JP2001269315A - 眼科装置 - Google Patents
眼科装置Info
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- JP2001269315A JP2001269315A JP2000085633A JP2000085633A JP2001269315A JP 2001269315 A JP2001269315 A JP 2001269315A JP 2000085633 A JP2000085633 A JP 2000085633A JP 2000085633 A JP2000085633 A JP 2000085633A JP 2001269315 A JP2001269315 A JP 2001269315A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 眼屈折力や角膜曲率半径を精度良く求める。
【解決手段】 眼屈折力測定光源からスポット像を被検
眼眼底に投影し、その反射光をリング絞り、円錐プリズ
ムを用いてリング状にし、そのリング像Ｒを撮像素子１
８により撮像を行い、楕円近似することにより被検眼Ｅ
の眼屈折力を求める。撮像された画像データは、画像メ
モリに転送され記憶される。楕円近似の方法として、水
平方向Ｈ、垂直方向Ｖに画素に対応した座標をとり、こ
の二次元座標の中心を（Ｈｃ，Ｖｃ）とする。マスクａ
１、ａ２及びその他の方向に設けたマスクの長辺に対し
て、垂直方向の線上のデータを用いて重心計算を行い、
最小二乗法を使い楕円近似を行う。これにより求められ
た楕円から測定値である被検眼の屈折力、乱視、乱視軸
角度が決定する。
眼眼底に投影し、その反射光をリング絞り、円錐プリズ
ムを用いてリング状にし、そのリング像Ｒを撮像素子１
８により撮像を行い、楕円近似することにより被検眼Ｅ
の眼屈折力を求める。撮像された画像データは、画像メ
モリに転送され記憶される。楕円近似の方法として、水
平方向Ｈ、垂直方向Ｖに画素に対応した座標をとり、こ
の二次元座標の中心を（Ｈｃ，Ｖｃ）とする。マスクａ
１、ａ２及びその他の方向に設けたマスクの長辺に対し
て、垂直方向の線上のデータを用いて重心計算を行い、
最小二乗法を使い楕円近似を行う。これにより求められ
た楕円から測定値である被検眼の屈折力、乱視、乱視軸
角度が決定する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、測定指標の眼底反
射像の測定を行い眼屈折力を求めるオートレフラクトメ
ータや、測定指標の角膜反射像の測定を行い角膜曲率半
径を求めるケラトメータなどの眼科装置に関するもので
ある。
射像の測定を行い眼屈折力を求めるオートレフラクトメ
ータや、測定指標の角膜反射像の測定を行い角膜曲率半
径を求めるケラトメータなどの眼科装置に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】従来、測定用の指標にリング指標を用
い、被検眼の眼底や角膜にその指標を投影し、その反射
像をセンサで撮像する場合に、撮像されたリング像の形
状を求めるためには、中心から放射状に走査を行いリン
グ位置を検出するのが理想であるが、現実にはサンプリ
ングされたマトリックス状の離散データとして処理され
るため、水平及び垂直方向に走査を行い、その演算デー
