JP2001226329A - ハロゲン化m−フェニレンジアミン化合物の製造方法 - Google Patents

ハロゲン化m−フェニレンジアミン化合物の製造方法

Info

Publication number
JP2001226329A
JP2001226329A JP2000041844A JP2000041844A JP2001226329A JP 2001226329 A JP2001226329 A JP 2001226329A JP 2000041844 A JP2000041844 A JP 2000041844A JP 2000041844 A JP2000041844 A JP 2000041844A JP 2001226329 A JP2001226329 A JP 2001226329A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
following formula
integer
azide
compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2000041844A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3830323B2 (ja
Inventor
Masayoshi Konishi
正芳 小西
Junko Yokoo
純子 横尾
Yasunori Okumura
康則 奥村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Shokubai Co Ltd
Original Assignee
Nippon Shokubai Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Shokubai Co Ltd filed Critical Nippon Shokubai Co Ltd
Priority to JP2000041844A priority Critical patent/JP3830323B2/ja
Publication of JP2001226329A publication Critical patent/JP2001226329A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3830323B2 publication Critical patent/JP3830323B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高選択率でかつ高収率でハロゲン化m−フェ
ニレンジアミン化合物を製造する方法を提供する。 【解決手段】 下記式(1): 【化1】 (ただし、Xは塩素原子または臭素原子を表わし;R1
及びR2は、それぞれ独立して、水酸基、炭素原子数1
〜5のアルキル基または炭素原子数1〜5のアルコキシ
基を表わし;mは1〜4の整数であり;nは0〜3の整
数であり;およびm+nは4以下である)で示されるフ
タロイル化合物(I)を強酸中でアジ化水素酸および/
またはアジ化ナトリウムと反応させることからなる下記
式(2): 【化2】 (ただし、X、m及びnは上記式(1)における定義と
同様である)で示されるハロゲン化m−フェニレンジア
ミン化合物の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なハロゲン化
m−フェニレンジアミン化合物の製造方法に関するもの
である。さらに詳しくは、本発明は、高選択率でかつ高
収率でハロゲン化m−フェニレンジアミン化合物、特に
テトラフルオロ−m−フェニレンジアミンを製造する方
法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】テトラフルオロ−m−フェニレンジアミ
ンは、医薬、農薬、高分子化合物の合成上重要な中間体
であり、特に低誘電率、低屈折率を有し、光の吸収の少
ない撥水性に優れた含フッ素ポリイミドの原料として有
用である。
【0003】テトラフルオロ−m−フェニレンジアミン
は、従来、ヘキサフルオロベンゼンまたはペンタフルオ
ロアニリンのアンモノリシスまたはペンタフルオロアニ
リンにフタル酸イミドなどのアミノ基に変化させること
のできる求核試薬を作用させてフッ素と置換させた後、
アミノ基に変化させる方法によって製造される。
【0004】この際原料として使用される芳香族ポリフ
ルオロ化合物は、モノ置換ペンタフルオロベンゼンの求
核置換によって多数合成されており、この場合求核試薬
の攻撃場所は先に導入された置換基の種類によって定ま
る。
【0005】例えば、米国特許第3,461,135号
公報における実施例3では、ペンタフルオロアニリン、
フタルイミドカリウム、及び再蒸留ジメチルホルムアミ
ドを反応させ、さらにこの反応液にエタノール及びヒド
ラジンを添加して還流した後、水酸化ナトリウムでpH
を弱アルカリに調節することにより、テトラフルオロ−
m−フェニレンジアミンを製造する方法が開示されてい
る。しかしながら、上記方法によるテトラフルオロ−m
−フェニレンジアミンの収率は13.4%と低い上、テ
トラフルオロ−m−フェニレンジアミンと同時にこの異
性体であるテトラフルオロ−p−フェニレンジアミンが
副生する。このように、一般的にテトラフルオロ−m−
フェニレンジアミンを製造すると、同時にテトラフルオ
ロ−p−フェニレンジアミンが8:2から9:1の割合
程度で副生する。
【0006】このため、上記したような方法では、目的
とするテトラフルオロ−m−フェニレンジアミンは純粋
な形態ではなく分離精製するという工程がさらに必要と
される。この際、テトラフルオロ−m−フェニレンジア
ミンの精製方法としては一般的な精製方法である蒸留、
再結晶化、カラムクロマトグラフィーや昇華法がある
が、これらの方法によりテトラフルオロ−m−フェニレ
ンジアミンと副生物たるテトラフルオロ−p−フェニレ
ンジアミンとを分離精製することは非常に困難であり、
ガスクロマトグラフィーによって分離精製することがで
きるものの、この場合には特殊なカラムを必要とする
上、実用的ではない。
【0007】このような問題を考慮して特公昭47−6
294号公報に、テトラフルオロ−p−フェニレンジア
ミンを含有する粗テトラフルオロ−m−フェニレンジア
ミンをアシル化し、ジアシル体としてm−体を析出させ
残りの濾液についてさらにテトラアシル化及び加水分解
を行い、該濾液中のm−体をジアシル体として分離する
ことからなるテトラフルオロ−m−フェニレンジアミン
の分離・精製方法が開示されたが、いずれにしても上記
方法による場合にはテトラフルオロ−m−フェニレンジ
アミンの分離・精製工程を行う必要がある。
【0008】または、テトラフルオロ−m−フェニレン
ジアミンの他の製造方法として、テトラクロロイソフタ
ロニトリルをベンゾニトリル媒体中で190〜400℃
の範囲の温度でフッ素化剤と自然発生圧下に反応させる
(特公昭63−5023号公報)ことによりテトラフル
オロイソフタロニトリルを製造し、これを常法によって
ジアミドの形態(テトラフルオロイソフタルアミド)と
し、さらにこのようにして得られたテトラフルオロイソ
フタルアミドをホフマン転位する方法が報告された(フ
ッ素化合物の合成と機能、頁204〜205、発行:株
式会社シーエムシー、発行日:1987年5月6日)。
【0009】しかしながら、上記方法において行われる
ホフマン転位は水酸化ナトリウムなどの強アルカリ存在
下で行われるため、この強アルカリの存在によりフッ素
原子が部分的に水酸基に変換されてしまい、すなわち、
下記実施例中の比較例1に詳述したが、目的物であるテ
トラフルオロ−m−フェニレンジアミンの収率が低下し
てしまうという問題があった。
【0010】したがって、テトラフルオロ−p−フェニ
レンジアミン等の副生物を生成することなく、言い換え
れば分離・精製工程を伴うことなく、高選択率にかつ高
収率でテトラフルオロ−m−フェニレンジアミンを製造
できる方法が強く求められている。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明の
目的は、高収率でハロゲン化m−フェニレンジアミンを
製造する方法を提供することである。
【0012】本発明の他の目的はまた、p−異性体(ハ
ロゲン化p−フェニレンジアミン)等の副生物を生成す
ることなく分離・精製工程を必要とせずに、高選択率に
かつ高収率でテトラフルオロ−m−フェニレンジアミン
を製造する方法を提供することである。
【0013】本発明のさらなる目的は、上記利点に加え
て、安価にテトラフルオロ−m−フェニレンジアミンを
製造する方法を提供することである。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記事情
を鑑みて、鋭意検討を行った結果、テトラフルオロイソ
フタル酸を強酸中でアジ化水素酸および/またはアジ化
ナトリウムと反応させることにより高選択率にかつ高収
率でテトラフルオロ−m−フェニレンジアミンを製造で
きることを発見した。本発明者らはまた、テトラフルオ
ロイソフタル酸をヒドラジン、さらには亜硝酸または亜
硝酸ナトリウムと反応させてまたはテトラフルオロイソ
フタル酸をアジ化水素酸および/またはアジ化ナトリウ
ムと反応させて酸アジドを得、さらにこの酸アジドを熱
転位及び加水分解することにより高選択率にかつ高収率
でテトラフルオロ−m−フェニレンジアミンを製造でき
ることをも発見した。
【0015】さらに、ルイス塩基の存在下、溶媒中で、
テトラフルオロイソフタル酸をジフェニルリン酸アジド
と反応させて酸アジドを得、さらにこの酸アジドを熱転
位及び加水分解することにより高選択率にかつ高収率で
テトラフルオロ−m−フェニレンジアミンを製造できる
ことをも発見した。
【0016】また、本発明者らは、上記利点に加えて、
安価なテトラクロロイソフタロニトリルを出発原料とし
て使用して、これをフッ素化して塩素をすべてフッ素に
置換してテトラフルオロイソフタロニトリルを得、この
ようにして得られたテトラフルオロイソフタロニトリル
をさらに加水分解することによってテトラフルオロイソ
フタル酸を得、このようにして得られたテトラフルオロ
イソフタル酸を上記したような反応を行なって酸アジド
を得、さらにこの酸アジドを熱転位及び加水分解するこ
とにより高選択率に、高収率でかつ安価にテトラフルオ
ロ−m−フェニレンジアミンを製造できることをも発見
した。これらの知見に基づいて、本発明を完成するに至
った。
【0017】すなわち、上記諸目的は、下記(ア)〜
(セ)によって達成される。
【0018】(ア)下記式(1):
【0019】
【化25】 ただし、Xは塩素原子または臭素原子を表わし;R1
びR2は、それぞれ独立して、水酸基、炭素原子数1〜
5のアルキル基または炭素原子数1〜5のアルコキシ基
を表わし;mは1〜4の整数であり;nは0〜3の整数
であり;およびm+nは4以下である、で示されるフタ
ロイル化合物(I)を強酸中でアジ化水素酸および/ま
たはアジ化ナトリウムと反応させることからなる下記式
(2):
【0020】
【化26】 ただし、X、m及びnは上記式(1)における定義と同
様である、で示されるハロゲン化m−フェニレンジアミ
ン化合物の製造方法。
【0021】(イ)前記強酸が濃硫酸、ポリリン酸、ト
リフルオロ酢酸−無水トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢
酸、塩酸、濃塩酸及び硫酸からなる群より選ばれる少な
くとも一種である、前記(ア)に記載の方法。
【0022】(ウ)下記式(3):
【0023】
【化27】 ただし、Xは塩素原子または臭素原子を表わし;R3
びR4は、それぞれ独立して、水素原子または炭素原子
数1〜5のアルキル基を表わし;mは1〜4の整数であ
り;nは0〜3の整数であり;およびm+nは4以下で
ある、で示されるイソフタル酸誘導体(I)をヒドラジ
ン、さらには亜硝酸および/または亜硝酸ナトリウムと
反応させることにより下記式(4):
【0024】
【化28】 ただし、X、m及びnは上記式(3)における定義と同
様である、で示される酸アジドを得、該酸アジドを熱転
位及び加水分解することからなる下記式(2):
【0025】
【化29】 ただし、X、m及びnは上記式(3)における定義と同
様である、で示されるハロゲン化m−フェニレンジアミ
ン化合物の製造方法。
【0026】(エ)該式(3)のイソフタル酸誘導体
(I)をヒドラジンと反応させてヒドラジド化合物を製
造した後、該ヒドラジド化合物を酸の存在下で亜硝酸お
よび/または亜硝酸ナトリウムと反応させる、前記
(ウ)に記載の方法。
【0027】(オ)下記式(5):
【0028】
【化30】 ただし、Xは塩素原子または臭素原子を表わし;R7
びR8は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数1
〜5のアルキル基、炭素原子数1〜5のアルコキシカル
ボニル基または炭素原子数1〜5のアルキルカルボニル
基を表わし;mは1〜4の整数であり;nは0〜3の整
数であり;およびm+nは4以下である、で示されるイ
ソフタル酸誘導体(II)をアジ化水素酸および/また
はアジ化ナトリウムと反応させることにより下記式
(4):
【0029】
【化31】 ただし、X、m及びnは上記式(3)における定義と同
様である、で示される酸アジドを得、該酸アジドを熱転
位及び加水分解することからなる下記式(2):
【0030】
【化32】 ただし、X、m及びnは上記式(3)における定義と同
様である、で示されるハロゲン化m−フェニレンジアミ
ン化合物の製造方法。
【0031】(カ)下記式(6):
【0032】
【化33】 ただし、Xは塩素原子または臭素原子を表わし;R5
びR6は、それぞれ独立して、ハロゲン原子を表わし;
mは1〜4の整数であり;nは0〜3の整数であり;お
よびm+nは4以下である、で示されるフタロイル化合
物(II)をアジ化水素酸および/またはアジ化ナトリ
ウムと反応させることにより下記式(4):
【0033】
【化34】 ただし、X、m及びnは上記式(6)における定義と同
様である、で示される酸アジドを得、該酸アジドを熱転
位及び加水分解することからなる下記式(2):
【0034】
【化35】 ただし、X、m及びnは上記式(6)における定義と同
様である、で示されるハロゲン化m−フェニレンジアミ
ン化合物の製造方法。
【0035】(キ)ルイス塩基の存在下、溶媒中で、下
記式(3):
【0036】
【化36】 ただし、Xは塩素原子または臭素原子を表わし;R3
びR4は、それぞれ独立して、水素原子または炭素原子
数1〜5のアルキル基を表わし;mは1〜4の整数であ
り;nは0〜3の整数であり;およびm+nは4以下で
ある、で示されるイソフタル酸誘導体(I)を、下記式
(7):
【0037】
【化37】 ただし、R9及びR10は、それぞれ独立して、炭素原子
数1〜5のアルキル基、炭素原子数3〜8のシクロアル
キル基、ベンジル基または置換基を有してもよいフェニ
ル基を表わす、で示されるアジド化合物と反応させるこ
とにより下記式(4):
【0038】
【化38】 ただし、X、m及びnは上記式(3)における定義と同
様である、で示される酸アジドを得、該酸アジドを熱転
位及び加水分解することからなる下記式(2):
【0039】
【化39】 ただし、X、m及びnは上記式(3)における定義と同
様である、で示されるハロゲン化m−フェニレンジアミ
ン化合物の製造方法。
【0040】(ク)ルイス塩基の存在下、溶媒中で、下
記式(3):
【0041】
【化40】 ただし、Xは塩素原子または臭素原子を表わし;R3
