂ）はｐ＝５の主走査ラインにある
シュー２３およびｐ＝９の主走査ラインにある距離セン
サー３６とシリンダー表面との間の距離を模式的に示し
た図である。図において、シュー２３により規定される
彫刻ヘッド２とシリンダー表面との間の既知の距離をＬ
１、距離センサー３６が測定したシリンダーまでの距離
をＬ２、とすると、シュー２３の位置と距離センサー３
６の位置とにおけるシリンダー表面の高低差Ｌは、Ｌ＝
Ｌ１−Ｌ２で求まる。

【００３８】本実施の形態では、この高低差Ｌを測定デ
ータとして前記シュー２３の座標位置（ｐ＝５の主走査
ライン）でメモリ４１に記憶する。なお、当該高低差Ｌ
を測定データとして記憶するようにしているが、実際に
測定した距離Ｌ２自体を測定データとして記憶するよう
にしてもよい。

【００３９】一方、シュー２３により規定される彫刻ヘ
ッド２とシリンダー表面との間の距離Ｌ１は、前記マイ
クロメータ２６の手動設定により決定される。従って予
めマイクロメータ２６により設定する値を前記距離Ｌ１
として制御手段４内に入力しておく必要があるが、マイ
クロメータ２６に代えてシュー２３の突出量を可変する
ための微細移動手段を電気的に制御し、当該突出量を自
動的に制御手段４が判別するようにしてもよい。このよ
うな微細移動手段としては、モータ駆動によるネジ手段
やピエゾ駆動手段などが使用できる。

【００４０】次に彫刻動作が進み、前記バイト２５がｐ
＝５の主走査ラインに位置決めされた場合を例とする。
このときシュー２３はｐ＝９の主走査ライン上に位置す
る。すなわち、この時点でのバイト２５の位置とシュー
２３の位置との関係は、前述のようにシュー２３がｐ＝
５の主走査ラインにあり、かつ距離センサー３６がｐ＝
９の主走査ラインにある時の位置関係と同一である。従
って、メモリ４１からバイト２５が位置する座標（ｐ＝
５の主走査ライン）に対応するアドレスに記憶された高
低差Ｌを読み出せば、バイト２５とシュー２３との間の
高低差が判明する。

【００４１】上記のようにバイト２５とシュー２３との
高低差Ｌが判明すれば、この値によりバイト２５を駆動
する彫刻信号を補正することができる。この補正は、補
正前の彫刻データをＲ１、補正後の彫刻データをＲ２と
すると、Ｒ２＝Ｒ１＋ｋ・Ｌとなる。（ただしｋは彫刻
条件による補正係数）

【００４２】上記の説明では、説明を簡略化するため、
主走査方向の座標についてのみ説明したが、実際には副
走査方向の座標についても考慮する。

【００４３】また、理解を容易にするため、上記説明で
はバイト２５、シュー２３、距離センサー３６の副走査
座標位置が一致するように前記ステップ量ｓを定めてい
るが、実際にはステップ量ｓは彫刻線数やセルフォーメ
ーションの変更により可変するため、前記バイト２５、
シュー２３、距離センサー３６の座標位置は完全には一
致しない。しかしながら、実際にはバイト２５とシュー
２３との間の距離（数mm程度）に比較してステップ量ｓ
（100μｍ程度）は十分に小さいので、座標位置のズレ
は無視できる。

【００４４】次に図６のフローチャートを用いて彫刻デ
ータの補正手順について説明する。まずステップＳ１で
は、彫刻装置の各部や制御用変数などの初期設定が行わ
れる。

【００４５】ステップＳ２では、最初に前記メモリ４１
に使用するラインバッファ数Ｊｘを設定する。このライ
ンバッファ数Ｊｘは前記ステップ量ｓにより決まる。ま
ず前記バイト２５とシュー２３との間の距離（＝シュー
２３と距離センサー３６との間の距離）をＡとすると、
前記距離Ａ間における主走査ライン数Ｊｎは、Ｊｎ＝ｉ
ｎｔ（Ａ／ｓ＋１）となる。（ここでｉｎｔ（ｘ）関数
は、ｘの整数値を求める関数である）