タから楕円に近似し被検眼の眼屈折力や角膜曲率半径を
求めている。
い、被検眼の眼底や角膜にその指標を投影し、その反射
像をセンサで撮像する場合に、撮像されたリング像の形
状を求めるためには、中心から放射状に走査を行いリン
グ位置を検出するのが理想であるが、現実にはサンプリ
ングされたマトリックス状の離散データとして処理され
るため、水平及び垂直方向に走査を行い、その演算デー
タから楕円に近似し被検眼の眼屈折力や角膜曲率半径を
求めている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上述の従
来例においては、リング像の走査方向に対して、斜め方
向のリング位置の検出の精度が悪いという問題がある。
そのため、水平や垂直に近い部分の信頼性の高いデータ
が、被検眼周辺の睫毛等の影響により、リング像が欠け
てしまい検出できなかった場合に、演算結果の信頼性が
低くなってしまうことがある。
来例においては、リング像の走査方向に対して、斜め方
向のリング位置の検出の精度が悪いという問題がある。
そのため、水平や垂直に近い部分の信頼性の高いデータ
が、被検眼周辺の睫毛等の影響により、リング像が欠け
てしまい検出できなかった場合に、演算結果の信頼性が
低くなってしまうことがある。
【０００４】本発明の目的は、上述の問題点を解消し、
眼屈折力や角膜曲率半径を精度良く求めることが可能な
眼科装置を提供することにある。
眼屈折力や角膜曲率半径を精度良く求めることが可能な
眼科装置を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明に係る眼科装置は、被検眼情報を検出するため
の指標を光学的に投影する指標投影手段と、前記指標の
被検眼からの反射像を撮像する撮像手段と、該撮像手段
で撮像したリング像の特定の画素を抽出する長方形又は
円弧状のマスクから成るマスク手段と、前記マスク内の
画素データを前記マスクの長辺に対して垂直方向の線上
のデータに基づいて濃度中心を演算する演算手段と、該
演算手段の結果により得られた前記各マスクから得た濃
度中心演算値を最小二乗近似で楕円演算をする楕円演算
手段とを有することを特徴とする。
の本発明に係る眼科装置は、被検眼情報を検出するため
の指標を光学的に投影する指標投影手段と、前記指標の
被検眼からの反射像を撮像する撮像手段と、該撮像手段
で撮像したリング像の特定の画素を抽出する長方形又は
円弧状のマスクから成るマスク手段と、前記マスク内の
画素データを前記マスクの長辺に対して垂直方向の線上
のデータに基づいて濃度中心を演算する演算手段と、該
演算手段の結果により得られた前記各マスクから得た濃
度中心演算値を最小二乗近似で楕円演算をする楕円演算
手段とを有することを特徴とする。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明を図示の実施例に基づいて
詳細に説明する。図１は第１の実施例の構成図である。
被検眼Ｅに対向してダイクロイックミラー１が配置され
ており、その反射方向には前眼部観察用対物レンズ２、
ダイクロイックミラー３が配置され、ダイクロイックミ
ラー３の反射方向の光路Ｏ１上には結像レンズ４、被検
眼Ｅの前眼部付近と略共役な位置にＣＣＤカメラなどか
ら成る撮像素子５が配置されている。被検眼前眼部を照
明するための近赤外光を発するＬＥＤなどの前眼部照明
