JP2001262061A - 常温硬化性日射遮蔽膜形成用塗布液およびこれを用いた日射遮蔽膜ならびに日射遮蔽機能を有する基材 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 既存の透明基材に適応でき、常温での塗膜形
成が可能で、かつ優れた膜強度を得られる日射遮蔽膜形
成用塗布液、およびこれを用いて形成された日射遮蔽能
が高く表面硬度の高い日射遮蔽膜ならびに日射遮蔽機能
を有する基材を提供する。 【解決手段】 バインダー成分、希釈溶媒、硬化触媒お
よび近赤外光遮蔽成分とを含有する日射遮蔽膜形成用塗
布液であって、前記バインダー成分の少なくとも１種が
グリシドキシプロピル基含有アルコキシシランとアミノ
プロピル基含有アルコキシシランを混合反応させてなる
下記する化学式１で示される物質であり、かつ前記近赤
外光遮蔽成分が六ホウ化物の中から選ばれた少なくとも
１種からなる平均粒径２００ｎｍ以下の微粒子であるこ
とを特徴とする。 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ガラス、プラスチ
ック、その他の日射遮蔽機能を必要とする透明基材に応
用可能な日射遮蔽材料に関するものであり、より詳細に
は特定の常温硬化性組成物を成分として含み、特定の近
赤外光遮蔽成分を含む常温で硬化可能な日射遮蔽膜形成
用塗布液およびこれを用いて形成した表面硬度の高い日
射遮蔽膜ならびに日射遮蔽機能を有する基材に関するも
のである。

【０００２】

【従来の技術】太陽光線は、近赤外線、可視光線、紫外
線の３つに大きく分けることができ、このうち長波長領
域の近赤外線（熱線）は熱エネルギーとして人体に感じ
る波長領域の光であり、室内、車内の温度上昇の原因と
もなるものである。また短波長領域の紫外線は、日焼
け、しみ、そばかす、発癌、視力障害など人体への悪影
響があり、物品の機械的強度の低下、色褪せなどの外観
の劣化、食品の劣化、印刷物の色調の低下なども引き起
こすものである。これらの不要な熱線や有害な紫外線を
遮蔽するために、日射遮蔽膜を形成して日射遮蔽機能を
持たせたガラス基板、プラスチック板、フィルムなどの
透明基材が使用されている。

【０００３】従来から、前記日射遮蔽材料として金、
銀、銅、アルミニウムなどのような伝導電子を多量に持
つ材料を応用した日射遮蔽膜が用いられている。通常こ
れらの材料を用いた薄膜の形成にはスパッタリング法や
蒸着法が利用されているが、これらの方法では大がかり
な真空装置を必要とするため生産性が劣り、膜の製造コ
ストが高くなり、また大面積の成膜が困難であった。一
方、日射遮蔽材料を含有する塗布液を用いて日射遮蔽膜
を基材上に形成することによって簡単、かつ低コストで
日射遮蔽機能を持たせた透明基材を製造することも提案
されている。この場合、例えば光の波長よりも１桁以上
小さい微細な微粒子を分散した塗布液の製造が試みられ
ているが、従来の金属材料では微粒子化による酸化が問
題となり、またＡｕを用いた場合にはコストが高くなり
好ましくなかった。

【０００４】そして特開平１１−６９３９８４号公報に
は、六ホウ化物は自由電子を多量に保有しており、これ
らを微粒子化し高度に分散させることによって可視光領
域に透過率の極大を持つとともに、可視光領域に近い近
赤外領域に強いプラズマ反射を発現して透過率の極小を
持つようになることが開示されている。この現象を応用
して、六ホウ化物は日射遮蔽材料として利用可能なこと
が知られている。またこれらの材料は近赤外線と紫外線
の遮蔽能を持つが、紫外線遮蔽能は比較的小さく、十分
な紫外線遮蔽能を持たせようとすると可視光透過率まで
低下してしまう。さて建物の窓や乗り物の窓のような、
既に使用されている透明基材に対して日射遮蔽機能を持
たせるためには、日射遮蔽材料を含有する塗布液を用い
て日射遮蔽膜を形成する方法が簡便で好ましいが、この
ような工法では塗布液が常温で硬化可能であることが必
要となる。そしてこの塗布液の常温硬化が可能であれ
ば、工場での使用においても特別な硬化装置を使用する
必要がなくなり、コスト的にも有利となる。