【００４６】本実施の形態では、線順次に前記ラインバ
ッファを繰り返し使用するため、当該ラインバッファ数
Ｊｘは前記Ｊｎよりも１本多く設定され、Ｊｘ＝Ｊｎ＋
１で示されるライン本数だけメモリ領域が確保される。
以後、Ｊｘ本のラインバッファは線順次にｊ＝１〜Ｊｘ
の符号を付けて区別する。

【００４７】ステップＳ３では、主走査および副走査が
開始されて、彫刻が開始される主走査ラインの開始位置
よりも予めライン数Ｊｘ分だけ先行して彫刻ヘッド２と
シリンダー表面との間の距離の測定が開始される。そし
て得られた測定データ（前記高低差Ｌ）が主走査ライン
順次にメモリ４１に格納される。

【００４８】ステップＳ４以降からは前記測定と彫刻と
が並行して行われる。まずステップＳ４では、各データ
の読み込みが行われる。このデータは、前記バイト２５
の位置する主走査位置ｉおよび副走査位置ｐと、その座
標位置（ｉ，ｐ）での彫刻データＲと、その位置での距
離センサー３６による測定データＬである。

【００４９】ステップＳ５では、前記副走査位置ｐが彫
刻領域の終端を越えるか、もしくは彫刻データＲがなく
なれば、彫刻作業の終了と判断して作業を終了する。

【００５０】ステップＳ６では、副走査位置ｐが同じか
どうか、すなわち同一主走査ラインの彫刻かどうかを判
断する。同じ場合は次のステップＳ７へ進み、副走査位
置ｐが異なればステップＳ９へ進む。すなわち副走査送
りにより彫刻ヘッド２が異なる主走査ラインへ移動すれ
ば、ステップＳ９においてラインバッファｊを、ｊ＝ｊ
＋１（ただしｊがＪｘを越える場合はｊ＝１）とする。

【００５１】次のステップＳ７では、メモリ４１の予め
定められたラインバッファｊに対し主走査方向座標ｉに
基づいて測定データＬ３を書き込む。

【００５２】そして次のステップＳ８では、次のライン
バッファｊ＋１（ただしｊ＋１がＪｘを越える場合はｊ
＝１）に対し、主走査方向座標ｉの測定データＬを読み
込んで彫刻データＲを補正する。そして補正した彫刻デ
ータを彫刻ヘッド２に転送する。

【００５３】ステップＳ８が終了すれば、ステップＳ４
へ戻り順次処理を続行する。

【００５４】上記実施の形態であれば、ラインバッファ
ｊ＋１から測定データを読み込むことにより、主走査ラ
イン数が予めＪｎ分先行する位置で測定した測定データ
を読み込むことができる。

【００５５】［その他の実施の形態］ （１）上記実施の形態では、彫刻動作とともにシリンダ
ー表面までの距離を測定してリアルタイムに補正するよ
うにしているが、予めシリンダーの全面に渡って測定を
行っておいてもよい。この場合リアルタイム処理の負荷
が少なくなるため高速な彫刻システムにも採用しやすい
という利点があるが、全ての測定データを記憶するため
のメモリが必要であり、かつ２回走査しなければならな
いという問題がある。

【００５６】（２）上記実施の形態では、バイト２５、
シュー２３、距離センサー３６を主走査方向で同一の位
置となるように併設したが、同一直線上であれば各々の
主走査方向の位置が相違してもよい。ただし、この場
合、測定データを読み出すときに、主走査方向の座標位
置を補正してメモリ４１から読み出さなければならない
という欠点がある。

【００５７】（３）本発明は、特願平１０−１５８１８
０号に示すように複数の彫刻ヘッドを併設した場合や、
彫刻手段をピエゾ素子を用いて主走査方向に沿って振動
させる場合にも適用することができる。