光源６が被検眼とダイクロイックミラー１との間の光軸
外の位置に配置されている。そして、前眼部観察用対物
レンズ２から撮像素子５によって前眼部観察光学系が構
成されている。
詳細に説明する。図１は第１の実施例の構成図である。
被検眼Ｅに対向してダイクロイックミラー１が配置され
ており、その反射方向には前眼部観察用対物レンズ２、
ダイクロイックミラー３が配置され、ダイクロイックミ
ラー３の反射方向の光路Ｏ１上には結像レンズ４、被検
眼Ｅの前眼部付近と略共役な位置にＣＣＤカメラなどか
ら成る撮像素子５が配置されている。被検眼前眼部を照
明するための近赤外光を発するＬＥＤなどの前眼部照明
光源６が被検眼とダイクロイックミラー１との間の光軸
外の位置に配置されている。そして、前眼部観察用対物
レンズ２から撮像素子５によって前眼部観察光学系が構
成されている。
【０００７】また、被検眼Ｅの角膜Ｅｃに角膜形状測定
用のリング指標を投影するための近赤外光を発するＬＥ
Ｄなどのリング光源７が被検眼Ｅとダイクロイックミラ
ー１との間の光軸外の位置に配置されている。なお、角
膜形状測定光学系は前眼部観察光学系に含まれている。
用のリング指標を投影するための近赤外光を発するＬＥ
Ｄなどのリング光源７が被検眼Ｅとダイクロイックミラ
ー１との間の光軸外の位置に配置されている。なお、角
膜形状測定光学系は前眼部観察光学系に含まれている。
【０００８】ダイクロイックミラー３の透過方向の光路
Ｏ２上にはミラー８が配置され、このミラー８の反射方
向には図示しない被検眼が固視するための固視標投影光
学系が配置されている。
Ｏ２上にはミラー８が配置され、このミラー８の反射方
向には図示しない被検眼が固視するための固視標投影光
学系が配置されている。
【０００９】一方、ダイクロイックミラー１の透過方向
の光路Ｏ３上には、眼屈折力測定用対物レンズ９、孔あ
きミラー１０、投影絞り１１、投影レンズ１２、指標板
１３、前眼部照明光源６よりも数１０ｎｍ波長が長い近
赤外光を発する眼屈折力測定光源１４が配置されてお
り、これらの眼屈折力測定用対物レンズ９から眼屈折力
測定光源１４により眼屈折力測定光投影光学系が構成さ
れている。
の光路Ｏ３上には、眼屈折力測定用対物レンズ９、孔あ
きミラー１０、投影絞り１１、投影レンズ１２、指標板
１３、前眼部照明光源６よりも数１０ｎｍ波長が長い近
赤外光を発する眼屈折力測定光源１４が配置されてお
り、これらの眼屈折力測定用対物レンズ９から眼屈折力
測定光源１４により眼屈折力測定光投影光学系が構成さ
れている。
【００１０】また、孔あきミラー１０の反射方向には光
軸外にリング絞り１５が設けられ、その後方には円錐プ
リズム１６、リレーレンズ１７、ＣＣＤカメラなどから
成る撮像素子１８が配置されており、眼屈折力測定用対
物レンズ９から撮像素子１８により眼屈折力測定受光光
学系が構成されている。
軸外にリング絞り１５が設けられ、その後方には円錐プ
リズム１６、リレーレンズ１７、ＣＣＤカメラなどから
成る撮像素子１８が配置されており、眼屈折力測定用対
物レンズ９から撮像素子１８により眼屈折力測定受光光
学系が構成されている。
【００１１】ここで、ダイクロイックミラー１は眼屈折
力測定光源１４から発せられる波長光の大部分を透過
し、一部分を反射して前眼部照明光源６から発せられた
波長光を反射する特性を有しており、ダイクロイックミ
ラー３は可視光を透過し近赤外光を反射する特性を有し
