JP2001262061A - 常温硬化性日射遮蔽膜形成用塗布液およびこれを用いた日射遮蔽膜ならびに日射遮蔽機能を有する基材 - Google Patents
常温硬化性日射遮蔽膜形成用塗布液およびこれを用いた日射遮蔽膜ならびに日射遮蔽機能を有する基材Info
- Publication number
- JP2001262061A JP2001262061A JP2000072770A JP2000072770A JP2001262061A JP 2001262061 A JP2001262061 A JP 2001262061A JP 2000072770 A JP2000072770 A JP 2000072770A JP 2000072770 A JP2000072770 A JP 2000072770A JP 2001262061 A JP2001262061 A JP 2001262061A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- solar shading
- film
- group
- solar radiation
- forming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
成が可能で、かつ優れた膜強度を得られる日射遮蔽膜形
成用塗布液、およびこれを用いて形成された日射遮蔽能
が高く表面硬度の高い日射遮蔽膜ならびに日射遮蔽機能
を有する基材を提供する。 【解決手段】 バインダー成分、希釈溶媒、硬化触媒お
よび近赤外光遮蔽成分とを含有する日射遮蔽膜形成用塗
布液であって、前記バインダー成分の少なくとも1種が
グリシドキシプロピル基含有アルコキシシランとアミノ
プロピル基含有アルコキシシランを混合反応させてなる
下記する化学式1で示される物質であり、かつ前記近赤
外光遮蔽成分が六ホウ化物の中から選ばれた少なくとも
1種からなる平均粒径200nm以下の微粒子であるこ
とを特徴とする。 【化1】
Description
ック、その他の日射遮蔽機能を必要とする透明基材に応
用可能な日射遮蔽材料に関するものであり、より詳細に
は特定の常温硬化性組成物を成分として含み、特定の近
赤外光遮蔽成分を含む常温で硬化可能な日射遮蔽膜形成
用塗布液およびこれを用いて形成した表面硬度の高い日
射遮蔽膜ならびに日射遮蔽機能を有する基材に関するも
のである。
線の3つに大きく分けることができ、このうち長波長領
域の近赤外線(熱線)は熱エネルギーとして人体に感じ
る波長領域の光であり、室内、車内の温度上昇の原因と
もなるものである。また短波長領域の紫外線は、日焼
け、しみ、そばかす、発癌、視力障害など人体への悪影
響があり、物品の機械的強度の低下、色褪せなどの外観
の劣化、食品の劣化、印刷物の色調の低下なども引き起
こすものである。これらの不要な熱線や有害な紫外線を
遮蔽するために、日射遮蔽膜を形成して日射遮蔽機能を
持たせたガラス基板、プラスチック板、フィルムなどの
透明基材が使用されている。
銀、銅、アルミニウムなどのような伝導電子を多量に持
つ材料を応用した日射遮蔽膜が用いられている。通常こ
れらの材料を用いた薄膜の形成にはスパッタリング法や
蒸着法が利用されているが、これらの方法では大がかり
な真空装置を必要とするため生産性が劣り、膜の製造コ
ストが高くなり、また大面積の成膜が困難であった。一
方、日射遮蔽材料を含有する塗布液を用いて日射遮蔽膜
を基材上に形成することによって簡単、かつ低コストで
日射遮蔽機能を持たせた透明基材を製造することも提案
されている。この場合、例えば光の波長よりも1桁以上
小さい微細な微粒子を分散した塗布液の製造が試みられ
ているが、従来の金属材料では微粒子化による酸化が問
題となり、またAuを用いた場合にはコストが高くなり
好ましくなかった。
は、六ホウ化物は自由電子を多量に保有しており、これ
らを微粒子化し高度に分散させることによって可視光領
域に透過率の極大を持つとともに、可視光領域に近い近
赤外領域に強いプラズマ反射を発現して透過率の極小を
持つようになることが開示されている。この現象を応用
して、六ホウ化物は日射遮蔽材料として利用可能なこと
が知られている。またこれらの材料は近赤外線と紫外線
の遮蔽能を持つが、紫外線遮蔽能は比較的小さく、十分
な紫外線遮蔽能を持たせようとすると可視光透過率まで
低下してしまう。さて建物の窓や乗り物の窓のような、
