JP2001252679A - 排水処理装置及び方法 - Google Patents

排水処理装置及び方法

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JP2001252679A
JP2001252679A JP2000070510A JP2000070510A JP2001252679A JP 2001252679 A JP2001252679 A JP 2001252679A JP 2000070510 A JP2000070510 A JP 2000070510A JP 2000070510 A JP2000070510 A JP 2000070510A JP 2001252679 A JP2001252679 A JP 2001252679A
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membrane
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Tsuneo Suzuki
恒男 鈴木
Haruyuki Chiku
治之 知久
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Sumitomo Heavy Industries Ltd
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Sumitomo Heavy Industries Ltd
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    • Y02WCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
    • Y02W10/00Technologies for wastewater treatment
    • Y02W10/10Biological treatment of water, waste water, or sewage

Abstract

(57)【要約】 【課題】 処理水質の低下を十分防止でき、且つ装置を
十分コンパクトにすることができる排水処理装置及び方
法を提供することを目的とする。 【解決手段】 本発明は、処理槽4内の被処理水2を好
気処理する排水処理装置10において、処理槽4にその
深さ方向に沿った流路8a及び流路8bを形成する仕切
部材6、流路8a内の被処理水2を曝気して好気処理を
行うと共に、流路8a,8bに被処理水2の上昇流及び
下降流をそれぞれ形成する曝気手段12、被処理水2か
ら処理水を分離する膜18と、被処理水2中のグラニュ
ール汚泥5を備える。この場合、曝気手段12により処
理槽4内で被処理水2の循環流が形成され膜18によっ
て被処理水2から処理水が分離される間、被処理水2中
でグラニュール汚泥5が成長し、被処理水2が好気処理
されて微細な活性汚泥が発生するが、本発明では、かか
る微細な活性汚泥の流出を十分防止できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、下水や産業排水等
を好気処理する排水処理装置及び方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】下水や産業排水等を好気性条件下に処理
する排水処理装置として、従来から種々のものが知られ
ており、その一つとして例えば特開平9−206779
号公報に開示されるものがある。
【0003】図2は、上記公報に記載の排水処理装置を
示す概略断面図である。同図に示すように、排水処理装
置50は、活性汚泥を含有する被処理水52を処理槽5
4内に収容しており、処理槽54内には仕切部材56が
設けられることによって2つの流路58a,58bが形
成されている。流路58aでは、散気管60から空気5
3が供給され、空気53のガスリフト効果によって被処
理水52の上昇流が形成され、流路58bでは、仕切部
材56の上端部を越流して流れ込む被処理水により被処
理水の下降流が形成され、この下降する被処理水52
は、仕切部材56の下端部56aと処理槽54の底面と
の間の開口62を通って流路58aに流れ込む。こうし
て処理槽54内で被処理水54の循環流が形成される。
この間、流路58bでは、三相分離器64によって被処
理水54中の液体の一部及び空気が分離されて処理槽か
ら流出し、活性汚泥はその処理槽54から流出防止が図
られる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
た従来の排水処理装置は以下に示す課題を有する。
【0005】すなわち従来の排水処理装置50において
は、被処理水52が好気性条件下に循環流動されると被
処理水52中に微細な活性汚泥が発生する。かかる微細
な活性汚泥は、沈降性に劣るため、三相分離器64にお
いて被処理水52中の液体と共に処理槽54から流出す
るおそれがある。ここで、処理水の水質低下を防止する
ために、処理槽54の後段に微細な活性汚泥を沈殿させ
る沈殿槽を設置することも考えられるが、これでは排水
処理装置50が全体として大型化することになる。
【0006】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
であり、処理水質の低下を十分に防止でき且つ装置を十
分コンパクトにすることができる排水処理装置及び方法
を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の排水処理装置は、処理槽内の被処理水を好
気処理する排水処理装置において、処理槽にその深さ方
向に沿い且つ相互に連通する第1流路及び第2流路を形
成する仕切部材と、第1流路内の被処理水を曝気するこ
とにより好気処理を行うと共に、第1流路に被処理水の
上昇流を形成し、第2流路に被処理水の下降流を形成す
る曝気手段と、被処理水から処理水を分離する膜を持つ
膜分離手段と、被処理水中に含まれるグラニュール汚泥
とを備えることを特徴とする。
【0008】この発明によれば、曝気手段により第1流
路内の被処理水が曝気されると、ガスリフト効果により
第1流路で被処理水の上昇流が形成され、第2流路で被
処理水の下降流が形成され、こうして処理槽内で被処理
水の循環流が形成される。一方、膜分離手段の膜によっ
て被処理水から処理水が分離される。こうして被処理水
を循環流動させながら、膜によって被処理水から処理水
を膜分離すると、被処理水中でグラニュール汚泥が成長
すると共に、被処理水が曝気により好気処理されて微細
な活性汚泥が発生する。ここで、グラニュール汚泥は沈
降性に優れているが、微細な活性汚泥は沈降性に劣るた
め従来の三相分離器を用いる場合、微細な活性汚泥は処
理水とともに処理槽から流出するおそれがあった。とこ
ろが、本発明では膜分離手段の膜を用いるので、微細な
活性汚泥の流出を十分防止することが可能となる。従っ
て、処理水の水質低下を十分防止でき、流出した微細な
活性汚泥を沈殿させる沈殿槽を処理槽の後段に設置する
必要がなくなる。
【0009】また、本発明の排水処理方法は、処理槽内
の被処理水を好気処理する排水処理方法において、処理
槽の深さ方向に沿って延び且つ相互に連通する第1流路
及び第2流路を形成する工程と、第1流路内の被処理水
を曝気することにより好気処理を行うと共に、第1流路
に0.01〜0.1m/秒の速度を有する被処理水の上
昇流を形成し、第2流路に被処理水の下降流を形成する
ことにより処理槽内で被処理水中のグラニュール汚泥を
循環流動させ、グラニュール汚泥の粒径を1〜8mmに
維持する曝気工程と、被処理水から膜を用いて処理水を
分離する膜分離工程とを含むことを特徴とする。
【0010】この方法によれば、被処理水の上昇流の速
度を0.01〜0.1m/秒とし、グラニュール汚泥の
粒径を1〜8mmに維持することで、膜の膜面洗浄効果
が高まることとなる。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、図面を用いて本発明の排水
処理装置の実施形態について説明する。
【0012】図1は、本発明の排水処理装置の一実施形
態を示す概略断面図である。図1に示すように、排水処
理装置10は、被処理水2を収容する処理槽4を備えて
いる。排水処理装置10では好気処理が行われるので、
処理槽4の上部は開放されていてもよい。処理槽4の側
壁には原水供給ライン3が接続されており、原水供給ラ
イン3を通して下水や産業排水等が流入されるようにな
っている。流入された下水や産業排水等は、処理槽4内
で被処理水2の一部となる。また被処理水2中にはグラ
ニュール汚泥5が含まれている。ここで、被処理水2中
のグラニュール汚泥5の濃度は、通常は5000〜10
0000mg/リットル、好ましくは8000〜600
00mg/リットルである。グラニュール汚泥5の濃度
が5000mg/リットル未満では、グラニュール汚泥
が維持できなくなる、又はグラニュール汚泥の質が低下
する傾向があり、100000mg/リットルを超える
と、循環流、酸素供給の面で支障が出る傾向がある。
【0013】処理槽4内には、板状の仕切部材6が処理
槽4の内壁に沿って延びており、この仕切部材6によっ
て処理槽4内にその深さ方向に沿った第1流路8aと第
2流路8bが形成されている。ここで、仕切部材6の上
端部6aは液面2aの下方にあり、下端部6bは底面と
の間に開口7を形成している。従って、第1流路8aと
第2流路8bとは相互に連通することになる。
【0014】第1流路8aの下部位置には、散気管12
が底面に平行に延びており、散気管12にはその長さ方
向に沿って複数の散気ノズル12aが取り付けられてい
る。散気管12にはガス供給ライン14が接続され、ガ
ス供給ライン14にはブロワ15が取り付けられてい
る。従って、ブロワ15の作動によりガス供給ライン1
4を通して空気が散気管12に送り込まれ、この空気は
散気ノズル12aを通して被処理水2に供給される。こ
うして被処理水2の好気処理が行われる。なお、散気管
12、散気ノズル12a、ガス供給ライン14およびブ
ロワ15により曝気手段が構成されている。
【0015】第1流路8aには、散気管12の上方に膜
分離モジュール16が設置され、膜分離モジュール16
は被処理水2中に浸漬されている。膜分離モジュール1
6は複数の平膜18を有し、平膜18は、被処理水2
と、平膜18によって作られる内部空間とを仕切るもの
である。そして、これら複数の平膜18は処理槽4の底
面に平行な方向に沿って並設されている。隣接する平膜
18同士の間隔は、通常は7〜8mmである。平膜18
としては、精密ろ過膜、限外ろ過膜等の20Å〜5μm
程度の孔径を有するものが好適である。
【0016】複数の平膜18には集水管(図示せず)が
接続され、これら集水管は処理水排出ライン20に接続
されている。また処理水排出ライン20には吸引ポンプ
22が取り付けられている。従って、吸引ポンプ22を
作動すると、平膜18によって作られる内部空間が減圧
され、被処理水2と平膜18の内部空間との間に差圧が
発生し、平膜18によって被処理水2から処理水が分離
される。なお、膜分離モジュール16、平膜18、処理
水排出ライン20及び吸引ポンプ22により膜分離手段
が構成されている。
【0017】次に前述した排水処理装置10を用いた排
水処理方法について説明する。
【0018】まずブロワ15を作動し、ガス供給ライン
14を通して散気管12に空気を送り込み、散気ノズル
12aを通して被処理水2に気泡24の形で空気を供給
する。すると、ガスリフト効果により第1流路8aに被
処理水2の上昇流が生じる。この上昇流は液面2aに到
達すると、この上昇流は、仕切部材6の上端部6aと液
面2aとの間を通過して第2流路8bに下降流として流
れ込む。被処理水2の下降流が第2流路8bの下部まで
到達すると、この下降流は、仕切部材6の下端部6bと
底面との間の開口7を通って第1流路8aに流入する。
こうして処理槽4内に被処理水2の循環流が形成される
と共に被処理水2の好気処理が行われる。ここで、被処
理水2に供給する空気の量は、上昇流の速度が0.01
〜0.1m/s以上になる量とする。上昇流の速度を
0.01〜0.1m/sとすることで、グラニュール汚
泥5の粒径が1〜8mmに維持され、こうした粒径を持
つグラニュール汚泥5によって平膜18の膜面洗浄効果
がより高まるからである。更に、被処理水2に供給する
空気の量は、下降流の中に空気を捕捉することを避ける
観点から、第2流路8bでの被処理水2の下降流の速度
が通常は0.25m/s以下、好ましくは0.20m/
s以下となる量とする。
【0019】次に吸引ポンプ22を作動し、平膜18に
よって作られる内部空間を減圧する。すると、その内部
空間と被処理水2との間に差圧が発生し、被処理水2か
ら処理水が分離され、この処理水は、処理水排出ライン
20を通して排出されることとなる。
【0020】こうして被処理水2を循環流動させなが
ら、平膜18によって被処理水2から処理水を膜分離す
ると、被処理水2中でグラニュール汚泥5が成長すると
共に、被処理水2が曝気により好気処理されて微細な活
性汚泥が発生する。ここで、グラニュール汚泥5は沈降
性に優れているが、微細な活性汚泥は沈降性に劣るため
従来の三相分離器を用いる場合、微細な活性汚泥は処理
水とともに処理槽4から流出するおそれがあった。とこ
ろが、本発明ではこのような微細な活性汚泥の流出をも
十分防止できるのである。
【0021】すなわち本発明では平膜18を用いてい
る。この平膜18の孔径は、上述したように通常は20
Å〜5μm程度であり、相当に小さいものである。一
方、グラニュール汚泥5は、被処理水2の循環流動によ
り成長して1〜8mm程度の粒径を持つようになる。ま
た、微細な活性汚泥の粒径は最小でも10μm程度であ
る。従って、平膜18によって、これらグラニュール汚
泥5や微細な活性汚泥の膜の通過が十分防止されること
になる。つまり、グラニュール汚泥5のみならず微細な
活性汚泥の流出をも十分防止されるのである。従って、
処理水質の低下を十分に防止でき、流出した微細な活性
汚泥を沈殿させる沈殿槽を処理槽の後段に設置する必要
がなくなるので排水処理装置10を大幅にコンパクトに
することができる。
【0022】また膜分離モジュール16は散気管12の
上方に配置されているので、平膜18に空気が送られる
と共にグラニュール汚泥5が衝突する。従って、空気と
グラニュール汚泥5により効果的に平膜18が洗浄さ
れ、膜の目詰まりが十分防止されることになる。
【0023】本発明は前述した実施形態に限定されるも
のではない。例えば前述した実施形態では、仕切部材6
が被処理水2中に浸漬されているが、仕切部材6の上端
部6aを上方に延ばし、上端部6aが液面2aから突出
するようにしてもよい。この場合、第1流路8aの液面
の方が第2流路8bの液面よりも高くなるが、第1流路
8aの被処理水2が越流して第2流路8b内に流れ込む
ので、仕切部材6全体が被処理水2中に浸漬されている
場合と同様に、処理槽4内に被処理水2の循環流が発生
する。
【0024】また膜分離モジュール16が第1流路8a
内に配置されているが、膜分離モジュール16は第2流
路8b内に配置されていてもよく、この場合でもグラニ
ュール汚泥5や微細な活性汚泥の流出を十分防止するこ
とができる。
【0025】更に上記実施形態では膜として平膜18が
用いられているが、平膜の他、中空糸膜等を用いること
も可能である。
【0026】
【発明の効果】以上説明したように本発明の排水処理装
置によれば、曝気手段により処理槽内で被処理水が循環
流動される間に、グラニュール汚泥が成長すると共に、
被処理水が曝気により好気処理されて微細な活性汚泥が
発生するが、これらグラニュール汚泥や微細な活性汚泥
の流出が膜分離手段の膜によって十分防止されるので、
処理水質の低下を十分防止でき、流出した微細な活性汚
泥を沈殿させる沈殿槽を処理槽の後段に設置する必要が
なくなり、排水処理装置を十分にコンパクトにすること
ができる。
【0027】また、本発明の排水処理方法によれば、被
処理水の上昇流速を0.01〜0.1m/sとし、グラ
ニュール汚泥の粒径を1〜8mmに維持することで、膜
の膜面洗浄効果をより高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の排水処理装置の一実施形態を示す概略
断面図である。
【図2】従来の排水処理装置の一例を示す概略断面図で
ある。
【符号の説明】
2…被処理水、4…処理槽、5…グラニュール汚泥、6
…仕切部材、8a…第1流路、8b…第2流路、10…
排水処理装置、12…散気管(曝気手段)、12a…散
気ノズル(曝気手段)、14…ガス供給ライン(曝気手
段)、16…膜分離モジュール(膜分離手段)、18…
平膜(膜分離手段)、20…処理水排出ライン(膜分離
手段)、22…吸引ポンプ(膜分離手段)。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4D006 GA06 GA07 HA01 HA41 JA31A KA43 KB22 KC14 MA01 MA03 PB08 PC62 4D028 AB00 BC17 BC26 BD17 CA00 CB02

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 処理槽内の被処理水を好気処理する排水
    処理装置において、 前記処理槽にその深さ方向に沿い且つ相互に連通する第
    1流路及び第2流路を形成する仕切部材と、 前記第1流路内の被処理水を曝気することにより好気処
    理を行うと共に、前記第1流路に被処理水の上昇流を形
    成し、前記第2流路に被処理水の下降流を形成する曝気
    手段と、 前記被処理水から処理水を分離する膜を持つ膜分離手段
    と、 前記被処理水中に含まれるグラニュール汚泥と、を備え
    ることを特徴とする排水処理装置。
  2. 【請求項2】 処理槽内の被処理水を好気処理する排水
    処理方法において、 前記処理槽の深さ方向に沿って延び且つ相互に連通する
    第1流路及び第2流路を形成する工程と、 前記第1流路内の被処理水を曝気することにより好気処
    理を行うと共に、前記第1流路に0.01〜0.1m/
    秒の速度を有する被処理水の上昇流を形成し、前記第2
    流路に被処理水の下降流を形成することにより前記処理
    槽内で被処理水中のグラニュール汚泥を循環流動させ、
    前記グラニュール汚泥の粒径を1〜8mmに維持する曝
    気工程と、 前記被処理水から膜を用いて処理水を分離する膜分離工
    程と、を含むことを特徴とする排水処理方法。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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