JP2001226342A - ４−（トリブロモメチルスルホニル）ベンゾフェノンの製造方法 - Google Patents
４−（トリブロモメチルスルホニル）ベンゾフェノンの製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】光照射によりラジカルを発生する能力を有する
４−（トリブロモメチルスルホニル）ベンゾフェノンの
製造方法を提供する。 【解決手段】下記式（１）； で表される４−（メチルチオ）ベンゾフェノンを酸化お
よび臭素化することを特徴とする下記式（２）； で表される４−（トリブロモメチルスルホニル）ベンゾ
フェノンの製造方法。
４−（トリブロモメチルスルホニル）ベンゾフェノンの
製造方法を提供する。 【解決手段】下記式（１）； で表される４−（メチルチオ）ベンゾフェノンを酸化お
よび臭素化することを特徴とする下記式（２）； で表される４−（トリブロモメチルスルホニル）ベンゾ
フェノンの製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、４−（トリブロモ
メチルスルホニル）ベンゾフェノンの製造方法に関す
る。さらに詳しくは光照射によりラジカルを発生する能
力を有する４−（トリブロモメチルスルホニル）ベンゾ
フェノンの製造方法に関する。
メチルスルホニル）ベンゾフェノンの製造方法に関す
る。さらに詳しくは光照射によりラジカルを発生する能
力を有する４−（トリブロモメチルスルホニル）ベンゾ
フェノンの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、光重合開始剤として、分子内にハ
ロゲンを有する化合物、例えば四塩化炭素、四臭化炭
素、ヘキサクロロエタン、α、α、α−トリクロロトル
エン、ｏ−ニトロ−α、α、α−トリブロモアセトフェ
ノン、ｏ−ニトロベンゼンスルフェニルクロライド、ヘ
キサブロモジメチルスルホキシド、トリクロロメチルフ
ェニルスルホン、トリブロモメチルフェニルスルホン、
トリブロモメチル−ｐ−ニトロフェニルスルホンおよび
テトラブロモジメチルスルホン等が知られている。
ロゲンを有する化合物、例えば四塩化炭素、四臭化炭
素、ヘキサクロロエタン、α、α、α−トリクロロトル
エン、ｏ−ニトロ−α、α、α−トリブロモアセトフェ
ノン、ｏ−ニトロベンゼンスルフェニルクロライド、ヘ
キサブロモジメチルスルホキシド、トリクロロメチルフ
ェニルスルホン、トリブロモメチルフェニルスルホン、
トリブロモメチル−ｐ−ニトロフェニルスルホンおよび
テトラブロモジメチルスルホン等が知られている。
【０００３】中でも、（トリハロゲノメチル）フェニル
スルホン類は、光照射によりラジカルを生じるため重合
反応の開始剤として有用であり、さらにハロゲン化銀写
真のカブリ防止剤としても有用な化合物である。また、
微生物に対する抗菌剤としても重要な化合物である。
スルホン類は、光照射によりラジカルを生じるため重合
反応の開始剤として有用であり、さらにハロゲン化銀写
真のカブリ防止剤としても有用な化合物である。また、
微生物に対する抗菌剤としても重要な化合物である。
【０００４】特に、４−（トリブロモメチルスルホニ
ル）ベンゾフェノンは、水銀灯のスペクトルを有効に利
用でき、ラジカル発生効率の良い光重合開始剤として有
用である。しかしながら、４−（トリブロモメチルスル
ホニル）ベンゾフェノンを工業的に製造する方法は知ら
れていない。
ル）ベンゾフェノンは、水銀灯のスペクトルを有効に利
用でき、ラジカル発生効率の良い光重合開始剤として有
用である。しかしながら、４−（トリブロモメチルスル
ホニル）ベンゾフェノンを工業的に製造する方法は知ら
れていない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、４−
（トリブロモメチルスルホニル）ベンゾフェノンの製造
方法を提供することにある。
（トリブロモメチルスルホニル）ベンゾフェノンの製造
方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の課
題を解決するために鋭意検討を行った結果、４−（メチ
ルチオ）ベンゾフェノンを酸化および臭素化することに
より４−（トリブロモメチルスルホニル）ベンゾフェノ
ンが容易に得られることを見出した。すなわち、本発明
は、下記式（１）；
題を解決するために鋭意検討を行った結果、４−（メチ
ルチオ）ベンゾフェノンを酸化および臭素化することに
より４−（トリブロモメチルスルホニル）ベンゾフェノ
ンが容易に得られることを見出した。すなわち、本発明
は、下記式（１）；
【０００７】
【化７】
【０００８】で表される４−（メチルチオ）ベンゾフェ
ノンを酸化および臭素化することを特徴とする下記式
（２）；
ノンを酸化および臭素化することを特徴とする下記式
（２）；
【０００９】
【化８】
【００１０】で表される４−（トリブロモメチルスルホ
ニル）ベンゾフェノンの製造方法に関する。
ニル）ベンゾフェノンの製造方法に関する。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明においては、下記式
（１）；
（１）；
【００１２】
【化９】
【００１３】で表される４−（メチルチオ）ベンゾフェ
ノンを酸化および臭素化することにより下記式（２）；
ノンを酸化および臭素化することにより下記式（２）；
【００１４】
【化１０】
【００１５】で表される４−（トリブロモメチルスルホ
ニル）ベンゾフェノンを製造することができる。
ニル）ベンゾフェノンを製造することができる。
【００１６】前記４−（メチルチオ）ベンゾフェノンを
酸化および臭素化する方法としては、（Ａ）塩基と水の
存在下に臭素を用いて酸化および臭素化を同時に行う方
法、（Ｂ）次亜臭素酸塩を用いて酸化および臭素化を同
時に行う方法等が挙げられる。
酸化および臭素化する方法としては、（Ａ）塩基と水の
存在下に臭素を用いて酸化および臭素化を同時に行う方
法、（Ｂ）次亜臭素酸塩を用いて酸化および臭素化を同
時に行う方法等が挙げられる。
【００１７】前記（Ａ）塩基と水の存在下に臭素を用い
て酸化および臭素化を同時に行う方法において用いられ
る臭素の使用量は、４−（メチルチオ）ベンゾフェノン
１モル対して、５〜２０モル、好ましくは６〜１５モル
である。臭素の使用量が５モル未満の場合、反応が完結
しにくく、２０モルを越える場合、使用量に見合う効果
がなく経済的に不利である。
て酸化および臭素化を同時に行う方法において用いられ
る臭素の使用量は、４−（メチルチオ）ベンゾフェノン
１モル対して、５〜２０モル、好ましくは６〜１５モル
である。臭素の使用量が５モル未満の場合、反応が完結
しにくく、２０モルを越える場合、使用量に見合う効果
がなく経済的に不利である。
【００１８】前記塩基としては、特に限定されないが、
水酸化リチウム、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウ
ム等のアルカリ金属水酸化物等が挙げられる。塩基の使
用量は、臭素１モル対して、通常２〜８モル、好ましく
は２．１〜５モルである。塩基の使用量が２モル未満の
場合、反応が完結しにくく、８モルを越える場合、使用
量に見合う効果がなく経済的に不利である。
水酸化リチウム、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウ
ム等のアルカリ金属水酸化物等が挙げられる。塩基の使
用量は、臭素１モル対して、通常２〜８モル、好ましく
は２．１〜５モルである。塩基の使用量が２モル未満の
場合、反応が完結しにくく、８モルを越える場合、使用
量に見合う効果がなく経済的に不利である。
【００１９】前記水の量は、特に限定されないが、塩基
１モルに対して４０〜８００ｇ程度である。
１モルに対して４０〜８００ｇ程度である。
【００２０】前記（Ｂ）次亜臭素酸塩を用いて酸化およ
び臭素化を同時に行う方法において用いられる次亜臭素