既に使用されている透明基材に対して日射遮蔽機能を持
たせるためには、日射遮蔽材料を含有する塗布液を用い
て日射遮蔽膜を形成する方法が簡便で好ましいが、この
ような工法では塗布液が常温で硬化可能であることが必
要となる。そしてこの塗布液の常温硬化が可能であれ
ば、工場での使用においても特別な硬化装置を使用する
必要がなくなり、コスト的にも有利となる。
では掃除や開閉のため表面が傷つき易く、硬化後の膜の
表面硬度が必要となる。そして有機系のバインダーを用
いた塗布液の中には常温で硬化可能であるものもある
が、塗布、硬化後の膜強度が弱いので実用的でなく、反
面シリケートなどの無機系のバインダーでは硬化後の膜
強度は実用的であるが、常温硬化しないため、硬化させ
るには加熱が必要となり、また膜厚が厚い場合は硬化時
の収縮が大きくクラックが生じてしまう。このように常
温硬化が可能であるとともに、その硬化膜が十分な表面
強度を与えるという両方の特性を有する日射遮蔽膜形成
用塗布液がなかったため、その開発が待望されているの
が現状であった。
術の問題点を解決し、既存の透明基材に適応でき、常温
での塗膜形成が可能で、かつ優れた膜強度を得られる日
射遮蔽膜形成用塗布液、およびこれを用いて形成された
日射遮蔽能が高く表面硬度の高い日射遮蔽膜ならびに日
射遮蔽機能を有する基材を提供することを目的とする。
ねた結果、グリシドキシプロピル基含有アルコキシシラ
ンとアミノプロピル基含有アルコキシシランを混合反応
させてなる物質をバインダー成分として用い、さらに近
赤外光遮蔽成分として自由電子を多量に保有する六ホウ
化物を用いることにより、前記目的を達成できることを
見出し本発明を完成するに至った。
温で硬化可能な日射遮蔽膜形成用塗布液は、バインダー
成分、希釈溶媒、硬化触媒および近赤外光遮蔽成分とを
含有する日射遮蔽膜形成用塗布液であって、前記バイン
ダー成分の少なくとも1種がグリシドキシプロピル基含
有アルコキシシランとアミノプロピル基含有アルコキシ
シランを混合反応させてなる下記する化学式1で示され
る物質であり、かつ前記近赤外光遮蔽成分が六ホウ化物
の中から選ばれた少なくとも1種からなる平均粒径20
0nm以下の微粒子であることを特徴とするものであ
り、
キシ基、ブトキシ基などの加水分解によってシラノール
を生じるアルコキシル基を示し、Y1、Y2はメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基のアルキル基を示
し、かつa、b、c、dはそれぞれ1≦a≦3、a+b
=3、1≦c≦3、c+d=3の関係を満たす数であ
る。) また前記六ホウ化物はCeB6、GdB6、TbB6、
DyB6、HoB6、YB6、SmB6、EuB6、E
rB6、TmB6、YbB6、LuB6、SrB6、C
rB6、LaB6、PrB6またはNdB6であり、さ
らに紫外線遮蔽成分としてべンゾフェノン系および/ま
たはべンゾトリアゾール系の有機紫外線吸収剤を0.5
重量%以上で7重量%以下含有したり、またさらに紫外
線遮蔽成分として平均粒径が100nm以下のCe
O2、ZnO、Fe2O3およびFeOOH微粒子の中
から選ばれた少なくとも1種からなる無機紫外線遮蔽成
分を含有することを特徴とする。
遮蔽膜は、前記第1の実施態様に係る日射遮蔽膜形成用
塗布液を基材に塗布し、硬化させてなることを特徴とす
るものである。
遮蔽機能を有する基材は、前記第2の実施態様に係る日
射遮蔽膜が少なくとも片面に形成され、かつ透明性を有
することを特徴とするものである。
する。まず本発明において近赤外遮蔽成分として用いら
れる六ホウ化物微粒子としては、CeB6、GdB6、
TbB6、DyB6、HoB6、YB6、SmB6、E
uB6、ErB6、TmB6、YbB6、LuB6、S
rB6、CrB6、LaB6、PrB6、NdB6微粒
子が挙げられ、これら微粒子は単独あるいは2種以上を
混合して使用することもできる。これら六ホウ化物微粒
子は、暗い青紫などに着色した粉末であるが、粒径が可
視光波長に比べて十分に小さく、薄膜中に分散した状態
では膜に可視光透過性が生じるが、近赤外光遮蔽能は十
分強く保持できる。
を十分細かく、かつ均一に分散した膜では、透過率が波
長400〜700nmの間に極大値を持ち、かつ700
〜1800nmの間に極小値を持つことが観察された。
可視光波長が380〜780nmであり、視感度が55
0nm付近をピークとする釣鐘型であることを考慮する
と、このような膜では可視光を有効に透過し、それ以外
の波長の光を有効に吸収・反射することが理解できる。
以下、好ましくは100nm以下とする必要がある。そ
の理由は、平均粒径が200nmを超えると微粒子同士
の凝集傾向が強くなり、塗布液中の微粒子の沈降の原因
となるからであり、また平均粒径が200nmを超える
微粒子もしくはそれらの凝集した粗大粒子の存在は、そ
れによる光散乱によって可視光透過率の低下の原因とな
るので好ましくない。なお平均粒径は200nm以下、
好ましくは100nm以下であれば、小さいほど好まし
いが現在の技術では商業的に製造できる最小粒径はせい
ぜい2nm程度である。
ー成分の少なくとも1種はグリシドキシプロピル基を含
有するアルコキシシランとアミノプロピル基を含有する
アルコキシシランを混合反応させて得られたものであ
る。グリシドキシプロピル基を含有するアルコキシシラ
ンとしては、グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、グ
リシドキシプロピルトリエトキシシラン、グリシドキシ
プロピルメチルジエトキシシランなどを挙げることがで
き、またアミノプロピル基を含有するアルコキシシラン
としては、アミノプロピルトリエトキシシラン、アミノ
プロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。得られ
た反応物の基本構造は下記する化学式1で示される。
キシ基、ブトキシ基の加水分解によってシラノールを生
じるアルコキシル基を示し、Y1、Y2はメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基のアルキル基を示し、ま
たa、b、c、dはそれぞれ1≦a≦3、a+b=3、
1≦c≦3、c+d=3の関係を満たす数である。)
記化学式1に示す基本構造における分子両端にアルコキ
シル基を持ち、分子内にフレキシブルなメチレン鎖を持
つ。このアルコキシル基は室温で加水分解して反応性の
高いシラノールを生じ、これが縮合重合することによっ
て自身で高分子化、あるいは他の成分と結合することが
できる。また分子中のメチレン鎖は縮合重合時の歪みを
吸収し塗膜のクラックを押さえる。本発明の日射遮蔽膜
形成用塗布液の硬化は、バインダー成分中のアルコキシ
ル基の加水分解と、それに続くシラノールの縮合重合に
よる高分子化によって起こる。このようにして形成され
たシロキサン結合は強固であり、堅牢な塗膜を形成する
ことができる。
媒は特に限定されるものではなく塗布条件や、塗布環
境、塗布液中の固形分の種類に合わせて選択可能であ
り、例えばメタノール、エタノール、イソブチルアルコ
ールなどのアルコール類、エチレングリコールモノメチ
ルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルな
どのエーテルアルコール類、酢酸メチルや酢酸エチルな
どのエステル類、メチルエチルケトンやシクロヘキサノ
ンなどのケトン類など各種溶媒が使用可能である。また
用途によって1種または2種以上の溶媒を組み合わせて
使用することもできる。そしてこのバインダー成分には
湿気硬化性があるが、常温での硬化速度を実用的なもの
とするために、日射遮蔽膜形成用塗布液には硬化触媒の
添加が必要である。この硬化触媒としては三弗化ホウ素
などが用いられ、触媒の添加量を変えることによって硬
化時間を制御することが可能となり、応用範囲が広がる
こととなる。
能を強化するために、日射遮蔽膜形成用塗布液に紫外線
遮蔽成分として有機紫外線吸収剤および/または無機紫
外線遮蔽成分を含有させることもできる。この際、紫外
線遮蔽成分としての有機紫外線吸収剤としてはベンゾフ
ェノン系とべンゾトリアゾール系の有機紫外線吸収剤の
いずれか一方、または両方を含有させることができ、そ
の含有量は0.5〜7重量%が好ましい。紫外線吸収剤
の含有量が0.5重量%未満では形成される日射遮蔽膜
の紫外線遮蔽能が十分ではなく、一方7重量%を超える
と紫外線吸収剤が膜の表面に滲み出したり、曇りが生じ
たりするからである。
無機紫外線遮蔽成分を含有させてもよく、この場合の無
機紫外線遮蔽成分として平均粒径が100nm以下のC
eO 2、ZnO、Fe2O3、FeOOH微粒子の中か
ら選ばれた1種もしくは2種以上を選択する。平均粒径
を100nm以下とした理由は、粒径が100nmを超
えると微粒子同士の凝集傾向が強くなり、塗布液中の微
粒子の沈降の原因となり、また100nmを超える粒子
もしくはそれらの凝集した粗大粒子の存在は、それによ
る光散乱によって可視光透過率の低下の原因となるので
好ましくない。さらにFe2O3、FeOOH微粒子を
選択することによって、塗布膜に赤味や黄色味を持たせ
ることも可能である。これらの無機紫外線遮蔽成分は経
時変化が少ない。なお、無機紫外線遮蔽成分の平均粒径
は小さいほど好ましいが、前記した理由と同様な理由に
より最小限の粒径は2nm程度である。
用塗布液をガラス基板、プラスチック板、フィルムなど
の透明基材の片面あるいは両面に塗布し常温で硬化させ
ることによって前記透明基材の表面上に表面硬度の高い
日射遮蔽能を持つ日射遮蔽膜を形成することができる。
日射遮蔽膜形成用塗布液の塗布方法は特に限定されるも
のではなく、スピンコート法、スプレーコート法、ディ
ップコート法、スクリーン印刷法、布や刷毛による塗布
方法など、処理液を平坦で、薄く、かつ均一に塗布でき
る方法であればいかなる方法でも用いることができる。
透明基材上に形成された日射遮蔽膜は、該基材に高い表
面硬度と日射遮蔽機能を付与するとともに、前記基材そ
のものの紫外線による劣化を抑制する。このようにして
日射遮蔽膜が片面あるいは両面に形成された基材は高い
表面硬度と日射遮蔽能を有するものである。
さらに詳細に説明する。なお以下の実施例および比較例
の日射遮蔽膜形成用塗布液の構成成分を下記する表1
に、また形成した膜の特性を表2に纏めて示した。 [実施例1]LaB6(平均粒径67nm)10g、ジ
アセトンアルコール86gおよび微粒子分散用カップリ
ング剤4gを混合し、直径4mmのジルコニアボールを
用いて150時間のボールミル混合を行いLaB6微粒
子の分散液100gを作製した(A液)。グリシドキシ
プロピルトリメトキシシラン600gとアミノプロピル
トリエトキシシラン400gを混合し、マグネティック
スターラーで1時間撹拌後、室温で14日間熟成させて
目的のバインダー成分1000gを得た(合成液1)。
7.5gの合成液1と47.5gのイソブチルアルコー
ル、25gのプロピレングリコールモノエチルエーテ
ル、10gのA液を混合撹拌し、さらに触媒として三弗
化ホウ素ピペリジンのイソブチルアルコール溶液(濃度
1重量%)10gを加えて撹拌することによって日射遮
蔽膜形成用塗布液を作製した。この日射遮蔽膜形成用塗
布液を3mmのソーダライム系ガラス基板上にバーコー
ターを用いて塗布し、常温で放置して日射遮蔽膜を得
た。
(社)製の分光光度計を用いて測定し、JIS R 3
106にしたがって可視光透過率(τv)、日射透過率
(τe)を、ISO 9050にしたがって紫外線透過
率(τuv)を算出した。またテーバー摩耗試験機で摩
耗輪CS 10fを用いて荷重250g、50回転の摩
耗試験を行い、試験前後のへイズの変化量(ΔH)で膜
の表面硬度を評価した。なおへイズは村上色彩技術研究
所(社)製の反射・透過率計で測定した。実施例1で得
られた日射遮蔽膜形成用塗布液は常温で硬化可能であ
り、容易に日射遮蔽膜を得ることができた。また膜のτ
vは71.9%、τeは49.8%であり、可視光透過
性があり、日射遮蔽能があることが分かった。τuvは
31.4%であり紫外光の遮蔽能もあった。またΔHは
4.8%であり表面硬度の非常に高い膜が形成されてい
た。
イム系ガラス基板のみの測定も行った。ソーダライム系
ガラス基板のτvは90.3%、τeは87.3%、τ
uvは70.7%であった。
m)10g、ジアセトンアルコール86gおよび微粒子
分散用カップリング剤4gを混合し、直径4mmのジル
コニアボールを用いて150時間のボールミル混合を行
いCeB6微粒子の分散液100gを作製した(B液) グリシドキシプロピルトリエトキシシラン600gとア
ミノプロピルトリメトキシシラン400gを混合し、マ
グネティックスターラーで1時間撹拌後、室温で14日
間熟成させて目的のバィンダー成分1000gを得た
(合成液2)。7.5gの合成液2と47.5gのイソ
ブチルアルコール、25gのプロピレングリコールモノ
エチルエーテル、10gのB液を混合撹拌し、さらに触
媒として三弗化ホウ素ピペリジンのイソブチルアルコー
ル溶液(濃度1重量%)10gを加えて撹拌することに
よって日射遮蔽膜形成用塗布液を作製した。つぎに実施
例1と同様な手順で日射遮蔽膜を形成し、膜の評価を行
った。実施例2により得られた日射遮蔽膜のτvは6
9.8%、τeは46.2%であり、可視光透過性があ
って日射遮蔽能があることが分った。τuvは29.0
%であり紫外光の遮蔽能もある。またΔHは5.2%で
あり表面硬度の非常に高い膜が形成されていた。
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(UVA)、46.
5gのイソブチルアルコール、25gのプロピレングリ
コールモノエチルエーテル、10gのA液を混合撹拌
し、さらに触媒として三弗化ホウ素ピペリジンのイソブ
チルアルコール溶液(濃度1重量%)10gを加えて撹
拌することによって日射遮蔽膜形成用塗布液を作製し
た。つぎに実施例1と同様な手順で日射遮蔽膜を形成
し、膜の評価を行った。実施例3により得られた日射遮
蔽膜のτvは72.0%、τeは50.1%であり、可
視光透過性があって日射遮蔽能があることが分った。τ
uvは0.5%であり紫外光の遮蔽能は優れていた。ま
たΔHは6.0%であり表面硬度の非常に高い膜が形成
されていた。
30nm)15g、N−メチル−2−ピロリドン(NM
P)23g、ジアセトンアルコール(DAA)14g、
メチルエチルケトン47.5g、およびチタネート系カ
ップリング剤0.5gを混合し、直径4mmのジルコニ
アボールを用いて100時間のボールミル混合を行いF
eOOHの分散液100gを作成した(C液)。20g
の合成液1と8.7gのC液、33.3gのイソブチル
アルコール、25gのプロピレングリコールモノエチル
エーテル、3gのA液を混合撹拌し、さらに触媒として
三弗化ホウ素ピペリジンのイソブチルアルコール溶液
(濃度1重量%)10gを加えて撹拌することによって
日射遮蔽膜形成用塗布液を作製した。つぎに実施例1と
同様な手順で日射遮蔽膜を形成し、膜の評価を行った。
実施例4により得られた日射遮蔽膜のτvは77.2
%、τeは59.3%であり、可視光透過性があって日
射遮蔽能があることが分った。τuvは10.7%であ
り紫外光の遮蔽能は優れていた。またΔHは4.9%で
あり表面硬度の非常に高い膜が形成されていた。
のC液、2.6gのべンゾトリアゾール系紫外線吸収
剤、30.7gのイソブチルアルコール、25gのプロ
ピレングリコールモノエチルエーテル、3gのA液を混
合撹拌し、さらに触媒として三弗化ホウ素ピペリジンの
イソブチルアルコール溶液(濃度1重量%)10gを加
えて撹拌することによって日射遮蔽膜形成用塗布液を作
製した。つぎに実施例1と同様な手順で日射遮蔽膜を形
成し、膜の評価を行った。実施例5により得られた日射
遮蔽膜のτvは77.2%、τeは59.4%であり、
可視光透過性があって日射遮蔽能があることが分った。
τuvは0.1%であり紫外光の遮蔽能は非常に優れて
いた。またΔHは5.5%であり表面硬度の非常に高い
膜が形成されていた。
イプの常温硬化ウレタン樹脂(溶剤はイソプロピルアル
コールで固形分30%)を83.3g、ベンゾトリアゾ
ール系紫外線吸収剤を2.6g、イソブチルアルコール
を11.1g、A液を3g混合撹拌することによって日
射遮蔽膜形成用塗布液を作製した。つぎに実施例1と同
様な手順で日射遮蔽膜を形成し、膜の評価を行った。比
較例2により得られた日射遮蔽膜のτvは79.5%、
τeは61.4%であり、可視光透過性があって日射遮
蔽能があることが分かった。τuvは0.9%であり紫
外光の遮蔽能は優れていたが、ΔHは30.0%であり
表面硬度が非常に低く、爪でこすると傷がついた。
子を、それぞれPrB6(平均粒径53nm)、NdB
6(平均粒径66nm)、GdB6(平均粒径41n
m)に替えた以外は実施例1と同様な手順で日射遮蔽膜
形成用塗布液を作製し実施例6〜8とした。つぎに実施
例6〜8に係る日射遮蔽膜形成用塗布液を用いて実施例
1と同様な手順で日射遮蔽膜を形成し、膜の評価を行っ
た。実施例6〜8により得られた日射遮蔽膜のτvは7
2.0〜73.1%、τeは50.1〜52.3%であ
り、可視光透過性があって日射遮蔽能があることが分っ
た。τuvは32.0〜34.0%であり紫外光の遮蔽
能もある。またΔHは5.3〜6.2%であり表面硬度
の非常に高い膜が形成されていた。
2nmの粗大粒子を用いいた他は実施例2と同様な手順
で日射遮蔽膜形成用塗布液を作製した。つぎに実施例1
と同様な手順で日射遮蔽膜を形成し、膜の評価を行っ
た。比較例3により得られた膜は可視光の散乱が強く、
曇りがあって実用には向かなかった。
硬化し得る日射遮蔽膜形成用塗布液を得ることができ、
また該塗布液により形成された日射遮蔽膜は表面強度が
高く、また透明基材に高い表面強度と日射遮蔽能を付与
することが可能となった。
Claims (6)
- 【請求項1】 バインダー成分、希釈溶媒、硬化触媒お
よび近赤外光遮蔽成分とを含有する日射遮蔽膜形成用塗
布液であって、前記バインダー成分の少なくとも1種が
グリシドキシプロピル基含有アルコキシシランとアミノ
プロピル基含有アルコキシシランを混合反応させてなる
下記する化学式1で示される物質であり、かつ前記近赤
外光遮蔽成分が六ホウ化物の中から選ばれた少なくとも
1種からなる平均粒径200nm以下の微粒子であるこ
とを特徴とする常温で硬化可能な日射遮蔽膜形成用塗布
液。 【化1】 (式中、X1、X2はメトキシ基、エトキシ基、プロポ
キシ基、ブトキシ基などの加水分解によってシラノール
を生じるアルコキシル基を示し、Y1、Y2はメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基のアルキル基を示
し、かつa、b、c、dはそれぞれ1≦a≦3、a+b
=3、1≦c≦3、c+d=3の関係を満たす数であ
る。) - 【請求項2】 前記六ホウ化物はCeB6、GdB6、
TbB6、DyB6、HoB6、YB6、SmB6、E
uB6、ErB6、TmB6、YbB6、LuB6、S
rB6、CrB6、LaB6、PrB6またはNdB6
であることを特徴とする請求項1記載の常温で硬化可能
な日射遮蔽膜形成用塗布液。 - 【請求項3】 さらに紫外線遮蔽成分としてべンゾフェ
ノン系および/またはべンゾトリアゾール系の有機紫外
線吸収剤を0.5重量%以上で7重量%以下含有するこ
とを特徴とする請求項1または2記載の常温で硬化可能
な日射遮蔽膜形成用塗布液。 - 【請求項4】 さらに紫外線遮蔽成分として平均粒径が
100nm以下のCeO2、ZnO、Fe2O3および
FeOOH微粒子の中から選ばれた少なくとも1種から
なる無機紫外線遮蔽成分を含有することを特徴とする請
求項1〜3のいずれか1項記載の常温で硬化可能な日射
遮蔽膜形成用塗布液。 - 【請求項5】 請求項1〜4のいずれか1項記載の日射
遮蔽膜形成用塗布液を透明基材に塗布、硬化させてなる
ことを特徴とする日射遮蔽膜。 - 【請求項6】 請求項5記載の日射遮蔽膜が少なくとも
片面に形成され、かつ透明性を有することを特徴とする
日射遮蔽機能を有する基材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000072770A JP4058878B2 (ja) | 2000-03-15 | 2000-03-15 | 常温硬化性日射遮蔽膜形成用塗布液およびこれを用いた日射遮蔽膜ならびに日射遮蔽機能を有する基材 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000072770A JP4058878B2 (ja) | 2000-03-15 | 2000-03-15 | 常温硬化性日射遮蔽膜形成用塗布液およびこれを用いた日射遮蔽膜ならびに日射遮蔽機能を有する基材 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001262061A true JP2001262061A (ja) | 2001-09-26 |
JP4058878B2 JP4058878B2 (ja) | 2008-03-12 |
Family
ID=18591127
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000072770A Expired - Fee Related JP4058878B2 (ja) | 2000-03-15 | 2000-03-15 | 常温硬化性日射遮蔽膜形成用塗布液およびこれを用いた日射遮蔽膜ならびに日射遮蔽機能を有する基材 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4058878B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006299087A (ja) * | 2005-04-20 | 2006-11-02 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 日射遮蔽膜形成用塗布液および日射遮蔽膜ならびに日射遮蔽機能を有する基材 |
JP2008101111A (ja) * | 2006-10-19 | 2008-05-01 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 日射遮蔽膜形成用塗布液および日射遮蔽膜ならびに日射遮蔽機能を有する基材 |
JP2009265485A (ja) * | 2008-04-28 | 2009-11-12 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 赤外線遮蔽材料微粒子分散液と赤外線遮蔽膜および赤外線遮蔽光学部材 |
US8900693B2 (en) | 2005-07-13 | 2014-12-02 | Sabic Global Technologies B.V. | Polycarbonate compositions having infrared absorbance, method of manufacture, and articles prepared therefrom |
-
2000
- 2000-03-15 JP JP2000072770A patent/JP4058878B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006299087A (ja) * | 2005-04-20 | 2006-11-02 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 日射遮蔽膜形成用塗布液および日射遮蔽膜ならびに日射遮蔽機能を有する基材 |
US8900693B2 (en) | 2005-07-13 | 2014-12-02 | Sabic Global Technologies B.V. | Polycarbonate compositions having infrared absorbance, method of manufacture, and articles prepared therefrom |
JP2008101111A (ja) * | 2006-10-19 | 2008-05-01 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 日射遮蔽膜形成用塗布液および日射遮蔽膜ならびに日射遮蔽機能を有する基材 |
JP2009265485A (ja) * | 2008-04-28 | 2009-11-12 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 赤外線遮蔽材料微粒子分散液と赤外線遮蔽膜および赤外線遮蔽光学部材 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4058878B2 (ja) | 2008-03-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5070796B2 (ja) | 日射遮蔽膜形成用塗布液および日射遮蔽膜ならびに日射遮蔽機能を有する基材 | |
TWI342870B (ja) | ||
JP6599666B2 (ja) | 光散乱性被膜を有する透明スクリーン及び光散乱性被膜形成用塗布液 | |
WO2006137454A1 (ja) | 透明物品およびその製造方法 | |
JP2008194563A (ja) | 日射遮蔽膜および波長選択型遮蔽膜 | |
WO1999031185A1 (fr) | Liquide d'enduction pour former des revetements durs et substrats recouverts de revetements durs | |
JP2001262016A (ja) | 濃着色インク、これを用いたコーティング液、フィルム、基材、樹脂組成物、及び樹脂成型品 | |
WO1997049778A1 (fr) | Materiau absorbant les ultraviolets et plaques d'absorption des ultraviolets | |
CN108531076B (zh) | 日照遮蔽膜形成用涂布液及相关的粘合剂、日照遮蔽膜和基材 | |
EP0697135B1 (en) | Display device comprising a display screen provided with a light-absorbing coating | |
US8216670B2 (en) | Heat ray shielding glass for vehicle and process for producing the same | |
JP4826126B2 (ja) | 日射遮蔽膜形成用塗布液および日射遮蔽膜ならびに日射遮蔽機能を有する基材 | |
JP2010075775A (ja) | 波長選択型遮蔽膜および波長選択型遮蔽体 | |
JP2020122809A (ja) | 可視光散乱性被膜形成用塗布液、及び可視光散乱性被膜形成基材 | |
JP2001262061A (ja) | 常温硬化性日射遮蔽膜形成用塗布液およびこれを用いた日射遮蔽膜ならびに日射遮蔽機能を有する基材 | |
CN100410341C (zh) | 透明被膜形成用涂布液、带有该被膜的基材及液晶显示盒 | |
CN107815247A (zh) | 新型高性能日照遮蔽涂料及相关的粘合剂、日照遮蔽膜和基材 | |
JP2001262064A (ja) | 常温硬化性日射遮蔽膜形成用塗布液およびこれを用いた日射遮蔽膜ならびに日射遮蔽機能を有する基材 | |
KR101222936B1 (ko) | 아미노실란을 이용한 수계 자외선 및 적외선 차단 코팅제 및 이를 사용하여 제조된 코팅막 | |
JP5136832B2 (ja) | 熱線・紫外線遮蔽膜形成用塗布液および熱線・紫外線遮蔽膜、並びに、熱線・紫外線遮蔽基材 | |
JP5337360B2 (ja) | コーティング組成物、硬化膜及び樹脂積層体 | |
JP3760671B2 (ja) | 熱線・紫外線遮蔽膜形成用塗布液およびこれを用いた熱線・紫外線遮蔽膜 | |
JP2000191957A (ja) | 熱線・紫外線遮蔽膜形成用塗布液及びこれを用いた膜、基材 | |
WO2018003772A1 (ja) | 多結晶ナノダイヤモンドを分散させた光散乱性被膜及び光散乱性被膜形成用塗布液 | |
EP3578615B1 (en) | Coating for forming infrared shielding film, infrared shielding film-equipped transparent substrate, and method for producing same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050825 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051220 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060215 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060216 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20071127 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20071210 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101228 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4058878 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111228 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121228 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131228 Year of fee payment: 6 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |