JP2001235701A - 高速微細レーザ加工方法およびその装置 - Google Patents
高速微細レーザ加工方法およびその装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】簡素な構成によってレーザ光を集光レンズへ偏
心させて入射させ、被加工物上に集光点を走査する高速
微細レーザ加工方法およびその装置を提供する。 【解決手段】レーザ発振器１１から集光レンズ３への光
路にレーザ光２をＸ方向に偏心させる平面ガラス１４と
Ｙ方向に偏心させる平面ガラス１５を直列に設け、該両
平面ガラス１４、１５の傾斜角度を回動制御することに
よってレーザ光を被加工物上に走査させるようにした。
心させて入射させ、被加工物上に集光点を走査する高速
微細レーザ加工方法およびその装置を提供する。 【解決手段】レーザ発振器１１から集光レンズ３への光
路にレーザ光２をＸ方向に偏心させる平面ガラス１４と
Ｙ方向に偏心させる平面ガラス１５を直列に設け、該両
平面ガラス１４、１５の傾斜角度を回動制御することに
よってレーザ光を被加工物上に走査させるようにした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ加工に関
し、特にレーザ光を被加工物上に走査させて高速微細加
工を行うレーザ加工方法およびその装置に関するもので
ある。
し、特にレーザ光を被加工物上に走査させて高速微細加
工を行うレーザ加工方法およびその装置に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】通常、レーザ加工ではレーザ光が常に一
定の位置に集光されるようにし、被加工物をＸＹテーブ
ルに設置して、Ｘ，Ｙ方向へ被加工物を移動させて加工
している。
定の位置に集光されるようにし、被加工物をＸＹテーブ
ルに設置して、Ｘ，Ｙ方向へ被加工物を移動させて加工
している。
【０００３】このような加工方法においては、被加工物
の加工精度や加工速度は、ＸＹテーブルの性能によって
決まることになり、ＸＹ方向へ移動させる機構の機械的
なガタや摺動部の摩耗などが加工精度に影響し、質量の
大きなものを移動させるので制御遅れが避けられず、高
速微細加工には適さない。
の加工精度や加工速度は、ＸＹテーブルの性能によって
決まることになり、ＸＹ方向へ移動させる機構の機械的
なガタや摺動部の摩耗などが加工精度に影響し、質量の
大きなものを移動させるので制御遅れが避けられず、高
速微細加工には適さない。
【０００４】そこで、従来、薄肉の金属板に高速微細加
工を行う場合は、トレパニング方法と称するレーザ加工
方法が採られている。これは、図５に示すように、レー
ザ光を集光レンズ３の中心軸に対し偏心（δ）させて入
射させることにより、集光レンズの中心軸から偏心
（ｒ）した位置にレーザ光を集光させることができるこ
とを利用して、集光レンズを平面内のＸＹ方向に移動さ
せて集光点を被加工物上に走査して加工するようにした
ものである。
工を行う場合は、トレパニング方法と称するレーザ加工
方法が採られている。これは、図５に示すように、レー
ザ光を集光レンズ３の中心軸に対し偏心（δ）させて入
射させることにより、集光レンズの中心軸から偏心
（ｒ）した位置にレーザ光を集光させることができるこ
とを利用して、集光レンズを平面内のＸＹ方向に移動さ
せて集光点を被加工物上に走査して加工するようにした
ものである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記のレーザ加工方法
では、集光レンズを平面内で移動させ、加工時に被加工
物を移動させないので、加工速度を格段に速くできる。
しかしながら、この方法による場合は、集光レンズを平
面内でＸ，Ｙ方向に移動をさせるための２次元ステージ
を必要とする。この２次元ステージはサーボモータの回
転運動を直線運動に変換して行うので、ボールネジ等の
移動機構におけるバックラッシュや摩擦による伝達遅れ
が避けられず、移動制御の精度に限界がある。そして、
このことは加工速度が速くなるにつれ顕著になるので、
所定の加工精度が要求される場合には加工速度を一定以
下に下げざるをえない。
では、集光レンズを平面内で移動させ、加工時に被加工
物を移動させないので、加工速度を格段に速くできる。
しかしながら、この方法による場合は、集光レンズを平
面内でＸ，Ｙ方向に移動をさせるための２次元ステージ
を必要とする。この２次元ステージはサーボモータの回
転運動を直線運動に変換して行うので、ボールネジ等の
移動機構におけるバックラッシュや摩擦による伝達遅れ
が避けられず、移動制御の精度に限界がある。そして、
このことは加工速度が速くなるにつれ顕著になるので、
所定の加工精度が要求される場合には加工速度を一定以
下に下げざるをえない。
【０００６】なお、２次元ステージを機械的な構成のな
い電磁駆動方式にしたものが開発されている（例えば、
特開平７−９１７８号公報）が、構造が複雑で高価にな
るばかりでなく、磁性体である被加工物をレーザ加工す
る場合に発生するヒュームなどが侵入しないように防塵
構造にする必要があるといった欠点がある。
い電磁駆動方式にしたものが開発されている（例えば、
特開平７−９１７８号公報）が、構造が複雑で高価にな
るばかりでなく、磁性体である被加工物をレーザ加工す
る場合に発生するヒュームなどが侵入しないように防塵
構造にする必要があるといった欠点がある。
【０００７】本発明は、このような背景の下になされた
もので、集光レンズを平面内で移動させることなく、簡
素な構成によってレーザ光を集光レンズへ偏心させて入
射させ、被加工物上に集光点を走査する高速微細レーザ
加工方法およびその装置を提供することを目的とするも
のである。
もので、集光レンズを平面内で移動させることなく、簡
素な構成によってレーザ光を集光レンズへ偏心させて入
射させ、被加工物上に集光点を走査する高速微細レーザ
加工方法およびその装置を提供することを目的とするも
のである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明では次の手段を採った。即ち、請求項１の発
明では、レーザ光を集光レンズへ偏心させて入射し集光
点を被加工物上に走査させて加工する高速微細レーザ加
工方法において、レーザ発振器から集光レンズへの光路
にレーザ光をＸ方向に偏心させる平面ガラスとＹ方向に
偏心させる平面ガラスを直列に設け、該両平面ガラスの
傾斜角度を回動制御することによってレーザ光を被加工
物上に走査させるようにしたことを特徴としている。
め、本発明では次の手段を採った。即ち、請求項１の発
明では、レーザ光を集光レンズへ偏心させて入射し集光
点を被加工物上に走査させて加工する高速微細レーザ加
工方法において、レーザ発振器から集光レンズへの光路
にレーザ光をＸ方向に偏心させる平面ガラスとＹ方向に
偏心させる平面ガラスを直列に設け、該両平面ガラスの
傾斜角度を回動制御することによってレーザ光を被加工
物上に走査させるようにしたことを特徴としている。
【０００９】このレーザ加工方法は、薄肉の金属板に高
速で微細加工する場合に特に効果がある。レーザ発振器
から出射されたレーザ光を集光レンズへ偏心させて入射
させる手段は、レーザ発振器と反射鏡の間または反射鏡
と集光レンズの間に設けた２個の平面ガラスによってい
る。
速で微細加工する場合に特に効果がある。レーザ発振器
から出射されたレーザ光を集光レンズへ偏心させて入射
させる手段は、レーザ発振器と反射鏡の間または反射鏡
と集光レンズの間に設けた２個の平面ガラスによってい
る。
【００１０】傾斜した平面ガラスを透過するレーザ光の
偏心量δは、図４に示すように、ｔ・ｓｉｎ（θ1−
θ2）／ｃｏｓθ2＝ｔ・ｓｉｎθ1｛１−（１／ｎ）・
（ｃｏｓθ1／ｃｏｓθ2）｝で求められる。ここで、ｔ
は平面ガラスの板厚、θ1は入射角度、θ2は出射角度、
ｎは平面ガラスの屈折率である。
偏心量δは、図４に示すように、ｔ・ｓｉｎ（θ1−
θ2）／ｃｏｓθ2＝ｔ・ｓｉｎθ1｛１−（１／ｎ）・
（ｃｏｓθ1／ｃｏｓθ2）｝で求められる。ここで、ｔ
は平面ガラスの板厚、θ1は入射角度、θ2は出射角度、
ｎは平面ガラスの屈折率である。
【００１１】したがって、平面ガラスをレーザ光に対し
て傾斜させて設け、この傾斜角度を制御すれば、傾斜角
度の変化に対応して入射角度θ1が変わり集光レンズへ
の偏心量δを変化させることができる。そして、２個の
平面ガラスを互いに直交する方向に傾斜するように設け
て、それぞれの傾斜角度を制御すれば、集光レンズの中
心軸線に対して直角方向の平面のＸ方向とＹ方向の両方
向について入射角度を変えることができ、平面の所望の
位置にレーザ光を集光させることができる。
て傾斜させて設け、この傾斜角度を制御すれば、傾斜角
度の変化に対応して入射角度θ1が変わり集光レンズへ
の偏心量δを変化させることができる。そして、２個の
平面ガラスを互いに直交する方向に傾斜するように設け
て、それぞれの傾斜角度を制御すれば、集光レンズの中
心軸線に対して直角方向の平面のＸ方向とＹ方向の両方
向について入射角度を変えることができ、平面の所望の
位置にレーザ光を集光させることができる。
【００１２】ここでいうＸ方向、Ｙ方向は、特定の方向
を指しているのではなく、集光レンズの中心軸線に対し
て直角方向の平面における任意の座標を意味している。
この平面ガラスの角度は制御装置からの指令によって制
御するが、高速に精度よく作動させる必要があり、電磁
駆動式のものを使用するのが望ましい。
を指しているのではなく、集光レンズの中心軸線に対し
て直角方向の平面における任意の座標を意味している。
この平面ガラスの角度は制御装置からの指令によって制
御するが、高速に精度よく作動させる必要があり、電磁
駆動式のものを使用するのが望ましい。
【００１３】また、集光点の移動に伴って、アシストガ
スを噴射するノズルの軸線とレーザ光の軸線がズレるこ
とになるので、集光点の移動に対応させてノズルを移動
させるようにするのがよい。この発明を実施するための
レーザ切断装置は、請求項２に記載のように、集光レン
ズを備え下端にアシストガスを噴射するノズルを備えた
レーザトーチとレーザトーチの直下に被加工物を把持す
るＸＹテーブルを設け、レーザ発振器と集光レンズの間
に傾斜角度を変える回動装置を備えた平面ガラスを２個
直列に、かつ、回動装置の回動軸が直交するように設
け、加工情報に基づいて該回動装置へ制御指令を送る制
御装置を備えたものとするのがよい。
スを噴射するノズルの軸線とレーザ光の軸線がズレるこ
とになるので、集光点の移動に対応させてノズルを移動
させるようにするのがよい。この発明を実施するための
レーザ切断装置は、請求項２に記載のように、集光レン
ズを備え下端にアシストガスを噴射するノズルを備えた
レーザトーチとレーザトーチの直下に被加工物を把持す
るＸＹテーブルを設け、レーザ発振器と集光レンズの間
に傾斜角度を変える回動装置を備えた平面ガラスを２個
直列に、かつ、回動装置の回動軸が直交するように設
け、加工情報に基づいて該回動装置へ制御指令を送る制
御装置を備えたものとするのがよい。
【００１４】なお、ＸＹテーブルは平面ガラスの傾斜制
御によって加工された地点から次に加工する地点へ移動
させるのに使用される。
御によって加工された地点から次に加工する地点へ移動
させるのに使用される。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、本発明の高速微細レーザ加
工方法の実施形態例を図面に基づいて説明する。レーザ
トーチ４の直下に被加工物１を置き、アシストガス５と
して酸素ガスを噴射させつつレーザ光を照射し、被加工
物１に集光させて加工を行う。
工方法の実施形態例を図面に基づいて説明する。レーザ
トーチ４の直下に被加工物１を置き、アシストガス５と
して酸素ガスを噴射させつつレーザ光を照射し、被加工
物１に集光させて加工を行う。
【００１６】レーザトーチ４の上方には、平面ガラス１
４と平面ガラス１５がそれぞれ回動装置１６、１７に付
設されて設けられている。図１において、平面ガラス１
４は左右方向に回動できるように配置され、平面ガラス
１５は紙面に対し前後方向に回動できるように配置され
ている。そして、レーザ光はレーザ発振器から反射鏡を
介して平面ガラス１４へ入射し、さらに平面ガラス１５
を通って集光レンズ３へ偏心して入射される。
４と平面ガラス１５がそれぞれ回動装置１６、１７に付
設されて設けられている。図１において、平面ガラス１
４は左右方向に回動できるように配置され、平面ガラス
１５は紙面に対し前後方向に回動できるように配置され
ている。そして、レーザ光はレーザ発振器から反射鏡を
介して平面ガラス１４へ入射し、さらに平面ガラス１５
を通って集光レンズ３へ偏心して入射される。
【００１７】回動装置１６、１７はそれぞれ平面ガラス
１４、１５を制御装置からの指令に基づいて回動させる
もので、電磁駆動式で現在位置センサを備え、入力信号
に対し高速かつ高精度に作動するもの（ガルバノメータ
スキャナー：ケンブリッジ・テクノロジ製）を使用して
いる。
１４、１５を制御装置からの指令に基づいて回動させる
もので、電磁駆動式で現在位置センサを備え、入力信号
に対し高速かつ高精度に作動するもの（ガルバノメータ
スキャナー：ケンブリッジ・テクノロジ製）を使用して
いる。
【００１８】図１は、平面ガラス１４および平面ガラス
１５がそれぞれ４５度に傾斜して配置された状態を示し
ており、この時レーザ光２は集光レンズ３の中心軸に入
射するように集光レンズ３が配置されている。この状態
から平面ガラス１４および平面ガラス１５を回動させれ
ば図２に示すように、レーザ光２は偏心して集光レンズ
３へ入射される。そして、この偏心した量に対応する位
置（集光点２ａ）に集光される。
１５がそれぞれ４５度に傾斜して配置された状態を示し
ており、この時レーザ光２は集光レンズ３の中心軸に入
射するように集光レンズ３が配置されている。この状態
から平面ガラス１４および平面ガラス１５を回動させれ
ば図２に示すように、レーザ光２は偏心して集光レンズ
３へ入射される。そして、この偏心した量に対応する位
置（集光点２ａ）に集光される。
【００１９】そして、レーザ光による照射によって創出
された溶融物はアシストガスによって吹き飛ばされる。
次に、上記の高速微細レーザ加工方法を行うためのレー
ザ加工装置の実施形態例を図３に基づいて説明する。
された溶融物はアシストガスによって吹き飛ばされる。
次に、上記の高速微細レーザ加工方法を行うためのレー
ザ加工装置の実施形態例を図３に基づいて説明する。
【００２０】このレーザ加工装置は、レーザ光２を照射
するレーザ機本体と、下端にアシストガスを噴射するノ
ズル６を備えたレーザトーチ４と、その直下に被加工物
１を把持してＸ軸およびＹ軸方向に移動させるＸＹテー
ブル１０と、レーザ発振器１１と集光レンズ３の間に設
けられたそれぞれ回動装置１６を備えた２個の平面ガラ
ス１４、１５と、加工情報に基づいて平面ガラス１４、
１５の回動装置１６、１７へ平面ガラスの傾斜角度を指
令する制御装置２０とから構成されている。
するレーザ機本体と、下端にアシストガスを噴射するノ
ズル６を備えたレーザトーチ４と、その直下に被加工物
１を把持してＸ軸およびＹ軸方向に移動させるＸＹテー
ブル１０と、レーザ発振器１１と集光レンズ３の間に設
けられたそれぞれ回動装置１６を備えた２個の平面ガラ
ス１４、１５と、加工情報に基づいて平面ガラス１４、
１５の回動装置１６、１７へ平面ガラスの傾斜角度を指
令する制御装置２０とから構成されている。
【００２１】２個の平面ガラス１４、１５は傾斜角度を
変える回動装置の回動軸が直交するように設けられてい
る。なお、ＸＹテーブル１０は制御装置２０からの指令
によって移動する。レーザ発振器１１はＹＡＧレーザ
（１０６４ｎｍ）で、射出されたレーザ光２は４５度の
反射鏡１２によって偏向された後、平面ガラス１４、１
５によって偏向され、レーザトーチ４内の集光レンズ３
へ偏心して入射される。
変える回動装置の回動軸が直交するように設けられてい
る。なお、ＸＹテーブル１０は制御装置２０からの指令
によって移動する。レーザ発振器１１はＹＡＧレーザ
（１０６４ｎｍ）で、射出されたレーザ光２は４５度の
反射鏡１２によって偏向された後、平面ガラス１４、１
５によって偏向され、レーザトーチ４内の集光レンズ３
へ偏心して入射される。
【００２２】レーザトーチ４の下端にはノズル６が付設
されており、酸素などのアシストガス５が噴射するよう
に構成されている。レーザ光３は、平面ガラス１４、１
５の傾斜角度にしたがって偏心量を変え、集光レンズ３
へ入射するが、平面ガラス１４、１５の傾斜角度の制御
は、制御装置２０に記憶されている加工情報に基づいて
演算された指令値に基づいて回動装置１６、１７を作動
させることによっている。
されており、酸素などのアシストガス５が噴射するよう
に構成されている。レーザ光３は、平面ガラス１４、１
５の傾斜角度にしたがって偏心量を変え、集光レンズ３
へ入射するが、平面ガラス１４、１５の傾斜角度の制御
は、制御装置２０に記憶されている加工情報に基づいて
演算された指令値に基づいて回動装置１６、１７を作動
させることによっている。
【００２３】この装置によるレーザ加工では、被加工物
１を静止させた状態、すなわち、ＸＹテーブル１０を固
定した状態で、平面ガラス１４、１５の傾斜角度を変え
ながらレーザ光３を被加工物１上に集光点２ａを走査さ
せることによって行われる。そして、同時にアシストガ
ス５が噴射され溶融された被加工物１が除去される。
ＸＹテーブル１０は、被加工物１の両端を把持して水平
状態に保持する把持具９を備え、被加工物１をＸ軸およ
びＹ軸方向へ移動させる移動機構とから構成されてお
り、次の加工点へ移動するときに制御装置２０からの指
令によって作動する。
１を静止させた状態、すなわち、ＸＹテーブル１０を固
定した状態で、平面ガラス１４、１５の傾斜角度を変え
ながらレーザ光３を被加工物１上に集光点２ａを走査さ
せることによって行われる。そして、同時にアシストガ
ス５が噴射され溶融された被加工物１が除去される。
ＸＹテーブル１０は、被加工物１の両端を把持して水平
状態に保持する把持具９を備え、被加工物１をＸ軸およ
びＹ軸方向へ移動させる移動機構とから構成されてお
り、次の加工点へ移動するときに制御装置２０からの指
令によって作動する。
【００２４】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１記載のレ
ーザ加工方法は、レーザ発振器から集光レンズへの光路
にレーザ光をＸ方向に偏心させる平面ガラスとＹ方向に
偏心させる平面ガラスを直列に設け、該両平面ガラスの
傾斜角度を回動制御することによってレーザ光を被加工
物上に走査させるようにしたので、従来の集光レンズを
平面内でＸＹ方向に移動させる場合に比べ、摺動や回転
する機械的な構成を必要としないので、加工精度が高
く、制御信号の伝達遅れが生じない。また、従来の電磁
駆動によって集光レンズを平面内で移動させるものに比
べて、簡素で精度よく高速に作動させることができる。
ーザ加工方法は、レーザ発振器から集光レンズへの光路
にレーザ光をＸ方向に偏心させる平面ガラスとＹ方向に
偏心させる平面ガラスを直列に設け、該両平面ガラスの
傾斜角度を回動制御することによってレーザ光を被加工
物上に走査させるようにしたので、従来の集光レンズを
平面内でＸＹ方向に移動させる場合に比べ、摺動や回転
する機械的な構成を必要としないので、加工精度が高
く、制御信号の伝達遅れが生じない。また、従来の電磁
駆動によって集光レンズを平面内で移動させるものに比
べて、簡素で精度よく高速に作動させることができる。
【００２５】また、請求項２記載のレーザ加工装置は、
集光レンズを備え下端にアシストガスを噴射するノズル
を備えたレーザトーチとレーザトーチの直下に被加工物
を把持するＸＹテーブルを設け、レーザ発振器と集光レ
ンズの間に傾斜角度を変える回動装置を備えた平面ガラ
スを２個直列に、かつ、回動装置の回動軸が直交するよ
うに設け、加工情報に基づいて該回動装置へ制御指令を
送る制御装置を備えたので、従来のように、集光レンズ
をＸＹ方向へ移動させるためのＸＹステージをレーザト
ーチに付設する必要がないので、レーザトーチを簡素な
ものとすることができ、レーザ加工時は機械的に作動す
る部分がないので、高精度に高速でレーザ加工でき、長
期間の使用に対しても精度が維持される。
集光レンズを備え下端にアシストガスを噴射するノズル
を備えたレーザトーチとレーザトーチの直下に被加工物
を把持するＸＹテーブルを設け、レーザ発振器と集光レ
ンズの間に傾斜角度を変える回動装置を備えた平面ガラ
スを２個直列に、かつ、回動装置の回動軸が直交するよ
うに設け、加工情報に基づいて該回動装置へ制御指令を
送る制御装置を備えたので、従来のように、集光レンズ
をＸＹ方向へ移動させるためのＸＹステージをレーザト
ーチに付設する必要がないので、レーザトーチを簡素な
ものとすることができ、レーザ加工時は機械的に作動す
る部分がないので、高精度に高速でレーザ加工でき、長
期間の使用に対しても精度が維持される。
【図１】本発明の高速微細レーザ加工方法の一実施形態
例の構成を示す正面図である。
例の構成を示す正面図である。
【図２】同 平面ガラスの傾斜角度を変えた場合のレー
ザ光の偏心状態を示す図で、（ａ）は正面図、（ｂ）は
底面図である。
ザ光の偏心状態を示す図で、（ａ）は正面図、（ｂ）は
底面図である。
【図３】同 請求項２記載の発明の実施形態例を示すレ
ーザ加工装置の構成図である。
ーザ加工装置の構成図である。
【図４】平面ガラスによるレーザ光の偏心量についての
説明図である。
説明図である。
【図５】従来のレーザ光を集光レンズへ偏心させて入射
させる構成の説明図である。
させる構成の説明図である。
１…被加工物 ２…レーザ光 ２ａ…集光点 ３…集光レンズ ４…レーザトーチ ５…アシストガス ６…ノズル ９…把持具 １０…ＸＹテーブル １１…レーザ発振器 １２…反射鏡 １４，１５…平面ガラス １６，１７…回動装置 ２０…制御装置
Claims (2)
- 【請求項１】レーザ光を集光レンズへ偏心させて入射し
集光点を被加工物上に走査させて加工する高速微細レー
ザ加工方法において、レーザ発振器から集光レンズへの
光路にレーザ光をＸ方向に偏心させる平面ガラスとＹ方
向に偏心させる平面ガラスを直列に設け、該両平面ガラ
スの傾斜角度を回動制御することによってレーザ光を被
加工物上に走査させるようにしたことを特徴とする高速
微細レーザ加工方法。 - 【請求項２】集光レンズを備え下端にアシストガスを噴
射するノズルを備えたレーザトーチとレーザトーチの直
下に被加工物を把持するＸＹテーブルを設け、レーザ発
振器と集光レンズの間に傾斜角度を変える回動装置を備
えた平面ガラスを２個直列に、かつ、回動装置の回動軸
が直交するように設け、加工情報に基づいて該回動装置
へ制御指令を送る制御装置を備えたことを特徴とする請
求項１に記載の高速微細レーザ加工方法を実施するため
のレーザ加工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000047470A JP2001235701A (ja) | 2000-02-24 | 2000-02-24 | 高速微細レーザ加工方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000047470A JP2001235701A (ja) | 2000-02-24 | 2000-02-24 | 高速微細レーザ加工方法およびその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001235701A true JP2001235701A (ja) | 2001-08-31 |
Family
ID=18569717
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000047470A Pending JP2001235701A (ja) | 2000-02-24 | 2000-02-24 | 高速微細レーザ加工方法およびその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001235701A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011524259A (ja) * | 2008-06-17 | 2011-09-01 | エレクトロ サイエンティフィック インダストリーズ インコーポレーテッド | レーザ加工システムにおける後方反射の低減法 |
-
2000
- 2000-02-24 JP JP2000047470A patent/JP2001235701A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011524259A (ja) * | 2008-06-17 | 2011-09-01 | エレクトロ サイエンティフィック インダストリーズ インコーポレーテッド | レーザ加工システムにおける後方反射の低減法 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090106 |
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