酸塩としては、特に限定されないが、次亜臭素酸ナトリ
ウム、次亜臭素酸カリウム等の次亜臭素酸のアルカリ金
属塩等が挙げられる。中でも次亜臭素酸ナトリウムが好
適に用いられる。
び臭素化を同時に行う方法において用いられる次亜臭素
酸塩としては、特に限定されないが、次亜臭素酸ナトリ
ウム、次亜臭素酸カリウム等の次亜臭素酸のアルカリ金
属塩等が挙げられる。中でも次亜臭素酸ナトリウムが好
適に用いられる。
【００２１】前記次亜臭素酸塩の使用量は、４−（メチ
ルチオ）ベンゾフェノン１モル対して５〜２０モル、好
ましくは６〜１５モルである。次亜臭素酸塩の使用量が
５モル未満の場合、反応が完結しにくく、２０モルを越
える場合、使用量に見合う効果がなく経済的に不利であ
る。
ルチオ）ベンゾフェノン１モル対して５〜２０モル、好
ましくは６〜１５モルである。次亜臭素酸塩の使用量が
５モル未満の場合、反応が完結しにくく、２０モルを越
える場合、使用量に見合う効果がなく経済的に不利であ
る。
【００２２】前記次亜臭素酸塩は、通常水溶液として用
いられ、その濃度は、特に限定されないが、工業的には
１０〜３０重量％のものが有利に使用できる。
いられ、その濃度は、特に限定されないが、工業的には
１０〜３０重量％のものが有利に使用できる。
【００２３】前記（Ａ）および（Ｂ）の方法における反
応温度は、いずれの場合も通常５〜８０℃、好ましくは
１５〜７５℃である。反応温度が、５℃未満の場合、反
応速度が遅く、反応に長時間を要し、８０℃を越える場
合、反応速度は早くなるが、副反応生成物も増加する。
反応時間は、反応温度により異なるが、通常５〜２０時
間である。
応温度は、いずれの場合も通常５〜８０℃、好ましくは
１５〜７５℃である。反応温度が、５℃未満の場合、反
応速度が遅く、反応に長時間を要し、８０℃を越える場
合、反応速度は早くなるが、副反応生成物も増加する。
反応時間は、反応温度により異なるが、通常５〜２０時
間である。
【００２４】前記（Ａ）および（Ｂ）の方法において
は、通常、反応は不均一系で進行するため相間移動触媒
を添加して反応を円滑に進行させることができる。前記
相間移動触媒としては、特に限定されないが、テトラブ
チルアンモニウムクロライド、テトラブチルアンモニウ
ムブロマイド等の第４級アンモニウム塩、テトラブチル
ホスホニウムクロライド、テトラブチルホスホニウムブ
ロマイド等の第４級ホスホニウム塩等が好適に用いられ
る。その使用量は、４−（メチルチオ）ベンゾフェノン
に対して、通常０．１〜５０重量％である。
は、通常、反応は不均一系で進行するため相間移動触媒
を添加して反応を円滑に進行させることができる。前記
相間移動触媒としては、特に限定されないが、テトラブ
チルアンモニウムクロライド、テトラブチルアンモニウ
ムブロマイド等の第４級アンモニウム塩、テトラブチル
ホスホニウムクロライド、テトラブチルホスホニウムブ
ロマイド等の第４級ホスホニウム塩等が好適に用いられ
る。その使用量は、４−（メチルチオ）ベンゾフェノン
に対して、通常０．１〜５０重量％である。
【００２５】前記（Ａ）および（Ｂ）の方法において
は、原料である４−（メチルチオ）ベンゾフェノンおよ
び生成物である４−（トリブロモメチルスルホニル）ベ
ンゾフェノンが共に水不溶性であるため、酸化および臭
素化反応は固−液の不均一２相系で行われる。したがっ
て、反応終了後に、通常のろ過操作のみで容易に４−
（トリブロモメチルスルホニル）ベンゾフェノンを単離
することができる。また、モノクロロベンゼン、ジクロ
ロベンゼン等の有機溶媒を用いて、液−液の不均一２相
系で酸化および臭素化反応を行うこともできる。その
際、反応終了後に、通常の分液操作で有機層を得、得ら
れた有機層を冷却することにより４−（トリブロモメチ
ルスルホニル）ベンゾフェノンを析出させて単離するこ
とができる。前記有機溶媒の使用量は、４−（メチルチ
オ）ベンゾフェノン１モルに対して５００〜２０００ｇ
が適量である。
は、原料である４−（メチルチオ）ベンゾフェノンおよ
び生成物である４−（トリブロモメチルスルホニル）ベ
ンゾフェノンが共に水不溶性であるため、酸化および臭
素化反応は固−液の不均一２相系で行われる。したがっ
て、反応終了後に、通常のろ過操作のみで容易に４−
（トリブロモメチルスルホニル）ベンゾフェノンを単離
することができる。また、モノクロロベンゼン、ジクロ
ロベンゼン等の有機溶媒を用いて、液−液の不均一２相
系で酸化および臭素化反応を行うこともできる。その
際、反応終了後に、通常の分液操作で有機層を得、得ら
れた有機層を冷却することにより４−（トリブロモメチ
ルスルホニル）ベンゾフェノンを析出させて単離するこ
とができる。前記有機溶媒の使用量は、４−（メチルチ
オ）ベンゾフェノン１モルに対して５００〜２０００ｇ
が適量である。
【００２６】本発明の製造方法において原料として用い
られる前記式（１）で表される４−メチルチオベンゾフ
ェノンの製造方法としては、特に限定されないが、例え
ば下記一般式（３）；
られる前記式（１）で表される４−メチルチオベンゾフ
ェノンの製造方法としては、特に限定されないが、例え
ば下記一般式（３）；
【００２７】
【化１１】 （式中、Ｘはハロゲン原子を表す。）
【００２８】で表される４−ハロゲノベンゾフェノンと
メタンチオールのアルカリ金属塩を反応させる方法等が
挙げられる。
メタンチオールのアルカリ金属塩を反応させる方法等が
挙げられる。
【００２９】ここで、前記一般式（３）で表される４−
ハロゲノベンゾフェノンは、例えば、モノハロゲノベン
ゼンとベンゾイルクロライドをルイス酸触媒下で反応さ
せる公知の方法等により製造することができる。前記４
−ハロゲノベンゾフェノンの具体例としては、例えば４
−フルオロベンゾフェノン、４−クロロベンゾフェノ
ン、４−ブロモベンゾフェノンおよび４−イオドベンゾ
フェノン等が挙げられる。中でも、４−クロロベンゾフ
ェノンが好適に用いられる。
ハロゲノベンゾフェノンは、例えば、モノハロゲノベン
ゼンとベンゾイルクロライドをルイス酸触媒下で反応さ
せる公知の方法等により製造することができる。前記４
−ハロゲノベンゾフェノンの具体例としては、例えば４
−フルオロベンゾフェノン、４−クロロベンゾフェノ
ン、４−ブロモベンゾフェノンおよび４−イオドベンゾ
フェノン等が挙げられる。中でも、４−クロロベンゾフ
ェノンが好適に用いられる。
【００３０】前記４−ハロゲノベンゾフェノンとメタン
チオールのアルカリ金属塩との反応に用いられるメタン
チオールのアルカリ金属塩としては、特に限定されない
が、カリウムメタンチオレート、ナトリウムメタンチオ
レート等が挙げられる。中でもナトリウムメタンチオレ
ートが好適に用いられる。メタンチオールのアルカリ金
属塩の使用量は、４−ハロゲノベンゾフェノン１モルに
対して、通常１〜３モル、好ましくは１〜２モル、さら
に好ましくは１．１〜１．５モルである。メタンチオー
ルのアルカリ金属塩の使用量が１モル未満の場合、未反
応の４−ハロゲノベンゾフェノンが多くなり、３モルを
越える場合、使用量に見合う効果が得られず経済的に不
利である。
チオールのアルカリ金属塩との反応に用いられるメタン
チオールのアルカリ金属塩としては、特に限定されない
が、カリウムメタンチオレート、ナトリウムメタンチオ
レート等が挙げられる。中でもナトリウムメタンチオレ
ートが好適に用いられる。メタンチオールのアルカリ金
属塩の使用量は、４−ハロゲノベンゾフェノン１モルに
対して、通常１〜３モル、好ましくは１〜２モル、さら
に好ましくは１．１〜１．５モルである。メタンチオー
ルのアルカリ金属塩の使用量が１モル未満の場合、未反
応の４−ハロゲノベンゾフェノンが多くなり、３モルを
越える場合、使用量に見合う効果が得られず経済的に不
利である。
【００３１】前記メタンチオールのアルカリ金属塩は、
通常水溶液として用いられ、その濃度は、５〜６０重量
％、好ましくは１０〜４０重量％である。
通常水溶液として用いられ、その濃度は、５〜６０重量
％、好ましくは１０〜４０重量％である。
【００３２】前記反応においては、通常、反応は不均一
系で進行するため相間移動触媒を添加して反応を円滑に
進行させることができる。前記相間移動触媒としては、
特に限定されないが、テトラブチルアンモニウムクロラ
イド、テトラブチルアンモニウムブロマイド等の第４級
アンモニウム塩、テトラブチルホスホニウムクロライ
ド、テトラブチルホスホニウムブロマイド等の第４級ホ
スホニウム塩等が好適に用いられる。その使用量は、４
−ハロゲノベンゾフェノンに対し、通常０．１〜５０重
量％、好ましくは１〜２０重量％である。相間移動触媒
の使用量が０．１重量％未満の場合、触媒効果が十分に
あらわれず、５０重量％を越える場合、それに見合う効
果が得られず経済的に不利である。
系で進行するため相間移動触媒を添加して反応を円滑に
進行させることができる。前記相間移動触媒としては、
特に限定されないが、テトラブチルアンモニウムクロラ
イド、テトラブチルアンモニウムブロマイド等の第４級
アンモニウム塩、テトラブチルホスホニウムクロライ
ド、テトラブチルホスホニウムブロマイド等の第４級ホ
スホニウム塩等が好適に用いられる。その使用量は、４
−ハロゲノベンゾフェノンに対し、通常０．１〜５０重
量％、好ましくは１〜２０重量％である。相間移動触媒
の使用量が０．１重量％未満の場合、触媒効果が十分に
あらわれず、５０重量％を越える場合、それに見合う効
果が得られず経済的に不利である。
【００３３】前記反応における反応温度は、通常５０〜
１２０℃、好ましくは７５〜１１０℃である。反応温度
が５０℃未満の場合、反応が遅く、反応に長時間を要
し、１２０℃を越える場合、反応は速くなるが、副生成
物も増加する。反応時間は、反応温度により異なるが通
常１〜１０時間である。
１２０℃、好ましくは７５〜１１０℃である。反応温度
が５０℃未満の場合、反応が遅く、反応に長時間を要
し、１２０℃を越える場合、反応は速くなるが、副生成
物も増加する。反応時間は、反応温度により異なるが通
常１〜１０時間である。
【００３４】前記反応においては、原料である４−ハロ
ゲノベンゾフェノンが水不溶性であるため、反応温度が
４−ハロゲノベンゾフェノンの融点未満の場合、反応は
固−液の不均一２相系で進行し、また、反応温度が４−
ハロゲノベンゾフェノンの融点以上の場合には、反応は
液−液の不均一２相系で進行する。生成物である４−
（メチルチオ）ベンゾフェノンも水不溶性であるため、
反応終了後に反応液を４−（メチルチオ）ベンゾフェノ
ンの融点未満の温度まで冷却することにより、通常のろ
過操作のみで容易に４−（メチルチオ）ベンゾフェノン
を単離することができる。一方、モノクロロベンゼン、
ジクロロベンゼン等の４−ハロゲノベンゾフェノンが溶
解する有機溶媒を用いて液−液の不均一２相系で反応を
行うこともできる。その際、反応終了後に、通常の分液
操作で有機層を得、得られた有機層を冷却することによ
り４−（メチルチオ）ベンゾフェノンを析出させて単離
することができる。前記有機溶媒の使用量は、４−ハロ
ゲノベンゾフェノン１モルに対して５００〜２０００ｇ
が適量である。
ゲノベンゾフェノンが水不溶性であるため、反応温度が
４−ハロゲノベンゾフェノンの融点未満の場合、反応は
固−液の不均一２相系で進行し、また、反応温度が４−
ハロゲノベンゾフェノンの融点以上の場合には、反応は
液−液の不均一２相系で進行する。生成物である４−
（メチルチオ）ベンゾフェノンも水不溶性であるため、
反応終了後に反応液を４−（メチルチオ）ベンゾフェノ
ンの融点未満の温度まで冷却することにより、通常のろ
過操作のみで容易に４−（メチルチオ）ベンゾフェノン
を単離することができる。一方、モノクロロベンゼン、
ジクロロベンゼン等の４−ハロゲノベンゾフェノンが溶
解する有機溶媒を用いて液−液の不均一２相系で反応を
行うこともできる。その際、反応終了後に、通常の分液
操作で有機層を得、得られた有機層を冷却することによ
り４−（メチルチオ）ベンゾフェノンを析出させて単離
することができる。前記有機溶媒の使用量は、４−ハロ
ゲノベンゾフェノン１モルに対して５００〜２０００ｇ
が適量である。
【００３５】本発明においては４−（メチルチオ）ベン
ゾフェノンを含む反応液を用いて、引き続き酸化および
臭素化することにより４−（トリブロモメチルスルホニ
ル）ベンゾフェノンを製造することもできる。
ゾフェノンを含む反応液を用いて、引き続き酸化および
臭素化することにより４−（トリブロモメチルスルホニ
ル）ベンゾフェノンを製造することもできる。
【００３６】
【実施例】以下、実施例によって本発明を更に詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例により何ら制約を受
けるものではない。
明するが、本発明はこれらの実施例により何ら制約を受
けるものではない。
【００３７】実施例１ 攪拌機、温度計、冷却器および滴下ロートを備えた０．
５ｄｍ3容の４つ口フラスコに４−クロロベンゾフェノ
ン２１．６ｇ（０．１モル）、テトラブチルアンモニウ
ムブロマイド１．５ｇおよびモノクロロベンゼン６０ｇ
を仕込み、７０〜８０℃で３時間を要して３０重量％ナ
トリウムメタンチオレート水溶液２６．０ｇ（０．１１
モル）を滴下し、滴下後、９０〜１００℃で１時間反応
させた。
５ｄｍ3容の４つ口フラスコに４−クロロベンゾフェノ
ン２１．６ｇ（０．１モル）、テトラブチルアンモニウ
ムブロマイド１．５ｇおよびモノクロロベンゼン６０ｇ
を仕込み、７０〜８０℃で３時間を要して３０重量％ナ
トリウムメタンチオレート水溶液２６．０ｇ（０．１１
モル）を滴下し、滴下後、９０〜１００℃で１時間反応
させた。
【００３８】反応終了後、得られた反応液を８５℃で分
液して、有機層を得、得られた有機層を冷却し、析出し
た生成物を濾過、洗浄、乾燥して４−（メチルチオ）ベ
ンゾフェノン２２．１ｇ（０．０９６モル）を得た。４
−クロロベンゾフェノンに対する収率は９６．０％であ
った。
液して、有機層を得、得られた有機層を冷却し、析出し
た生成物を濾過、洗浄、乾燥して４−（メチルチオ）ベ
ンゾフェノン２２．１ｇ（０．０９６モル）を得た。４
−クロロベンゾフェノンに対する収率は９６．０％であ
った。
【００３９】実施例２ 攪拌機、温度計および冷却器を備えた０．５ｄｍ3容の
４つ口フラスコに２７重量％次亜臭素酸ナトリウム水溶
液２６１．３ｇ（０．６モル）、テトラブチルアンモニ
ウムブロマイド３ｇを仕込み、３０〜４０℃で１時間を
要して、実施例１の方法で得られた４−（メチルチオ）
ベンゾフェノン２２．１ｇ（０．０９６モル）を添加
し、添加後、５０〜６０℃で８時間反応させた。
４つ口フラスコに２７重量％次亜臭素酸ナトリウム水溶
液２６１．３ｇ（０．６モル）、テトラブチルアンモニ
ウムブロマイド３ｇを仕込み、３０〜４０℃で１時間を
要して、実施例１の方法で得られた４−（メチルチオ）
ベンゾフェノン２２．１ｇ（０．０９６モル）を添加
し、添加後、５０〜６０℃で８時間反応させた。
【００４０】反応終了後、析出した生成物を濾過、洗
浄、乾燥して４−（トリブロモメチルスルホニル）ベン
ゾフェノン４３．２ｇ（０．０８７モル）を得た。４−
（メチルチオ）ベンゾフェノンに対する収率は９０．６
％であった。
浄、乾燥して４−（トリブロモメチルスルホニル）ベン
ゾフェノン４３．２ｇ（０．０８７モル）を得た。４−
（メチルチオ）ベンゾフェノンに対する収率は９０．６
％であった。
【００４１】実施例３ 攪拌機、温度計、冷却器および滴下ロートを備えた０．
５ｄｍ3容の４つ口フラスコに実施例１の方法で得られ
た４−（メチルチオ）ベンゾフェノン２２．１ｇ（０．
０９６モル）、水酸化ナトリウム８０ｇ（２モル）およ
び水１８７ｇを仕込み、６０〜７０℃で５時間を要して
臭素１１１．９ｇ（０．７モル）を滴下し、滴下後、６
５〜７５℃で１０時間反応させた。
５ｄｍ3容の４つ口フラスコに実施例１の方法で得られ
た４−（メチルチオ）ベンゾフェノン２２．１ｇ（０．
０９６モル）、水酸化ナトリウム８０ｇ（２モル）およ
び水１８７ｇを仕込み、６０〜７０℃で５時間を要して
臭素１１１．９ｇ（０．７モル）を滴下し、滴下後、６
５〜７５℃で１０時間反応させた。
【００４２】反応終了後、析出した生成物を濾過、洗
浄、乾燥して、４−（トリブロモメチルスルホニル）ベ
ンゾフェノン４１．７ｇ（０．０８４モル）を得た。４
−（メチルチオ）ベンゾフェノンに対する収率は８７．
５％であった。
浄、乾燥して、４−（トリブロモメチルスルホニル）ベ
ンゾフェノン４１．７ｇ（０．０８４モル）を得た。４
−（メチルチオ）ベンゾフェノンに対する収率は８７．
５％であった。
【００４３】実施例４ 攪拌機、温度計、冷却器および滴下ロートを備えた０．
５ｄｍ3容の４つ口フラスコに４−クロロベンゾフェノ
ン２１．６ｇ（０．１モル）、テトラブチルアンモニウ
ムブロマイド１．５ｇおよびモノクロロベンゼン６０ｇ
を仕込み、７０〜８０℃で３時間を要して３０重量％ナ
トリウムメタンチオレート水溶液２６．０ｇ（０．１１
モル）を滴下し、滴下後、９０〜１００℃で１時間反応
させた。得られた反応液に、水酸化ナトリウム８０ｇ
（２モル）および水１８７ｇを添加した後、６０〜７０
℃で５時間を要して臭素１１１．９ｇ（０．７モル）を
滴下し、滴下後、６５〜７５℃で１０時間反応させた。
５ｄｍ3容の４つ口フラスコに４−クロロベンゾフェノ
ン２１．６ｇ（０．１モル）、テトラブチルアンモニウ
ムブロマイド１．５ｇおよびモノクロロベンゼン６０ｇ
を仕込み、７０〜８０℃で３時間を要して３０重量％ナ
トリウムメタンチオレート水溶液２６．０ｇ（０．１１
モル）を滴下し、滴下後、９０〜１００℃で１時間反応
させた。得られた反応液に、水酸化ナトリウム８０ｇ
（２モル）および水１８７ｇを添加した後、６０〜７０
℃で５時間を要して臭素１１１．９ｇ（０．７モル）を
滴下し、滴下後、６５〜７５℃で１０時間反応させた。
【００４４】反応終了後、析出した生成物を濾過、洗
浄、乾燥して、４−（トリブロモメチルスルホニル）ベ
ンゾフェノン４１．７ｇ（０．０８４モル）を得た。４
−クロロベンゾフェノンに対する収率は８４．０％であ
った。
浄、乾燥して、４−（トリブロモメチルスルホニル）ベ
ンゾフェノン４１．７ｇ（０．０８４モル）を得た。４
−クロロベンゾフェノンに対する収率は８４．０％であ
った。
【００４５】実施例５ 攪拌機、温度計、冷却器および滴下ロートを備えた０．
５ｄｍ3容の４つ口フラスコに４−クロロベンゾフェノ
ン２１．６ｇ（０．１モル）、テトラブチルアンモニウ
ムブロマイド２．０ｇおよび３０重量％ナトリウムメタ
ンチオレート水溶液２６．０ｇ（０．１１モル）を仕込
み、８０〜９０℃で２時間反応させた。得られた反応液
に２７重量％次亜臭素酸ナトリウム水溶液２６１．３ｇ
（０．６モル）を添加し、添加後、５０〜６０℃で８時
間反応させた。
５ｄｍ3容の４つ口フラスコに４−クロロベンゾフェノ
ン２１．６ｇ（０．１モル）、テトラブチルアンモニウ
ムブロマイド２．０ｇおよび３０重量％ナトリウムメタ
ンチオレート水溶液２６．０ｇ（０．１１モル）を仕込
み、８０〜９０℃で２時間反応させた。得られた反応液
に２７重量％次亜臭素酸ナトリウム水溶液２６１．３ｇ
（０．６モル）を添加し、添加後、５０〜６０℃で８時
間反応させた。
【００４６】反応終了後、析出した生成物を濾過、洗
浄、乾燥して４−（トリブロモメチルスルホニル）ベン
ゾフェノン４３．２ｇ（０．０８７モル）を得た。４−
クロロベンゾフェノンに対する収率は８７．０％であっ
た。
浄、乾燥して４−（トリブロモメチルスルホニル）ベン
ゾフェノン４３．２ｇ（０．０８７モル）を得た。４−
クロロベンゾフェノンに対する収率は８７．０％であっ
た。
【００４７】
【発明の効果】本発明によると、水銀灯のスペクトルを
有効に利用でき、ラジカル発生効率の良い光重合開始剤
として有用な４−（トリブロモメチルスルホニル）ベン
ゾフェノンを工業的に有利に製造することができる。
有効に利用でき、ラジカル発生効率の良い光重合開始剤
として有用な４−（トリブロモメチルスルホニル）ベン
ゾフェノンを工業的に有利に製造することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AC30 AC62 AC63 BA02 BA29 BA65 BB31 BC10 BC11 BR60 FE71 FE76 TA02 4H039 CA53 CA80
Claims (9)
- 【請求項１】下記式（１）； 【化１】 で表される４−（メチルチオ）ベンゾフェノンを酸化お
よび臭素化することを特徴とする下記式（２）； 【化２】 で表される４−（トリブロモメチルスルホニル）ベンゾ
フェノンの製造方法。 - 【請求項２】塩基と水の存在下に臭素を用いて酸化およ
び臭素化する請求項１記載の４−（トリブロモメチルス
ルホニル）ベンゾフェノンの製造方法。 - 【請求項３】塩基が、アルカリ金属水酸化物である請求
項２記載の４−（トリブロモメチルスルホニル）ベンゾ
フェノンの製造方法。 - 【請求項４】次亜臭素酸塩を用いて酸化および臭素化す
る請求項１記載の４−（トリブロモメチルスルホニル）
ベンゾフェノンの製造方法。 - 【請求項５】次亜臭素酸塩が、次亜臭素酸ナトリウムで
ある請求項４記載の４−（トリブロモメチルスルホニ
ル）ベンゾフェノンの製造方法。 - 【請求項６】下記一般式（３）； 【化３】 （式中、Ｘはハロゲン原子を表す。）で表される４−ハ
ロゲノベンゾフェノンとメタンチオールのアルカリ金属
塩を反応させることを特徴とする下記式（１）； 【化４】 で表される４−（メチルチオ）ベンゾフェノンの製造方
法。 - 【請求項７】４−ハロゲノベンゾフェノンが４−クロロ
ベンゾフェノンである請求項６記載の４−（メチルチ
オ）ベンゾフェノンの製造方法。 - 【請求項８】メタンチオールのアルカリ金属塩が、ナト
リウムメタンチオレートである請求項６記載の４−（メ
チルチオ）ベンゾフェノンの製造方法。 - 【請求項９】下記一般式（３）； 【化５】 （式中、Ｘはハロゲン原子を表す。）で表される４−ハ
ロゲノベンゾフェノンとメタンチオールのアルカリ金属
塩を反応させて下記式（１）； 【化６】 で表される４−（メチルチオ）ベンゾフェノンとなし、
引き続き酸化および臭素化することを特徴とする４−
（トリブロモメチルスルホニル）ベンゾフェノンの製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000037340A JP2001226342A (ja) | 2000-02-16 | 2000-02-16 | ４−（トリブロモメチルスルホニル）ベンゾフェノンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000037340A JP2001226342A (ja) | 2000-02-16 | 2000-02-16 | ４−（トリブロモメチルスルホニル）ベンゾフェノンの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001226342A true JP2001226342A (ja) | 2001-08-21 |
Family
ID=18561240
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000037340A Pending JP2001226342A (ja) | 2000-02-16 | 2000-02-16 | ４−（トリブロモメチルスルホニル）ベンゾフェノンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001226342A (ja) |
-
2000
- 2000-02-16 JP JP2000037340A patent/JP2001226342A/ja active Pending
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