【０００５】またホテルの窓や自動車の窓のような用途
では掃除や開閉のため表面が傷つき易く、硬化後の膜の
表面硬度が必要となる。そして有機系のバインダーを用
いた塗布液の中には常温で硬化可能であるものもある
が、塗布、硬化後の膜強度が弱いので実用的でなく、反
面シリケートなどの無機系のバインダーでは硬化後の膜
強度は実用的であるが、常温硬化しないため、硬化させ
るには加熱が必要となり、また膜厚が厚い場合は硬化時
の収縮が大きくクラックが生じてしまう。このように常
温硬化が可能であるとともに、その硬化膜が十分な表面
強度を与えるという両方の特性を有する日射遮蔽膜形成
用塗布液がなかったため、その開発が待望されているの
が現状であった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は前記従来の技
術の問題点を解決し、既存の透明基材に適応でき、常温
での塗膜形成が可能で、かつ優れた膜強度を得られる日
射遮蔽膜形成用塗布液、およびこれを用いて形成された
日射遮蔽能が高く表面硬度の高い日射遮蔽膜ならびに日
射遮蔽機能を有する基材を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】発明者らは鋭意研究を重
ねた結果、グリシドキシプロピル基含有アルコキシシラ
ンとアミノプロピル基含有アルコキシシランを混合反応
させてなる物質をバインダー成分として用い、さらに近
赤外光遮蔽成分として自由電子を多量に保有する六ホウ
化物を用いることにより、前記目的を達成できることを
見出し本発明を完成するに至った。

【０００８】すなわち本発明の第１の実施態様に係る常
温で硬化可能な日射遮蔽膜形成用塗布液は、バインダー
成分、希釈溶媒、硬化触媒および近赤外光遮蔽成分とを
含有する日射遮蔽膜形成用塗布液であって、前記バイン
ダー成分の少なくとも１種がグリシドキシプロピル基含
有アルコキシシランとアミノプロピル基含有アルコキシ
シランを混合反応させてなる下記する化学式１で示され
る物質であり、かつ前記近赤外光遮蔽成分が六ホウ化物
の中から選ばれた少なくとも１種からなる平均粒径２０
０ｎｍ以下の微粒子であることを特徴とするものであ
り、

【０００９】

【化１】 （式中、Ｘ１、Ｘ２はメトキシ基、エトキシ基、プロポ
キシ基、ブトキシ基などの加水分解によってシラノール
を生じるアルコキシル基を示し、Ｙ１、Ｙ２はメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基のアルキル基を示
し、かつａ、ｂ、ｃ、ｄはそれぞれ１≦ａ≦３、ａ＋ｂ
＝３、１≦ｃ≦３、ｃ＋ｄ＝３の関係を満たす数であ
る。） また前記六ホウ化物はＣｅＢ_６、ＧｄＢ_６、ＴｂＢ_６、
ＤｙＢ_６、ＨｏＢ_６、ＹＢ_６、ＳｍＢ_６、ＥｕＢ_６、Ｅ
ｒＢ_６、ＴｍＢ_６、ＹｂＢ_６、ＬｕＢ_６、ＳｒＢ_６、Ｃ
ｒＢ_６、ＬａＢ_６、ＰｒＢ_６またはＮｄＢ_６であり、さ
らに紫外線遮蔽成分としてべンゾフェノン系および／ま
たはべンゾトリアゾール系の有機紫外線吸収剤を０．５
重量％以上で７重量％以下含有したり、またさらに紫外
線遮蔽成分として平均粒径が１００ｎｍ以下のＣｅ
Ｏ_２、ＺｎＯ、Ｆｅ_２Ｏ_３およびＦｅＯＯＨ微粒子の中
から選ばれた少なくとも１種からなる無機紫外線遮蔽成
分を含有することを特徴とする。

【００１０】さらに本発明の第２の実施態様に係る日射
遮蔽膜は、前記第１の実施態様に係る日射遮蔽膜形成用
塗布液を基材に塗布し、硬化させてなることを特徴とす
るものである。