びR4は、それぞれ独立して、水素原子または炭素原子
数1〜5のアルキル基を表わし;mは1〜4の整数であ
り;nは0〜3の整数であり;およびm+nは4以下で
ある、で示されるイソフタル酸誘導体(I)を、下記式
(8):
【0042】
【化41】 ただし、Yはハロゲン原子を表わし;R11及びR12は、
それぞれ独立して、炭素原子数1〜5のアルキル基、炭
素原子数3〜8のシクロアルキル基、ベンジル基または
置換基を有してもよいフェニル基を表わす、で示される
ハロゲン化リン酸ジエステルと反応させることにより下
記式(9):
【0043】
【化42】 ただし、X、m及びnは上記式(3)における定義と同
様であり;およびR11及びR12は上記式(8)における
定義と同様である、で示される混合酸無水物を得、該混
合酸無水物をアジ化水素酸および/またはアジ化ナトリ
ウムと反応させることにより下記式(4):
【0044】
【化43】 ただし、X、m及びnは上記式(6)における定義と同
様である、で示される酸アジドを得、該酸アジドを熱転
位及び加水分解することからなる下記式(2):
【0045】
【化44】 ただし、X、m及びnは上記式(6)における定義と同
様である、で示されるハロゲン化m−フェニレンジアミ
ン化合物の製造方法。
【0046】(ケ)前記フタロイル化合物(I)は、下
記式(10):
【0047】
【化45】 ただし、Xは塩素原子または臭素原子を表わし;mは1
〜4の整数であり;nは0〜3の整数であり;およびm
+nは4以下である、で示されるイソフタル酸化合物で
ある、前記(ア)または(イ)に記載の方法。
【0048】(コ)前記イソフタル酸誘導体(I)は、
下記式(10):
【0049】
【化46】 ただし、Xは塩素原子または臭素原子を表わし;mは1
〜4の整数であり;nは0〜3の整数であり;およびm
+nは4以下である、で示されるイソフタル酸化合物で
ある、前記(ウ)、(エ)、(キ)または(ク)に記載
の方法。
【0050】(サ)前記イソフタル酸化合物は、下記式
(11):
【0051】
【化47】 ただし、Xは塩素原子または臭素原子を表わし;mは1
〜4の整数であり;nは0〜3の整数であり;およびm
+nは4以下である、で示されるフッ素化イソフタロニ
トリル化合物を加水分解することによって得られる、前
記(ケ)または(コ)に記載の方法。
【0052】(シ)前記加水分解は濃塩酸、塩酸、酢
酸、濃硫酸、硫酸、臭化水素酸及びプロピオン酸からな
る群より選ばれる少なくとも一種の酸および/または水
酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化カリウム、水
酸化ルビジウム、水酸化セシウム、水酸化ベリリウム、
水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロ
ンチウム及び水酸化バリウムからなる群より選ばれる少
なくとも一種のアルカリの存在下で行われる、前記
(サ)に記載の方法。
【0053】(ス)前記フッ素化イソフタロニトリル化
合物は、下記式(12):
【0054】
【化48】 ただし、Xは塩素原子または臭素原子を表わし;n’は
1〜4の整数でありかつ前記式(11)におけるn及び
mとの合計がn’であるという関係(n+m=n’)を
満たす、で示されるイソフタロニトリル化合物をフッ素
化剤と反応させることによって得られる、前記(サ)ま
たは(シ)に記載の方法。
【0055】(セ)前記フッ素化剤は、フッ化カリウ
ム、フッ化セシウム、フッ化ナトリウム、フッ化バリウ
ム、フッ化カルシウム及びフッ化アンチモンからなる群
より選ばれる少なくとも一種である、前記(ス)に記載
の方法。
【0056】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
【0057】第一の概念によると、本発明は、下記式
(1):
【0058】
【化49】 ただし、Xは塩素原子または臭素原子を表わし;R1
びR2は、それぞれ独立して、水酸基、炭素原子数1〜
5のアルキル基または炭素原子数1〜5のアルコキシ基
を表わし;mは1〜4の整数であり;nは0〜3の整数
であり;およびm+nは4以下である、で示されるフタ
ロイル化合物(I)(本明細書中では、単に「フタロイ
ル化合物(I)」と称することもある)を強酸中でアジ
化水素酸および/またはアジ化ナトリウムと反応させる
ことにより、下記式(2):
【0059】
【化50】 ただし、X、m及びnは上記式(1)における定義と同
様である、で示されるハロゲン化m−フェニレンジアミ
ン化合物(本明細書中では、単に「ハロゲン化m−フェ
ニレンジアミン化合物」と称することもある)を製造す
る方法を提供するものである。
【0060】上記式(1)及び(2)において、Xは、
塩素原子または臭素原子、好ましくは塩素原子を表わ
し、Xが複数存在する(即ち、nが2または3である)
場合には、Xはそれぞれ同一であってもあるいは異なる
ものであってもよい。また、nは、ベンゼン環へのXの
結合数を表わし、0〜3の整数、好ましくは0または
1、特に好ましくは0であり、mは、ベンゼン環へのフ
ッ素原子の結合数を表わし、1〜4の整数、好ましくは
2〜4の整数、特に好ましくは4であり、かつこの際、
nとmの合計は4以下(n+m≦4)であり、下記式
(12)におけるn’に等しい。また、上記式(1)に
おいて、R1及びR2は、水酸基(−OH);炭素原子数
1〜5のアルキル基、例えば、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、n−ブチル、ペンチル、ネオペンチ
ル、sec−ブチル及びtert−ブチル;または炭素
原子数1〜5のアルコキシ基、例えば、メトキシ、エト
キシ、プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、ペ
ントキシ、ネオペントキシ、sec−ブトキシ及びte
rt−ブトキシを表わす。この際、R1及びR2は同一で
あってもあるいは異なるものであってもよい。また、R
1及びR2としては、水酸基及び炭素原子数1〜5のアル
キル基が好ましく、特に水酸基、メチル基及びエチル基
であることが好ましい。
【0061】すなわち、本発明において特に好ましく使
用される上記式(1)のフタロイル化合物(I)として
は、下記式(10):
【0062】
【化51】 ただし、X、m及びnは上記式(1)における定義と同
様である、で示されるイソフタル酸化合物、ならびに下
記式:
【0063】
【化52】 で示される化合物がある。上記式において、mが4であ
りかつnが0である化合物が本発明において特に好まし
く使用され、この際、本発明の第一の概念による方法に
よって、このような化合物から下記式:
【0064】
【化53】 で示されるテトラフルオロ−m−フェニレンジアミンが
得られる。
【0065】本発明の第一の概念による方法は、式
(1)のフタロイル化合物(I)を強酸中でアジ化水素
酸および/またはアジ化ナトリウム、好ましくはアジ化
ナトリウムと反応させるものであるが、この際使用され
る強酸としては、濃硫酸、トリクロロ酢酸、硫酸、ピロ
リン酸、トリリン酸、トリメタリン酸及びテトラメタリ
ン酸等のポリリン酸、トリフルオロ酢酸、無水トリフル
オロ酢酸、塩酸、発煙硫酸、濃塩酸、臭化水素酸、プロ
ピオン酸、ギ酸、硝酸及び酢酸;ならびにこれらの混合
物、例えば、トリフルオロ酢酸−無水トリフルオロ酢酸
(混合比は、質量比で、1:9〜9:1、好ましくは
3:7〜7:3)及びトリクロロ酢酸と硫酸との混合液
(混合比は、質量比で、1:9〜9:1、好ましくは
3:7〜7:3)などが挙げられる。上記強酸は、単独
で使用されてもあるいは2種以上の混合物の形態で使用
されてもよい。これらのうち、濃硫酸、ポリリン酸、ト
リフルオロ酢酸−無水トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢
酸、塩酸、濃塩酸及び硫酸からなる群より選ばれる少な
くとも一種、特に濃硫酸および/またはポリリン酸が強
酸として好ましく使用される。また、強酸の使用量は、
式(1)のフタロイル化合物(I)とアジ化水素酸およ
び/またはアジ化ナトリウムとの反応を良好に触媒でき
る量であれば特に制限されないが、フタロイル化合物
(I)10質量部に対して、通常、1〜10000質量
部、好ましくは5〜1000質量部である。この際、強
酸の使用量が1質量部未満であると、式(1)のフタロ
イル化合物(I)とアジ化水素酸および/またはアジ化
ナトリウムとの反応が良好に進行せず、目的生成物の収
率が低下するため、好ましくない。これに対して、強酸
の使用量が10000質量部を超えると、添加に見合う
効果が得られず、逆に副反応が進行してしまい、目的生
成物の収率が低下し、より精度の高い精製工程を必要と
するため、やはり好ましくない。
【0066】また、本発明において、アジ化水素酸およ
び/またはアジ化ナトリウムの使用量は、原料の式
(1)のフタロイル化合物(I)と十分反応できる量で
あれば制限されないが、フタロイル化合物(I)1モル
に対して、通常、2〜50モル、好ましくは2〜10モ
ルである。なお、本発明においてアジ化水素酸を使用す
る際の水溶液におけるアジ化水素の濃度は、通常、1〜
20(w/v)%、好ましくは2〜10(w/v)%で
ある。
【0067】本発明の第一の概念による式(1)のフタ
ロイル化合物(I)とアジ化水素酸および/またはアジ
化ナトリウムとの反応は、必要であれば還流しながら行
われてもよく、また、その反応条件は、これらの反応が
十分進行する条件であれば特に制限されないが、反応温
度は、通常、−20〜200℃、好ましくは20〜15
0℃であり、反応時間は、通常、0.1〜40時間、好
ましくは0.1〜20時間である。また、反応は、加圧
下、常圧下または減圧下のいずれの圧力下で行なっても
よいが、取り扱いのし易さ及び設備面を考慮して、好ま
しくは常圧下で行われる。
【0068】また、本発明の第一の概念による式(1)
のフタロイル化合物(I)とアジ化水素酸および/また
はアジ化ナトリウムとの反応は、必要であれば、さらに
溶媒を添加して行われてもよく、この際使用される溶媒
としては、水、クロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭
素、クロロエタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン
及びテトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類;ペ
ンタン、ヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタン等の炭
化水素類;ベンゼン、トルエン及びキシレン等の芳香族
炭化水素類;ならびにジエチルエーテル、イソプロピル
エーテル、テトラヒドロフラン(THF)、ジオキサ
ン、ジフェニルエーテル、ベンジルエーテル及びter
t−ブチルエーテル等のエーテル類などが挙げられる。
これらのうち、クロロホルム、ベンゼン及びトルエンが
好ましく使用される。上記概念において、溶媒を使用す
る際の溶媒の使用量は、溶媒におけるフタロイル化合物
(I)の濃度が1〜80(w/v)%、好ましくは5〜
50(w/v)%となるような量である。
【0069】このような方法により、式(1)のフタロ
イル化合物(I)の−COR1基及び−COR2基が選択
的に−NH2基に変換して、所望とするハロゲン化m−
フェニレンジアミン化合物が効率良く得られる。
【0070】第二の概念によると、本発明は、下記式
(3):
【0071】
【化54】 ただし、Xは塩素原子または臭素原子を表わし;R3
びR4は、それぞれ独立して、水素原子または炭素原子
数1〜5のアルキル基を表わし;mは1〜4の整数であ
り;nは0〜3の整数であり;およびm+nは4以下で
ある、で示されるイソフタル酸誘導体(I)をヒドラジ
ン、さらには亜硝酸若しくは亜硝酸ナトリウムと反応さ
せることにより下記式(4):
【0072】
【化55】 ただし、X、m及びnは上記式(3)における定義と同
様である、で示される酸アジドを得、該酸アジドを熱転
位及び加水分解することにより、式(2)のハロゲン化
m−フェニレンジアミン化合物を製造する方法を提供す
るものである。
【0073】上記式(3)及び(4)において、X、m
及びnは上記式(1)における定義と同様である。ま
た、上記式(3)において、R3及びR4は、水素原子;
または炭素原子数1〜5のアルキル基、例えば、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、ペ
ンチル、ネオペンチル、sec−ブチル及びtert−
ブチルを表わす。この際、R3及びR4は同一であっても
あるいは異なるものであってもよい。また、R3及びR4
としては、水素原子、メチル及びエチルが好ましく、特
に水素原子であることが好ましい。
【0074】すなわち、本発明において好ましく使用さ
れる上記式(3)のイソフタル酸誘導体(I)として
は、下記式(10):
【0075】
【化56】 ただし、X、m及びnは上記式(1)における定義と同
様である、で示されるイソフタル酸化合物、ならびに下
記式:
【0076】
【化57】 で示される化合物がある。これらのうち、mが4であり
かつnが0である式(10)のテトラフルオロイソフタ
ル酸が本発明において特に好ましく使用される。この
際、上記テトラフルオロイソフタル酸から、本発明の第
二の概念による方法によって、テトラフルオロ−m−フ
ェニレンジアミンが得られる。
【0077】本発明の第二の概念による方法は、下記反
応式に示されるように、まず式(3)のイソフタル酸誘
導体(I)をヒドラジンと反応させてイソフタル酸誘導
体(I)内の−COOR3基及び−COOR4基を−CO
NHNH2基に変換したヒドラジド化合物を得た(第一
の反応)後、このヒドラジド化合物を、好ましくは酸の
存在下で、亜硝酸若しくは亜硝酸ナトリウムまたはこれ
らの混合物と反応させてヒドラジド化合物内の−CON
HNH2基を−CON3基に変換して酸アジドを得(第二
の反応)、さらにこの酸アジドを熱転位し(第三の反
応)、加水分解する(第四の反応)ことによって、所望
の式(2)のハロゲン化m−フェニレンジアミンを得る
ものである。以下、上記反応ごとに説明する。
【0078】
【化58】 まず、第一の反応において、ヒドラジン(NH2NH2
の使用量は、式(3)のイソフタル酸誘導体(I)をヒ
ドラジンと効率良く反応させてイソフタル酸誘導体
(I)内の−COOR3基及び−COOR4基を−CON
HNH2基に変換できる量であれば特に制限されない
が、式(3)のイソフタル酸誘導体(I)1モルに対し
て、通常、2〜50モル、好ましくは2〜10モルであ
る。
【0079】また、第一の反応の反応条件は、式(3)
のイソフタル酸誘導体(I)とヒドラジンとの反応が十
分進行する条件であれば特に制限されないが、反応温度
は、通常、−20〜200℃、好ましくは0〜150℃
であり、反応時間は、通常、0.1〜50時間、好まし
くは0.1〜20時間である。また、反応は、加圧下、
常圧下または減圧下のいずれの圧力下で行なってもよい
が、取り扱いのし易さ及び設備面を考慮して、好ましく
は常圧下で行われる。
【0080】さらに、第一の反応は、必要であれば還流
しながら行われてもよく、また、無溶媒下で行われても
あるいは溶媒中で行われてもよいが、反応効率や反応熱
の制御を考えると、第一の反応を還流しながらかつ溶媒
中で行われることが好ましい。第一の反応を溶媒中で行
う際に使用される溶媒としては、水、メタノール、エタ
