JP2001229838A

JP2001229838A - ディスプレイ用部材およびディスプレイ

Info

Publication number: JP2001229838A
Application number: JP2000366750A
Authority: JP
Inventors: Yoshiki Masaki; 孝樹正木; Takayuki Doi; 貴之土井; Akiko Nakajima; 暁子中島
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1999-12-02
Filing date: 2000-12-01
Publication date: 2001-08-24
Anticipated expiration: 2020-12-01
Also published as: JP4631153B2

Abstract

(57)【要約】【課題】感光性ペーストを用いたフォトリソグラフィ法
により反射率の高い隔壁を形成し、輝度、色純度が優れ
たディスプレイを提供する。【解決手段】基板上に隔壁を形成したディスプレイ用部
材であって、隔壁が低融点ガラス材料を含有し、かつ隔
壁が平均粒子径０．００３〜０．０８μｍの無機微粒子
により構成される粒子径０．３〜２μｍの凝集粒子を含
有することを特徴とするディスプレイ用部材。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイ（ＰＤＰ）、プラズマアドレス液晶ディスプレイ
（ＰＡＬＣ）、電子放出素子（フィールドエミッショ
ン、ＦＥ）あるいは蛍光表示管素子（ＶＦＤ）を用いた
ディスプレイ等のディスプレイに関する。

【０００２】

【従来の技術】ＰＤＰや電子放出素子、蛍光表示管素子
を用いたディスプレイは、液晶ディスプレイ(ＬＣＤ)に
比べて明るい画像が得られると共に、視野角が広い、さ
らに大画面化、高精細化の要求に応えられることから、
そのニーズが高まりつつある。

【０００３】電子放出素子には、熱電子放出素子と冷陰
極電子放出素子がある。冷陰極電子源を用いたディスプ
レイは、電子放出素子から放出される電子ビームを蛍光
体に照射して蛍光を発光させることで画像を表示するも
のである。この装置において、前面ガラス基板と背面ガ
ラス基板にそれぞれの機能を付与して用いるが、背面ガ
ラス基板には、複数の電子放出素子とそれらの素子の電
極を接続するマトリックス状の配線が設けられる。これ
らの配線は、電子放出素子の電極部分で交差することに
なるので絶縁するための絶縁層が設けられる。さらに両
基板の間で耐大気圧支持部材として隔壁（スペーサ）が
形成される。

【０００４】蛍光表示管(ＶＦＤ）の構造と電気的動作
機構は、ＣＲＴと異なりＶＦＤでは数十Ｖの電圧による
数十ｍＡの低速電子流で蛍光体を励起する。このような
ＶＦＤ素子を用いたディスプレイにおいても、発光領域
を区切るため格子状などの隔壁が形成される。

【０００５】ＰＤＰは、前面ガラス基板と背面ガラス基
板との間に設けられた隔壁で仕切られた放電空間内で対
向するアノード電極およびカソード電極間にプラズマ放
電を生じさせ、この空間内に封入されているガスから発
生する紫外線を放電空間内に塗布された蛍光体に当てる
ことによって表示を行う。

【０００６】プラズマアドレス液晶（ＰＡＬＣ）ディス
プレイは、ＴＦＴ−ＬＣＤのＴＦＴ（薄膜トランジスタ
ー）アレイ部分をプラズマチャネルに置き換えたもの
で、プラズマ部分以外は基本的にＴＦＴ−ＬＣＤと同じ
構造である。プラズマ発生部分は、高さ２００μｍ程
度、ピッチ４８０μｍ程度の隔壁で区切られている。
つまり上記の各種ディスプレイは、いずれも隔壁を必要
とする。以下、これらの各種ディスプレイを代表してＰ
ＤＰについて記述する。ＰＤＰにおける隔壁は、従来、
絶縁ガラスペーストをスクリーン印刷法で形成している
が、この方法ではスクリーン版の伸縮による位置合わせ
の精度の問題上、ＰＤＰの大面積化、高解像度化に伴い
要求される、高アスペクト比で高精細の隔壁が得られな
い。このような問題を改良する方法として、感光性ペー
ストを用いてフォトリソグラフィ技術により隔壁を形成
する方法が知られている。

【０００７】一方、隔壁は単に発光区域を区分するのみ
でなく、発光輝度、色純度などのディスプレイの表示特
性に影響を与えるものである。蛍光体層からの発光の効
率を向上するためには、隔壁の反射率を高くしたいとい
う要求がある。つまり、隔壁の光透過率が高く反射率が
低いと、隔壁側面や隔壁間の底面に塗布されている蛍光
体層から発光される表示光の反射が不足し、さらに、隣
の隔壁間の蛍光体層の表示光の洩れ込みが起こり、輝度
が高く色純度の良好なディスプレイを得ることができな
い。

【０００８】そこで、隔壁の反射率を上げ蛍光体層から
の発光の効率を向上するための手段として、例えば特公
平６−４４４５２号公報には、隔壁に酸化チタン等の白
色顔料を含有させることが開示されている。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかし上記の手段で
は、感光性ペーストを用いたフォトリソグラフィ法によ
る隔壁形成において、白色顔料により光の透過性が阻害
されるため良好なパターニング性を得ることができな
い。

【００１０】本発明は、かかる矛盾的な問題を解決し、
フォトリソグラフィ法の良好なパターニングにより形成
した隔壁を有し、さらに隔壁の反射率が高く、発光輝度
等の表示特性に優れたディスプレイを提供することを目
的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、基板
上に隔壁を形成したディスプレイ用部材であって、隔壁
が低融点ガラス材料を含有し、かつ隔壁が平均粒子径
０．００３〜０．０８μｍの無機微粒子により構成され
る粒子径０．３〜２μｍの凝集粒子を含有することを特
徴とするディスプレイ用部材である。

【００１２】また本発明は、上記のディスプレイ用部材
を用いた各種のディスプレイである。

【００１３】

【発明の実施の形態】本発明をＰＤＰの作製手順に従っ
て説明するが、本発明は、プラズマアドレス液晶ディス
プレイならびに電子放出素子または蛍光表示管を用いた
ディスプレイにおいても、好ましく適用できる。

【００１４】ＰＤＰの基板には、ソーダガラスやＰＤＰ
用ガラス基板（例えば、旭硝子社製“ＰＤ２００”）が
用いられる。

【００１５】基板上に、導電性金属によりアドレス電極
を形成する。導電性金属としては、銀、銅、クロム、ア
ルミニウム、ニッケル、金などを用いることができる。
アドレス電極は幅２０〜１００μｍのストライプ状に形
成される。次いで電極を被覆するように誘電体層を形成
するのが好ましい。