【００５８】

【発明の効果】本発明におけるグラビア彫刻装置によれ
ば、彫刻ヘッドにおけるシューと彫刻手段との間隔が大
きくても正確な彫刻が行える。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明に係るグラビア彫刻装置の断面を示す
図である。

【図２】同グラビア彫刻装置における彫刻ヘッドの拡大
図である。

【図３】同彫刻ヘッドの正面図である。

【図４】同グラビア彫刻装置の制御機構を示すブロック
図である。

【図５】同彫刻ヘッドにおけるバイトとシューと距離セ
ンサーとの位置関係を説明するための説明図である。

【図６】同グラビア彫刻装置における彫刻データの補正
手順を示すフローチャートである。

【符号の説明】

１ シリンダー支持手段 ２ 彫刻ヘッド ３ 副走査移動手段 ４ 制御手段 １５ エンコーダ（主走査方向） ２２ 彫刻手段 ２３ シュー ２５ バイト ３１ 副走査テーブル ３５ バネ ３６ 距離センサー ３９ エンコーダ（副走査方向） ４１ メモリ ４３ 補正手段 Ａ シューとバイトとの間の距離 Ｂ シュート距離センサーとの間の距離 Ｃ グラビアシリンダー ｉ 主走査方向座標 ｊ メモリ内のラインバッファ数 Ｊｘ 最大ラインバッファ数 Ｌ 測定データ（シューの位置と距離センサーの位
置とでのシリンダ面の高低差） ｐ 副走査方向座標 Ｒ 彫刻データ ｓ ステップ送り量

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 シリンダーを支持し主走査方向に回転さ
   せるシリンダー回転手段と、前記シリンダーに対し彫刻
   針を振動させてセルを形成する彫刻ヘッドと、前記彫刻
   ヘッドに設けられ前記彫刻針に対し先導して前記シリン
   ダーの周面に摺接する摺接手段と、前記彫刻ヘッドを前
   記シリンダーに対し接離する方向に移動可能に保持しシ
   リンダーの軸線方向に沿って副走査移動させる副走査テ
   ーブルと、前記副走査テーブル上において前記彫刻ヘッ
   ドをシリンダーに向かって付勢する付勢手段とを備えて
   おり、前記主走査および副走査移動にともなって前記彫
   刻ヘッドが前記摺接手段の摺接により前記シリンダーの
   湾曲に応じて移動するグラビア彫刻装置において、 前記彫刻ヘッドの主走査位置を検出する主走査位置検出
   手段と、 前記彫刻ヘッドの副走査位置を検出する副走査位置検出
   手段と、 前記摺接手段に対し先導するように前記彫刻ヘッドに設
   けられ、前記彫刻ヘッドと前記シリンダーとの間の距離
   を非接触で測定する測定手段と、 前記彫刻ヘッドの主走査方向位置および副走査方向位置
   に応じて、前記測定手段の測定結果を記憶する記憶手段
   と、 前記彫刻針の位置する座標に対応して予め記憶された測
   定結果を前記記憶手段から読み出すとともに、読み出し
   た測定結果に基づいて前記彫刻針の振動量を補正する補
   正手段と、を備えたグラビア彫刻装置。
2. 【請求項２】 前記彫刻針、測定手段、ならびに摺接手
   段が、主走査方向において同一位置に並設されており、
   前記彫刻針と摺接手段との副走査方向間の距離Ａと、前
   記測定手段と摺接手段との間の副走査方向間の距離Ｂと
   が略同一である請求項１に記載のグラビア彫刻装置。
3. 【請求項３】 前記記憶手段は、彫刻ヘッドを副走査方
   向にステップ送りするステップ送り量ｓと前記距離Ａと
   に基づくライン数分のラインバッファメモリを有し、前
   記彫刻ヘッドを副走査方向へ移動させるに合わせて、前
   記ラインバッファメモリを線順次に繰り返して使用する
   ようにしたことを特徴とする請求項２に記載のグラビア
   彫刻装置。