ノール、無水エタノール、イソプロパノール、ベンジル
アルコール、フェノール、n−ブタノール、sec−ブ
タノール及びtert−ブタノール等のアルコール類;
クロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素、クロロエタ
ン、ジクロロエタン、トリクロロエタン及びテトラクロ
ロエタン等のハロゲン化炭化水素類;ペンタン、ヘキサ
ン、シクロヘキサン及びヘプタン等の炭化水素類;ベン
ゼン、トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素類;な
らびにジエチルエーテル、イソプロピルエーテル、テト
ラヒドロフラン(THF)、ジオキサン、ジフェニルエ
ーテル、ベンジルエーテル及びtert−ブチルエーテ
ル等のエーテル類などが挙げられる。これらのうち、メ
タノール、エタノール、無水エタノール、イソプロパノ
ール、ベンジルアルコール、フェノール、n−ブタノー
ル、sec−ブタノール及びtert−ブタノールが好
ましく使用される。この際、溶媒を使用する際の溶媒の
使用量は、溶媒における式(3)のイソフタル酸誘導体
(I)の濃度が1〜80(w/v)%、好ましくは5〜
50(w/v)%となるような量である。
【0081】次に、第二の反応において、亜硝酸および
/または亜硝酸ナトリウムの添加量は、第一の反応によ
り生成した−CONHNH2基を双方とも効率良く−C
ON3基に変換できる量であればよいが、ヒドラジド化
合物1モルに対して、通常、2〜50モル、好ましくは
2〜10モルである。
【0082】さらに、第二の反応に使用できる酸として
は、濃硫酸、トリクロロ酢酸、硫酸、ピロリン酸、トリ
リン酸、トリメタリン酸及びテトラメタリン酸等のポリ
リン酸、トリフルオロ酢酸、無水トリフルオロ酢酸、塩
酸、発煙硫酸、濃塩酸、臭化水素酸、プロピオン酸、ギ
酸、硝酸及び酢酸;ならびにこれらの混合物、例えば、
トリフルオロ酢酸−無水トリフルオロ酢酸(混合比は、
質量比で、1:9〜9:1、好ましくは3:7〜7:
3)及びトリクロロ酢酸と硫酸との混合液(混合比は、
質量比で、1:9〜9:1、好ましくは3〜7:7〜
3)などが挙げられる。上記酸は、単独で使用されても
あるいは2種以上の混合物の形態で使用されてもよい。
これらのうち、塩酸、濃塩酸及び硫酸が好ましく使用さ
れる。また、第二の反応における酸の使用量は、第一の
反応により生成した−CONHNH2基を双方とも効率
良く−CON3基に変換できる量であれば特に制限され
ないが、ヒドラジド化合物10質量部に対して、通常、
1〜10000質量部、好ましくは5〜1000質量部
である。
【0083】また、第二の反応の反応条件は、第一の反
応により生成した−CONHNH2基を双方とも効率良
く−CON3基に変換できる条件であれば特に制限され
ないが、反応温度は、通常、−50〜200℃、好まし
くは−20〜150℃であり、反応時間は、通常、0.
1〜50時間、好ましくは0.1〜20時間である。ま
た、反応は、加圧下、常圧下または減圧下のいずれの圧
力下で行なってもよいが、取り扱いのし易さ及び設備面
を考慮して、好ましくは常圧下で行われる。
【0084】さらに、第二の反応は、必要であれば還流
しながら行われてもよく、また、無溶媒下で行われても
あるいは溶媒中で行われてもよいが、反応効率や反応熱
の制御を考えると、溶媒中で行われることが好ましい。
第二の反応を溶媒中で行う際に使用される溶媒として
は、水、水−アセトン混合液、5〜80質量%のエタノ
ール水溶液、氷冷(10℃以下)エーテル類(例えば、
ジエチルエーテル、イソプロピルエーテル、テトラヒド
ロフラン(THF)、ジオキサン、ジフェニルエーテ
ル、ベンジルエーテル及びtert−ブチルエーテル)
ならびに氷冷(10℃以下)アルコール類(例えば、メ
タノール、エタノール、イソプロパノール、ベンジルア
ルコール、フェノール、n−ブタノール、sec−ブタ
ノール及びtert−ブタノール)などが挙げられる。
これらのうち、水−アセトン混合液及び氷冷(10℃以
下)エーテル類、特に好ましくはジエチルエーテル、イ
ソプロピルエーテル、THF及びジオキサンが好ましく
使用される。この際、溶媒を使用する際の溶媒の使用量
は、溶媒におけるヒドラジド化合物の濃度が1〜80
(w/v)%、好ましくは5〜50(w/v)%となる
ような量である。
【0085】このようにして得られた酸アジドは、単離
した後次工程に使用してもよいが、単離せずに次工程た
る第三及び第四の反応に供することができる。
【0086】さらに、第三及び第四の方法の一実施態様
によると、酸アジドを、必要であれば還流しながら、第
一の溶媒中で、−20〜200℃、好ましくは20〜1
50℃の反応温度で、0.1〜40時間、好ましくは
0.1〜20時間、熱転位してイソシアン酸エステルを
得た後、この熱転位産物たるイソシアン酸エステルをさ
らに、必要であれば還流しながら、第二の溶媒中で、イ
ソシアン酸エステル10質量部に対して、通常、1〜1
0000質量部、好ましくは5〜1000質量部の量
の、酸またはアルカリにより、−50〜200℃、好ま
しくは−20〜150℃の反応温度で、0.1〜40時
間、好ましくは0.1〜20時間、加水分解することに
よって、所望のハロゲン化m−フェニレンジアミンを得
る。ここで使用される第一の溶媒としては、ギ酸メチ
ル、ギ酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル及び酢酸プロ
ピル等のエステル類;アセトン、メチルイソブチルケト
ン(MIBK)、シクロヘキサノン及びメチルエチルケ
トン(MEK)等のケトン類;クロロホルム、塩化メチ
レン、四塩化炭素、クロロエタン、ジクロロエタン、ト
リクロロエタン及びテトラクロロエタン等のハロゲン化
炭化水素類;ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン及び
ヘプタン等の炭化水素類;ベンゼン、トルエン及びキシ
レン等の芳香族炭化水素類;ならびにジエチルエーテ
ル、イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン(TH
F)、ジオキサン、ジフェニルエーテル、ベンジルエー
テル及びtert−ブチルエーテル等のエーテル類など
が挙げられる。これらのうち、クロロホルム、ベンゼン
及びトルエンが好ましく使用される。また、上記態様で
使用される第二の溶媒としては、メタノール、エタノー
ル、無水エタノール、イソプロパノール、ベンジルアル
コール、フェノール、n−ブタノール、sec−ブタノ
ール及びtert−ブタノール等のアルコール類;ギ酸
メチル、ギ酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル及び酢酸
プロピル等のエステル類;アセトン、メチルイソブチル
ケトン(MIBK)、シクロヘキサノン及びメチルエチ
ルケトン(MEK)等のケトン類;クロロホルム、塩化
メチレン、四塩化炭素、クロロエタン、ジクロロエタ
ン、トリクロロエタン及びテトラクロロエタン等のハロ
ゲン化炭化水素類;ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサ
ン及びヘプタン等の炭化水素類;ベンゼン、トルエン及
びキシレン等の芳香族炭化水素類;ならびにジエチルエ
ーテル、イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン
(THF)、ジオキサン、ジフェニルエーテル、ベンジ
ルエーテル及びtert−ブチルエーテル等のエーテル
類などが挙げられる。これらのうち、メタノール、エタ
ノール、クロロホルム、ベンゼン、トルエン及び酢酸エ
チルが好ましく使用される。
【0087】さらに、上記態様で使用される酸として
は、濃硫酸、トリクロロ酢酸、硫酸、ピロリン酸、トリ
リン酸、トリメタリン酸及びテトラメタリン酸等のポリ
リン酸、トリフルオロ酢酸、無水トリフルオロ酢酸、塩
酸、発煙硫酸、濃塩酸、臭化水素酸、プロピオン酸、ギ
酸、硝酸及び酢酸;ならびにこれらの混合物、例えば、
トリフルオロ酢酸−無水トリフルオロ酢酸(混合比は、
質量比で、1:9〜9:1、好ましくは3:7〜7:
3)及びトリクロロ酢酸と硫酸との混合液(混合比は、
質量比で、1:9〜9:1、好ましくは3:7〜7:
3)などが挙げられる。上記酸は、単独で使用されても
あるいは2種以上の混合物の形態で使用されてもよい。
これらのうち、濃塩酸、塩酸、酢酸、濃硫酸、硫酸、臭
化水素酸及びプロピオン酸からなる群より選ばれる少な
くとも一種、特に濃塩酸、塩酸及び硫酸が酸として好ま
しく使用される。また、上記態様で使用されるアルカリ
としては、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化
カリウム、水酸化ルビジウム、水酸化セシウム、水酸化
ベリリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、
水酸化ストロンチウム及び水酸化バリウムなどが挙げら
れ、これらのうち、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化リチウム及び水酸化カルシウムがアルカリと
して好ましく使用される。同様にして、上記アルカリ
は、単独で使用されてもあるいは2種以上の混合物の形
態で使用されてもよい。
【0088】上記態様において、酸による加水分解物が
塩酸塩の形態で存在する際には、この加水分解物をアル
カリで中和する工程を設けてもよい。この際使用できる
アルカリの定義は、上記態様におけるものと同様であ
る。また、上記態様において、酸アジドの存在量は、特
に制限されず、上述したように、第二の反応により得ら
れた酸アジドをそのまま使用すればよいが、第一の溶媒
における酸アジドの濃度が、通常、1〜80(w/v)
%、好ましくは5〜50(w/v)%となるような量で
ある。また、第二の溶媒におけるイソシアン酸エステル
の濃度もまた、酸アジドの熱転位により得られるイソシ
アン酸エステルをそのまま使用すればよいが、第二の溶
媒におけるイソシアン酸エステルの濃度が、通常、1〜
80(w/v)%、好ましくは5〜50(w/v)%と
なるような量である。さらに、上記態様において、熱転
位反応及び加水分解は、加圧下、常圧下または減圧下の
いずれの圧力下で行なってもよいが、取り扱いのし易さ
及び設備面を考慮して、好ましくは常圧下で行われる。
【0089】または、第三及び第四の方法の他の実施態
様によると、酸アジドを、必要であれば還流しながら、
蒸気浴中で、メタノール、エタノール、無水エタノー
ル、イソプロパノール、ベンジルアルコール、フェノー
ル、n−ブタノール、sec−ブタノール及びtert
−ブタノール等のアルコール類と、−20〜200℃、
好ましくは20〜150℃の反応温度で、0.1〜40
時間、好ましくは0.1〜20時間、反応させてウレタ
ン類を得る。この際、上記反応は、反応試薬たるアルコ
ール類が液状であるため、必ずしも溶媒の添加を必要と
せず、生成物の精製のし易さなどを考慮すると、溶媒を
さらに添加することなく上記反応を行なうことが好まし
い。しかしながら、反応に使用される酸アジドやアルコ
ールの種類や量ならびに反応条件等によっては、他の溶
媒をさらに添加して反応を行なうことが適切であること
もあり、この場合に使用できる溶媒としては、水、ギ酸
メチル、ギ酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル及び酢酸
プロピル等のエステル類;アセトン、メチルイソブチル
ケトン(MIBK)、シクロヘキサン及びメチルエチル
ケトン(MEK)等のケトン類;クロロホルム、塩化メ
チレン、四塩化炭素、クロロエタン、ジクロロエタン、
トリクロロエタン及びテトラクロロエタン等のハロゲン
化炭化水素類;ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン及
びヘプタン等の炭化水素類;ベンゼン、トルエン及びキ
シレン等の芳香族炭化水素類;ならびにジエチルエーテ
ル、イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン(TH
F)、ジオキサン、ジフェニルエーテル、ベンジルエー
テル及びtert−ブチルエーテル等のエーテル類など
が挙げられる。上記反応が終了した後は、反応産物たる
ウレタン類をさらに、必要であれば還流しながら、第三
の溶媒中で、ウレタン類10質量部に対して、通常、1
〜10000質量部、好ましくは5〜1000質量部の
量の、酸またはアルカリにより、−50〜200℃、好
ましくは−20〜150℃の反応温度で、0.1〜40
時間、好ましくは0.1〜20時間、加水分解すること
によって、所望のハロゲン化m−フェニレンジアミンを
得る。ここで使用される第三の溶媒としては、水、メタ
ノール、エタノール、無水エタノール、イソプロパノー
ル、ベンジルアルコール、フェノール、n−ブタノー
ル、sec−ブタノール及びtert−ブタノール等の
アルコール類;ギ酸メチル、ギ酸エチル、酢酸メチル、
酢酸エチル及び酢酸プロピル等のエステル類;アセト
ン、メチルイソブチルケトン(MIBK)、シクロヘキ
サン及びメチルエチルケトン(MEK)等のケトン類;
クロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素、クロロエタ
ン、ジクロロエタン、トリクロロエタン及びテトラクロ
ロエタン等のハロゲン化炭化水素類;ペンタン、ヘキサ
ン、シクロヘキサン及びヘプタン等の炭化水素類;ベン
ゼン、トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素類;な
らびにジエチルエーテル、イソプロピルエーテル、テト
ラヒドロフラン(THF)、ジオキサン、ジフェニルエ
ーテル、ベンジルエーテル及びtert−ブチルエーテ
ル等のエーテル類などが挙げられる。これらのうち、メ
タノール、エタノール、クロロホルム、ベンゼン、トル
エン及び酢酸エチルが好ましく使用される。また、上記
態様で使用される酸としては、濃硫酸、トリクロロ酢
酸、硫酸、ピロリン酸、トリリン酸、トリメタリン酸及
びテトラメタリン酸等のポリリン酸、トリフルオロ酢
酸、無水トリフルオロ酢酸、塩酸、発煙硫酸、濃塩酸、
臭化水素酸、プロピオン酸、ギ酸、硝酸及び酢酸;なら
びにこれらの混合物、例えば、トリフルオロ酢酸−無水
トリフルオロ酢酸(混合比は、質量比で、1:9〜9:
1、好ましくは3:7〜7:3)及びトリクロロ酢酸と
硫酸との混合液(混合比は、質量比で、1:9〜9:
1、好ましくは3:7〜7:3)などが挙げられる。上
記酸は、単独で使用されてもあるいは2種以上の混合物
の形態で使用されてもよい。これらのうち、濃塩酸、塩
酸、酢酸、濃硫酸、硫酸、臭化水素酸及びプロピオン酸
からなる群より選ばれる少なくとも一種、特に濃塩酸、
塩酸及び硫酸が酸として好ましく使用される。また、上
記態様で使用されるアルカリとしては、水酸化ナトリウ
ム、水酸化リチウム、水酸化カリウム、水酸化ルビジウ
ム、水酸化セシウム、水酸化ベリリウム、水酸化マグネ
シウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム及び
水酸化バリウムなどが挙げられ、これらのうち、水酸化
ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化カリウム及び水酸
化カルシウムがアルカリとして好ましく使用される。同
様にして、上記アルカリは、単独で使用されてもあるい
は2種以上の混合物の形態で使用されてもよい。