【００１６】次いで、誘電体層上もしくは電極が形成さ
れた基板上に隔壁を形成する。本発明において隔壁は、
感光性ペーストを用いたフォトリソグラフィ法により形
成する。すなわち、感光性ペーストを塗布し、露光し、
露光部分と未露光部分の現像液に対する溶解度差を利用
して現像した後に焼成して隔壁を形成する。

【００１７】本発明のディスプレイ用部材は、隔壁が平
均粒子径０．００３〜０．０８μｍ、好ましくは０．０
０６〜０．０８μｍ、さらに好ましくは０．００８〜
０．０８μｍの極微小の無機微粒子（以下、このような
極微小の無機微粒子をナノ粒子と呼ぶ）により構成され
る０．３〜２μｍの凝集粒子を含有することが重要であ
る。この構成を採ることにより、フォトリソグラフィ法
によるパターニングにおいては良好な光の透過性を示
し、焼成後の隔壁としては高い反射率を示すという矛盾
的に要求される特性を両立して得ることができる。

【００１８】つまり、上記のようなナノ粒子は、露光に
用いる紫外線光の波長３５０〜４２０ｎｍよりも微細で
あり、また感光性ペーストおよびその塗布膜内において
は比較的均一に分散されているため、紫外線光の透過
性、すなわちパターニング性に影響を与えることなく露
光が可能である。

【００１９】一方、露光・現像後の焼成において、この
ナノ粒子は凝集して粒子径０．３〜２μｍの凝集粒子を
構成する。するとこの凝集粒子は隔壁の反射率を向上さ
せ、蛍光体層からの発光の効率を向上することができ
る。凝集粒子としてより好ましいサイズは粒子径で０．
５〜１．０μｍである。ここでいう凝集粒子の粒子径と
は、電子顕微鏡等による凝集粒の観察写真を画像処理
し、凝集粒子の見かけの面積と同面積の円に換算した際
の直径をいう。

【００２０】上記のように、ナノ粒子は、露光光の透過
を阻害しないよう充分小さいことが重要であり、具体的
には平均粒子径が０．０８μｍ以下である。但し過度に
小さいと、感光性ペースト及びその塗布膜内においても
凝集し、露光光の透過を阻害することとなる。従って感
光性ペースト法によって形成される隔壁が含有するナノ
粒子の平均粒子径は、後述する焼結成長も考慮すると、
０．００３μｍ以上となる。

【００２１】このようなナノ粒子としては、酸化チタ
ン、酸化セリウム、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸
化錫の群から選ばれた少なくとも一種を用いることが好
ましい。これらの酸化物を用いることにより、焼成によ
り凝集した際に、高い反射率を呈することができる。特
に、酸化チタンを少なくとも３０重量％以上含有する酸
化チタン系微粒子が好ましい。

【００２２】酸化チタン系微粒子は、パターン形成にお
いて良好な光透過性を示し、焼成後の隔壁としては高い
反射性を示すという矛盾的に要求される特性を両立させ
ることができるためである好ましく用いられる。また、
上記の酸化チタン微粒子中に酸化ケイ素、酸化錫、酸化
アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化セリウムなどの
微粒子とを複合化することは、酸化チタン微粒子の凝集
を回避するのに効果がある場合があるため好ましい。

【００２３】焼成後のディスプレイ用部材に存在するナ
ノ粒子の隔壁形成材に対する含有量としては、５〜３０
重量％、さらには１０〜２０重量％が好ましい。５重量
％以上とすることにより、添加による反射率向上の効果
を得ることができる。また、３０重量％以下とすること
により、露光光の透過を阻害せずに、所望の隔壁パター
ンの形成を行うことができる。

【００２４】以上のようなナノ粒子を焼成後の隔壁に含
有させるためには、感光性ペーストを調製する際に仕込
む段階（ペースト調製段階）でのナノ粒子のサイズを、
焼成後の隔壁において所望するナノ粒子のサイズよりも
やや小さめにすることが好ましい。というのは、ナノ粒
子は数μｍオーダーの粒子に比べ低温でも焼結しやすい
という性質を有し、隔壁の焼成において焼結成長するこ
ともあるためである。仕込む段階でのナノ粒子として
は、平均粒子径が０．００２〜０．０６μｍ、さらには
０．００５〜０．０３μｍであることが好ましい。仕込
む段階（ペースト調製段階）でのナノ粒子が小さすぎる
と感光性ペーストおよびその塗布膜において凝集を抑え
るのが困難な傾向にあり、大きすぎると、焼成後の凝集
の効率が低下する傾向にあり、さらに大きすぎると、露
光時のパターニング性を阻害する傾向にある。

【００２５】また、この仕込み段階におけるナノ粒子に
は、界面活性剤により表面処理を施すことも好ましい。
そうすることにより、当該ナノ粒子が感光性樹脂成分や
有機溶媒と相互作用して凝集するのを防ぐことができ
る。

【００２６】また本発明のＰＤＰ用部材の隔壁は、低融
点ガラスを含有する。低融点ガラスを用いることによ
り、後述するように感光性有機成分との屈折率差の制御
が容易となり、露光時のパターニング性を阻害すること
がなく、また焼成により強固な隔壁を形成することがで
きる。

【００２７】低融点ガラスは、ガラス転移点４００〜５
５０℃、荷重軟化点４５０〜６００℃であることが好ま
しい。荷重軟化点を４５０℃以上とすることで、ディス
プレイ形成の後工程において隔壁が変形することがな
く、荷重軟化点を６００℃以下とすることで、焼成時に
溶融し強度の高い隔壁を得ることができる。

【００２８】また、低融点ガラスの平均屈折率は、感光
性ペーストにおける感光性有機成分の平均屈折率との整
合をとり、露光光の散乱を抑えるために、１．５〜１．
６５の範囲内とすることが好ましい。このような特性を
満たす低融点ガラス粉末は、酸化物換算表記で以下の様
な組成であることが好ましい。酸化リチウム、酸化ナトリウムまたは酸化カリウム３〜
１５重量％酸化ケイ素５〜３０重量％酸化ホウ素２０〜４５重量％酸化バリウムまたは酸化ストロンチウム２〜１５重量％酸化アルミニウム１０〜２５重量％酸化マグネシウムまたは酸化カルシウム２〜１５重量
％。

【００２９】酸化リチウム、酸化ナトリウムまたは酸化
カリウムのアルカリ金属酸化物のうち少なくとも１種を
用い、その合計量が３〜１５重量％、さらには３〜１０
重量％であることが好ましい。

【００３０】アルカリ金属酸化物は、ガラスの荷重軟化
点、熱膨張係数のコントロールを容易にするのみなら
ず、ガラスの屈折率を低くすることができるため、感光
性有機成分との屈折率差を小さくすることが容易にな
る。アルカリ金属酸化物の合計量が３重量％以上とする
ことでガラスの低融点化の効果を得ることができ、１５
重量％以下とすることでガラスの化学的安定性を維持す
ると共に熱膨張係数を小さく抑えることができる。アル
カリ金属としては、ガラスの屈折率を下げることやイオ
ンのマイグレーションを防止することを考慮するならリ
チウムを選択するのが好ましい。

【００３１】酸化ケイ素の配合量は５〜３０重量％が好
ましく、より好ましくは１０〜３０重量％である。酸化
ケイ素は、ガラスの緻密性、強度や安定性の向上に有効
であり、また、ガラスの低屈折率化にも効果がある。熱
膨張係数をコントロールしてガラス基板とのミスマッチ
による剥離などを防ぐこともできる。５重量％以上とす
ることで、熱膨張係数を小さく抑えガラス基板に焼き付
けた時にクラックを生じない。また、屈折率を低く抑え
ることができる。３０重量％以下とすることで、ガラス
転移点、荷重軟化点を低く抑え、ガラス基板への焼き付
け温度を低くすることができる。

【００３２】酸化ホウ素は、鉛などの重金属を含有しな
いガラスにおいて低融点化のために必要な成分であり、
さらに低屈折率化にも有効であり、２０〜４５重量％、
さらには２０〜４０重量％の範囲で配合することが好ま
しい。２０重量％以上とすることで、ガラス転移点、荷
重軟化点を低く抑えガラス基板への焼き付けを容易にす
る。また、４５重量％以上とすることでガラスの化学的
安定性を維持することができる。

【００３３】酸化バリウムおよび酸化ストロンチウムの
うち少なくとも１種を用い、その合計量が２〜１５重量
％、さらには２〜１０重量％であることが好ましい。こ
れらの成分は、ガラスの低融点化、熱膨張係数の調整に
有効であり、焼き付け温度の基板の耐熱性への適用、電
気絶縁性、形成される隔壁の安定性や緻密性の点でも好
ましい。２重量％以上とすることで低融点化の効果を得
ることができると共に結晶化による失透を防ぐこともで
きる。また、１５重量％以下とすることにより、熱膨張
係数を小さく抑え、屈折率も小さく抑えることができ
る。またガラスの化学的安定性も維持できる。

【００３４】酸化アルミニウムはガラス化範囲を広げて
ガラスを安定化する効果があり、ペーストのポットライ
フ延長にも有効である。１０〜２５重量％の範囲で配合
することが好ましく、この範囲内とすることでガラス転
移点、荷重軟化点を低く保ち、ガラス基板上への焼き付
けを容易とすることができる。

【００３５】さらに、酸化カルシウムおよび酸化マグネ
シウムは、ガラスを溶融しやすくすると共に熱膨張係数
を制御するために配合されることが好ましい。酸化カル
シウムおよび酸化マグネシウムは合計で２〜１５重量％
配合するのが好ましい。合計量が２重量％以上とするこ
とで結晶化によるガラスの失透を防ぎ、１５重量％以下
とすることでガラスの化学的安定性を維持することがで
きる。

【００３６】また、上記の組成には表記されていない
が、酸化亜鉛はガラスの熱膨張係数を大きく変化させる
ことなく低融点化させる成分でありこれも配合されるこ
とが好ましい。多く配合しすぎると屈折率が大きくなる
傾向にあるので、１〜２０重量％の範囲で配合するのが
好ましい。

【００３７】感光性ペーストに用いる低融点ガラス粉末
は、ペースト形成時の充填性および分散性が良好で、ペ
ーストの均一な厚さでの塗布が可能であると共にパター
ン形成性を良好に保つためには、平均粒子径が１〜５μ
ｍであり、最大粒子径が３５μｍ以下であることが好ま
しい。このような粒度分布を有するガラス粉末がペース
トへの充填性および分散性の点で優れているが、低融点
ガラス粉末の場合は焼成工程でその殆どが溶融し一体化
されるので、かなり大きな粒子径の粉末も許容される。
しかし、焼成工程での加熱温度以上の荷重軟化点または
融点を有するフィラー成分の場合は、そのまま隔壁中ま
たは隔壁表面に残留するので、その平均粒子径はより小
さいことが好ましく１．５〜４μｍであることが適当で
ある。この範囲であれば、充填性および分散性を満足さ
せて、塗布性およびパターン形成性の優れた感光性ペー
ストを構成することができる。

【００３８】本発明のＰＤＰ用部材の隔壁は、上記のナ
ノ粒子やガラス材料の他に、平均粒子径１．５〜５μｍ
のフィラーを５〜３０重量％含有しても良い。このフィ
ラーを含むことにより、焼成前のパターン形成性を維持
しつつ、焼成後の隔壁の強度を保持し、焼成収縮率を抑
制し、形状保持性を高める効果がある。さらに隔壁の誘
電率を下げるのに効果がある。

【００３９】平均粒子径１．５〜５μｍのフィラーは、
感光性ペーストにおける感光性有機成分や低融点ガラス
の平均屈折率との整合をとり、露光光の散乱を抑えるた
めに、平均屈折率が１．４５〜１．６５の範囲内にある
ことが好ましい。このフィラーの平均屈折率を上記の範
囲内とするために、組成を調整した高融点ガラス、結晶
化ガラス、セラミックスからなるフィラーやコーディエ
ライトが好ましく用いられる。

【００４０】フィラーとしては、コーディエライト（２
ＭｇＯ・２Ａｌ₂Ｏ₃・５ＳｉＯ₂）、セルジアン（Ｂａ
Ｏ・Ａｌ₂Ｏ₃・ＳｉＯ₂）、アノーサイト（ＣａＯ・Ａ
ｌ₂Ｏ₃・２ＳｉＯ₂）、ステアタイト（ＭｇＯ−Ｓｉ
Ｏ₂）、スポジュウメン（ＬｉＯ２・Ａｌ₂Ｏ₃・４Ｓｉ
Ｏ₂）、フォルステライト（２ＭｇＯ・ＳｉＯ₂）、シリ
カ（石英）、高融点ガラスが好ましく用られる。

【００４１】高融点ガラスとしては、ガラス転移点５０
０〜１２００℃、荷重軟化点５５０〜１２００℃を有す
るものが好ましく、このような高融点ガラスは、酸化ケ
イ素および酸化アルミニウムをそれぞれ１５重量％以上
含有する組成のものが好ましく、これらの含有量合計が
５０重量％以上であることが必要な熱特性を得るのに有
効である。高融点ガラスの組成はこれに限定されるもの
ではないが、例えば以下のような酸化物換算組成のもの
を用いることができる。酸化珪素１５〜５０重量％酸化ホウ素５〜２０重量％酸化バリウム２〜１０重量％酸化アルミニウム１５〜５０重量％。

【００４２】さらに具体的には、例えば、酸化珪素３８
重量％、酸化ホウ素１０重量％、酸化バリウム５重量
％、酸化アルミニウム３６重量％で、その他の成分とし
て酸化カルシウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウムを少量
ずつ含有するガラス転移点６２５℃、荷重軟化点７５０
℃の高融点ガラスの平均屈折率は１．５９であり、これ
は本発明で好ましく使用される低融点ガラスの平均屈折
率と同等である。

【００４３】フィラーのもう一つの成分であるコーディ
エライトの屈折率は１．５８であり、本発明の成分とし
て好適である。

【００４４】このようなフィラーの平均粒子径は１．５
〜５μｍの範囲が好ましい。１．５μｍ以上とすること
で形状保持性の効果を得ることができる。また、フィラ
ー成分は焼成工程で溶融することがないので５μｍより
大きすぎると、形成された隔壁の頂部の凹凸が大きくな
りクロストークの原因となるなどの問題を生じる傾向に
ある。

【００４５】隔壁形成に用いる感光性ペーストは、低融
点ガラス、ナノ粒子、フィラー、感光性有機成分等を所
定の組成となるように調合した後、３本ローラや混練機
で均質に混合分散することにより調製される。ペースト
の調製の際、ナノ粒子のペーストの段階からの凝集を回
避するために、感光性ポリマやモノマーなどの感光性樹
脂、光重合開始剤、無機材料から不純物イオンを除去し
ておくことが好ましい。有機成分に含まれる感光性モノ
マー、感光性オリゴマーもしくはポリマー、種々の添加
剤の熱分解特性とガラス粉末成分の熱特性が不釣り合い
になると、隔壁が褐色に着色したり、隔壁が基板から剥
がれたりする欠陥が発生する傾向にあるので、これらの
整合を図ることも肝要である。

【００４６】感光性ペーストの粘度は、有機溶媒により
１万〜２０万ｃＰ（センチ・ポイズ）程度に調整して使
用される。この時使用される有機溶媒としては、メチル
セロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メ
チルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキ
サノン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、イ
ソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメチル
スルフォキシド、γ-ブチロラクトンなどやこれらのう
ちの1種以上を含有する有機溶媒混合物が挙げられる。

【００４７】感光性ペーストの塗布は、スクリーン印刷
法、バーコーター法、ロールコータ法、ドクターブレー
ド法などの一般的な方法で行うことができる。塗布厚さ
は、所望の隔壁の高さとペーストの焼成による収縮率を
考慮して決めることができる。

【００４８】塗布・乾燥した感光性ペースト膜にフォト
マスクを介して露光を行って、隔壁パターンを形成す
る。露光の際、ペースト塗布膜とフォトマスクを密着し
て行う方法と一定の間隔をあけて行う方法（プロキシミ
ティ露光）のいずれを用いても良い。露光用の光源とし
ては、水銀灯やハロゲンランプが適当であるが、超高圧
水銀灯が最もよく使用される。超高圧水銀灯を光源とし
て、プロキシミティ露光を行うのが一般的である。露光
条件はペーストの塗布膜厚さによって異なるが、通常は
５〜３０ｍＷ／ｃｍ²の出力の超高圧水銀灯を用いて２
０秒から１０分間露光を行うのが適当である。

【００４９】露光後、露光部分と未露光部分の現像液に
対する溶解度差を利用して、現像を行うが、この場合、
浸漬法、スプレー法、ブラシ法などが用いられる。本発
明で好ましく用いられる感光性ペーストの感光性有機成
分としては、側鎖にカルボキシル基を有するものが好ま
しく採用され、この場合にはアルカリ水溶液での現像が
可能になる。アルカリとしては、有機アルカリ水溶液を
用いた方が焼成時にアルカリ成分を除去し易いので好ま
しい。有機アルカリとしては、一般的なアミン化合物を
用いることができる。具体的には、テトラメチルアンモ
ニウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアンモニウ
ムヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノー
ルアミンなどがあげられる。アルカリ水溶液の濃度は通
常０．０５〜１重量％、より好ましくは０．１〜０．６
重量％である。アルカリ濃度が低すぎると可溶部が完全
に除去されない傾向にあり、アルカリ濃度が高すぎる
と、露光部のパターンが剥離したり、侵食したりする傾
向にある。現像時の温度は、２０〜５０℃で行うことが
工程管理上好ましい。

【００５０】感光性ペーストの塗布膜から露光・現像の
工程を経て形成した隔壁パターンを次に焼成炉で焼成
し、有機成分を熱分解して除去し、同時に無機成分中の
低融点ガラスを溶融させて隔壁を形成する。

【００５１】焼成の雰囲気や温度は、ペーストや基板の
特性によって異なるが、通常は、空気中で焼成される。
焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型
焼成炉を用いることができる。バッチ式の焼成を行うに
は通常、隔壁パターンが形成されたガラス基板を室温か
ら５００℃程度まで数時間掛けてほぼ等速で昇温した
後、焼成温度として設定した５５０〜６００℃に３０〜
１２０分間で上昇させて、約１５〜３０分間保持して焼
成を行う。焼成温度は用いるガラス基板のガラス転移点
より低くなければならないので、ガラス基板を用いる場
合には自ずから好ましい上限が存在する。焼成温度が高
すぎたり、焼成時間が長すぎたりすると隔壁の形状にダ
レなどの欠陥が発生する傾向にある。

【００５２】本発明のＰＤＰ用部材の隔壁は全光線反射
率が５０％以上、さらには６０％以上、またさらには７
０％以上であることが好ましい。全光線反射率が高いこ
とにより、蛍光体層からの発光を高い割合で開口部から
外部に放射することになり輝度を高めると共に、また隣
合う他の発光色への影響を遮断することができ、それぞ
れの発光色の色純度を高めることができる。また、全光
線反射率は９０％以下であることが好ましい。９０％以
下とすることにより、外光の反射による非発光領域への
写り込みを防ぐことができる。全光線反射率は、例えば
実施例で用いた方法にて測定することができる。

【００５３】また、隔壁の気孔率は２〜８％、さらには
２〜５％であることが好ましい。気孔率を８％以下とす
ることにより、緻密な構造の隔壁が形成され隔壁強度が
向上するとともに、下層部の密着性を高め、隔壁の倒れ
を防止することができる。また、気孔率をこの程度に抑
えることができれば、気孔はほとんど閉気孔の状態で存
在するため、輝度低下などの発光特性低下の原因となる
ガスや水分が放電時に気孔から排出されるのを防ぐこと
ができ、放電寿命や、輝度安定性も向上する。

【００５４】一方、気孔率を２％以上とすることによ
り、熱や機械的な衝撃に対する緩衝効果を発揮する。つ
まり適度な気孔の存在が、熱や、衝撃による亀裂の伝搬
を分散させ、隔壁の破損を防ぐことができる。また適度
な気孔の存在は、隔壁の高反射率化にも寄与させること
ができる。気孔率は、例えば実施例で用いた方法にて測
定することができる。

【００５５】隔壁に挟まれたセル内に、赤、緑、青に発
光する蛍光体ペーストを塗布して必要に応じて焼成し、
本発明のディスプレイ用部材としてプラズマディスプレ
イパネル用の背面板を製造することができる。この背面
板と前面板とを張り合わせた後、封着、ガス封入して本
発明のディスプレイとしてプラズマディスプレイが作製
される。

【００５６】これらの技術は、プラズマアドレス液晶デ
ィスプレイならびに電子放出素子あるいは蛍光表示管を
用いたディスプレイにおいても、好ましく適用される。

【００５７】

【実施例】以下、実施例を用いて本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。な
お、濃度（％）は特に断らない限り重量％である。

【００５８】（測定方法）（１）感光性ペーストに添加するナノ粒子の平均粒子径
の測定堀場製作所製の動的光散乱式粒径分布測定装置ＬＢ−５
００を用いて測定したが、実施例１１〜１５について
は、マイクロトラック粒度分析計ＵＰＡ１５０ＭＯＤＥ
Ｌ、Ｎｏ．９３４０（日機装株式会社）を用いて測定し
た。

【００５９】（２）凝集粒子の粒子径の測定イオンエッチング法で処理した試料を、透過型電子顕微
鏡（ＴＥＭ）を用いて２万倍に拡大して撮影し、その写
真の画像処理から凝集粒子を球（画像上は円）に近似
し、その直径を算出した。５０個の凝集粒子について観
察・画像処理を行い、それらの平均値を凝集粒子の粒子
径とした。

【００６０】（３）隔壁におけるナノ粒子の平均粒子径
の測定上記（２）と同様にＴＥＭを用いて対応箇所を５０万倍
に拡大して撮影し、その写真の画像処理から平均粒子径
を算出した。

【００６１】（４）全光線反射率の測定以下の装置及び測定条件にて行った。測定装置：ＵＶ−３１０１ＰＣ型自記分光光度計（島津
製作所製）スリット幅：７．５ｎｍ測定速度：SLOW（約４points/sec）光源：ハロゲンランプ（340nm以上）検出器：ＰＭＴ（860nm以下）副白板：ＢａＳＯ４入射角：８度測定に用いた試料は、ガラス基板にペーストをスクリー
ン印刷法で塗布し乾燥した後、５９０〜６００℃で１５
分間焼成した後の厚さ約３０μｍ膜である。全光線反射
率（Ｒｔ）は入射角８度で入射した光の全反射を測定し
たものである。

【００６２】（５）気孔率の測定連続自動粉体真密度測定器（（株）セイシン企業製、オ
ートトゥルーデンサーＭＡＴ−７０００）を用いて測定
した。気孔率Ｐ（％）は、焼成膜を粉砕した微粉末での
値を真密度ｄｔｈ、焼成膜の形態での値を嵩密度ｄｅｘ
とした時、Ｐ＝｛１−（ｄｅｘ／ｄｔｈ）｝×１００と
定義される。

【００６３】真密度は、塗布・焼成膜を乳鉢で指頭に感
じない程度の３２５メッシュ以下くらいまで粉砕して測
定する。一方、嵩密度は、塗布・焼成膜の一部を形状を
崩さないように削りとり、粉砕を行わないこと以外は真
密度の場合と同様にして計測した。

【００６４】（実施例１）まず感光性ペーストの調製を
行った。感光性ペーストに含まれる各成分の量（重量
部）は、低融点ガラス５６、ナノ粒子１４（つまり低融
点ガラスとナノ粒子の混合比率は８０：２０）、感光性
ポリマー１９、感光性モノマー７．５、光重合開始剤
２．４、増感剤２．４とした。

【００６５】酸化物換算組成が、分析値で酸化リチウム
６．７％、酸化ケイ素２２％、酸化ホウ素３２％、酸化
バリウム３．９％、酸化アルミニウム１９％、酸化亜鉛
２．２％、酸化マグネシウム５．５％、酸化カルシウム
４．１％の低融点ガラスを用いた。この低融点ガラスの
ガラス転移点は４９７℃、荷重軟化点は５３０℃、熱膨
張係数は７５×１０^-7／Ｋ、屈折率は１．５８、誘電率
８．１であった。ガラス成分は、予めアトラクターで微
粉末とし、平均粒子径２．６μｍの非球状粉末として使
用した。

【００６６】このガラス粉末１００重量部に対して、
０．０８重量部のアゾ系有機染料スダンIVをアセトンに
溶解し、分散剤を加えてホモジナイザーで均質に撹拌
し、この溶液中にガラス粉末を添加して均質に分散・混
合後、ロータリーエバポレーターを用いてアセトンを蒸
発させ、１５０〜２００℃の温度で乾燥した。

【００６７】一方、γ−ブチロラクトンに感光性ポリマ
ーを４０％溶液になるように混合し、撹拌しながら６０
℃まで加熱して全てのポリマーを溶解した。用いた感光
性ポリマーは、サイクロマーＰ（ダイセル化学製品ＡＣ
Ａ２１０、分子量２８，０００、酸価１２０）を用い
た。室温の感光性ポリマー溶液に、感光性モノマー（Ｍ
ＧＰ４００）、光重合開始剤(ＩＣ−３６９）および増
感剤(２，４−ジエチルチオキサントン）を加えた後
に、超音波攪拌器で３０分間ほど攪拌して均一な１液の
状態となるように溶解させた。その後、この溶液を４０
０メッシュのフィルターを用いて濾過し、有機ビヒクル
を作製した。

【００６８】ナノ粒子として、平均粒子径が０．００５
μｍ（５ｎｍ）の酸化チタンをγ−ブチロラクトンに単
分散に近い状態で分散した２０％濃度の溶液を用いた。

【００６９】ナノ粒子の分散溶液と、前述の有機ビヒク
ルおよび低融点ガラスをスパチュラーで混ぜ、３本ロー
ラで混合・分散して感光性ペーストを得た。

【００７０】次いで、この感光性ペーストの焼成後の測
定用の試料を準備した。感光性ペーストを１００ｍｍ角
ガラス基板上に３２５メッシュのスクリーンを用いたス
クリーン印刷により塗布した。塗布膜にピンホールなど
の発生を回避するために塗布・乾燥を数回繰り返し行
い、膜厚の調整を行った。途中の乾燥は８０℃で１０分
間行った。その後、８０℃で１時間保持して乾燥した。
乾燥後の塗布膜厚さは５０μｍとした。これを６００℃
で１５分間焼成したところ、白色を呈し、全光線反射率
は７０％、気孔率は６％であった。

【００７１】また、焼成後における酸化チタンのナノ粒
子の平均粒子径は０．０１μｍ、凝集粒子の粒子径は
０．５３μｍであった。図１に焼成後の凝集粒子のＴＥ
Ｍ写真を示した。従って、後述するディスプレイ用部材
の隔壁においても、同等の全光線反射率、気孔率、焼成
後のナノ粒子の平均粒子径、凝集粒子の粒子径が得られ
ているものと推察される。

【００７２】次に、プラズマディスプレイの作製を行っ
た。ガラス基板（旭硝子社製ＰＤ２００）上に、感光性
銀ペーストを用いて、フォトリソグラフィ法により、線
幅４０μｍ、ピッチ１５０μｍの５００本のアドレス電
極を形成した。

【００７３】次に、電極上にガラス粉末５０重量％、酸
化チタン１５％、エチルセルロース２０％、溶媒１５％
からなるガラスペーストをスクリーン印刷により塗布し
た後に、焼成して誘電体層を形成した。

【００７４】誘電体層上に、前述の測定用試料の塗膜の
形成と同様にして感光性ペーストを塗布し、乾燥後の厚
さ１６５μｍの塗膜を形成した。

【００７５】続いて、１５０μｍピッチ、線幅２０μｍ
のネガ用のクロムマスクを用いて、上面から２０ｍＷ／
ｃｍ²出力の超高圧水銀灯でプロキシミティ露光した。
露光量は６００ｍＪ／ｃｍ²とした。

【００７６】次に、３５℃に保持したモノエタノールア
ミンの０．２％水溶液をシャワーで３００秒間かけるこ
とにより現像し、その後、シャワースプレーを用いて水
洗し、光硬化していないスペース部分を除去してガラス
基板上にストライプ状の隔壁パターンを形成した。

【００７７】このようにして得られた隔壁パターンを空
気中、６００℃で１５分間焼成して白色隔壁を形成し
た。形成された隔壁の断面形状を電子顕微鏡で観察した
ところ、高さ１１５μｍ、隔壁中央部の線幅３０μｍ、
ピッチ１５０μｍであった。

【００７８】隔壁間に蛍光体層を形成し、本発明のディ
スプレイ用部材としてプラズマディスプレイ用の背面板
を得た。

【００７９】この背面板を別途作製した前面板と合わせ
た後、封着しガス封入し駆動回路を接続してプラズマデ
ィスプレイを作製した。このパネルに電圧を印加して表
示を行った。全面点灯時の輝度を大塚電子社製の測光機
ＭＣＰＤ−２００を用いて測定した。輝度は４２０ｃｄ
／ｍ²であった。

【００８０】（実施例２）ナノ粒子として平均粒子径が
０．０１μｍの酸化チタンを用い、低融点ガラスの配合
量を５９重量部、ナノ粒子の配合量を１０重量部（すな
わち低融点ガラスとナノ微粒子との混合割合を８５：１
５）とした以外は、実施例１を繰り返した。焼成後の測
定において、全光線反射率は６０％であり、気孔率は５
％であった。また、焼成後の酸化チタンのナノ粒子の平
均粒子径は、０．０２μｍ、凝集粒子の粒子径は０．５
μｍであった。さらに、プラズマディスプレイの輝度は
３８０ｃｄ／ｍ²であった。

【００８１】（実施例３）ナノ粒子として平均粒子径が
０．０３μｍの酸化チタンを用い、低融点ガラスの配合
量を６３重量部、ナノ粒子の配合量を７重量部（すなわ
ち低融点ガラスとナノ粒子との混合割合を９０：１
０）とし、隔壁の焼成温度を５９０℃とした以外は実施
例１を繰り返した。焼成後の測定において、全光線反射
率は５５％であり、気孔率は４％であった。また、焼成
後の酸化チタンのナノ粒子の平均粒子径は０．０５μ
ｍ、凝集粒子の粒子径は０．７μｍであった。さらに、
プラズマディスプレイ用の背面板において白色隔壁を形
成することができ、これを用いたプラズマディスプレイ
の輝度は３５０ｃｄ／ｍ²であった。

【００８２】（実施例４）低融点ガラスとして、酸化物
換算組成が分析値で、酸化リチウム６．７％、酸化ケイ
素２２％、酸化ホウ素３２％、酸化バリウム３．９％、
酸化アルミニウム１９％、酸化亜鉛２．２％、酸化マグ
ネシウム５．５％、酸化カルシウム４．１％ののものを
用いた。この低融点ガラスのガラス転移点は４９７℃、
荷重軟化点は５３０℃、熱膨張係数は７５×１０^-7／
Ｋ、屈折率は１．５８であった。ガラス成分は、予めア
トラクターで微粉末とし、平均粒子径２．６μｍの非球
状粉末にして使用した。

【００８３】ナノ粒子として粒度分布のピークが０．０
５μｍにある酸化チタンを用い、低融点ガラスとして下
記のものを用いた。

【００８４】また、低融点ガラスの配合量を５９重量
部、ナノ粒子の配合量を１０重量部（すなわち低融点ガ
ラスとナノ微粒子との混合割合を８５：１５）とした。

【００８５】これら以外は実施例１を繰り返した。焼成
後の測定において、全光線反射率は６５％であり、気孔
率は５％であった。また、焼成後の酸化チタンのナノ粒
子の平均粒子径は、０．０８μｍ、凝集粒子の粒子径は
１．０μｍであった。さらに、プラズマディスプレイ用
の背面板において白色隔壁を形成することができ、これ
を用いたプラズマディスプレイの輝度は４００ｃｄ／ｍ
²であった。

【００８６】（実施例５）低融点ガラスとして、酸化物
組成が分析値で、酸化リチウム８．６％、酸化ケイ素２
０．１％、酸化ホウ素３１％、酸化アルミニウム２０．
６％、酸化バリウム３．８％、酸化マグネシウム５．９
％、酸化カルシウム４．２％、酸化亜鉛２．１％のもの
を用いた。この低融点ガラスのガラス転移点は４７２
℃、荷重軟化点は５１５℃、熱膨張係数は８３×１０^-7
／Ｋ、平均屈折率は１．５９であった。ガラス成分は、
予めアトラクターで微粉末とし、平均粒子径２．６μｍ
の非球状粉末にして使用した。

【００８７】ナノ粒子として平均粒子径が０．０１μｍ
にある酸化アルミニウムを用た。

【００８８】また低融点ガラスの配合量を６３重量部、
ナノ粒子の配合量を７重量部（すなわち低融点ガラス
とナノ粒子との混合割合を９０：１０）とした。

【００８９】さらに感光性ポリマーとして、メタクリル
酸４０％、メチルメタクリレート３０％およびスチレン
３０％からなる共重合体のカルボキシル基に対して０．
４当量のグリシジルメタクリレートを付加反応させたも
ので、その重量平均分子量は４３，０００、酸価は９５
のものを用いた。また隔壁の焼成温度を５９０℃とし
た。

【００９０】これら以外は実施例１を繰り返した。焼成
後の測定において、全光線反射率は５０％であり、気孔
率は４％であった。また、焼成後の酸化アルミニウムの
ナノ粒子の平均粒子径は、０．０２μｍ、凝集粒子の粒
子径は０．４μｍであった。さらに、プラズマディスプ
レイ用の背面板において白色隔壁を形成することがで
き、これを用いたプラズマディスプレイの輝度は３３０
ｃｄ／ｍ²であった。

【００９１】（実施例６）ナノ粒子として平均粒子径が
０．０２μｍの酸化ケイ素を用いた以外は実施例５を繰
り返した。

【００９２】焼成後の測定において全光線反射率は５２
％であり、気孔率は５％であった。また、焼成後の酸化
ケイ素のナノ粒子の平均粒子径は、０．０３５μｍ、凝
集粒子の粒子径は０．５μｍであった。さらに、プラズ
マディスプレイ用の背面板において白色隔壁を形成する
ことができ、これを用いたプラズマディスプレイの輝度
は３４０ｃｄ／ｍ²であった。

【００９３】（実施例７）ナノ粒子として平均粒子径が
０．０２μｍの酸化セリウムを用いた以外は実施例５を
繰り返した。

【００９４】焼成後の測定において全光線反射率は５０
％であり、気孔率は４％であった。また、焼成後の酸化
セリウムのナノ粒子の平均粒子径は、０．０４５μｍ、
凝集粒子の粒子径は０．７μｍであった。さらに、プラ
ズマディスプレイ用の背面板において白色隔壁を形成す
ることができ、これを用いたプラズマディスプレイの輝
度は３３０ｃｄ／ｍ²であった。

【００９５】（実施例８）電子放出素子を用いたディス
プレイは、電子放出素子を作製した電子源を固定する背
面基板と、蛍光体層とメタルバックが形成された前面基
板を封着して作製した。前面基板と背面基板との間に
は、支持枠と耐大気圧支持部材として隔壁を作製した。

【００９６】表面伝導型電子放出素子および電極間配線
を形成した基板上に、実施例１で用いた感光性ペースト
をスクリーン印刷により全面塗布・乾燥し、これを繰り
返して乾燥厚みが約１ｍｍの塗布膜を形成した。この塗
布膜に、幅２ｍｍのストライプ状の開口部を１ｃｍピッ
チで有するフォトマスクを密着させて、出力１５ｍＷ／
ｃｍ²の超高圧水銀灯で紫外線露光した。露光量は１．
２Ｊ／ｃｍ²とした。次に、２回目の感光性ペーストの
塗布・乾燥を行って、最初と同様の厚みの２段目の塗布
膜を形成し、今度は開口部幅１．６ｍｍのフォトマスク
を最初の露光部に対応するようにアライメントして同様
に露光した。この手法を３段目まで繰り返し、３段目に
は１．２ｍｍの開口部を有するフォトマスクを使用し
た。このように露光処理の終わった塗布膜を実施例３と
同様の手段で現像・水洗して、断面が３段の雛壇状の高
さ２．３ｍｍのストライプ状の隔壁パターンを形成し
た。これを空気中５８０℃で２０分間焼成し、白色隔壁
を有する電子放出素子を用いたディスプレイ用の背面基
板を得た。ここで得られた隔壁の全光線反射率、気孔率
および凝集粒子のサイズは、実施例３の場合と同様と推
定することができる。

【００９７】一方、ブラックマトリクスおよび３原色に
発光する蛍光体層を形成しメタルバックを設けた前面基
板を別途作製し、上記背面基板と封着して電子放出素子
を用いたディスプレイを得た。得られたディスプレイ
は、白色隔壁の効果により輝度が向上した。

【００９８】（実施例９）実施例２の感光性ペーストを
用いて、プラズマアドレス液晶ディスプレイ用の隔壁を
形成した。実施例２と同様の白色隔壁が形成された。こ
れにより、ディスプレイの輝度および色純度が向上し
た。

【００９９】（実施例１０）実施例３の感光性ペースト
を用いて、蛍光表示管を用いたディスプレイ用の隔壁を
形成した。実施例３と同様の白色隔壁が形成された。こ
れにより、ディスプレイの輝度および色純度が向上し
た。

【０１００】（実施例１１）低融点ガラス粉末、酸化チ
タン微粒子およびフィラーとして高融点ガラス粉末から
なる無機成分それぞれをを７５％、５％、２０％の割合
で用いた。低融点ガラス粉末は、実施例１と同じ粉末を
用いた。酸化チタン微粒子（多木化学社製、“タイノッ
ク”、酸化チタン濃度１８．５％）は、純度９９％以上
で、平均粒子径は０．００４μｍであった。

【０１０１】フィラーとして用いた高融点ガラスの酸化
物換算組成は、酸化ケイ素３８％、酸化ホウ素１０％、
酸化バリウム５％、酸化カルシウム４％、酸化アルミニ
ウム３６％、酸化亜鉛２％、酸化マグネシウム５％であ
り、ガラス転移点６５２℃、荷重軟化点７４６℃を有
し、平均粒子径２．４μｍで屈折率は１．５９、誘電率
７．０であった。

【０１０２】感光性ポリマーは、実施例１と同じものを
用いた。感光性ペーストの構成成分は、感光性ポリマ
ー１５％、感光性モノマーＧＭＰＡ７．２％、光重合開
始剤（チバ・ガイギー社製、２−ベンジル−２−ジメチ
ルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン
−１：ＩＣ３６９）３．６％、ベンゾトリアゾール（Ｂ
Ｔ）３．１５％、ノプコスパース（サンノプコ社製）
０．５％、ハイドロキノンモノメチルエーテル（ＨＱＭ
Ｅ）０．１％、スダンIV０．０３５％、フローノン（共
栄社化学社製）０．７％と無機成分７０％つぃた。溶媒
にはγ−ブチロラクトンを用いた。ここで、ＧＭＰＡ
は、ビス（２−ヒドロキシ−３−メタクリロイルオキシ
プロピル）イソプロピルアミン（以下、ＧＭＰＡと略
記）で示されるモノマーである。この感光性ペーストを
用い、焼成条件をを５９０℃、３０分保持とした以外は
実施例１を繰り返した。

【０１０３】焼成後の測定において、全光線反射率は５
２％であり、気孔率は３％であった。また、焼成後の酸
化チタンのナノ粒子の平均粒子径は、０．０１μｍ、凝
集粒子の粒子径は０．５μｍであった。さらに、プラズ
マディスプレイの輝度は４３０ｃｄ／ｍ²であった。

【０１０４】（実施例１２）ナノ粒子として、酸化チタ
ン系微粒子（触媒化成製、オプトレイク５０２）を用い
た。これは、酸化チタン４２．８％、酸化錫３７．１
％、酸化ケイ素２１．１％から構成されており、その平
均粒子径は０．００５μｍであった。低融点ガラス粉
末、酸化チタン系微粒子およびフィラーとして高融点ガ
ラス粉末からなる無機成分それぞれをを７７％、３％、
２０％の割合で用いた以外は実施例１１を繰り返した。

【０１０５】焼成後の測定において、全光線反射率は５
３％であり、気孔率は３％であった。また、焼成後の酸
化チタンのナノ粒子の平均粒子径は、０．０２μｍ、凝
集粒子の粒子径は０．６μｍであった。さらに、プラズ
マディスプレイの輝度は４００ｃｄ／ｍ²であった。

【０１０６】（実施例１３）実施例１１と同じナノ粒子
を用い、フィラーとして誘電率３．８の石英を用いた以
外は実施例１１を繰り返した。

【０１０７】焼成後の測定において、全光線反射率は５
８％であり、気孔率は５％であった。また、焼成後の酸
化チタンのナノ粒子の平均粒子径は、０．０１μｍ、凝
集粒子の粒子径は０．４μｍであった。さらに、プラズ
マディスプレイの輝度は３８０ｃｄ／ｍ²であった。

【０１０８】（実施例１４）実施例１１と同じナノ粒子
を用い、フィラーとして誘電率４．５のコーディエライ
トを用いた以外は実施例１３を繰り返した。

【０１０９】焼成後の測定において、全光線反射率は６
０％であり、気孔率は５％であった。また、焼成後の酸
化チタンのナノ粒子の平均粒子径は、０．０２μｍ、凝
集粒子の粒子径は０．５μｍであった。さらに、プラズ
マディスプレイの輝度は３８０ｃｄ／ｍ²であった。

【０１１０】（実施例１５）ナノ粒子として、酸化チタ
ン系微粒子（触媒化成製、オプトレイク５０５）を用い
た。これは、酸化チタン４１．８％、酸化錫３７．１
％、酸化ケイ素２１．１％から構成されており、その平
均粒子径は０．００８μｍであった。フィラーとして誘
電率６．３のセルジアン（ＢａＯ・Ａｌ₂Ｏ₃・Ｓｉ
Ｏ₂）を用いた以外は実施例１３を繰り返した。

【０１１１】焼成後の測定において、全光線反射率は５
５％であり、気孔率は５％であった。また、焼成後の酸
化チタンのナノ粒子の平均粒子径は、０．０２μｍ、凝
集粒子の粒子径は０．５μｍであった。さらに、プラズ
マディスプレイの輝度は３８０ｃｄ／ｍ²であった。

【０１１２】（比較例１）ナノ粒子として平均粒子径が
０．００２μｍの酸化チタンを用いた他は実施例１を繰
り返した。焼成後の測定において全光線反射率は６５％
であるが、気孔率が１０％となった。また、焼成後の酸
化チタンのナノ粒子の平均粒子径は、０．００５μｍ、
凝集粒子の粒子径は０．２μｍであった。一方、プラズ
マディスプレイの作製において感光性ペーストの塗布膜
を露光・現像したが、ナノ粒子が凝集して、パターン形
成が出来なかった。

【０１１３】（比較例２）実施例１で用いたナノ粒子の
替わりに平均粒子径が０．１μｍの酸化チタンの酸化物
粉末を用いた他は実施例１を繰り返した。焼成後の測定
において全光線反射率は６５％であり、気孔率は３％で
あった。また、焼成後の酸化チタンの粒子の平均粒子径
は０．２μｍ、凝集粒子の粒子径は０．４μｍであっ
た。しかしながら、プラズマディスプレイの作製におい
て、感光性ペースト塗布膜を露光・現像したが、得られ
た隔壁パターンの形状が不適であり、良好な隔壁形成が
できなかった。

【０１１４】（略記号の説明）ＭＧＰ４００：X₂N-CH(CH₃)-CH₂-(OCH₂CH(CH₃))n-NＸ₂ Ｘ：-CH₂CH(OH)-CH₂O-CO-C(CH₃)=CH₂ ｎ：２〜１０ＩＣ−３６９：‘Irgacure369’（チバガイギー社製品） 2-ヘ゛ンシ゛ル-2-シ゛メチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)フ゛タノン-1

【０１１５】

【発明の効果】本発明のディスプレイ用部材における隔
壁には、ナノ粒子が凝集して形成された粒子径０．３〜
２μｍの凝集粒子が存在するため隔壁の全光線反射率が
高く、高輝度で、色純度に優れたディスプレイを得るこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１における、ナノ粒子の凝集粒子の、透
過型電子顕微鏡による観察写真である。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に隔壁を形成したディスプレイ用部
材であって、隔壁が低融点ガラス材料を含有し、かつ隔
壁が平均粒子径０．００３〜０．０８μｍの無機微粒子
により構成される粒子径０．３〜２μｍの凝集粒子を含
有することを特徴とするディスプレイ用部材。
【請求項２】無機微粒子が、酸化チタン、酸化セリウ
ム、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化錫から選ばれ
る少なくとも１種であることを特徴とする請求項１記載
のディスプレイ用部材。
【請求項３】低融点ガラス材料が、ガラス転移点４００
〜５５０℃、荷重軟化点４５０〜６００℃であることを
特徴とする請求項１または２記載のディスプレイ用部
材。
【請求項４】低融点ガラス材料の平均屈折率が１．５〜
１．６５であることを特徴とする請求項１〜３のいずれ
か記載のディスプレイ用部材。
【請求項５】隔壁が、フィラーを含有することを特徴と
する請求項１〜４のいずれかに記載のディスプレイ用部
材。
【請求項６】フィラーが、コーディエライト、セルジア
ン、アノーサイト、ステアタイト、スポジュウメン、フ
ォルステライト、シリカ、高融点ガラスからなる群より
選ばれた少なくとも一種であることを特徴とする請求項
５記載のディスプレイ用部材。
【請求項７】請求項１〜６のいずれか記載のディスプレ
イ用部材を用いたことを特徴とするプラズマディスプレ
イ。
【請求項８】請求項１〜６のいずれか記載のディスプレ
イ用部材を用いたことを特徴とするプラズマアドレス液
晶ディスプレイ。
【請求項９】請求項１〜６のいずれか記載のディスプレ
イ用部材を用いたことを特徴とする電子放出素子を用い
たディスプレイ。
【請求項１０】請求項１〜６のいずれか記載のディスプ
レイ用部材を用いたことを特徴とする蛍光表示管素子を
用いたディスプレイ。