【００１１】さらに本発明の第３の実施態様に係る日射
遮蔽機能を有する基材は、前記第２の実施態様に係る日
射遮蔽膜が少なくとも片面に形成され、かつ透明性を有
することを特徴とするものである。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。まず本発明において近赤外遮蔽成分として用いら
れる六ホウ化物微粒子としては、ＣｅＢ_６、ＧｄＢ_６、
ＴｂＢ_６、ＤｙＢ_６、ＨｏＢ_６、ＹＢ_６、ＳｍＢ_６、Ｅ
ｕＢ_６、ＥｒＢ_６、ＴｍＢ_６、ＹｂＢ_６、ＬｕＢ_６、Ｓ
ｒＢ_６、ＣｒＢ_６、ＬａＢ_６、ＰｒＢ_６、ＮｄＢ_６微粒
子が挙げられ、これら微粒子は単独あるいは２種以上を
混合して使用することもできる。これら六ホウ化物微粒
子は、暗い青紫などに着色した粉末であるが、粒径が可
視光波長に比べて十分に小さく、薄膜中に分散した状態
では膜に可視光透過性が生じるが、近赤外光遮蔽能は十
分強く保持できる。

【００１３】本発明者らの実験によればこれらの微粒子
を十分細かく、かつ均一に分散した膜では、透過率が波
長４００〜７００ｎｍの間に極大値を持ち、かつ７００
〜１８００ｎｍの間に極小値を持つことが観察された。
可視光波長が３８０〜７８０ｎｍであり、視感度が５５
０ｎｍ付近をピークとする釣鐘型であることを考慮する
と、このような膜では可視光を有効に透過し、それ以外
の波長の光を有効に吸収・反射することが理解できる。

【００１４】六ホウ化物微粒子の平均粒径は２００ｎｍ
以下、好ましくは１００ｎｍ以下とする必要がある。そ
の理由は、平均粒径が２００ｎｍを超えると微粒子同士
の凝集傾向が強くなり、塗布液中の微粒子の沈降の原因
となるからであり、また平均粒径が２００ｎｍを超える
微粒子もしくはそれらの凝集した粗大粒子の存在は、そ
れによる光散乱によって可視光透過率の低下の原因とな
るので好ましくない。なお平均粒径は２００ｎｍ以下、
好ましくは１００ｎｍ以下であれば、小さいほど好まし
いが現在の技術では商業的に製造できる最小粒径はせい
ぜい２ｎｍ程度である。

【００１５】つぎに本発明において用いられるバインダ
ー成分の少なくとも１種はグリシドキシプロピル基を含
有するアルコキシシランとアミノプロピル基を含有する
アルコキシシランを混合反応させて得られたものであ
る。グリシドキシプロピル基を含有するアルコキシシラ
ンとしては、グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、グ
リシドキシプロピルトリエトキシシラン、グリシドキシ
プロピルメチルジエトキシシランなどを挙げることがで
き、またアミノプロピル基を含有するアルコキシシラン
としては、アミノプロピルトリエトキシシラン、アミノ
プロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。得られ
た反応物の基本構造は下記する化学式１で示される。

【００１６】

【化１】 （式中、Ｘ１、Ｘ２はメトキシ基、エトキシ基、プロポ
キシ基、ブトキシ基の加水分解によってシラノールを生
じるアルコキシル基を示し、Ｙ１、Ｙ２はメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基のアルキル基を示し、ま
たａ、ｂ、ｃ、ｄはそれぞれ１≦ａ≦３、ａ＋ｂ＝３、
１≦ｃ≦３、ｃ＋ｄ＝３の関係を満たす数である。）

【００１７】すなわち、本発明のバインダー成分は、前
記化学式１に示す基本構造における分子両端にアルコキ
シル基を持ち、分子内にフレキシブルなメチレン鎖を持
つ。このアルコキシル基は室温で加水分解して反応性の
高いシラノールを生じ、これが縮合重合することによっ
て自身で高分子化、あるいは他の成分と結合することが
できる。また分子中のメチレン鎖は縮合重合時の歪みを
吸収し塗膜のクラックを押さえる。本発明の日射遮蔽膜
形成用塗布液の硬化は、バインダー成分中のアルコキシ
ル基の加水分解と、それに続くシラノールの縮合重合に
よる高分子化によって起こる。このようにして形成され
たシロキサン結合は強固であり、堅牢な塗膜を形成する
ことができる。

