JP2001255073A - 真空炉 - Google Patents
真空炉Info
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- JP2001255073A JP2001255073A JP2000068820A JP2000068820A JP2001255073A JP 2001255073 A JP2001255073 A JP 2001255073A JP 2000068820 A JP2000068820 A JP 2000068820A JP 2000068820 A JP2000068820 A JP 2000068820A JP 2001255073 A JP2001255073 A JP 2001255073A
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- heat
- heating
- furnace
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 処理品の加熱温度のばらつきを減少させ均一
加熱をはかることができる真空炉を提供する。 【解決手段】 断熱壁６で囲まれた加熱室７ａ〜７ｃの
開口部に、該開口部を開閉する断熱扉をそなえ、断熱壁
６の内側に処理品加熱用のヒータ２１ａ〜２１ｃを設け
た真空炉において、断熱壁６を構成する断熱材よりも熱
伝導率の低い断熱材を構成材とする断熱扉８ｂ，８ｃを
具備した。
加熱をはかることができる真空炉を提供する。 【解決手段】 断熱壁６で囲まれた加熱室７ａ〜７ｃの
開口部に、該開口部を開閉する断熱扉をそなえ、断熱壁
６の内側に処理品加熱用のヒータ２１ａ〜２１ｃを設け
た真空炉において、断熱壁６を構成する断熱材よりも熱
伝導率の低い断熱材を構成材とする断熱扉８ｂ，８ｃを
具備した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は真空状態において
処理品の加熱をおこなう真空炉に関する。
処理品の加熱をおこなう真空炉に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に真空炉においては、断熱壁で囲ま
れた加熱室に、処理品を搬入及び／または搬出するため
の開口部を設け、断熱性を有する扉で上記開口部を開閉
する構成のものが用いられている。そして処理品加熱用
のヒータは、取付構造が複雑でスペースもかさみ可動部
分への取付は故障をおこしやすいという点から、上記扉
部には上記ヒータは設けられず、加熱室を囲む断熱壁部
にのみ設けられている。
れた加熱室に、処理品を搬入及び／または搬出するため
の開口部を設け、断熱性を有する扉で上記開口部を開閉
する構成のものが用いられている。そして処理品加熱用
のヒータは、取付構造が複雑でスペースもかさみ可動部
分への取付は故障をおこしやすいという点から、上記扉
部には上記ヒータは設けられず、加熱室を囲む断熱壁部
にのみ設けられている。
【０００３】このため処理品加熱時には、扉面に対向す
る位置での処理品の温度が低く、処理品の均一加熱が困
難であった。
る位置での処理品の温度が低く、処理品の均一加熱が困
難であった。
【０００４】そこで処理品の均熱化をはかるため、扉と
処理品との距離を広げ、処理品の側面部へのふく射熱の
入熱を促進する方法も採られているが、無駄な炉内空間
が増えて炉長が長くなり、炉設置スペースがかさむうえ
真空排気量も増大し、特に連続式真空炉の場合には大き
な問題となる。
処理品との距離を広げ、処理品の側面部へのふく射熱の
入熱を促進する方法も採られているが、無駄な炉内空間
が増えて炉長が長くなり、炉設置スペースがかさむうえ
真空排気量も増大し、特に連続式真空炉の場合には大き
な問題となる。
【０００５】また断熱壁部に設けたヒータを炉長方向に
複数個に分割して、開口部に近いヒータの発熱量を大き
くして処理品の扉面対向部側への伝熱量を増す方法もあ
るが、扉に対向する処理品側面の全面にわたる均一加熱
は、この方法によっても不十分である。
複数個に分割して、開口部に近いヒータの発熱量を大き
くして処理品の扉面対向部側への伝熱量を増す方法もあ
るが、扉に対向する処理品側面の全面にわたる均一加熱
は、この方法によっても不十分である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】この発明は上記従来の
問題点を解決しようとするもので、処理品の加熱温度の
ばらつきを減少させ均一加熱をはかることができる真空
炉を提供することを目的とする。
問題点を解決しようとするもので、処理品の加熱温度の
ばらつきを減少させ均一加熱をはかることができる真空
炉を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この発明の真空炉は、断
熱壁で囲まれた加熱室の開口部に、該開口部を開閉する
断熱扉をそなえ、上記断熱壁の内側に処理品加熱用のヒ
ータを設けた真空炉において、上記断熱壁を構成する断
熱材よりも熱伝導率の低い断熱材を構成材とする断熱扉
を具備したことを特徴とする。
熱壁で囲まれた加熱室の開口部に、該開口部を開閉する
断熱扉をそなえ、上記断熱壁の内側に処理品加熱用のヒ
ータを設けた真空炉において、上記断熱壁を構成する断
熱材よりも熱伝導率の低い断熱材を構成材とする断熱扉
を具備したことを特徴とする。
【０００８】この発明によれば、断熱扉は、断熱壁より
も熱伝導率の低い断熱材をその構成材とするので、断熱
扉部から外方への放熱が抑制され、断熱扉に対向する処
理品側面への入熱量が増加して、該側面部における処理
品の昇温不足が解消され処理品各部での加熱温度のばら
つきが減少するとともに、断熱扉の扉厚は、断熱壁と同
じ断熱材を用いて上記の放熱の抑制をはかる場合に比べ
て小さくて済み、この扉厚の増大による炉長や真空排気
量の増加などをひきおこすこともない。
も熱伝導率の低い断熱材をその構成材とするので、断熱
扉部から外方への放熱が抑制され、断熱扉に対向する処
理品側面への入熱量が増加して、該側面部における処理
品の昇温不足が解消され処理品各部での加熱温度のばら
つきが減少するとともに、断熱扉の扉厚は、断熱壁と同
じ断熱材を用いて上記の放熱の抑制をはかる場合に比べ
て小さくて済み、この扉厚の増大による炉長や真空排気
量の増加などをひきおこすこともない。
【０００９】この発明においては、断熱壁の内側に設け
る処理品加熱用のヒータとしては、種々の形式のものを
用いることができるが、請求項２記載の発明のように、
前記ヒータを炉長方向に複数個のゾーンに分割し、各ヒ
ータの発熱量をゾーン毎に制御するようにした構成とす
れば、加熱室の開口部側のゾーンのヒータ発熱量を増加
させることにより、処理品の開口部側部分への入熱量が
増加するので、処理品は一層均一加熱することができ、
好ましい。
る処理品加熱用のヒータとしては、種々の形式のものを
用いることができるが、請求項２記載の発明のように、
前記ヒータを炉長方向に複数個のゾーンに分割し、各ヒ
ータの発熱量をゾーン毎に制御するようにした構成とす
れば、加熱室の開口部側のゾーンのヒータ発熱量を増加
させることにより、処理品の開口部側部分への入熱量が
増加するので、処理品は一層均一加熱することができ、
好ましい。
【００１０】またこの発明は単室型の真空炉など各種の
形式の真空炉に適用することができるが、請求項３記載
の発明のように、真空炉が、複数個の加熱室を炉長方向
に並設した連続式真空炉である場合は、炉長方向の複数
個所に開口部および断熱扉があるにもかかわらず、炉長
や真空排気量の増加をひきおこすことがないので、特に
好ましい。
形式の真空炉に適用することができるが、請求項３記載
の発明のように、真空炉が、複数個の加熱室を炉長方向
に並設した連続式真空炉である場合は、炉長方向の複数
個所に開口部および断熱扉があるにもかかわらず、炉長
や真空排気量の増加をひきおこすことがないので、特に
好ましい。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下図１および図２に示す第１例
により、この発明の実施の形態を説明する。図中、１は
連続式真空炉で、炉体２内を真空室３ａ〜３ｃと冷却室
４とに区画し、炉長全長にわたって搬送用のローラ５を
設けて成る。各真空室３ａ〜３ｃ内には、四周を断熱壁
６により囲まれた加熱室７ａ〜７ｃを設けてあり、８ａ
〜８ｃは各加熱室の開口部を開閉する断熱扉、９ａ〜９
ｃはこれら断熱扉８ａ〜８ｃを支持し各真空室３ａ〜３
ｃの開口部を開閉する気密扉である。
により、この発明の実施の形態を説明する。図中、１は
連続式真空炉で、炉体２内を真空室３ａ〜３ｃと冷却室
４とに区画し、炉長全長にわたって搬送用のローラ５を
設けて成る。各真空室３ａ〜３ｃ内には、四周を断熱壁
６により囲まれた加熱室７ａ〜７ｃを設けてあり、８ａ
〜８ｃは各加熱室の開口部を開閉する断熱扉、９ａ〜９
ｃはこれら断熱扉８ａ〜８ｃを支持し各真空室３ａ〜３
ｃの開口部を開閉する気密扉である。
【００１２】各気密扉９（気密扉９ａ〜９ｃの総称。以
下他の部分も同様に総称する。）およびこれと一体の断
熱扉８は、炉体２に固設した図示しないガイドにより昇
降自在に案内した枠１１をエアシリンダ１２のピストン
ロッドに連結し、この枠１１に気密扉９を平行リンクを
介して連結した公知の機構の扉開閉装置１３により、開
閉および昇降駆動される。
下他の部分も同様に総称する。）およびこれと一体の断
熱扉８は、炉体２に固設した図示しないガイドにより昇
降自在に案内した枠１１をエアシリンダ１２のピストン
ロッドに連結し、この枠１１に気密扉９を平行リンクを
介して連結した公知の機構の扉開閉装置１３により、開
閉および昇降駆動される。
【００１３】各加熱室７の断熱壁６および加熱室７ａの
断熱扉８ａは、同じ断熱材で構成され、同じ厚さを有す
る。これに対して加熱室７ｂおよび７ｃの断熱扉８ｂ，
８ｃは、断熱壁６を構成する断熱材よりも熱伝導率の低
い断熱材で構成され、断熱壁６と同じ厚さを有する。
断熱扉８ａは、同じ断熱材で構成され、同じ厚さを有す
る。これに対して加熱室７ｂおよび７ｃの断熱扉８ｂ，
８ｃは、断熱壁６を構成する断熱材よりも熱伝導率の低
い断熱材で構成され、断熱壁６と同じ厚さを有する。
【００１４】また各加熱室７には、断熱壁６の内側に電
熱ヒータから成るヒータ２１ａ〜２１ｃが設けてあり、
各ヒータ２１は、図２に示すようにローラ５の上側の上
部ヒータＨａと、下側の下部ヒータＨｂとから成るもの
であるが、加熱室７ｂおよび７ｃのヒータ２１ｂ，２１
ｃは、上部ヒータＨａおよび下部ヒータＨｂをそれぞれ
炉長方向に３つのゾーンに分割して、加熱室の開口部寄
りの前部ゾーンＺ1 と後部ゾーンＺ2 、および中間部ゾ
ーンＺ3 に分割してあり、前部ゾーンＺ1 と後部ゾーン
Ｚ2 は、中間部ゾーンＺ3 用とは別の電流制御装置（図
示しない）に接続され、中間部ゾーンＺ3 に対して独立
して発熱量を制御し得るようになっている。また加熱室
７ａは、この例では予熱用であって加熱温度の均一性は
さほど要求されないので、ヒータ２１ａはゾーン分割さ
れない通常の一体式のものとしてある。
熱ヒータから成るヒータ２１ａ〜２１ｃが設けてあり、
各ヒータ２１は、図２に示すようにローラ５の上側の上
部ヒータＨａと、下側の下部ヒータＨｂとから成るもの
であるが、加熱室７ｂおよび７ｃのヒータ２１ｂ，２１
ｃは、上部ヒータＨａおよび下部ヒータＨｂをそれぞれ
炉長方向に３つのゾーンに分割して、加熱室の開口部寄
りの前部ゾーンＺ1 と後部ゾーンＺ2 、および中間部ゾ
ーンＺ3 に分割してあり、前部ゾーンＺ1 と後部ゾーン
Ｚ2 は、中間部ゾーンＺ3 用とは別の電流制御装置（図
示しない）に接続され、中間部ゾーンＺ3 に対して独立
して発熱量を制御し得るようになっている。また加熱室
７ａは、この例では予熱用であって加熱温度の均一性は
さほど要求されないので、ヒータ２１ａはゾーン分割さ
れない通常の一体式のものとしてある。
【００１５】上記構成の連続式真空炉１においては、ト
レー３０上に載せた処理品Ｗを、図１における左端の炉
開口部の気密扉９ａおよびこれと一体の断熱扉８ａを開
けて炉内に装入し、入口室である加熱室７ａにおいて真
空排気状態でヒータ２１ａにより処理品Ｗを予熱後、ロ
ーラ５により炉内搬送して、加熱室７ｂ、次いで加熱室
７ｃにおいて真空中でそれぞれヒータ２１ｂ，２１ｃに
より順次所定の温度に加熱後、冷却室４に移送して冷却
をおこなう。
レー３０上に載せた処理品Ｗを、図１における左端の炉
開口部の気密扉９ａおよびこれと一体の断熱扉８ａを開
けて炉内に装入し、入口室である加熱室７ａにおいて真
空排気状態でヒータ２１ａにより処理品Ｗを予熱後、ロ
ーラ５により炉内搬送して、加熱室７ｂ、次いで加熱室
７ｃにおいて真空中でそれぞれヒータ２１ｂ，２１ｃに
より順次所定の温度に加熱後、冷却室４に移送して冷却
をおこなう。
【００１６】このとき加熱室７ｂおよび７ｃにおいて
は、断熱扉８ｂ，８ｃ部にはヒータはないが、断熱扉８
ｂ，８ｃは断熱壁６よりも熱伝導率の低い断熱材で構成
されているので、断熱扉部から加熱室外方への放熱が抑
制されて、断熱扉に面する処理品Ｗの側面部への入熱量
が増加し、さらにこの例ではヒータ２１ｂ，２１ｃの前
部ゾーンＺ1 と後部ゾーンＺ2 の発熱量を、中間部ゾー
ンＺ3 の発熱量より所定量大となるように電流制御して
処理品Ｗの前部および後部への加熱量を増加させること
ができるので、処理品Ｗは各部での温度のばらつきの少
ない均一加熱状態に昇温させることができるのである。
は、断熱扉８ｂ，８ｃ部にはヒータはないが、断熱扉８
ｂ，８ｃは断熱壁６よりも熱伝導率の低い断熱材で構成
されているので、断熱扉部から加熱室外方への放熱が抑
制されて、断熱扉に面する処理品Ｗの側面部への入熱量
が増加し、さらにこの例ではヒータ２１ｂ，２１ｃの前
部ゾーンＺ1 と後部ゾーンＺ2 の発熱量を、中間部ゾー
ンＺ3 の発熱量より所定量大となるように電流制御して
処理品Ｗの前部および後部への加熱量を増加させること
ができるので、処理品Ｗは各部での温度のばらつきの少
ない均一加熱状態に昇温させることができるのである。
【００１７】また断熱扉８ｂ，８ｃの扉厚は、断熱壁６
と同じ断熱材を用いて上記の放熱を抑制しようとする場
合（扉厚は相当厚くする必要がある）に比べて小さくて
済み、炉長や真空排気量の増加などをひきおこすことも
ないのである。
と同じ断熱材を用いて上記の放熱を抑制しようとする場
合（扉厚は相当厚くする必要がある）に比べて小さくて
済み、炉長や真空排気量の増加などをひきおこすことも
ないのである。
【００１８】次に図３はこの発明の実施の形態の第２例
を示し、前記第１例の加熱室７ｃの開口部を開閉する断
熱扉８ｃを２種類の断熱材Ｓａ，Ｓｂを積層した２層構
造の断熱扉８ｄとしたものであり、その他の構成は第１
例と同じであるので図１と同一部分には同符号を付して
図示し、それらの部分の詳細な説明は省略する。
を示し、前記第１例の加熱室７ｃの開口部を開閉する断
熱扉８ｃを２種類の断熱材Ｓａ，Ｓｂを積層した２層構
造の断熱扉８ｄとしたものであり、その他の構成は第１
例と同じであるので図１と同一部分には同符号を付して
図示し、それらの部分の詳細な説明は省略する。
【００１９】この例の断熱扉８ｄの２層構造は、断熱壁
６よりも熱伝導率の低い断熱材Ｓａの最高使用温度が、
加熱室７ｃ内の炉温以下である場合などに好適なもので
あり、断熱壁６と同じ断熱材Ｓｂ（従って最高使用温度
は上記炉温以上のもの）を炉内側の第１層とし、この断
熱材Ｓｂの貫流により断熱材Ｓｄの最高使用温度以下に
降温するように断熱材Ｓｂの厚さを選定し、その外側に
断熱材Ｓａを積層することにより、最高使用温度および
低熱伝導度の両条件を満たす断熱扉８ｄを得るものであ
る。
６よりも熱伝導率の低い断熱材Ｓａの最高使用温度が、
加熱室７ｃ内の炉温以下である場合などに好適なもので
あり、断熱壁６と同じ断熱材Ｓｂ（従って最高使用温度
は上記炉温以上のもの）を炉内側の第１層とし、この断
熱材Ｓｂの貫流により断熱材Ｓｄの最高使用温度以下に
降温するように断熱材Ｓｂの厚さを選定し、その外側に
断熱材Ｓａを積層することにより、最高使用温度および
低熱伝導度の両条件を満たす断熱扉８ｄを得るものであ
る。
【００２０】なお断熱扉は上記の２層構造の他、３層以
上の複層構造としてもよく、このように断熱扉の全厚の
うちの一部を低熱伝導率の断熱材で構成する場合も、こ
の発明の実施の形態に包含されるものである。
上の複層構造としてもよく、このように断熱扉の全厚の
うちの一部を低熱伝導率の断熱材で構成する場合も、こ
の発明の実施の形態に包含されるものである。
【００２１】また図４はこの発明の実施の形態の第３例
を示し、前記第１例における真空室３ｂ，３ｃ間の気密
扉９ｂ，９ｃを省略し、真空室３ｂ，３ｃを共通の一室
の真空室３ｄとした点、および加熱室７ｂのヒータ２１
ｂをゾーン分割なしのものとした点、および加熱室７ｃ
のヒータ２１ｃを、上部ヒータＨａ（図２参照）のみを
前部，後部，中間部にゾーン分割し、前後方向に一体の
ものとした下部ヒータＨｂも、上部ヒータＨａとは別に
発熱量を制御し得るようにしたものであり、その他の構
成は第１例と同じであるので、図１と同一または相当部
分には同符号を付して図示し、それらの部分の詳細な説
明は省略する。
を示し、前記第１例における真空室３ｂ，３ｃ間の気密
扉９ｂ，９ｃを省略し、真空室３ｂ，３ｃを共通の一室
の真空室３ｄとした点、および加熱室７ｂのヒータ２１
ｂをゾーン分割なしのものとした点、および加熱室７ｃ
のヒータ２１ｃを、上部ヒータＨａ（図２参照）のみを
前部，後部，中間部にゾーン分割し、前後方向に一体の
ものとした下部ヒータＨｂも、上部ヒータＨａとは別に
発熱量を制御し得るようにしたものであり、その他の構
成は第１例と同じであるので、図１と同一または相当部
分には同符号を付して図示し、それらの部分の詳細な説
明は省略する。
【００２２】すなわち、加熱室７ｂ，７ｃの真空排気の
タイミングが同じでよい場合には、この例のように加熱
室７ｂ，７ｃ間の気密扉を省略して、扉構造の簡略化、
炉長の短縮化、真空排気量の低減化などをはかることが
できる。また加熱室内における処理品Ｗの加熱温度のば
らつきの許容値によっては、この例のヒータ２１ｂのよ
うにゾーン分割をおこなわないヒータの採用も可能であ
る。
タイミングが同じでよい場合には、この例のように加熱
室７ｂ，７ｃ間の気密扉を省略して、扉構造の簡略化、
炉長の短縮化、真空排気量の低減化などをはかることが
できる。また加熱室内における処理品Ｗの加熱温度のば
らつきの許容値によっては、この例のヒータ２１ｂのよ
うにゾーン分割をおこなわないヒータの採用も可能であ
る。
【００２３】またこの例の加熱室７ｃにおけるように、
下部ヒータＨｂを上部ヒータＨａとは独立して発熱量制
御できる構成とすれば、ローラ５やトレー３０により処
理品Ｗの下面側への入熱量が抑制される場合でも、下部
ヒータＨｂの発熱量を増加させることにより、処理品Ｗ
をさらに均一加熱することができるのである。なおこの
例のヒータ２１ｃのように、加熱室内の一部のヒータの
みを炉長方向にゾーン分割する場合も、この発明の請求
項２の実施の形態に包含されるものである。
下部ヒータＨｂを上部ヒータＨａとは独立して発熱量制
御できる構成とすれば、ローラ５やトレー３０により処
理品Ｗの下面側への入熱量が抑制される場合でも、下部
ヒータＨｂの発熱量を増加させることにより、処理品Ｗ
をさらに均一加熱することができるのである。なおこの
例のヒータ２１ｃのように、加熱室内の一部のヒータの
みを炉長方向にゾーン分割する場合も、この発明の請求
項２の実施の形態に包含されるものである。
【００２４】この発明は上記各例に限定されるものでは
なく、たとえば連続式真空炉１における加熱室の個数や
配置等の具体的構成は、上記以外のものとしてもよく、
またこの発明は単室型の真空炉にも適用できるものであ
る。
なく、たとえば連続式真空炉１における加熱室の個数や
配置等の具体的構成は、上記以外のものとしてもよく、
またこの発明は単室型の真空炉にも適用できるものであ
る。
【００２５】
【実施例】次に前記第１例の装置を用いて、下記の処理
品Ｗを加熱室７ａにおいて５００℃に予熱後、加熱室７
ｂにおいて１０００℃（実施例１，２）と１５００℃
（実施例３，４）に真空加熱した実施例と比較例につい
て説明する。但し加熱室７ｂの断熱扉８ｂとしては、実
施例では低熱伝導度の耐熱材（実施例１，２は単層、実
施例３，４は図３に示す２層構造）を用い、比較例では
断熱壁と同材同厚の断熱材を用い、それぞれヒータ２１
ｂのゾーン分割ありとなしの場合について、上記真空加
熱をおこなった。
品Ｗを加熱室７ａにおいて５００℃に予熱後、加熱室７
ｂにおいて１０００℃（実施例１，２）と１５００℃
（実施例３，４）に真空加熱した実施例と比較例につい
て説明する。但し加熱室７ｂの断熱扉８ｂとしては、実
施例では低熱伝導度の耐熱材（実施例１，２は単層、実
施例３，４は図３に示す２層構造）を用い、比較例では
断熱壁と同材同厚の断熱材を用い、それぞれヒータ２１
ｂのゾーン分割ありとなしの場合について、上記真空加
熱をおこなった。
【００２６】処理品Ｗとしては、カーボン製の棚板を８
枚組みしたトレー上に、ステンレス製のテストピース
（重量：１６０ｇ）に熱電対を取付けたものを、ほぼ等
分布状態で８２６個積載して用い、この処理品Ｗに対し
て上記真空加熱をおこなったときの処理品の温度巾（加
熱終了時における各位置における温度差の最大値）を測
定した結果を、表１および表２に示す。
枚組みしたトレー上に、ステンレス製のテストピース
（重量：１６０ｇ）に熱電対を取付けたものを、ほぼ等
分布状態で８２６個積載して用い、この処理品Ｗに対し
て上記真空加熱をおこなったときの処理品の温度巾（加
熱終了時における各位置における温度差の最大値）を測
定した結果を、表１および表２に示す。
【００２７】また断熱材の材質や厚さ等の条件は下記の
通りである。 ○断熱壁６の断熱材：カーボンファイバ，厚さ＝４０mm ○低熱伝導率断熱材：シリカ系微孔性断熱材，厚さ＝下
記 実施例１，２：厚さ＝４０mm（単層） 実施例３，４：厚さ＝２５mmの上記低熱伝導率断熱材の
炉内側に、厚さ１５mmのカーボンファイバを積層した２
層構造 ○ヒータ２１ｂのゾーン分割時における加熱用電流制
御：前部ゾーンＺ1 および後部ゾーンＺ2 の電流値を中
間部ゾーンＺ3 の電流値より５〜２０％大きくし、温度
分布が最もよくなるように制御した。
通りである。 ○断熱壁６の断熱材：カーボンファイバ，厚さ＝４０mm ○低熱伝導率断熱材：シリカ系微孔性断熱材，厚さ＝下
記 実施例１，２：厚さ＝４０mm（単層） 実施例３，４：厚さ＝２５mmの上記低熱伝導率断熱材の
炉内側に、厚さ１５mmのカーボンファイバを積層した２
層構造 ○ヒータ２１ｂのゾーン分割時における加熱用電流制
御：前部ゾーンＺ1 および後部ゾーンＺ2 の電流値を中
間部ゾーンＺ3 の電流値より５〜２０％大きくし、温度
分布が最もよくなるように制御した。
【００２８】
【表１】
【００２９】
【表２】
【００３０】表１および表２の結果から、従来法に相当
する比較例１〜４に対し、実施例１〜４によれば、処理
品の温度巾が低減化されていることが判る。
する比較例１〜４に対し、実施例１〜４によれば、処理
品の温度巾が低減化されていることが判る。
【００３１】
【発明の効果】以上説明したようにこの発明によれば、
断熱壁よりも熱伝導率の低い断熱材を構成材とする断熱
扉によって、断熱扉部から外方への放熱が抑制され断熱
扉に対向する処理品側面への入熱量が増加するので、該
側面部における処理品の加熱不足が解消され、処理品の
加熱温度のばらつきを減少させ均一加熱をはかることが
できる。
断熱壁よりも熱伝導率の低い断熱材を構成材とする断熱
扉によって、断熱扉部から外方への放熱が抑制され断熱
扉に対向する処理品側面への入熱量が増加するので、該
側面部における処理品の加熱不足が解消され、処理品の
加熱温度のばらつきを減少させ均一加熱をはかることが
できる。
【００３２】また断熱扉の扉厚は、断熱壁と同じ断熱材
を用いて上記の放熱の抑制をはかる場合に比べて小さく
て済み、この扉厚の増大による炉長や真空排気量の増加
などをひきおこすこともなく、複数個の加熱室を炉長方
向に並設した連続式真空炉の場合は、特にその効果は大
きい。
を用いて上記の放熱の抑制をはかる場合に比べて小さく
て済み、この扉厚の増大による炉長や真空排気量の増加
などをひきおこすこともなく、複数個の加熱室を炉長方
向に並設した連続式真空炉の場合は、特にその効果は大
きい。
【図１】この発明の実施の形態の第１例を示す連続式真
空炉の縦断面図である。
空炉の縦断面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線断面図である。
【図３】この発明の実施の形態の第２例を示す連続式真
空炉の要部縦断面図である。
空炉の要部縦断面図である。
【図４】この発明の実施の形態の第３例を示す図１相当
図である。
図である。
１…連続式真空炉、６…断熱壁、７ａ〜７ｃ…加熱室、
８ａ〜８ｄ…断熱扉、２１ａ〜２１ｃ…ヒータ、Ｚ1 …
前部ゾーン、Ｚ2 …後部ゾーン、Ｚ3 …中間部ゾーン、
Ｓａ，Ｓｂ…断熱材。
８ａ〜８ｄ…断熱扉、２１ａ〜２１ｃ…ヒータ、Ｚ1 …
前部ゾーン、Ｚ2 …後部ゾーン、Ｚ3 …中間部ゾーン、
Ｓａ，Ｓｂ…断熱材。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｆ２７Ｄ 7/06 Ｆ２７Ｄ 7/06 Ａ Ｆターム(参考） 4K050 AA01 AA02 BA02 CA11 CB07 CC03 CD06 CG04 CG29 EA07 4K051 AA03 BC02 4K063 AA05 AA08 AA16 BA02 CA03 DA19 DA32 FA02
Claims (3)
- 【請求項１】 断熱壁で囲まれた加熱室の開口部に、該
開口部を開閉する断熱扉をそなえ、上記断熱壁の内側に
処理品加熱用のヒータを設けた真空炉において、上記断
熱壁を構成する断熱材よりも熱伝導率の低い断熱材を構
成材とする断熱扉を具備したことを特徴とする真空炉。 - 【請求項２】 前記ヒータを炉長方向に複数個のゾーン
に分割し、各ヒータの発熱量をゾーン毎に制御するよう
にした請求項１記載の真空炉。 - 【請求項３】 真空炉が、複数個の加熱室を炉長方向に
並設した連続式真空炉である請求項１または２記載の真
空炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000068820A JP2001255073A (ja) | 2000-03-13 | 2000-03-13 | 真空炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000068820A JP2001255073A (ja) | 2000-03-13 | 2000-03-13 | 真空炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001255073A true JP2001255073A (ja) | 2001-09-21 |
Family
ID=18587821
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000068820A Pending JP2001255073A (ja) | 2000-03-13 | 2000-03-13 | 真空炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001255073A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007093161A (ja) * | 2005-09-30 | 2007-04-12 | Dowa Holdings Co Ltd | 連続熱処理炉 |
| CN107747869A (zh) * | 2017-09-21 | 2018-03-02 | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 | 一种应用于大型宽体气氛保护辊道炉过渡清洗舱 |
| WO2018135038A1 (ja) * | 2017-01-18 | 2018-07-26 | 株式会社Ihi | 発熱体及び真空熱処理装置 |
| CN112179128A (zh) * | 2020-10-11 | 2021-01-05 | 江西开源自动化设备有限公司 | 一种连续式真空烧结炉 |
-
2000
- 2000-03-13 JP JP2000068820A patent/JP2001255073A/ja active Pending
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