【0090】上記態様において、酸による加水分解物が
塩酸塩の形態で存在する際には、この加水分解物をアル
カリで中和する工程を設けてもよい。この際使用できる
アルカリの定義は、上記態様におけるものと同様であ
る。また、上記態様において、酸アジドの存在量は、特
に制限されず、上述したように、第二の反応により得ら
れた酸アジドをそのまま使用すればよいが、アルコール
及び必要に応じて添加された他の溶媒における酸アジド
の濃度が、通常、1〜80(w/v)%、好ましくは5
〜50(w/v)%となるような量である。また、第三
の溶媒におけるウレタン類の濃度もまた、酸アジドの熱
転位により得られるウレタン類をそのまま使用すればよ
いが、第三の溶媒におけるウレタン類の濃度が、通常、
1〜80(w/v)%、好ましくは5〜50(w/v)
%となるような量である。さらに、上記態様において、
熱転位反応及び加水分解は、加圧下、常圧下または減圧
下のいずれの圧力下で行なってもよいが、取り扱いのし
易さ及び設備面を考慮して、好ましくは常圧下で行われ
る。
【0091】第三の概念によると、本発明は、下記式
(5):
【0092】
【化59】 ただし、Xは塩素原子または臭素原子を表わし;R7
びR8は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数1
〜5のアルキル基、炭素原子数1〜5のアルコキシカル
ボニル基または炭素原子数1〜5のアルキルカルボニル
基を表わし;mは1〜4の整数であり;nは0〜3の整
数であり;およびm+nは4以下である、で示されるイ
ソフタル酸誘導体(II)(本明細書中では、単に「イ
ソフタル酸誘導体(II)」と称することもある)をア
ジ化水素酸および/またはアジ化ナトリウムと反応させ
ることにより下記式(4):
【0093】
【化60】 ただし、X、m及びnは上記式(3)における定義と同
様である、で示される酸アジドを得、該酸アジドを熱転
位及び加水分解することからなる下記式(2):
【0094】
【化61】 ただし、X、m及びnは上記式(3)における定義と同
様である、で示されるハロゲン化m−フェニレンジアミ
ン化合物の製造方法を提供するものである。
【0095】上記式(4)及び(5)において、X、m
及びnは上記式(1)における定義と同様である。ま
た、上記式(5)において、R7及びR8は、それぞれ独
立して、水素原子;炭素原子数1〜5のアルキル基、例
えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−
ブチル、ペンチル、ネオペンチル、sec−ブチル及び
tert−ブチル;炭素原子数1〜5のアルコキシカル
ボニル基、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボ
ニル、n−ブトキシカルボニル、ペントキシカルボニ
ル、ネオペントキシカルボニル、sec−ブトキシカル
ボニル及びtert−ブトキシカルボニル;または炭素
原子数1〜5のアルキルカルボニル基、例えば、メチル
カルボニル、エチルカルボニル、プロピルカルボニル、
イソプロピルカルボニル、n−ブチルカルボニル、ペン
チルカルボニル、ネオペンチルカルボニル、sec−ブ
チルカルボニル及びtert−ブチルカルボニルを表わ
す。この際、R7及びR8は同一であってもあるいは異な
るものであってもよい。また、上記置換基のうち、R7
及びR8は、水素原子、アルコキシカルボニル基、特
に、メトキシカルボニル及びエトキシカルボニル、なら
びにアルキルカルボニル基、特に、メチルカルボニル及
びエチルカルボニルが好ましく、水素原子、メトキシカ
ルボニル及びエトキシカルボニルであることが特に好ま
しい。
【0096】すなわち、本発明において特に好ましく使
用される式(5)のイソフタル酸誘導体(II)として
は、下記式(10):
【0097】
【化62】 ただし、X、m及びnは上記式(1)における定義と同
様である、で示されるイソフタル酸化合物、ならびに下
記式:
【0098】
【化63】 で示される化合物がある。これらのうち、mが4であり
かつnが0である式(10)のテトラフルオロイソフタ
ル酸が本発明において特に好ましく使用される。この
際、上記テトラフルオロイソフタル酸から、本発明の第
三の概念による方法によって、テトラフルオロ−m−フ
ェニレンジアミンが得られる。
【0099】本発明の第三の概念による方法は、式
(5)のイソフタル酸誘導体(II)をアジ化水素酸お
よび/またはアジ化ナトリウム、好ましくはアジ化ナト
リウムと反応させる工程を含むことを必須とする。第三
の概念において、アジ化水素酸および/またはアジ化ナ
トリウムの使用量は、原料の式(5)のイソフタル酸誘
導体(II)と十分反応できる量であれば制限されない
が、イソフタル酸誘導体(II)1モルに対して、通
常、2〜50モル、好ましくは2〜10モルである。な
お、本発明においてアジ化水素酸を使用する際の水溶液
におけるアジ化水素の濃度は、通常、1〜20%、好ま
しくは2〜10%である。
【0100】本発明の第三の概念による式(5)のイソ
フタル酸誘導体(II)とアジ化水素酸および/または
アジ化ナトリウムとの反応は、必要であれば還流しなが
ら行われてもよく、また、その反応条件は、これらの反
応が十分進行する条件であれば特に制限されないが、反
応温度は、通常、−50〜200℃、好ましくは−20
〜150℃であり、反応時間は、通常、0.1〜40時
間、好ましくは0.1〜20時間である。また、反応
は、加圧下、常圧下または減圧下のいずれの圧力下で行
なってもよいが、取り扱いのし易さ及び設備面を考慮し
て、好ましくは常圧下で行われる。
【0101】また、第三の概念において、上記イソフタ
ル酸誘導体(II)とアジ化水素酸および/またはアジ
化ナトリウムとの反応は、溶媒中であるいは無溶媒下で
行われてもよいが、反応の進行のし易さ及び反応熱の制
御を考慮すると、反応を溶媒中で行うことが好ましい。
この際使用できる溶媒としては、水、クロロホルム、塩
化メチレン、四塩化炭素、クロロエタン、ジクロロエタ
ン、トリクロロエタン及びテトラクロロエタン等のハロ
ゲン化炭化水素類;ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサ
ン及びヘプタン等の炭化水素類;ベンゼン、トルエン及
びキシレン等の芳香族炭化水素類;ならびにジエチルエ
ーテル、イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン
(THF)、ジオキサン、ジフェニルエーテル、ベンジ
ルエーテル及びtert−ブチルエーテル等のエーテル
類などが挙げられる。これらのうち、水、クロロホル
ム、ベンゼン及びトルエンが好ましく使用される。この
際、溶媒を使用する際の溶媒の使用量は、溶媒における
式(5)のイソフタル酸誘導体(II)の濃度が1〜8
0(w/v)%、好ましくは5〜50(w/v)%とな
るような量である。
【0102】さらに上記第三の概念による酸アジドの熱
転位及び加水分解は、上記第二の概念における記載と同
様である。
【0103】第四の概念によると、本発明は、下記式
(6):
【0104】
【化64】 ただし、Xは塩素原子または臭素原子を表わし;R5
びR6は、それぞれ独立して、ハロゲン原子を表わし;
mは1〜4の整数であり;nは0〜3の整数であり;お
よびm+nは4以下である、で示されるフタロイル化合
物(II)をアジ化水素酸および/またはアジ化ナトリ
ウムと反応させることにより下記式(4):
【0105】
【化65】 ただし、X、m及びnは上記式(6)における定義と同
様である、で示される酸アジドを得、該酸アジドを熱転
位及び加水分解することにより、式(2)のハロゲン化
m−フェニレンジアミン化合物を製造する方法を提供す
るものである。
【0106】上記式(4)及び(6)において、X、m
及びnは上記式(1)における定義と同様である。ま
た、上記式(6)において、R5及びR6は、ハロゲン原
子、好ましくは塩素原子、臭素原子、より好ましくは塩
素原子を表わす。
【0107】第四の概念において、式(6)のフタロイ
ル化合物(II)は、公知の方法と同様にして得られ、
例えば、式(10):
【0108】
【化66】 ただし、X、m及びnは上記式(1)における定義と同
様である、で示されるイソフタル酸化合物を、ハロゲン
化ホスホリル、ハロゲン化チオニル、五ハロゲン化リン
及び三ハロゲン化リン等の無機ハロゲンおよび/または
酸ハロゲン化物、α,α−ジハロゲノエーテル及びハロ
ゲン化アルキルアミン等の有機ハロゲン化物などのハロ
ゲン化剤でハロゲン化することによって得られる。
【0109】本発明の第四の概念による方法は、式
(6)のフタロイル化合物(II)をアジ化水素酸およ
び/またはアジ化ナトリウム、好ましくはアジ化ナトリ
ウムと反応させる工程を含むことを必須とする。第四の
概念において、アジ化水素酸および/またはアジ化ナト
リウムの使用量は、原料の式(6)のフタロイル化合物
(II)と十分反応できる量であれば制限されないが、
フタロイル化合物(II)1モルに対して、通常、2〜
50モル、好ましくは2〜10モルである。なお、本発
明においてアジ化水素酸を使用する際の水溶液における
アジ化水素の濃度は、通常、1〜20%、好ましくは2
〜10%である。
【0110】本発明の第四の概念による式(6)のフタ
ロイル化合物(II)とアジ化水素酸および/またはア
ジ化ナトリウムとの反応は、必要であれば還流しながら
行われてもよく、また、その反応条件は、これらの反応
が十分進行する条件であれば特に制限されないが、反応
温度は、通常、−20〜200℃、好ましくは20〜1
50℃であり、反応時間は、通常、0.1〜40時間、
好ましくは0.1〜20時間である。また、反応は、加
圧下、常圧下または減圧下のいずれの圧力下で行なって
もよいが、取り扱いのし易さ及び設備面を考慮して、好
ましくは常圧下で行われる。
【0111】また、本発明の第四の概念による式(6)
のフタロイル化合物(II)とアジ化水素酸および/ま
たはアジ化ナトリウムとの反応は、必要であれば、さら
に溶媒中で行われてもよく、この際使用される溶媒とし
ては、水、クロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素、
クロロエタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン及び
テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類;ペンタ
ン、ヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタン等の炭化水
素類;ベンゼン、トルエン及びキシレン等の芳香族炭化
水素類;ならびにジエチルエーテル、イソプロピルエー
テル、テトラヒドロフラン(THF)、ジオキサン、ジ
フェニルエーテル、ベンジルエーテル及びtert−ブ
チルエーテル等のエーテル類などが挙げられる。これら
のうち、水、クロロホルム、ベンゼン及びトルエンが好
ましく使用される。上記概念において、溶媒を使用する
際の溶媒の使用量は、溶媒におけるフタロイル化合物
(II)の濃度が1〜80(w/v)%、好ましくは5
〜50(w/v)%となるような量である。
【0112】さらに上記第四の概念による酸アジドの熱
転位及び加水分解は、上記第二の概念における記載と同
様である。
【0113】第五の概念によると、本発明は、ルイス塩
基の存在下、溶媒中で、下記式(3):
【0114】
【化67】 ただし、Xは塩素原子または臭素原子を表わし;R3
びR4は、それぞれ独立して、水素原子または炭素原子
数1〜5のアルキル基を表わし;mは1〜4の整数であ
り;nは0〜3の整数であり;およびm+nは4以下で
ある、で示されるイソフタル酸誘導体(I)を、下記式
(7):
【0115】
【化68】 ただし、R9及びR10は、それぞれ独立して、炭素原子
数1〜5のアルキル基、炭素原子数3〜8のシクロアル
キル基、ベンジル基または置換基を有してもよいフェニ
ル基を表わす、で示されるアジド化合物(本明細書中で
は、単に「アジド化合物」と称することもある)と反応
させることにより下記式(4):
【0116】
【化69】 ただし、X、m及びnは上記式(3)における定義と同
様である、で示される酸アジドを得、該酸アジドを熱転
位及び加水分解することにより、式(2)のハロゲン化
m−フェニレンジアミン化合物を製造する方法を提供す
るものである。
【0117】上記式(3)及び(4)に関する定義は、
上記第二の概念における定義と同様である。
【0118】また、上記式(7)において、R9及びR
10は、それぞれ独立して、炭素原子数1〜5のアルキル
基、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、n−ブチル、ペンチル、ネオペンチル、sec−ブ
チル及びtert−ブチル;炭素原子数3〜8のシクロ
アルキル基、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、
シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル及び
シクロオクチル;ベンジル基;または置換基を有しても
よいフェニル基を表わす。また、R9及びR10が置換基
を有してもよいフェニル基を表わす際に使用できる置換
基としては、特に制限されないが、具体的には、炭素原
子数1〜5のアルキル基、例えば、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、n−ブチル、ペンチル、ネオペ
ンチル、sec−ブチル及びtert−ブチル;炭素原
子数1〜5のアルコキシ基、例えば、メトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、ペン
トキシ、ネオペントキシ、sec−ブトキシ及びter
t−ブトキシ;アセチル基、クロロアセチル基、トリク
ロロアセチル基、トリフルオロアセチル基、カルボキシ
ル基、アミノ基、ハロゲン原子、例えば、フッ素、塩
素、臭素及びヨウ素、ニトリル基、スルホニル基、ニト
ロ基、ならびにエステル基、例えば、メチルエステル及
びエチルエステルなどが挙げられる。この際、R9及び
10は同一であってもあるいは異なるものであってもよ
い。さらに、上記R9及びR10のうち、メチル、エチ
ル、プロピル、tert−ブチル、ベンジル及びフェニ
ルが好ましく、特にR9及びR10がフェニルであるジフ
ェニルリン酸アジド(以下、単に「DPPA」とも略
す)が特に好ましい。
【0119】本発明の第五の概念による方法では、ルイ
ス塩基の存在下で、溶媒中で、イソフタル酸誘導体
(I)をアジド化合物と反応させることを必須とする
が、この際使用されるルイス塩基としては、水酸化ナト
リウム、水酸化リチウム、水酸化カリウム、水酸化ルビ
ジウム及び水酸化セシウム等の水酸化アルカリ金属類;
水酸化ベリリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシ
ウム、水酸化ストロンチウム及び水酸化バリウム等の水
酸化アルカリ土類金属類;メチルアミン、エチルアミ
ン、プロピルアミン、n−ブチルアミン、sec−ブチ
ルアミン、tert−ブチルアミン、シクロヘキシルア
ミン、ベンジルアミン及びフェニルアミン等の第一級ア
ミン;ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルア
ミン、ジブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジ−se