ている。
力測定光源１４から発せられる波長光の大部分を透過
し、一部分を反射して前眼部照明光源６から発せられた
波長光を反射する特性を有しており、ダイクロイックミ
ラー３は可視光を透過し近赤外光を反射する特性を有し
ている。
【００１２】また、前述の観察光学系、固視標投影光学
系、眼屈折力測定光投影光学系、眼屈折力測定受光光学
系などにより被検眼検査部が構成されており、この被検
眼検査部は図示しない３軸方向に移動することのできる
架台の上に載置され、検者が操作桿を操作することによ
り、被検眼検査部を自在に移動することができ、これら
の架台及び操作桿などにより位置合わせ手段が構成され
ている。
系、眼屈折力測定光投影光学系、眼屈折力測定受光光学
系などにより被検眼検査部が構成されており、この被検
眼検査部は図示しない３軸方向に移動することのできる
架台の上に載置され、検者が操作桿を操作することによ
り、被検眼検査部を自在に移動することができ、これら
の架台及び操作桿などにより位置合わせ手段が構成され
ている。
【００１３】図２はブロック回路構成図である。図１の
撮像素子５及び１８の出力はそれぞれＡ／Ｄコンバータ
２０及び２１に接続され、それらの出力はそれぞれ画像
メモリ２２及び２３に接続されていると共に、装置の全
ゆる制御を行う演算処理部２４に接続されている。演算
処理部２４には、この他に眼屈折力測定光源１４及び被
検眼検査部の操作を行う操作部２５が接続されている。
更に、演算処理部２４にはＤ／Ａコンバータ２６を介し
てテレビモニタ２７が順次に接続されている。
撮像素子５及び１８の出力はそれぞれＡ／Ｄコンバータ
２０及び２１に接続され、それらの出力はそれぞれ画像
メモリ２２及び２３に接続されていると共に、装置の全
ゆる制御を行う演算処理部２４に接続されている。演算
処理部２４には、この他に眼屈折力測定光源１４及び被
検眼検査部の操作を行う操作部２５が接続されている。
更に、演算処理部２４にはＤ／Ａコンバータ２６を介し
てテレビモニタ２７が順次に接続されている。
【００１４】眼屈折力測定光源１４からスポット像を被
検眼Ｅの眼底Ｅｒに投影し、その反射光をリング絞り１
５、円錐プリズム１６を用いてリング状にし、そのリン
グ像を撮像素子１８により撮像を行う。図３はこの撮像
されたリング像Ｒを示しており、このリング像Ｒを楕円
近似することにより被検眼Ｅの眼屈折力を求める。撮像
された画像データは、Ａ／Ｄコンバータ２１によって撮
像素子１８の画素のそれぞれのデータとして画像メモリ
２３に転送され記憶される。楕円近似の方法として、図
３に示すように水平方向Ｈ、垂直方向Ｖに画素に対応し
た座標をとり、この二次元座標の中心を（Ｈｃ，Ｖｃ）
とする。
検眼Ｅの眼底Ｅｒに投影し、その反射光をリング絞り１
５、円錐プリズム１６を用いてリング状にし、そのリン
グ像を撮像素子１８により撮像を行う。図３はこの撮像
されたリング像Ｒを示しており、このリング像Ｒを楕円
近似することにより被検眼Ｅの眼屈折力を求める。撮像
された画像データは、Ａ／Ｄコンバータ２１によって撮
像素子１８の画素のそれぞれのデータとして画像メモリ
２３に転送され記憶される。楕円近似の方法として、図
３に示すように水平方向Ｈ、垂直方向Ｖに画素に対応し
た座標をとり、この二次元座標の中心を（Ｈｃ，Ｖｃ）
とする。
【００１５】図４及び図５はリング像Ｒに対するマスク
と処理の流れを示している。入力画像をａ１〜ｄ２の８
つのマスクに分ける。前述のように、マスク形状の長辺
に対して垂直方向の線上のデータを用いて重心計算を行
う。上述のマスク演算により求められた重心位置のデー
タを用いて、最小二乗法を使い楕円近似を行う。これに
より求められた楕円から測定値である被検眼の屈折力、
乱視、乱視軸角度が決定される。
と処理の流れを示している。入力画像をａ１〜ｄ２の８
つのマスクに分ける。前述のように、マスク形状の長辺
に対して垂直方向の線上のデータを用いて重心計算を行
う。上述のマスク演算により求められた重心位置のデー
タを用いて、最小二乗法を使い楕円近似を行う。これに
より求められた楕円から測定値である被検眼の屈折力、
乱視、乱視軸角度が決定される。
【００１６】最初に、マスクａ１、ａ２の演算を行う。
図３に示すようにマスク形状の長辺に対して垂直方向の
線上のデータを用いる。そこで、中心（Ｈｃ，Ｖｃ）の
点からＨｃに１ずつ加算し、矢印に示すように走査を行
うと図６の結果が得られる。任意の閾値ＴＬを定め、閾
値ＴＬよりも大きい走査線上のデータを用いて重心計算
を行い、その線上の濃度中心を求め、濃度中心演算値の
座標を楕円近似に用いる。今度は、Ｈｃを１ずつ減算
し、走査を行い同様の処理を行う。
図３に示すようにマスク形状の長辺に対して垂直方向の
線上のデータを用いる。そこで、中心（Ｈｃ，Ｖｃ）の
点からＨｃに１ずつ加算し、矢印に示すように走査を行
うと図６の結果が得られる。任意の閾値ＴＬを定め、閾
値ＴＬよりも大きい走査線上のデータを用いて重心計算
を行い、その線上の濃度中心を求め、濃度中心演算値の
座標を楕円近似に用いる。今度は、Ｈｃを１ずつ減算
し、走査を行い同様の処理を行う。
【００１７】次に、Ｖｃに任意のステップＳを加算し、
（１−Ｈｃ，Ｖｃ＋Ｓ）の点から同様に走査を行い、上
述と同様の処理を行う。更に、（Ｈｃ，Ｖｃ＋２Ｓ）、
（Ｈ−Ｈｃ，Ｖｃ＋３Ｓ）、（Ｈｃ，Ｖｃ＋４Ｓ）、・
・・、と処理を行い、設定（Ｈｃ，Ｖｃ＋ａＳ）まで進
むと、次はＶｃにＳを減算した点（Ｈｃ，Ｖｃ−Ｓ）か
ら水平方向に走査し処理を行う。同様に、設定（Ｈｃ，
Ｖｃ−ａＳ）まで処理を行う。ここで、ａＳ、−ａＳは
図３に示されているθで決定される。本実施例では、リ
ング像Ｒを８つのマスクで分割しているためθ＝４５゜
に設定されており、データの精度については十分に保証
されている。
（１−Ｈｃ，Ｖｃ＋Ｓ）の点から同様に走査を行い、上
述と同様の処理を行う。更に、（Ｈｃ，Ｖｃ＋２Ｓ）、
（Ｈ−Ｈｃ，Ｖｃ＋３Ｓ）、（Ｈｃ，Ｖｃ＋４Ｓ）、・
・・、と処理を行い、設定（Ｈｃ，Ｖｃ＋ａＳ）まで進
むと、次はＶｃにＳを減算した点（Ｈｃ，Ｖｃ−Ｓ）か
ら水平方向に走査し処理を行う。同様に、設定（Ｈｃ，
Ｖｃ−ａＳ）まで処理を行う。ここで、ａＳ、−ａＳは
図３に示されているθで決定される。本実施例では、リ
ング像Ｒを８つのマスクで分割しているためθ＝４５゜
に設定されており、データの精度については十分に保証
されている。
【００１８】続いて、マスクｂ１、ｂ２の演算を行う。
図７に示すようにマスクの長辺に対して垂直方向の線上
のデータを用いる。中心（Ｈｃ，Ｖｃ）の点から、Ｖｃ
に１ずつ加算及び減算し矢印方向に走査を行い、水平方
向の走査と同様に走査線上のデータから重心座標を求め
る。Ｈｃに任意のステップＳを加算し、（Ｈｃ＋Ｓ，Ｖ
ｃ）、（Ｈｃ＋２Ｓ，Ｖｃ）、（Ｈｃ＋３Ｓ，Ｖｃ）、
・・・、（Ｈ−Ｈｃ＋ａＳ，Ｖｃ）の点から垂直方向に
走査し、重心座標を求める処理を行う。（Ｈｃ−Ｓ，Ｖ
ｃ）、（Ｈｃ−２Ｓ，Ｖｃ）、（Ｈｃ−３Ｓ，Ｖｃ）、
・・・、（Ｈｃ−ａＳ，Ｖｃ）の点においても同様の処
理を行う。
図７に示すようにマスクの長辺に対して垂直方向の線上
のデータを用いる。中心（Ｈｃ，Ｖｃ）の点から、Ｖｃ
に１ずつ加算及び減算し矢印方向に走査を行い、水平方
向の走査と同様に走査線上のデータから重心座標を求め
る。Ｈｃに任意のステップＳを加算し、（Ｈｃ＋Ｓ，Ｖ
ｃ）、（Ｈｃ＋２Ｓ，Ｖｃ）、（Ｈｃ＋３Ｓ，Ｖｃ）、
・・・、（Ｈ−Ｈｃ＋ａＳ，Ｖｃ）の点から垂直方向に
走査し、重心座標を求める処理を行う。（Ｈｃ−Ｓ，Ｖ
ｃ）、（Ｈｃ−２Ｓ，Ｖｃ）、（Ｈｃ−３Ｓ，Ｖｃ）、
・・・、（Ｈｃ−ａＳ，Ｖｃ）の点においても同様の処
理を行う。
【００１９】更に、マスクｃ１、ｃ２、ｄ１、ｄ２の演
算を行う。これは図８及び図９に示される。図８に示す
ように、ｃ１、ｃ２のマスク形状の長辺に対して垂直方
向の線上のデータを用いる。中心（Ｈｃ，Ｖｃ）の点か
らＨｃに１ずつ加算し、Ｖｃに１ずつ減算し走査を行
う。また、Ｈｃに１ずつ減算し、Ｖｃに１ずつ加算し矢
印方向に走査し、その走査線上のデータから重心座標を
求める。また、Ｈｃ及びＶｃに任意のステップＳを加算
し、（Ｈｃ＋Ｓ，Ｖｃ＋Ｓ）、（Ｈｃ＋２Ｓ，Ｖｃ＋２
Ｓ）、（Ｈｃ＋３Ｓ，Ｖｃ＋３Ｓ）、・・・、（Ｈｃ＋
ａＳ，Ｖｃ＋ａＳ）の点から斜め方向に走査し、重心座
標を求める処理を行い、（Ｈｃ−Ｓ，Ｖｃ−Ｓ）、（Ｈ
ｃ−２Ｓ，Ｖｃ−２Ｓ）、（Ｈｃ−３Ｓ，Ｖｃ−３
Ｓ）、・・・、（Ｈｃ−ａＳ，Ｖｃ−ａＳ）の点におい
ても同様の処理を行う。
算を行う。これは図８及び図９に示される。図８に示す
ように、ｃ１、ｃ２のマスク形状の長辺に対して垂直方
向の線上のデータを用いる。中心（Ｈｃ，Ｖｃ）の点か
らＨｃに１ずつ加算し、Ｖｃに１ずつ減算し走査を行
う。また、Ｈｃに１ずつ減算し、Ｖｃに１ずつ加算し矢
印方向に走査し、その走査線上のデータから重心座標を
求める。また、Ｈｃ及びＶｃに任意のステップＳを加算
し、（Ｈｃ＋Ｓ，Ｖｃ＋Ｓ）、（Ｈｃ＋２Ｓ，Ｖｃ＋２
Ｓ）、（Ｈｃ＋３Ｓ，Ｖｃ＋３Ｓ）、・・・、（Ｈｃ＋
ａＳ，Ｖｃ＋ａＳ）の点から斜め方向に走査し、重心座
標を求める処理を行い、（Ｈｃ−Ｓ，Ｖｃ−Ｓ）、（Ｈ
ｃ−２Ｓ，Ｖｃ−２Ｓ）、（Ｈｃ−３Ｓ，Ｖｃ−３
Ｓ）、・・・、（Ｈｃ−ａＳ，Ｖｃ−ａＳ）の点におい
ても同様の処理を行う。
【００２０】次に、図９に示すようにｄ１、ｄ２のマス
ク形状の長辺に対して垂直方向の線上のデータを用い
る。中心（Ｈｃ，Ｖｃ）の点から、Ｈｃ及びＶｃにそれ
ぞれ１ずつ加算し矢印方向に走査を行う。また、Ｈｃ及
びＶｃにそれぞれ１ずつ減算し走査し、その走査線上の
データから重心座標を求める。また、Ｈｃに任意のステ
ップＳを加算、Ｖｃに任意のステップＳを減算し、（Ｈ
ｃ＋Ｓ，Ｖｃ−Ｓ）、（Ｈ＝Ｈｃ＋２Ｓ，Ｖｃ−２
Ｓ）、（Ｈｃ＋３Ｓ，Ｖｃ−３Ｓ）、・・・、（Ｈｃ＋
ａＳ，Ｖｃ−ａＳ）の点から斜め方向に走査し、重心座
標を求める処理を行い、Ｈｃに任意のステップＳを減
算、Ｖｃに任意のステップＳを加算し、（Ｈｃ−Ｓ，Ｖ
ｃ＋Ｓ）、（Ｈｃ−２Ｓ，Ｖｃ＋２Ｓ）、（Ｈｃ−３
Ｓ，Ｖｃ＋３Ｓ）、・・・、（Ｈｃ−ａＳ，Ｖｃ＋ａ
Ｓ）の点においても同様の処理を行う。
ク形状の長辺に対して垂直方向の線上のデータを用い
る。中心（Ｈｃ，Ｖｃ）の点から、Ｈｃ及びＶｃにそれ
ぞれ１ずつ加算し矢印方向に走査を行う。また、Ｈｃ及
びＶｃにそれぞれ１ずつ減算し走査し、その走査線上の
データから重心座標を求める。また、Ｈｃに任意のステ
ップＳを加算、Ｖｃに任意のステップＳを減算し、（Ｈ
ｃ＋Ｓ，Ｖｃ−Ｓ）、（Ｈ＝Ｈｃ＋２Ｓ，Ｖｃ−２
Ｓ）、（Ｈｃ＋３Ｓ，Ｖｃ−３Ｓ）、・・・、（Ｈｃ＋
ａＳ，Ｖｃ−ａＳ）の点から斜め方向に走査し、重心座
標を求める処理を行い、Ｈｃに任意のステップＳを減
算、Ｖｃに任意のステップＳを加算し、（Ｈｃ−Ｓ，Ｖ
ｃ＋Ｓ）、（Ｈｃ−２Ｓ，Ｖｃ＋２Ｓ）、（Ｈｃ−３
Ｓ，Ｖｃ＋３Ｓ）、・・・、（Ｈｃ−ａＳ，Ｖｃ＋ａ
Ｓ）の点においても同様の処理を行う。
【００２１】このように、リング像Ｒに特定のマスクを
用いることにより、リング像Ｒの走査方向に対して、斜
め方向のリング位置のデータについても十分に信頼性の
ある演算結果を得ることができ、測定精度を向上させる
ことできる。また、被検眼周辺部の睫毛等の影響により
測定用の指標像であるリング像Ｒが欠けた場合でも、測
定精度を向上することができる。なお、本実施例ではリ
ング像に対して８角形のマスクを用いたが、他の多角形
を用いることもできる。
用いることにより、リング像Ｒの走査方向に対して、斜
め方向のリング位置のデータについても十分に信頼性の
ある演算結果を得ることができ、測定精度を向上させる
ことできる。また、被検眼周辺部の睫毛等の影響により
測定用の指標像であるリング像Ｒが欠けた場合でも、測
定精度を向上することができる。なお、本実施例ではリ
ング像に対して８角形のマスクを用いたが、他の多角形
を用いることもできる。
【００２２】実際の測定を行う時には、雲霧などの予備
測定と測定値を求める本測定がある。予備測定時には、
処理時間の短縮のため、ａ１、ａ２、ｂ１、ｂ２のマス
クの演算だけを行い、本測定時には、ａ１〜ｄ２の全て
のマスクについての演算を行うことも可能である。
測定と測定値を求める本測定がある。予備測定時には、
処理時間の短縮のため、ａ１、ａ２、ｂ１、ｂ２のマス
クの演算だけを行い、本測定時には、ａ１〜ｄ２の全て
のマスクについての演算を行うことも可能である。
【００２３】実施例においては、被検眼Ｅの眼屈折力の
測定の説明を行ったが、同様の方法を角膜曲率半径の測
定にも用いることができる。角膜形状測定リング光源７
からのリング像を被検眼Ｅの角膜Ｅｃに投影し、その反
射光であるリング像Ｒを撮像素子５により撮像を行う。
このリング像Ｒを楕円近似することにより、被検眼Ｅの
角膜曲率半径を求める。撮像された画像データは、Ａ／
Ｄコンバータ２０によって撮像素子５の画素のそれぞれ
のデータとして、画像メモリ２２に転送され記憶され
る。楕円近似の方法は前述と同様の方法を用いることに
より、角膜曲率半径の測定精度も向上させることができ
る。
測定の説明を行ったが、同様の方法を角膜曲率半径の測
定にも用いることができる。角膜形状測定リング光源７
からのリング像を被検眼Ｅの角膜Ｅｃに投影し、その反
射光であるリング像Ｒを撮像素子５により撮像を行う。
このリング像Ｒを楕円近似することにより、被検眼Ｅの
角膜曲率半径を求める。撮像された画像データは、Ａ／
Ｄコンバータ２０によって撮像素子５の画素のそれぞれ
のデータとして、画像メモリ２２に転送され記憶され
る。楕円近似の方法は前述と同様の方法を用いることに
より、角膜曲率半径の測定精度も向上させることができ
る。
【００２４】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係る眼科装
置は、被検眼周辺部の睫毛等の影響により測定用の指標
像であるリング像が欠けた場合でも、リング像全周の精
度保証が可能になり、被検眼の眼屈折力や角膜曲率半径
等を精度良く求めることができる。
置は、被検眼周辺部の睫毛等の影響により測定用の指標
像であるリング像が欠けた場合でも、リング像全周の精
度保証が可能になり、被検眼の眼屈折力や角膜曲率半径
等を精度良く求めることができる。
【００２５】また、このような分散処理を行うことによ
り、特定の角度にしか走査することができないが、角度
を指定し走査を行う場合に比べて、処理を簡単にするこ
とができ、処理時間の短縮にもつながる。
り、特定の角度にしか走査することができないが、角度
を指定し走査を行う場合に比べて、処理を簡単にするこ
とができ、処理時間の短縮にもつながる。
【図１】本実施例の光学系の構成図である。
【図２】ブロック回路構成図である。
【図３】水平方向の走査の説明図である。
【図４】リング像に対するマスクの説明図である。
【図５】楕円近似までの処理の説明図である。
【図６】走査線上のリング像の光量分布図である。
【図７】垂直方向の走査の説明図である。
【図８】第１斜め方向の走査の説明図である。
【図９】第２斜め方向の走査の説明図である。
２ 前眼部観察用対物レンズ ５、１８ 撮像素子 ６ 前眼部照明光源 ７ 角膜形状測定リング光源 １０ 孔あきミラー １４ 眼屈折力測定光源 ２２、２３ 画像メモリ ２４ 演算処理部 ２７ テレビモニタ Ｒ 測定リング像
Claims (3)
- 【請求項１】 被検眼情報を検出するための指標を光学
的に投影する指標投影手段と、前記指標の被検眼からの
反射像を撮像する撮像手段と、該撮像手段で撮像したリ
ング像の特定の画素を抽出する長方形又は円弧状のマス
クから成るマスク手段と、前記マスク内の画素データを
前記マスクの長辺に対して垂直方向の線上のデータに基
づいて濃度中心を演算する演算手段と、該演算手段の結
果により得られた前記各マスクから得た濃度中心演算値
を最小二乗近似で楕円演算をする楕円演算手段とを有す
ることを特徴とする眼科装置。 - 【請求項２】 八角形の各辺上に前記マスクを配置した
請求項１に記載の眼科装置。 - 【請求項３】 仮想円に対して８分割した特定領域に前
記マスクを配置した請求項１に記載の眼科装置。
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| JP4545871B2 JP4545871B2 (ja) | 2010-09-15 |
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|---|---|---|---|---|
| JP2005052249A (ja) * | 2003-07-31 | 2005-03-03 | Nidek Co Ltd | 眼調節機能測定装置 |
| JP2007007277A (ja) * | 2005-07-01 | 2007-01-18 | Nidek Co Ltd | 眼屈折力測定装置 |
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