【００１８】さらに日射遮蔽膜形成用塗布液中の希釈溶
媒は特に限定されるものではなく塗布条件や、塗布環
境、塗布液中の固形分の種類に合わせて選択可能であ
り、例えばメタノール、エタノール、イソブチルアルコ
ールなどのアルコール類、エチレングリコールモノメチ
ルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルな
どのエーテルアルコール類、酢酸メチルや酢酸エチルな
どのエステル類、メチルエチルケトンやシクロヘキサノ
ンなどのケトン類など各種溶媒が使用可能である。また
用途によって１種または２種以上の溶媒を組み合わせて
使用することもできる。そしてこのバインダー成分には
湿気硬化性があるが、常温での硬化速度を実用的なもの
とするために、日射遮蔽膜形成用塗布液には硬化触媒の
添加が必要である。この硬化触媒としては三弗化ホウ素
などが用いられ、触媒の添加量を変えることによって硬
化時間を制御することが可能となり、応用範囲が広がる
こととなる。

【００１９】さらに形成される日射遮蔽膜の紫外線遮蔽
能を強化するために、日射遮蔽膜形成用塗布液に紫外線
遮蔽成分として有機紫外線吸収剤および／または無機紫
外線遮蔽成分を含有させることもできる。この際、紫外
線遮蔽成分としての有機紫外線吸収剤としてはベンゾフ
ェノン系とべンゾトリアゾール系の有機紫外線吸収剤の
いずれか一方、または両方を含有させることができ、そ
の含有量は０．５〜７重量％が好ましい。紫外線吸収剤
の含有量が０．５重量％未満では形成される日射遮蔽膜
の紫外線遮蔽能が十分ではなく、一方７重量％を超える
と紫外線吸収剤が膜の表面に滲み出したり、曇りが生じ
たりするからである。

【００２０】また用途によっては紫外線遮蔽成分として
無機紫外線遮蔽成分を含有させてもよく、この場合の無
機紫外線遮蔽成分として平均粒径が１００ｎｍ以下のＣ
ｅＯ _２、ＺｎＯ、Ｆｅ_２Ｏ_３、ＦｅＯＯＨ微粒子の中か
ら選ばれた１種もしくは２種以上を選択する。平均粒径
を１００ｎｍ以下とした理由は、粒径が１００ｎｍを超
えると微粒子同士の凝集傾向が強くなり、塗布液中の微
粒子の沈降の原因となり、また１００ｎｍを超える粒子
もしくはそれらの凝集した粗大粒子の存在は、それによ
る光散乱によって可視光透過率の低下の原因となるので
好ましくない。さらにＦｅ_２Ｏ_３、ＦｅＯＯＨ微粒子を
選択することによって、塗布膜に赤味や黄色味を持たせ
ることも可能である。これらの無機紫外線遮蔽成分は経
時変化が少ない。なお、無機紫外線遮蔽成分の平均粒径
は小さいほど好ましいが、前記した理由と同様な理由に
より最小限の粒径は２ｎｍ程度である。

【００２１】そして本発明では前記した日射遮蔽膜形成
用塗布液をガラス基板、プラスチック板、フィルムなど
の透明基材の片面あるいは両面に塗布し常温で硬化させ
ることによって前記透明基材の表面上に表面硬度の高い
日射遮蔽能を持つ日射遮蔽膜を形成することができる。
日射遮蔽膜形成用塗布液の塗布方法は特に限定されるも
のではなく、スピンコート法、スプレーコート法、ディ
ップコート法、スクリーン印刷法、布や刷毛による塗布
方法など、処理液を平坦で、薄く、かつ均一に塗布でき
る方法であればいかなる方法でも用いることができる。
透明基材上に形成された日射遮蔽膜は、該基材に高い表
面硬度と日射遮蔽機能を付与するとともに、前記基材そ
のものの紫外線による劣化を抑制する。このようにして
日射遮蔽膜が片面あるいは両面に形成された基材は高い
表面硬度と日射遮蔽能を有するものである。

【００２２】

【実施例】以下、本発明を実施例および比較例とともに
さらに詳細に説明する。なお以下の実施例および比較例
の日射遮蔽膜形成用塗布液の構成成分を下記する表１
に、また形成した膜の特性を表２に纏めて示した。 ［実施例１］ＬａＢ_６（平均粒径６７ｎｍ）１０ｇ、ジ
アセトンアルコール８６ｇおよび微粒子分散用カップリ
ング剤４ｇを混合し、直径４ｍｍのジルコニアボールを
用いて１５０時間のボールミル混合を行いＬａＢ_６微粒
子の分散液１００ｇを作製した（Ａ液）。グリシドキシ
プロピルトリメトキシシラン６００ｇとアミノプロピル
トリエトキシシラン４００ｇを混合し、マグネティック
スターラーで１時間撹拌後、室温で１４日間熟成させて
目的のバインダー成分１０００ｇを得た（合成液１）。
７．５ｇの合成液１と４７．５ｇのイソブチルアルコー
ル、２５ｇのプロピレングリコールモノエチルエーテ
ル、１０ｇのＡ液を混合撹拌し、さらに触媒として三弗
化ホウ素ピペリジンのイソブチルアルコール溶液（濃度
１重量％）１０ｇを加えて撹拌することによって日射遮
蔽膜形成用塗布液を作製した。この日射遮蔽膜形成用塗
布液を３ｍｍのソーダライム系ガラス基板上にバーコー
ターを用いて塗布し、常温で放置して日射遮蔽膜を得
た。

【００２３】得られた日射遮蔽膜の透過率を日立製作所
（社）製の分光光度計を用いて測定し、ＪＩＳ Ｒ ３
１０６にしたがって可視光透過率（τｖ）、日射透過率
（τｅ）を、ＩＳＯ ９０５０にしたがって紫外線透過
率（τｕｖ）を算出した。またテーバー摩耗試験機で摩
耗輪ＣＳ １０ｆを用いて荷重２５０ｇ、５０回転の摩
耗試験を行い、試験前後のへイズの変化量（ΔＨ）で膜
の表面硬度を評価した。なおへイズは村上色彩技術研究
所（社）製の反射・透過率計で測定した。実施例１で得
られた日射遮蔽膜形成用塗布液は常温で硬化可能であ
り、容易に日射遮蔽膜を得ることができた。また膜のτ
ｖは７１．９％、τｅは４９．８％であり、可視光透過
性があり、日射遮蔽能があることが分かった。τｕｖは
３１．４％であり紫外光の遮蔽能もあった。またΔＨは
４．８％であり表面硬度の非常に高い膜が形成されてい
た。

【００２４】［比較例１］比較のため３ｍｍのソーダラ
イム系ガラス基板のみの測定も行った。ソーダライム系
ガラス基板のτｖは９０．３％、τｅは８７．３％、τ
ｕｖは７０．７％であった。

【００２５】［実施例２］ＣｅＢ_６（平均粒径４６ｎ
ｍ）１０ｇ、ジアセトンアルコール８６ｇおよび微粒子
分散用カップリング剤４ｇを混合し、直径４ｍｍのジル
コニアボールを用いて１５０時間のボールミル混合を行
いＣｅＢ_６微粒子の分散液１００ｇを作製した（Ｂ液） グリシドキシプロピルトリエトキシシラン６００ｇとア
ミノプロピルトリメトキシシラン４００ｇを混合し、マ
グネティックスターラーで１時間撹拌後、室温で１４日
間熟成させて目的のバィンダー成分１０００ｇを得た
（合成液２）。７．５ｇの合成液２と４７．５ｇのイソ
ブチルアルコール、２５ｇのプロピレングリコールモノ
エチルエーテル、１０ｇのＢ液を混合撹拌し、さらに触
媒として三弗化ホウ素ピペリジンのイソブチルアルコー
ル溶液（濃度１重量％）１０ｇを加えて撹拌することに
よって日射遮蔽膜形成用塗布液を作製した。つぎに実施
例１と同様な手順で日射遮蔽膜を形成し、膜の評価を行
った。実施例２により得られた日射遮蔽膜のτｖは６
９．８％、τｅは４６．２％であり、可視光透過性があ
って日射遮蔽能があることが分った。τｕｖは２９．０
％であり紫外光の遮蔽能もある。またΔＨは５．２％で
あり表面硬度の非常に高い膜が形成されていた。

【００２６】［実施例３］７．５ｇの合成液１と１ｇの
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤（ＵＶＡ）、４６．
５ｇのイソブチルアルコール、２５ｇのプロピレングリ
コールモノエチルエーテル、１０ｇのＡ液を混合撹拌
し、さらに触媒として三弗化ホウ素ピペリジンのイソブ
チルアルコール溶液（濃度１重量％）１０ｇを加えて撹
拌することによって日射遮蔽膜形成用塗布液を作製し
た。つぎに実施例１と同様な手順で日射遮蔽膜を形成
し、膜の評価を行った。実施例３により得られた日射遮
蔽膜のτｖは７２．０％、τｅは５０．１％であり、可
視光透過性があって日射遮蔽能があることが分った。τ
ｕｖは０．５％であり紫外光の遮蔽能は優れていた。ま
たΔＨは６．０％であり表面硬度の非常に高い膜が形成
されていた。

【００２７】［実施例４］ＦｅＯＯＨ微粒子（平均粒径
３０ｎｍ）１５ｇ、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭ
Ｐ）２３ｇ、ジアセトンアルコール（ＤＡＡ）１４ｇ、
メチルエチルケトン４７．５ｇ、およびチタネート系カ
ップリング剤０．５ｇを混合し、直径４ｍｍのジルコニ
アボールを用いて１００時間のボールミル混合を行いＦ
ｅＯＯＨの分散液１００ｇを作成した（Ｃ液）。２０ｇ
の合成液１と８．７ｇのＣ液、３３．３ｇのイソブチル
アルコール、２５ｇのプロピレングリコールモノエチル
エーテル、３ｇのＡ液を混合撹拌し、さらに触媒として
三弗化ホウ素ピペリジンのイソブチルアルコール溶液
（濃度１重量％）１０ｇを加えて撹拌することによって
日射遮蔽膜形成用塗布液を作製した。つぎに実施例１と
同様な手順で日射遮蔽膜を形成し、膜の評価を行った。
実施例４により得られた日射遮蔽膜のτｖは７７．２
％、τｅは５９．３％であり、可視光透過性があって日
射遮蔽能があることが分った。τｕｖは１０．７％であ
り紫外光の遮蔽能は優れていた。またΔＨは４．９％で
あり表面硬度の非常に高い膜が形成されていた。

【００２８】［実施例５］２０ｇの合成液１と８．７ｇ
のＣ液、２．６ｇのべンゾトリアゾール系紫外線吸収
剤、３０．７ｇのイソブチルアルコール、２５ｇのプロ
ピレングリコールモノエチルエーテル、３ｇのＡ液を混
合撹拌し、さらに触媒として三弗化ホウ素ピペリジンの
イソブチルアルコール溶液（濃度１重量％）１０ｇを加
えて撹拌することによって日射遮蔽膜形成用塗布液を作
製した。つぎに実施例１と同様な手順で日射遮蔽膜を形
成し、膜の評価を行った。実施例５により得られた日射
遮蔽膜のτｖは７７．２％、τｅは５９．４％であり、
可視光透過性があって日射遮蔽能があることが分った。
τｕｖは０．１％であり紫外光の遮蔽能は非常に優れて
いた。またΔＨは５．５％であり表面硬度の非常に高い
膜が形成されていた。

【００２９】［比較例２］バインダーとしてラッカータ
イプの常温硬化ウレタン樹脂（溶剤はイソプロピルアル
コールで固形分３０％）を８３．３ｇ、ベンゾトリアゾ
ール系紫外線吸収剤を２．６ｇ、イソブチルアルコール
を１１．１ｇ、Ａ液を３ｇ混合撹拌することによって日
射遮蔽膜形成用塗布液を作製した。つぎに実施例１と同
様な手順で日射遮蔽膜を形成し、膜の評価を行った。比
較例２により得られた日射遮蔽膜のτｖは７９．５％、
τｅは６１．４％であり、可視光透過性があって日射遮
蔽能があることが分かった。τｕｖは０．９％であり紫
外光の遮蔽能は優れていたが、ΔＨは３０．０％であり
表面硬度が非常に低く、爪でこすると傷がついた。

【００３０】［実施例６〜８］実施例１のＬａＢ_６微粒
子を、それぞれＰｒＢ_６（平均粒径５３ｎｍ）、ＮｄＢ
_６（平均粒径６６ｎｍ）、ＧｄＢ_６（平均粒径４１ｎ
ｍ）に替えた以外は実施例１と同様な手順で日射遮蔽膜
形成用塗布液を作製し実施例６〜８とした。つぎに実施
例６〜８に係る日射遮蔽膜形成用塗布液を用いて実施例
１と同様な手順で日射遮蔽膜を形成し、膜の評価を行っ
た。実施例６〜８により得られた日射遮蔽膜のτｖは７
２．０〜７３．１％、τｅは５０．１〜５２．３％であ
り、可視光透過性があって日射遮蔽能があることが分っ
た。τｕｖは３２．０〜３４．０％であり紫外光の遮蔽
能もある。またΔＨは５．３〜６．２％であり表面硬度
の非常に高い膜が形成されていた。

【００３１】［比較例３］ＣｅＢ_６として平均粒径２１
２ｎｍの粗大粒子を用いいた他は実施例２と同様な手順
で日射遮蔽膜形成用塗布液を作製した。つぎに実施例１
と同様な手順で日射遮蔽膜を形成し、膜の評価を行っ
た。比較例３により得られた膜は可視光の散乱が強く、
曇りがあって実用には向かなかった。

【００３２】

【表１】

【００３３】

【表２】

【００３４】

【発明の効果】以上述べた通り本発明によれば、常温で
硬化し得る日射遮蔽膜形成用塗布液を得ることができ、
また該塗布液により形成された日射遮蔽膜は表面強度が
高く、また透明基材に高い表面強度と日射遮蔽能を付与
することが可能となった。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 足立 健治 千葉県市川市中国分３−18−５ 住友金属 鉱山株式会社中央研究所内 Ｆターム(参考） 4J038 DL021 DL031 HA476 JA33 JB35 JC32 JC35 KA04 KA06 KA20 NA19

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 バインダー成分、希釈溶媒、硬化触媒お
   よび近赤外光遮蔽成分とを含有する日射遮蔽膜形成用塗
   布液であって、前記バインダー成分の少なくとも１種が
   グリシドキシプロピル基含有アルコキシシランとアミノ
   プロピル基含有アルコキシシランを混合反応させてなる
   下記する化学式１で示される物質であり、かつ前記近赤
   外光遮蔽成分が六ホウ化物の中から選ばれた少なくとも
   １種からなる平均粒径２００ｎｍ以下の微粒子であるこ
   とを特徴とする常温で硬化可能な日射遮蔽膜形成用塗布
   液。 【化１】 （式中、Ｘ１、Ｘ２はメトキシ基、エトキシ基、プロポ
   キシ基、ブトキシ基などの加水分解によってシラノール
   を生じるアルコキシル基を示し、Ｙ１、Ｙ２はメチル
   基、エチル基、プロピル基、ブチル基のアルキル基を示
   し、かつａ、ｂ、ｃ、ｄはそれぞれ１≦ａ≦３、ａ＋ｂ
   ＝３、１≦ｃ≦３、ｃ＋ｄ＝３の関係を満たす数であ
   る。）
2. 【請求項２】 前記六ホウ化物はＣｅＢ_６、ＧｄＢ_６、
   ＴｂＢ_６、ＤｙＢ_６、ＨｏＢ_６、ＹＢ_６、ＳｍＢ_６、Ｅ
   ｕＢ_６、ＥｒＢ_６、ＴｍＢ_６、ＹｂＢ_６、ＬｕＢ_６、Ｓ
   ｒＢ_６、ＣｒＢ_６、ＬａＢ_６、ＰｒＢ_６またはＮｄＢ_６
   であることを特徴とする請求項１記載の常温で硬化可能
   な日射遮蔽膜形成用塗布液。
3. 【請求項３】 さらに紫外線遮蔽成分としてべンゾフェ
   ノン系および／またはべンゾトリアゾール系の有機紫外
   線吸収剤を０．５重量％以上で７重量％以下含有するこ
   とを特徴とする請求項１または２記載の常温で硬化可能
   な日射遮蔽膜形成用塗布液。
4. 【請求項４】 さらに紫外線遮蔽成分として平均粒径が
   １００ｎｍ以下のＣｅＯ_２、ＺｎＯ、Ｆｅ_２Ｏ_３および
   ＦｅＯＯＨ微粒子の中から選ばれた少なくとも１種から
   なる無機紫外線遮蔽成分を含有することを特徴とする請
   求項１〜３のいずれか１項記載の常温で硬化可能な日射
   遮蔽膜形成用塗布液。
5. 【請求項５】 請求項１〜４のいずれか１項記載の日射
   遮蔽膜形成用塗布液を透明基材に塗布、硬化させてなる
   ことを特徴とする日射遮蔽膜。
6. 【請求項６】 請求項５記載の日射遮蔽膜が少なくとも
   片面に形成され、かつ透明性を有することを特徴とする
   日射遮蔽機能を有する基材。