c−ブチルアミン、ジ−tert−ブチルアミン、ジシ
クロヘキシルアミン、ジベンジルアミン及びジフェニル
アミン等の第二級アミン;トリメチルアミン、トリエチ
ルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、ト
リシクロヘキシルアミン、トリベンジルアミン及びトリ
フェニルアミン等の第三級アミン;ピリジン;炭酸水素
ナトリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素カリウム、炭
酸水素ルビジウム及び炭酸水素セシウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸リチウム、炭酸カリウム、炭酸ルビジウム、炭
酸セシウム、炭酸ベリリウム、炭酸マグネシウム、炭酸
カルシウム、炭酸ストロンチウム及び炭酸バリウム等の
アルカリ金属やアルカリ土類金属の炭酸塩;ならびにフ
ッ化カリウム、塩化カリウム、フッ化ナトリウム、塩化
ナトリウム、塩化カルシウム及び塩化マグネシウム等の
アルカリ金属塩やアルカリ土類金属塩などが挙げられ
る。これらのうち、トリエチルアミン、トリメチルアミ
ン、ピリジン、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウ
ム、フッ化カリウム及びフッ化ナトリウム、特にトリエ
チルアミン、トリメチルアミン及びピリジンが好ましく
使用される。また、ルイス塩基の存在量は、イソフタル
酸誘導体(I)の反応を良好に触媒できる量であれば特
に制限されないが、イソフタル酸誘導体(I)1モルに
対して、通常、2〜50モル、好ましくは2〜10モル
である。この際、ルイス塩基の存在量が2モル未満であ
ると、イソフタル酸誘導体(I)の反応が良好に進行せ
ず、収率が低下し、好ましくない。これに対して、ルイ
ス塩基の存在量が50モルを超えると、添加に見合う効
果が得られず、逆に過剰のルイス塩基を除去するために
手間や時間がかかり、最終的にはコストアップにつなが
り、やはり好ましくない。
【0120】また、上記第五の概念に使用できる式
(7)のアジド化合物の添加量は、イソフタル酸誘導体
(I)の反応を良好に進行させる量であれば特に制限さ
れず、使用されるイソフタル酸誘導体(I)、ルイス塩
基、溶媒等の種類や量によって異なる。アジド化合物の
添加量は、通常、イソフタル酸誘導体(I)1モルに対
して、通常、2〜50モル、好ましくは2〜10モルで
ある。
【0121】第五の概念において使用できる溶媒として
は、メタノール、エタノール、無水エタノール、イソプ
ロパノール、ベンジルアルコール、フェノール、n−ブ
タノール、sec−ブタノール及びtert−ブタノー
ル等のアルコール類;クロロホルム、塩化メチレン、四
塩化炭素、クロロエタン、ジクロロエタン、トリクロロ
エタン及びテトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素
類;ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタン
等の炭化水素類;ベンゼン、トルエン及びキシレン等の
芳香族炭化水素類;ならびにジエチルエーテル、イソプ
ロピルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)、ジオ
キサン、ジフェニルエーテル、ベンジルエーテル及びt
ert−ブチルエーテル等のエーテル類などが挙げられ
る。これらのうち、アミンに加水分解しやすいウレタン
が一気に得られることから、アルコール類が好ましく、
さらに、冷時酸や接触還元などの緩和な条件で容易にア
ミンが得られることなどを考慮して、tert−ブタノ
ール、ベンジルアルコール及びエタノールが好ましく使
用される。また、溶媒の使用量もまた、イソフタル酸誘
導体(I)の反応が良好に進行するような量であれば特
に制限されないが、溶媒におけるフタロイル化合物
(I)の濃度が、通常、1〜80(w/v)%、好まし
くは5〜50(w/v)%となるような量である。
【0122】上記第五の概念において、イソフタル酸誘
導体(I)の反応の反応条件は、式(3)のイソフタル
酸誘導体(I)の反応が十分進行する条件であれば特に
制限されないが、反応温度は、通常、−20〜200
℃、好ましくは20〜150℃であり、反応時間は、通
常、0.1〜40時間、好ましくは0.1〜20時間で
ある。また、反応は、加圧下、常圧下または減圧下のい
ずれの圧力下で行なってもよいが、取り扱いのし易さ及
び設備面を考慮して、好ましくは常圧下で行われる。
【0123】また、このようにしてルイス塩基の存在下
で、溶媒中で、イソフタル酸誘導体(I)をアジド化合
物と反応させることによって、式(4)で示される酸ア
ジドが得られ、さらにこの酸アジドを熱転位及び加水分
解することによって、目的とする式(2)のハロゲン化
m−フェニレンジアミン化合物が得られるが、第五の概
念の方法における酸アジドの熱転位及び加水分解に関す
る記載は、上記第二の概念における記載と同様である。
【0124】上記第五の概念における方法は、目的物質
たるハロゲン化m−フェニレンジアミン化合物の収率が
高く、猛毒でありまた爆発の危険性のあるアジ化水素酸
の使用を必要としない、反応の工程が煩雑でないなどの
点から、発明において特に好ましく使用される。
【0125】また、第六の概念によると、本発明は、ル
イス塩基の存在下、溶媒中で、下記式(3):
【0126】
【化70】 ただし、Xは塩素原子または臭素原子を表わし;R3
びR4は、それぞれ独立して、水素原子または炭素原子
数1〜5のアルキル基を表わし;mは1〜4の整数であ
り;nは0〜3の整数であり;およびm+nは4以下で
ある、で示されるイソフタル酸誘導体(I)を、下記式
(8):
【0127】
【化71】 ただし、Yはハロゲン原子を表わし;R11及びR12は、
それぞれ独立して、炭素原子数1〜5のアルキル基、炭
素原子数3〜8のシクロアルキル基、ベンジル基または
置換基を有してもよいフェニル基を表わす、で示される
ハロゲン化リン酸ジエステル(本明細書中では、単に
「ハロゲン化リン酸ジエステル」と称することもある)
と反応させることにより下記式(9):
【0128】
【化72】 ただし、X、m及びnは上記式(3)における定義と同
様であり;およびR11及びR12は上記式(8)における
定義と同様である、で示される混合酸無水物(本明細書
中では、単に「混合酸無水物」と称することもある)を
得、該混合酸無水物をアジ化水素酸および/またはアジ
化ナトリウムと反応させることにより下記式(4):
【0129】
【化73】 ただし、X、m及びnは上記式(6)における定義と同
様である、で示される酸アジドを得、該酸アジドを熱転
位及び加水分解することからなる式(2)のハロゲン化
m−フェニレンジアミン化合物を製造する方法を提供す
るものである。
【0130】第六の概念において、上記式(3)及び
(4)に関する定義は、上記第二の概念における定義と
同様である。
【0131】また、上記式(8)及び(9)において、
11及びR12は、それぞれ独立して、炭素原子数1〜5
のアルキル基、例えば、メチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、n−ブチル、ペンチル、ネオペンチル、s
ec−ブチル及びtert−ブチル;炭素原子数3〜8
のシクロアルキル基、例えば、シクロプロピル、シクロ
ペンチル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキ
シル、シクロヘプチル及びシクロオクチル;ベンジル
基;または置換基を有してもよいフェニル基を表わす。
また、R11及びR12が置換基を有してもよいフェニル基
を表わす際に使用できる置換基としては、特に制限され
ないが、具体的には、炭素原子数1〜5のアルキル基、
例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n
−ブチル、ペンチル、ネオペンチル、sec−ブチル及
びtert−ブチル;炭素原子数1〜5のアルコキシ
基、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプ
ロポキシ、n−ブトキシ、ペントキシ、ネオペントキ
シ、sec−ブトキシ及びtert−ブトキシ;アセチ
ル基、クロロアセチル基、トリクロロアセチル基、トリ
フルオロアセチル基、カルボキシル基、アミノ基、ハロ
ゲン原子、例えば、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素、ニ
トリル基、スルホニル基、ニトロ基、ならびにエステル
基、例えば、メチルエステル及びエチルエステルなどが
挙げられる。この際、R11及びR12は同一であってもあ
るいは異なるものであってもよい。さらに、上記R11
びR12のうち、メチル、エチル、プロピル、tert−
ブチル、ベンジル及びフェニルが好ましく、特にフェニ
ルが好ましい。
【0132】本発明の第六の概念による方法では、ルイ
ス塩基の存在下で、溶媒中で、イソフタル酸誘導体
(I)を式(8)のハロゲン化リン酸ジエステルと反応
させる工程を必須とするが、第六の概念で使用されるル
イス塩基及び溶媒の種類に関する定義は、上記第五の概
念におけるものと同様である。また、第六の概念におい
て、ルイス塩基の存在量は、イソフタル酸誘導体(I)
とハロゲン化リン酸ジエステルとの反応を良好に触媒で
きる量であれば特に制限されないが、イソフタル酸誘導
体(I)1モルに対して、通常、2〜50モル、好まし
くは2〜10モルである。この際、ルイス塩基の存在量
が2モル未満であると、イソフタル酸誘導体(I)の反
応が良好に進行せず、収率が低下し、好ましくない。こ
れに対して、ルイス塩基の存在量が50モルを超える
と、添加に見合う効果が得られず、逆に過剰のルイス塩
基を除去するために手間や時間がかかり、最終的にはコ
ストアップにつながり、やはり好ましくない。また、溶
媒の使用量もまた、イソフタル酸誘導体(I)とハロゲ
ン化リン酸ジエステルとの反応が良好に進行するような
量であれば特に制限されないが、溶媒におけるフタロイ
ル化合物(I)の濃度が、通常、1〜80(w/v)
%、好ましくは5〜50(w/v)%となるような量で
ある。
【0133】また、上記第六の概念に使用できる式
(8)のハロゲン化リン酸ジエステルの添加量は、イソ
フタル酸誘導体(I)の反応を良好に進行させる量であ
れば特に制限されず、使用されるイソフタル酸誘導体
(I)、ルイス塩基、溶媒等の種類や量によって異な
る。ハロゲン化リン酸ジエステルの添加量は、通常、イ
ソフタル酸誘導体(I)1モルに対して、通常、2〜5
0モル、好ましくは2〜10モルである。
【0134】上記第六の概念において、イソフタル酸誘
導体(I)とハロゲン化リン酸ジエステルとの反応の反
応条件は、式(3)のイソフタル酸誘導体(I)の反応
が十分進行する条件であれば特に制限されないが、反応
温度は、通常、−20〜200℃、好ましくは20〜1
50℃であり、反応時間は、通常、0.1〜40時間、
好ましくは0.1〜20時間である。また、反応は、加
圧下、常圧下または減圧下のいずれの圧力下で行なって
もよいが、取り扱いのし易さ及び設備面を考慮して、好
ましくは常圧下で行われる。
【0135】また、このようにしてルイス塩基の存在下
で、溶媒中で、イソフタル酸誘導体(I)をハロゲン化
リン酸ジエステルと反応させることによって、下記式
(9)で示される混合酸無水物が得られる。さらに、こ
の混合酸無水物をアジ化水素酸および/またはアジ化ナ
トリウム、好ましくはアジ化ナトリウムと反応させるこ
とにより式(4)で示される酸アジドが得られ、さらに
この酸アジドを熱転位及び加水分解することによって、
目的とする式(2)のハロゲン化m−フェニレンジアミ
ン化合物が得られる。
【0136】この際、混合酸無水物とアジ化水素酸およ
び/またはアジ化ナトリウムとの反応におけるアジ化水
素酸および/またはアジ化ナトリウムの使用量は、混合
酸無水物と十分反応できる量であれば制限されないが、
混合酸無水物1モルに対して、通常、2〜50モル、好
ましくは2〜10モルである。なお、本発明においてア
ジ化水素酸を使用する際の水溶液におけるアジ化水素の
濃度は、通常、1〜20%、好ましくは2〜10%であ
る。
【0137】本発明の第六の概念による混合酸無水物と
アジ化水素酸および/またはアジ化ナトリウムとの反応
は、必要であれば還流しながら行われてもよく、また、
その反応条件は、これらの反応が十分進行する条件であ
れば特に制限されないが、反応温度は、通常、−50〜
200℃、好ましくは−20〜150℃であり、反応時
間は、通常、0.1〜40時間、好ましくは0.1〜2
0時間である。また、反応は、加圧下、常圧下または減
圧下のいずれの圧力下で行なってもよいが、取り扱いの
し易さ及び設備面を考慮して、好ましくは常圧下で行わ
れる。
【0138】また、第六の概念において、上記混合酸無
水物とアジ化水素酸および/またはアジ化ナトリウムと
の反応は、溶媒中であるいは無溶媒下で行われてもよい
が、反応の進行のし易さ及び反応熱の制御を考慮する
と、反応を溶媒中で行うことが好ましい。この際使用で
きる溶媒としては、水、クロロホルム、塩化メチレン、
四塩化炭素、クロロエタン、ジクロロエタン、トリクロ
ロエタン及びテトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水
素類;ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタ
ン等の炭化水素類;ベンゼン、トルエン及びキシレン等
の芳香族炭化水素類;ならびにジエチルエーテル、イソ
プロピルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)、ジ
オキサン、ジフェニルエーテル、ベンジルエーテル及び
tert−ブチルエーテル等のエーテル類などが挙げら
れる。これらのうち、水、クロロホルム、ベンゼン及び
トルエンが好ましく使用される。この際、溶媒を使用す
る際の溶媒の使用量は、溶媒における混合酸無水物の濃
度が1〜80(w/v)%、好ましくは5〜50(w/
v)%となるような量である。
【0139】また、第六の概念の方法における酸アジド
の熱転位及び加水分解に関する記載は、上記第二の概念
における記載と同様である。
【0140】上記第六の概念における方法は、目的物質
たるハロゲン化m−フェニレンジアミン化合物の収率が
高く、反応の工程が煩雑でないなどの点から、発明にお
いて特に好ましく使用される。
【0141】このようにして、上記第一から第六の概念
による方法によって得られたハロゲン化m−フェニレン
ジアミン化合物は、シリカゲルやアルミナ等によるカラ
ムクロマトグラフィー、蒸留、好ましくは固体蒸留、再
結晶、再沈及び昇華などの公知の方法によって精製でき
る。
【0142】上記した第一から第六の概念による方法を
用いることによって、ハロゲン化m−フェニレンジアミ
ン化合物は、p−体のハロゲン化p−フェニレンジアミ
ン化合物を副生することなく、高選択率でかつ高収率で
製造できる。
【0143】本発明の方法において原料として特に好ま
しく使用される式(10)で示されるイソフタル酸化合
物は、公知の方法によって製造されればよく特に制限さ
れるものではない。具体的には、下記式(11):
【0144】
【化74】 で示されるフッ素化イソフタロニトリル化合物(本明細
書中では、単に「フッ素化イソフタロニトリル化合物」
と称することもある)を加水分解する方法、m−キシレ
ン、m−ジアルキルベンゼン及びこれらのアルキル基の
水素が他の原子または原子団で置換されたものをハロゲ
ン化した後、アルキル基を酸化する方法などが挙げられ
る。これらのうち、フッ素化イソフタロニトリル化合物
を加水分解する方法が好ましく使用されるので、以下、
この方法について説明する。
【0145】上記式(11)において、X、m及びnは
上記式(1)における定義と同様である。すなわち、フ
ッ素化イソフタロニトリル化合物の特に好ましい例とし
ては、下記式で表されるテトラフルオロイソフタロニト
リルがある。
【0146】
【化75】 また、フッ素化イソフタロニトリル化合物を加水分解す
る方法においては、加水分解は酸および/またはアルカ
リの存在下で行われるが、その際使用される酸として
は、濃硫酸、トリクロロ酢酸、硫酸、ピロリン酸、トリ
リン酸、トリメタリン酸及びテトラメタリン酸等のポリ
リン酸、トリフルオロ酢酸、無水トリフルオロ酢酸、塩
酸、発煙硫酸、濃塩酸、臭化水素酸、プロピオン酸、ギ
酸、硝酸及び酢酸;ならびにこれらの混合物、例えば、
トリフルオロ酢酸−無水トリフルオロ酢酸(混合比は、
質量比で、1:9〜9:1、好ましくは3:7〜7:
3)及びトリクロロ酢酸と硫酸との混合液(混合比は、
質量比で、1:9〜9:1、好ましくは3:7〜7:
3)などが挙げられる。上記酸は、単独で使用されても
あるいは2種以上の混合物の形態で使用されてもよい。
これらのうち、ポリリン酸、トリフルオロ酢酸−無水ト
リフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、塩酸、濃塩酸及び硫
酸からなる群より選ばれる少なくとも一種、特に硫酸、
濃塩酸及びポリリン酸が酸として好ましく使用される。
また、上記方法で使用されるアルカリとしては、水酸化
ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化カリウム、水酸化
ルビジウム、水酸化セシウム、水酸化ベリリウム、水酸
化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチ
ウム及び水酸化バリウムなどが挙げられ、これらのう
ち、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシ
ウム及び水酸化バリウムがアルカリとして好ましく使用
される。同様にして、上記アルカリは、単独で使用され
てもあるいは2種以上の混合物の形態で使用されてもよ
い。さらに、酸および/またはアルカリの使用量は、フ
ッ素化イソフタロニトリル化合物を十分加水分解できる
量であれば特に制限されないが、通常、フッ素化イソフ
タロニトリル化合物に対して、1〜80質量%、好まし
くは5〜50質量%である。また、上記加水分解の条件
は、フッ素化イソフタロニトリル化合物を十分加水分解
できる条件であれば特に制限されないが、加水分解温度
は、通常、−20〜200℃、好ましくは0〜150℃
であり、加水分解時間は、通常、0.1〜40時間、好
ましくは0.1〜20時間である。また、加水分解は、
加圧下、常圧下または減圧下のいずれの圧力下で行なっ
てもよいが、好ましくは常圧下で行われる。
【0147】また、発明において、フッ素化イソフタロ
ニトリル化合物は、公知の方法によって製造されればよ
く特に制限されるものではない。具体的には、特公昭6
3−5023号公報に記載の方法と類似の方法、より具
体的には下記式(12):
【0148】
【化76】 で示されるイソフタロニトリル化合物(本明細書中で
は、単に「イソフタロニトリル化合物」と称することも
ある)をフッ素化剤とフッ素置換反応させる方法などが
挙げられる。これらのうち、イソフタロニトリル化合物
をフッ素化剤と反応させる方法が好ましく使用されるの
で、以下、この方法について説明する。
【0149】上記式(12)において、Xは上記式
(1)における定義と同様であり、n’は、1〜4の整
数、好ましくは3〜4の整数、特に好ましくは4であ
り、この際、nは、前記式(1)〜(7)におけるn及
びmとの合計がn’であるという関係(n+m=n’)
を満たすものである。すなわち、下記式:
【0150】
【化77】 で表されるテトラクロロイソフタロニトリルは安価であ
り、ゆえにこれを原料として用いることにより本発明に
よるハロゲン化m−フェニレンジアミン(テトラフルオ
ロ−m−フェニレンジアミン)もまた安価に製造できる
ため、テトラクロロイソフタロニトリルがイソフタロニ
トリル化合物の特に好ましい例である。
【0151】本発明において使用されるフッ素化剤とし
ては、フッ化カリウム、フッ化セシウム、フッ化ナトリ
ウム、フッ化バリウム、フッ化カルシウム及びフッ化ア
ンチモンなどが挙げられ、これらのうち、取り扱いや入
手の容易性などを考慮すると、フッ化カリウムが好まし
く使用される。また。フッ素化剤の使用量は、式(1
2)で示されるイソフタロニトリル化合物の「X」のフ
ッ素原子への置換数によって異なるが、好ましくはすべ
ての「X」がフッ素原子に置換される。このため、フッ
素化剤の使用量は、例えば、フッ化カリウムをフッ素化
剤として使用する際には、イソフタロニトリル化合物1
モルに対して、好ましくは、1〜20モル、より好まし
くは1〜8モルである。
【0152】また、イソフタロニトリル化合物とフッ素
化剤との反応条件は、これらの反応が十分進行する条件
であれば特に制限されないが、反応温度は、通常、19
0〜400℃、好ましくは250〜350℃であり、反
応時間は、通常、2〜48時間である。また、反応は、
加圧下、常圧下または減圧下のいずれの圧力下で行なっ
てもよいが、好ましくは常圧下で行われる。
【0153】本発明において、フッ素置換反応は、無溶
媒下で行われてもあるいは溶媒中で行われてもよいが、
好ましくは溶媒中で行われる。この際使用される溶媒と
しては、ベンゾニトリル、ジメチルスルホキシド(DM
SO)、スルホラン(TMSO2)、N−ジメチルホル
ムアミド(DMF)、N−メチル−2−ピロリドン(N
MP)及びジメチルスルホラン(DMSO2)などが挙
げられる。これらのうち、ベンゾニトリルが好ましく使
用される。また、本発明において、溶媒を使用する際の
溶媒の使用量は、溶媒におけるイソフタロニトリル化合
物の濃度が1〜80(w/v)%、好ましくは5〜50
(w/v)%となるような量である。なお、本発明にお
いて、反応速度を向上しさらに副反応を抑制することを
目的として、無水条件下でフッ素置換反応を行うことが
好ましく、このため、ジメチルスルホキシド、スルホラ
ン、N−ジメチルホルムアミド、N−メチル−2−ピロ
リドン及びジメチルスルホランなどの吸湿性の高い溶媒
を使用する際には、フッ素置換反応に先立ってベンゼン
やトルエン等を加えて水分を予め除去することが好まし
い。
【0154】また、本発明において、反応速度を高めて
反応時間を短縮するために、フッ素置換反応を相間移動
触媒の存在下で行うことが好ましく、この際使用できる
相間移動触媒としては、具体的には、ジベンゾ−18−
クラウン−6−エーテル等のクラウン化合物及びポリエ
チレングリコール(分子量:300〜600)などが挙
げられる。相間移動触媒の添加量は、イソフタロニトリ
ル化合物1モルに対して、0.01〜0.25モルであ
る。
【0155】
【実施例】以下、本発明の実施例により具体的に説明す
る。
【0156】合成例1 特公昭63−5023号公報 実施例1に記載の方法と
同様にして、テトラフルオロイソフタルニトリルを合成
した。
【0157】合成例2 1リットル容の四つ口フラスコに、合成例1で得られた
テトラフルオロイソフタルニトリル50.0g(0.2
50mol)、及び66wt%硫酸480mlを加えた
後、20時間還流、撹拌した後、室温に戻した。次に、
3リットル容のビーカーに氷を入れ、この反応溶液を注
いだ。さらに、この反応溶液をイソプロピルエーテルで
抽出し、イオン交換水で洗浄した後、硫酸マグネシウム
で乾燥させ、エバポレーターで溶媒を除去し、薄茶色固
体54.98gを得た。この固体をヘキサン、トルエン
の混合溶液より再結晶することにより、52.74g
(0.222mmol)のテトラフルオロイソフタル酸
を白色固体として得た(収率:88.8%)。
【0158】実施例1 50ml容の三つ口フラスコに、合成例2で得られたテ
トラフルオロイソフタル酸2.0g(8.40mmo
l)、t−ブタノール20ml、トリエチルアミン2.
8ml(20.16mmol)及びジフェニルリン酸ア
ジド4.4ml(20.16mmol)を仕込んだ。こ
の混合物を、25時間還流、撹拌し、室温に戻した後、
クロロホルムを30ml加え、飽和食塩水、希塩酸、イ
オン交換水で洗浄した。次に、硫酸マグネシウムで乾燥
させ、エバポレーターで溶媒を除去し、茶色固体2.5
2gを得た。この茶色固体を100mlのナスフラスコ
に加え、更に酢酸エチル10ml、及び濃塩酸4mlを
加えて室温で16時間撹拌した。500ml容のビーカ
ーに氷を入れ、そこに反応溶液を注いだ後、pHが14
になるまで水酸化ナトリウム水溶液を滴下した。次に、
クロロホルムで抽出し、イオン交換水で洗浄した後、硫
酸マグネシウムで乾燥させ、エバポレーターで溶媒を除
去することにより赤茶色固体2.21gを得た。この固
体をシリカゲルのカラムクロマトグラフィーで精製する
ことにより、1.25g(6.94mmol)のテトラ
フルオロ−m−フェニレンジアミンを白色固体として得
た(収率:82.6%)。
【0159】実施例2 300ml容の三つ口フラスコに、合成例2で得られた
テトラフルオロイソフタル酸2.00g(8.40mm
ol)、濃硫酸40ml及びクロロホルム100mlを
仕込んだ。この混合液を撹拌しながら50℃に加熱した
後、アジ化ナトリウム1.31g(20.15mmo
l)を40分かけて加えた。次に、この混合液を55℃
で1.5時間撹拌してから室温に戻して氷を加えた後、
pHが14になるまで水酸化ナトリウム水溶液を滴下し
た。さらに、クロロホルムで抽出し、飽和食塩水で洗浄
した後、硫酸マグネシウムで乾燥した後、エバポレータ
ーで溶媒を除去し、薄茶色固体1.70gを得た。この
固体をシリカゲルのカラムクロマトグラフィーで精製す
ることによって、1.12g(6.22mmol)のテ
トラフルオロ−m−フェニレンジアミンを白色固体とし
て得た(収率:74.0%)。
【0160】実施例3 50ml容の三つ口フラスコに、合成例2で得られたテ
トラフルオロイソフタル酸2.0g(8.40mmo
l)、アセトン10ml、トリエチルアミン5.15m
l(36.96mmol)を加え、塩氷で−10℃に冷
却した。この冷混合液に、クロロギ酸エチル3.53m
l(36.96mmol)をアセトン5mlに溶解させ
た溶液を、−5℃以下を保ちながら15分かけて滴下し
た。次に、この反応溶液を−10〜−5℃で0.5時間
撹拌した後、これにアジ化ナトリウム2.18g(3
3.60mmol)をイオン交換水5mlに溶解させた
溶液を−5℃以下を保ちながら30分かけて滴下した。
さらに、0℃で1.5時間撹拌した後、氷水を入れた5
00ml容のビーカーに溶液を注いだ。その後、この溶
液をトルエンで抽出し、500ml容の三ツ口フラスコ
に抽出溶液を加え、1時間還流、撹拌した。エバポレー
ターでトルエンを除去した後、濃塩酸20mlを加え、
徐々に加熱し、1時間還流撹拌した。さらに、この溶液
を室温まで冷やしてから50gの氷水を加え、pHが1
4になるまで水酸化ナトリウム水溶液を滴下した。次
に、この溶液をクロロホルムで抽出し、イオン交換水で
洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、エバポレー
ターで溶媒を除去することにより赤茶色固体1.81g
を得た。この固体をシリカゲルのカラムクロマトグラフ
ィーで精製することにより、0.96g(5.33mm
ol)のテトラフルオロ−m−フェニレンジアミンを白
色固体として得た(収率:63.5%)。
【0161】比較例1 50ml容の三つ口フラスコに、水酸化ナトリウム4.
0g(101.84mmol)及びイオン交換水25m
lを加えた。次に、氷浴で冷却しながら臭素1.09m
l(21.18mmol)を15分かけて滴下した後、
テトラフルオロイソフタルアミド2.0g(8.47m
mol)を投入した。この混合液を20時間還流、撹拌
してから室温に戻した後、イソプロピルエーテルで抽出
し、イオン交換水で洗浄してから硫酸マグネシウムで乾
燥させ、エバポレーターで溶媒を除去し、茶色固体2.
42gを得た。この固体を50ml容の三つ口フラスコ
に入れ、更に20%塩酸20mlを加え、5時間還流、
撹拌した。室温に戻してから、500ml容のビーカー
に氷水を入れ、そこに上記溶液を注いだ後、pHが14
になるまで水酸化ナトリウム水溶液を滴下した。次に、
クロロホルムで抽出し、イオン交換水で洗浄した後、硫
酸マグネシウムで乾燥させ、エバポレーターで溶媒を除
去することにより赤茶色固体0.25gを得た。この固
体をシリカゲルのカラムクロマトグラフィーで精製する
ことにより、0.21g(1.17mmol)のテトラ
フルオロ−m−フェニレンジアミンを白色固体として得
た(収率:13.8%)。
【0162】
【発明の効果】本発明のハロゲン化m−フェニレンジア
ミン化合物の製造方法は、(ア)式(1)のフタロイル
化合物(I)を強酸中でアジ化水素酸および/またはア
ジ化ナトリウムと反応させることからなる;(イ)式
(3)のイソフタル酸誘導体(I)をヒドラジン、さら
には亜硝酸および/または亜硝酸ナトリウムと反応させ
ることにより式(4)の酸アジドを得、該酸アジドを熱
転位及び加水分解することからなる;(ウ)式(5)の
イソフタル酸誘導体(II)をアジ化水素酸および/ま
たはアジ化ナトリウムと反応させることにより式(4)
の酸アジドを得、該酸アジドを熱転位及び加水分解する
ことからなる;(エ)式(6)のフタロイル化合物(I
I)をアジ化水素酸および/またはアジ化ナトリウムと
反応させることにより式(4)の酸アジドを得、該酸ア
ジドを熱転位及び加水分解することからなる;(オ)ル
イス塩基の存在下、溶媒中で、式(3)のイソフタル酸
誘導体(I)を式(7)のアジド化合物と反応させるこ
とにより式(4)の酸アジドを得、該酸アジドを熱転位
及び加水分解することからなる;または(カ)ルイス塩
基の存在下、溶媒中で、式(3)のイソフタル酸誘導体
(I)を式(8)のハロゲン化リン酸ジエステルと反応
させることにより式(9)の混合酸無水物を得、該混合
酸無水物をアジ化水素酸および/またはアジ化ナトリウ
ムと反応させることにより式(4)の酸アジドを得、該
酸アジドを熱転位及び加水分解することからなることを
特徴とするものである。したがって、本発明の方法によ
ると、目的とするハロゲン化m−フェニレンジアミン化
合物が高選択率にかつ高収率で製造できる。
【0163】また、ハロゲン化イソフタロニトリル、特
に安価なテトラクロロイソフタロニトリルを出発原料と
して使用することによって、目的とするハロゲン化m−
フェニレンジアミン化合物が、高選択率にかつ高収率
で、さらに安価に製造できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 奥村 康則 茨城県つくば市観音台1丁目25番地12 株 式会社日本触媒内 Fターム(参考) 4H006 AA02 AC30 AC46 AC52 AC59 BA02 BA06 BA28 BA29 BA32 BA36 BA37 BA51 BA69 BB11 BB12 BB15 BB17 BB25 BB31 BC10 BC11 BC19 BC31 BC34 BE02 BE27 BE50 BE51 BE61 BE90 BU46 4H039 CA71 CA73 CG90

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記式(1): 【化1】 ただし、Xは塩素原子または臭素原子を表わし;R1
    びR2は、それぞれ独立して、水酸基、炭素原子数1〜
    5のアルキル基または炭素原子数1〜5のアルコキシ基
    を表わし;mは1〜4の整数であり;nは0〜3の整数
    であり;およびm+nは4以下である、で示されるフタ
    ロイル化合物(I)を強酸中でアジ化水素酸および/ま
    たはアジ化ナトリウムと反応させることからなる下記式
    (2): 【化2】 ただし、X、m及びnは上記式(1)における定義と同
    様である、で示されるハロゲン化m−フェニレンジアミ
    ン化合物の製造方法。
  2. 【請求項2】 下記式(3): 【化3】 ただし、Xは塩素原子または臭素原子を表わし;R3
    びR4は、それぞれ独立して、水素原子または炭素原子
    数1〜5のアルキル基を表わし;mは1〜4の整数であ
    り;nは0〜3の整数であり;およびm+nは4以下で
    ある、で示されるイソフタル酸誘導体(I)をヒドラジ
    ン、さらには亜硝酸および/または亜硝酸ナトリウムと
    反応させることにより下記式(4): 【化4】 ただし、X、m及びnは上記式(3)における定義と同
    様である、で示される酸アジドを得、該酸アジドを熱転
    位及び加水分解することからなる下記式(2): 【化5】 ただし、X、m及びnは上記式(3)における定義と同
    様である、で示されるハロゲン化m−フェニレンジアミ
    ン化合物の製造方法。
  3. 【請求項3】 下記式(5): 【化6】 ただし、Xは塩素原子または臭素原子を表わし;R7
    びR8は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数1
    〜5のアルキル基、炭素原子数1〜5のアルコキシカル
    ボニル基または炭素原子数1〜5のアルキルカルボニル
    基を表わし;mは1〜4の整数であり;nは0〜3の整
    数であり;およびm+nは4以下である、で示されるイ
    ソフタル酸誘導体(II)をアジ化水素酸および/また
    はアジ化ナトリウムと反応させることにより下記式
    (4): 【化7】 ただし、X、m及びnは上記式(3)における定義と同
    様である、で示される酸アジドを得、該酸アジドを熱転
    位及び加水分解することからなる下記式(2): 【化8】 ただし、X、m及びnは上記式(3)における定義と同
    様である、で示されるハロゲン化m−フェニレンジアミ
    ン化合物の製造方法。
  4. 【請求項4】 下記式(6): 【化9】 ただし、Xは塩素原子または臭素原子を表わし;R5
    びR6は、それぞれ独立して、ハロゲン原子を表わし;
    mは1〜4の整数であり;nは0〜3の整数であり;お
    よびm+nは4以下である、で示されるフタロイル化合
    物(II)をアジ化水素酸および/またはアジ化ナトリ
    ウムと反応させることにより下記式(4): 【化10】 ただし、X、m及びnは上記式(6)における定義と同
    様である、で示される酸アジドを得、該酸アジドを熱転
    位及び加水分解することからなる下記式(2): 【化11】 ただし、X、m及びnは上記式(6)における定義と同
    様である、で示されるハロゲン化m−フェニレンジアミ
    ン化合物の製造方法。
  5. 【請求項5】 ルイス塩基の存在下、溶媒中で、下記式
    (3): 【化12】 ただし、Xは塩素原子または臭素原子を表わし;R3
    びR4は、それぞれ独立して、水素原子または炭素原子
    数1〜5のアルキル基を表わし;mは1〜4の整数であ
    り;nは0〜3の整数であり;およびm+nは4以下で
    ある、で示されるイソフタル酸誘導体(I)を、下記式
    (7): 【化13】 ただし、R9及びR10は、それぞれ独立して、炭素原子
    数1〜5のアルキル基、炭素原子数3〜8のシクロアル
    キル基、ベンジル基または置換基を有してもよいフェニ
    ル基を表わす、で示されるアジド化合物と反応させるこ
    とにより下記式(4): 【化14】 ただし、X、m及びnは上記式(3)における定義と同
    様である、で示される酸アジドを得、該酸アジドを熱転
    位及び加水分解することからなる下記式(2): 【化15】 ただし、X、m及びnは上記式(3)における定義と同
    様である、で示されるハロゲン化m−フェニレンジアミ
    ン化合物の製造方法。
  6. 【請求項6】 ルイス塩基の存在下、溶媒中で、下記式
    (3): 【化16】 ただし、Xは塩素原子または臭素原子を表わし;R3
    びR4は、それぞれ独立して、水素原子または炭素原子
    数1〜5のアルキル基を表わし;mは1〜4の整数であ
    り;nは0〜3の整数であり;およびm+nは4以下で
    ある、で示されるイソフタル酸誘導体(I)を、下記式
    (8): 【化17】 ただし、Yはハロゲン原子を表わし;R11及びR12は、
    それぞれ独立して、炭素原子数1〜5のアルキル基、炭
    素原子数3〜8のシクロアルキル基、ベンジル基または
    置換基を有してもよいフェニル基を表わす、で示される
    ハロゲン化リン酸ジエステルと反応させることにより下
    記式(9): 【化18】 ただし、X、m及びnは上記式(3)における定義と同
    様であり;およびR11及びR12は上記式(8)における
    定義と同様である、で示される混合酸無水物を得、該混
    合酸無水物をアジ化水素酸および/またはアジ化ナトリ
    ウムと反応させることにより下記式(4): 【化19】 ただし、X、m及びnは上記式(6)における定義と同
    様である、で示される酸アジドを得、該酸アジドを熱転
    位及び加水分解することからなる下記式(2): 【化20】 ただし、X、m及びnは上記式(6)における定義と同
    様である、で示されるハロゲン化m−フェニレンジアミ
    ン化合物の製造方法。
  7. 【請求項7】 該フタロイル化合物(I)は、下記式
    (10): 【化21】 ただし、Xは塩素原子または臭素原子を表わし;mは1
    〜4の整数であり;nは0〜3の整数であり;およびm
    +nは4以下である、で示されるイソフタル酸化合物で
    ある、請求項1に記載の方法。
  8. 【請求項8】 該イソフタル酸誘導体(I)は、下記式
    (10): 【化22】 ただし、Xは塩素原子または臭素原子を表わし;mは1
    〜4の整数であり;nは0〜3の整数であり;およびm
    +nは4以下である、で示されるイソフタル酸化合物で
    ある、請求項2、5または6に記載の方法。
  9. 【請求項9】 該イソフタル酸化合物は、下記式(1
    1): 【化23】 ただし、Xは塩素原子または臭素原子を表わし;mは1
    〜4の整数であり;nは0〜3の整数であり;およびm
    +nは4以下である、で示されるフッ素化イソフタロニ
    トリル化合物を加水分解することによって得られる、請
    求項7または8に記載の方法。
  10. 【請求項10】 該フッ素化イソフタロニトリル化合物
    は、下記式(12): 【化24】 ただし、Xは塩素原子または臭素原子を表わし;n’は
    1〜4の整数でありかつ前記式(11)におけるn及び
    mとの合計がn’であるという関係(n+m=n’)を
    満たす、で示されるイソフタロニトリル化合物をフッ素
    化剤と反応させることによって得られる、請求項9に記
    載の方法。
JP2000041844A 2000-02-18 2000-02-18 ハロゲン化m−フェニレンジアミン化合物の製造方法 Expired - Fee Related JP3830323B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000041844A JP3830323B2 (ja) 2000-02-18 2000-02-18 ハロゲン化m−フェニレンジアミン化合物の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000041844A JP3830323B2 (ja) 2000-02-18 2000-02-18 ハロゲン化m−フェニレンジアミン化合物の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2001226329A true JP2001226329A (ja) 2001-08-21
JP3830323B2 JP3830323B2 (ja) 2006-10-04

Family

ID=18564998

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000041844A Expired - Fee Related JP3830323B2 (ja) 2000-02-18 2000-02-18 ハロゲン化m−フェニレンジアミン化合物の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3830323B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004113267A3 (en) * 2003-06-23 2005-02-24 Nippon Catalytic Chem Ind Method for production of fluorinated phenylenediamine
US6916959B2 (en) 2001-05-11 2005-07-12 Nippon Shokubai Co., Ltd. Halogen-containing aromatic compound

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6916959B2 (en) 2001-05-11 2005-07-12 Nippon Shokubai Co., Ltd. Halogen-containing aromatic compound
US7217827B2 (en) 2001-05-11 2007-05-15 Nippon Shokubai Co., Ltd. Halogen-containing aromatic compound
WO2004113267A3 (en) * 2003-06-23 2005-02-24 Nippon Catalytic Chem Ind Method for production of fluorinated phenylenediamine
CN1809526B (zh) * 2003-06-23 2010-05-26 株式会社日本触媒 用于生产氟代苯二胺的方法
US7741426B2 (en) 2003-06-23 2010-06-22 Nippon Shokubai Co., Ltd Method for production of fluorinated phenylenediamine

Also Published As

Publication number Publication date
JP3830323B2 (ja) 2006-10-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3433319B2 (ja) 塩化o−(カルボアルコキシ)フェニルメタンスルホニル誘導体の製造方法
JP2001226329A (ja) ハロゲン化m−フェニレンジアミン化合物の製造方法
US20170217865A1 (en) Process for the preparation of 1-(3,5-dichlorophenyl)-2,2,2-trifluoroethanone and derivatives thereof
JP6787331B2 (ja) 酸ハライド溶液の製造方法、混合溶液、及びモノエステル化合物の製造方法
JP4709456B2 (ja) ベンゾフラノンオキシムの製造方法
JP4297837B2 (ja) フッ化フェニレンジアミンの製造方法
US4552984A (en) Process for preparation of α,α-difluoroalkoxy or α,.alpha.
JP3242213B2 (ja) N−(メタ)アクリロイルモルホリンの製造方法
JP3563040B2 (ja) ハロゲン化m−フェニレンジアミン化合物
JP2003055322A (ja) 含ハロゲン芳香族ジアミン化合物
EP1256564B1 (en) Halogen-containing aromatic compound
JP2000053648A (ja) カルボキシアミドオキシムの精製方法
IL110427A (en) Process for the preparation of 1,2-diacyl-T-2-alkyl hydrazides
JP2003055318A (ja) 含ハロゲン芳香族化合物およびその製造方法
JPH1095757A (ja) アセトニルベンズアミドの製造方法
JP4013772B2 (ja) 2−ヒドロキシイミノ−3−オキソプロピオニトリル及びその製法
JP4154092B2 (ja) 5−アルキル−2−アミノ−4−置換オキシフェノール化合物およびそのプロトン酸塩の製造方法
JPH05262704A (ja) 5−アミノ−2−クロロ−4−フルオロフェノキシ酢酸エステルの製造法
JP2003335730A (ja) 2,4,5−トリフルオロ3−メチル−6−ニトロ安息香酸の製造方法
JP2000128844A (ja) シアノ安息香酸アルキルエステルの製造方法
JP2001151753A (ja) ピリジン誘導体の製造方法
JP2000128845A (ja) シアノ安息香酸アルキルエステルの製造方法
KR20180101396A (ko) 산 할라이드 용액의 제조 방법, 및 모노에스테르 화합물의 제조 방법
JPS63227554A (ja) 安息香酸誘導体の製造方法
JPS61148149A (ja) 2−アシルアミノ−5−アルキル−4,6−ジハロゲノフエノ−ルの製法

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20040701

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20050422

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060214

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060412

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060419

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20060704

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20060711

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees