JP2001205102A - 光触媒坦持構造体 - Google Patents
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Landscapes
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Abstract
担持構造体であって、透明担体と光触媒層との密着性に
優れ、担体及び中間層が光触媒により分解され難く、い
わゆる干渉色がなく、かつ、表面にひび割れ等の生じな
い光触媒担持構造体を提供する。 【解決手段】担体上に中間層と光触媒層を順次設けてな
る光触媒坦持構造体であって、前記中間層は膜厚が3μ
m〜10μmで形成されており、かつ前記光触媒層は膜
厚が0.01μm〜0.3μmで形成されている光触媒
坦持構造体。
Description
臭、殺菌、排水処理、水分解、藻の成育抑制及び各種化
学反応等に用いられる光触媒を担持した光触媒担持構造
体に関し、特に、担体上に、中間層を介して光触媒層を
形成してなる光触媒担持構造体に関する。
機物を主体とする担体を用いる光触媒担持構造体が知ら
れているが、このものは、光触媒を担体上に担持する
と、その触媒作用により該有機物(担体)が分解された
り、劣化したりすることが報告されており、その耐久性
に問題があった(例えば、大谷文章、高分子加工 42
巻、5号、p18(1993)、清野学著、”酸化チタ
ン”技法堂、p165等参照)。
体上に中間層を設け、該中間層上に光触媒層を形成して
なる光触媒構造体が提案されている(例えば、WO96
/14932号公報、WO97/00134号公報、W
O98/25711号公報等参照。)。
間に特定の接着層を設けることにより、下地の担体を光
触媒による劣化から保護する作用と、光触媒層を担体に
強固に接着させる作用、及び接着層自身が光触媒作用に
より劣化を受けにくい光触媒担持構造体としたものであ
る。
は基体)表面に光触媒層(光触媒膜)を有し、高い透明
性の確保を目的とする光触媒担持構造体としては、例え
ば次のものが知られている。
チタニアを含有する防曇性コーティングの光反射を防止
することを目的として、光触媒チタニアの粒子を含有す
る透明な防曇性コーティングで被覆された透明基材であ
って、前記コーティングは屈折率が2より小さな媒体に
チタニアを配合してなり、チタニア粒子の平均結晶子径
約0.1μm以下であることを特徴とする防曇性コーティ
ングを備えた透明基材が記載されている。
美的処理が施された基材と、この基材表面に形成された
光半導体を含む表面層とを備えた意匠部材であって、該
部材の表面は水との接触角が10°未満の親水性を示
し、該表面層の厚さが0.2μm未満である高清浄性意
匠部材が記載されている。そして、この部材によれば、
雨水や簡単なシャワーによる洗浄だけでも十分に清浄性
を維持でき、かつ基材の意匠性が損なわれることがない
ものである。
報には、半導体光触媒物質と該半導体光触媒物質が分散
された酸化物微粒子とからなる光触媒組成物であって、
光触媒組成物のバンドギャップが半導体光触媒物質担体
のバンドギャップよりも0.05eV以上大きいことを
特徴とする光触媒組成物が記載されている。この光触媒
組成物によれば、該組成物を用いてガラスなどの透明な
基体上に透明薄膜状に形成しても、透明性が高く強い干
渉縞が発生しない光触媒担持体を得ることができる。
号公報には、少なくとも波長410nm以下の光を透過
する基材と、該基材層上の少なくとも1部の領域に、波
長550nmの可視光線透過率が波長365nmの紫外
線透過率より15%以上高くなるように形成された光触
媒膜とを備えた照明器具が記載されている。この照明器
具においては、光触媒膜の膜厚を0.01〜0.3μm
とすることにより、高い光触媒活性と高い透明性を確保
して、可視光線の干渉が発生することがないものとなっ
ている。
ば、プラスチックフィルム表面に光触媒層を形成した光
触媒担持フィルムを、透明ガラスや透明プラスチックス
成形体上に貼着してなる光触媒担持構造体等のように、
特に高い透明性が要求される場合においては次のような
問題があった。
するためには、光触媒層を厚く形成する必要があるが、
表面にヒビが入ったり、白化して透明性が悪くなる場合
があること、(2)中間層となるプラスチックフィルム
自体が光触媒の作用により光分解(光劣化)する場合が
あること、(3)その防止のためにプラスチックフィル
ムの厚みを厚くしたり、シリカ等の難分解性物質をプラ
スチックフィルム中に添加すると、透明性が悪化してし
まう場合があること、及び(4)入射光が乱反射して光
触媒構造体の表面が特有の色彩(金色等)を帯びて見え
る場合(いわゆる干渉色の問題)があることである。
光触媒担持構造体の開発が求められている。本発明は、
かかる問題を解決すべく、担体と光触媒層との間に中間
層を設けた光触媒担持構造体において、担体と光触媒
層との密着性に優れ、担体及び中間層が光触媒により
分解され難く、いわゆる干渉色がなく、かつ、表面
にひび割れ等の生じない光触媒担持構造体を提供するこ
とを目的とする。
解決すべく鋭意検討した結果、担体表面に、特定の厚さ
の中間層と光触媒層とを順次形成することにより、担体
と光触媒層との密着性に優れ、担体及び中間層が光触媒
により分解され難く、いわゆる干渉色がなく、かつ、表
面にひび割れ等の生じない光触媒担持構造体が得られる
ことを見出し、本発明を完成するに至った。
層とを順次設けてなる光触媒坦持構造体であって、前記
中間層は膜厚が3μm〜10μmで形成されており、か
つ前記光触媒層は膜厚が0.01μm〜0.3μmで形
成されている光触媒坦持構造体を提供する。
前記中間層は2層以上の積層体からなり、該中間層の各
層の屈折率の差が0.2以下であるのが好ましい。
媒層と接触しない層はアクリル系樹脂から形成されてい
るのがより好ましい。
うち前記光触媒と接触しない層は、膜厚の合計が1μm
〜9μmで形成されてなるのがさらに好ましい。
触する層は、ポリシロキサン、金属酸化物ゲル及び/若
しくは金属水酸化物ゲル、又はポリシロキサン、金属酸
化物ゲル又は金属水酸化物ゲルの少なくとも1種を含有
する(アクリルシリコン樹脂又はエポキシシリコン樹
脂)から形成されているのが好ましい。
接触する層は、(1)アクリルシリコン樹脂又はエポキ
シシリコン樹脂を酸化物換算で全固形分に対して40〜
70重量%、(2)金属酸化物及び/又は金属水酸化物
のゲルを酸化物換算で全固形分に対して2〜20重量
%、及び(3)テトラメトキシシラン及び/又はテトラ
エトキシシランの重縮合生成物であるポリシロキサン
を、酸化物換算で全固形分に対して20〜40重量%を
含有する樹脂組成物から形成されているのがより好まし
い。
とすることにより、担体と光触媒層との密着性に優れ、
担体及び中間層が光触媒により分解され難く、いわゆる
干渉色がなく、かつ、表面にひび割れ等の生じないもの
となっている。
述したように、担体上に中間層と光触媒層を順次設けて
なり、前記中間層は膜厚が3μm〜10μmで形成され
ており、かつ前記光触媒層は膜厚が0.01μm〜0.
3μmで形成されていることを特徴とする。以下、本発
明の光触媒担持構造体を詳細に説明する。
は、その表面に中間層を介して光触媒を担持可能なもの
であれば、その材質、形状等に制限はない。
可能であれば特に制限はない。例えばフィルム状、管
状、繊維状、網状、板状、曲面板等、どのような形状を
有していてもよい。
ン、ポリプロピレン、エチレン−ブテン共重合体、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−ビニルアルコー
ル共重合体等のオレフィン樹脂、ポリメタクリル酸メチ
ル、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、
ポリアクリル酸エチル等のアクリル樹脂、
ニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS樹
脂)、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂、フェノール
樹脂、尿素樹脂、不飽和ポリエステル、ポリウレタン、
エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ジアリルフタレート樹脂
等の熱硬化性樹脂、その他、ポリフッ化エチレン、珪素
樹脂等の合成樹脂のフィルムや板状体、各種ガラス、陶
磁器、土器、ほうろう等のセラミックス板、石膏板、石
膏スラグ板、珪酸カルシウム板、軽量発泡コンクリ−ト
板、中空押出セメント板、パルプセメント板、石綿セメ
ント板、木片セメント板、硝子繊維強化セメント板、
板、亜鉛メッキ鋼板、銅板、銅合金板、ステンレス板等
の金属板 木材単板、木材合板、パーティクルボード、MDF(中
密度繊維板)等の木質板、クラフト紙、コート紙、チタ
ン紙、リンター紙、板紙、石膏ボード紙、上質紙、薄葉
紙、パラフィン紙、グラシン紙、アート紙、硫酸紙等の
紙類、毛、絹、麻等の天然繊維、レーヨン、アセテート
等の再生繊維、ナイロン、アクリル、ポリアミド、ポリ
エステル、ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニル、ポ
リ塩化ビニリデン等の合成繊維、アラミド等の耐熱性繊
維の単独あるいは混紡繊維からなる織布、不織布、編布
等の繊維
シリカ繊維、炭素繊維、アルミナ繊維等の複合強化繊維 フェノール樹脂、尿素樹脂、不飽和ポリエステル、ポリ
ウレタン、エポキシ樹脂、メラミン樹脂等の樹脂を、硝
子繊維、不織布、布帛、紙、その他各種繊維基材に含浸
硬化させて複合化したいわゆるFRP板等が挙げられ
る。
体上に光触媒を担持してなる場合が好ましい。かかる透
明性が高い担体としては、例えばポリエチレンテレフタ
レート、ポリカーボネート、ポリアクリル酸エステル、
ポリメタクリレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、
ポリアミド、ポリイミド、ポリスチレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリフッ化ビニリデン、ポリ四フッ化エチレン、フ
ッ化エチレン−プロピレン共重合体、フッ化エチレン−
エチレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体など
のフィルム状に成形加工したときに550nmの波長の
光の直線透過率が50%以上である透明性の高い合成樹
脂フィルム又はシートを挙げることができる。又、透明
な担体を用いる場合には、着色剤等で着色されたもので
あってもよい。
ば、ガラス板状に透明フィルムを接着剤あるいは熱融着
等の公知の手法により積層した複合基材を担体として用
いることもできる。
及び光触媒層は透明性がたかいものであるので、表面に
絵柄模様が施された担体を用いることも好ましい。
面上に中間層を有する。中間層の厚みは全体で3μm〜
10μmであるのが好ましい。3μm未満では担体と光
触媒層との層間密着性に乏しく、10μmを越えると透
明性が低下したり、光干渉により、光触媒担持構造体の
表面が金色あるいは玉虫色に見える場合ある。
酢酸セルロース、酪酸セルロース、セルロイド、セロフ
ァン、アセチルセルロース等の天然高分子系プラスチッ
ク、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、フラン
樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ジアリ
ルフタレート樹脂、グアナミン樹脂、ケトン樹脂等の熱
硬化性樹脂、(超低密度、低密度、中密度、高密度)ポ
リエチレン、アイオノマー、塩素化ポリエチレン、エチ
レン−塩化ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重
合体、ポリ酢酸ビニル、ポリプロピレン、ポリブテン、
エチレン−α−オレフィン共重合体等の熱可塑性樹脂、
リスチレン、ポリ−α−メチルスチレン、ポリパラビル
フェノール、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン
共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、塩素
化ポリエチレン−アクリロニトリル−スチレン共重合
体、アクリロニトリル−スチレン共重合体、メタクリル
樹脂、ノルボネン樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン、ポリアリルアミン、ポリビニルエーテル、ポリ
ビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合
体、ポリウレタン樹脂、ポリアクリロニトリル、ポリビ
ニルブチラール、ナイロン、ポリアセタール、ポリカー
ボネート、変性ポリフェニレンエーテル、
ンテレフタレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホ
ン、ポリフェニレンスルファイド、ポリアミド、ポリア
ミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテ
ルケトン、ポリアミノビスマレイミド、超高分子量ポリ
エチレン、アイソタクチックポリスチレン、ポリテトラ
フルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−パーフル
オロアクコキシビニルエーテル共重合体、ポリクロロト
リフルオロエチレン、テトラフルロロエチレン−エチレ
ン共重合体、クロロトリフルオロエチレン−エチレン共
重合体、ポリビニリデンフロライド、ポリビニルフロラ
イド等の熱可塑性プラスチック等が挙げられる。
り、該中間層各層の屈折率の差が0.2以下であるのが
より好ましい。中間層が2層以上の積層体からなる場合
に、各層の屈折率の差が0.2以下とすることにより、
光干渉による光触媒担持構造体の表面が金色あるいは玉
虫色に見える現象が生じるのを防止することができる。
場合には、前記中間層の各層のうち、光触媒層と接しな
い層(即ち、担体側の層であり、2層以上となる場合も
ある)は、透明性及び層間密着性に優れるアクリル系樹
脂で形成されてなるのが好ましい。
ポリ(メタ)アクリル酸メチル、ポリ(メタ)アクリル
酸エチル、ポリ(メタ)アクリル酸プロピル、ポリ(メ
タ)アクリル酸ブチル、ポリ(メタ)アクリル酸フェニ
ル、(メタ)アクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸ブ
チル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸メチル共
重合体、スチレン−(メタ)アクリル酸メチル共重合体
等の(メタ)アクリル酸エステルを含む単独重合体又は
他の重合性モノマーとの共重合体を挙げることができ
る。ここで、(メタ)アクリルとは、アクリル又はメタ
クリルの意で用いている。
合計の厚み)が1μm〜9μmで形成するのが好まし
い。厚みが1μm未満の場合には、担体と光触媒層側の
層との層間密着性に乏しくなり、9μmを越えると、透
明性が低下し、光干渉により、光触媒担持構造体の表面
が金色あるいは玉虫色に見える場合がある。
る層は、ポリシロキサン、金属酸化物ゲル及び/又
は金属水酸化物ゲル、又は、ポリシロキサン、金属酸
化物ゲル若しくは金属水酸化物ゲルの少なくとも1種を
含有する(アクリルシリコン樹脂又はエポキシシリコン
樹脂)のいずれかから形成されてなるのが好ましい。
ラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロ
ポキシシラン、テトラブトキシシラン等)のテトラアル
コキシシラン、(メチルトリメトキシシラン、メチルト
リエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチル
トリエトキシシラン等)のアルキルトリアルコキシシラ
ン、(ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシ
シラン等)のジアルキルジアルコキシシラン等の加水分
解性珪素化合物モノマーあるいはこれらの部分加水分解
生成物から得られる重合体やシリカゲル、コロイダルシ
リカ等を挙げることができる。
分としては、珪素、アルミニウム、チタニウム、ジルコ
ニウム、マグネシウム、ニオビウム、タンタラム、タン
グステン、スズ等を例示することができる。又金属成分
として、珪素、アルミニウム、チタニウム、ジルコニウ
ム、ニオビウムの中から選ばれた2種以上の金属を含有
する酸化物ゲル又は水酸化物ゲルを使用することもでき
る。
アクリル樹脂であり、エポキシシリコン樹脂とはシリコ
ン変性エポキシ樹脂をいう。アクリル樹脂あるいはエポ
キシ樹脂へのシリコンの導入(変性)方法としては、エ
ステル交換反応による方法、シリコンマクロマーや反応
性シリコンモノマーを用いたグラフト反応による方法、
ヒドロシリル化反応による方法、ブロック共重合を用い
た方法などがある。本発明ではどのような方法で作られ
た物でも用いることができる。
ば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸
プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸−2−エチル
ヘキシル、アクリル酸メトキシエチル、アクリル酸ブト
キシエチル、アクリル酸フェニル等のアクリル酸エステ
ル類、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、、エタクリル酸メトキシメチル、メ
タクリル酸エトキシメチル、メタクリル酸フェニル、メ
タクリル酸ラウリル等のメタクリル酸エステル類、
ノ)エチル、メタクリル酸−2−(N,N−ジメチルア
ミノ)エチル、メタクリル酸−2−(N,N−ジベンジ
ルアミノ)エチル、アクリル酸−2−(N,N−ジエチ
ルアミノ)プロピル等のアクリル酸、又はメタクリル酸
の置換アミノアルコールエステル類、アクリルアミド、
メタクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミド類、エチ
レングリコールジアクリレート、プロピレングリコール
アイアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレ
ート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ジエ
チレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコ
ールジアクリレート、エチレングリコールアクリレー
ト、ジエチレングリコールジメタクリレート等のグリコ
ールアクリレート及びグリコールメタクリレート類等を
用いることができる。
る熱硬化性樹脂であり、通常、エポキシ基を有するプレ
ポリマーを得たのち、硬化剤を添加して架橋反応により
3次元網目構造の高分子を得ることができる。
クロルヒドリン等のエポキシ基を有する化合物と、ビス
フェノールA、ビスフェノールF、テトラブロモビスフ
ェノールA、テトラフェニロールエタン、フェノールノ
ボラック、o−クレゾールノボラックなどのフェノール
誘導体から得られるフェノール系グリシジルエーテル型
エポキシ樹脂、エピクロルヒドリン等のエポキシ基を有
する化合物と、ポリプロピレングリコール、水素化ビス
フェノールA等のポリオール類から得られるアルコール
系グリシジルエーテル型エポキシ樹脂、
る化合物と、ヘキサヒドロ無水フタル酸やダイマー酸等
のカルボン酸から得られるグリシジルエステル型エポキ
シ樹脂、エピクロルヒドリン等のエポキシ基を有する化
合物と、ジアミノジフェニルメタン、イソシアヌル酸、
ヒダントイン等の化合物から得られるグリシジルアミン
型エポキシ樹脂、及びエポキシ基を有する化合物と、p
−アミノフェノールやp−オキシ安息香酸等から得られ
る混合型エポキシ樹脂等が挙げられる。
上述したアクリル樹脂やシリコン樹脂が成膜性、膜強度
及び担体との密着性の点で最も優れているが、アルキッ
ド樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂等の他の合成
樹脂を用いることもできる。
有量は固形分として0.5〜20重量%であるのが好ま
しい。また、これらポリシロキサン、金属酸化物ゲル及
び金属水酸化物ゾルの樹脂中の含有量は、固形分として
0.25〜4重量%であるのがより好ましい。
リコン樹脂は、ポリシロキサン、金属酸化物ゲル及び金
属水酸化物ゲルの少なくとも1種を含有してなるのが好
ましい。
キシシリコン樹脂のシリコンの含有量は、酸化物換算で
5〜60重量%であるのが好ましい。シリコンの含有量
が酸化物換算で5重量%未満の場合には、担体との密着
性に乏しくなる。一方、60重量%を越えると中間層の
透明性が低下する。
以上で形成する場合の光触媒層と接しない側の層中に
は、所望により各種添加剤、補強材、重点剤、例えば、
紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、耐電防止剤、難
燃剤、耐熱安定剤等を添加することもできる。
好な耐光性(耐候性)を付与する目的で添加される。紫
外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール系紫
外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル
酸エステル系紫外線吸収剤等の有機物、微粒子状の酸化
亜鉛、酸化セリウム、酸化チタニウム等の無機物を挙げ
ることができる。
2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)セバケ
ート等のヒンダードアミン系ラジカル捕捉剤、ピペリジ
ン系ラジカル捕捉剤等が挙げられる。
劣化を防止するために添加される物質であり、例えば、
フェノール系酸化防止剤やイオウ系酸化防止剤、リン系
酸化防止剤等が挙げられる。これらの添加量は、通常、
後述する中間層形成用組成物全体に対して0.005重
量%〜10重量%、好ましくは0.01重量%〜5重量
%である。
に光触媒を含有する光触媒層を有する。該光触媒層の厚
みは厚い方が光触媒活性は向上するが、0.01μm〜
10μmが好ましい。厚みが0.01μm未満では光透
過性に優れるものの光触媒が利用する紫外線をも透過し
てしまうため、十分な光触媒活性が得られない。一方、
10μmを越えると光触媒活性向上の効果が飽和する一
方、光触媒層の透明性が低下する。
媒層の乾燥温度で乾燥した時に、中間層と固着して光触
媒活性を示すものであればいずれも使用することができ
る。
20nm以下、好ましくは10nm以下のものを使用す
ると、光触媒層透明性が向上し、直線透過率が高くなる
ため、透明性が要求されるガラス基板やプラスチック清
家遺体に塗布する場合に特に好ましい。また、下地の担
体に色や模様が印刷されている場合には、下地の色や柄
を損なうことなく、透明な光触媒層を形成することがで
きる。
ン、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウム、酸化タング
ステン、酸化クロム、酸化モリブデン、酸化鉄、酸化ニ
ッケル、酸化ルテニウム、酸化コバルト、酸化銅、酸化
マンガン、酸化ゲルマニウム、酸化鉛、酸化カドミウ
ム、酸化バナジウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化
ロジウム、酸化レニウム等の酸化物が挙げられる。これ
らの中でも、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジル
コニウム、酸化タングステン、酸化鉄、酸化ニオブ、特
にアナターゼ型二酸化チタンが、100℃以下の低温で
加熱硬化を行った場合でも優れた光触媒活性を示す点か
ら好ましい。
利用して、Pt,Rh,Ru,RuO2,Nb,Cu,
Sn,Ni,Fe,Ag等の金属もしくはこれらの金属
酸化物を添加したものを用いることもできる。
に光触媒層形成用組成物を塗工することにより形成する
ことができるが、光触媒層中の光触媒の含有量は、接着
性の点から、光触媒層形成用組成物に対して75重量%
以下が好ましい。
ン化合物を含有するのが好ましい。該シリコン化合物
は、光触媒層形成用組成物の経時変化による粘度増加や
粒子沈降が生じるのを抑制する役割を果たす。
一般式:SiR3n5(OR4)4-n5〔式中、R3は(アミノ
基、塩素原子又はカルボキシル基で置換されていてもよ
い)炭素数1〜8のアルキル基を表し、R4はアルコキシ
基で置換されていてもよい炭素数1〜8のアルキル基を
表し、n5は0,1,2又は3のいずれかを表す。〕で表
されるアルコキシシラン類又はそれらの加水分解性生物
の1種又は2種以上の混合物を用いることができる。
ビニル基、γ−グリシドキシプロピル基、γ−メタクリ
ロキシプロピル基、γ−(2−アミノエチル)アミノプ
ロピル基、γ−クロロプロピル基、γ−メルカプトプロ
ピル基、γ−アミノプロピル基、1−アクロキシプロピ
ル基等が挙げられる。
キシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ
基、n−ブトキシ基、β−メトキシエトキシ基、2−エ
チルヘキシロキシ基等を例示することができる。
れるシリコン化合物の具体例としては、テトラメトキシ
シラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシ
ラン、メチルトリエトキシシラン、及びこれらの加水分
解物の1種又は2種以上の混合物を好ましく挙げること
ができる。
成用組成物中の含有量は0.001〜5重量%であるの
が好ましい。0.001重量%未満では、光触媒層形成
用組成物の長期保存安定性が低下し、5重量%を越える
と、光触媒の触媒活性の低下が著しい。
化合物に加えて、金属酸化物ゲル及び金属水酸化物ゲル
を更に含有してなるのが好ましい。金属酸化物ゲル及び
金属水酸化物ゲルは、光触媒粉末を固着し、中間層と強
固に接着させる効果を有する。また、この金属酸化物ゲ
ル及び金属水酸化物ゲルは、多孔質であることから吸着
性を有しており、光触媒活性を高める効果もある。これ
らの光触媒層形成用組成物中の含有量は、固形分として
25〜95重量%が好ましい。25重量%未満では、中
間層との密着性に乏しくなり、95重量%を越えると光
触媒活性が不十分となる。
ルの比表面積は、好ましくは150℃で乾燥後50m2
/g以上、より好ましくは100m2/g以上である
と、接着性は強固となり、光触媒活性も向上し、また、
沸騰水中に浸漬した後でも優れた接着性を有している。
は、金属成分として、珪素、アルミニウム、チタニム、
ジルコニウム、マグネシウム、ニオビウム、タンタラ
ム、タングステン、スズ等を例示することができる。
チタニウム、ジルコニウム、ニオビウムの中から選ばれ
た2種以上の金属を含有する酸化物ゲルもしくは水酸化
物ゲルを使用することにより、沸騰水に浸漬した後の光
触媒層の付着性を高めることが可能である。
いはシランカップリング剤を光触媒層形成用組成物に対
して10〜50重量%加えることによっても、高い触媒
活性を維持しつつ、沸騰水中へ15分間浸漬した後でJ
IS K5400に規定された碁盤目テープ法による付
着性試験で評価点数が6点以上の優れた付着性(接着
性)を有する光触媒層を得ることができる。
えば、一般式:RSi(Y)3や(R)2Si(Y)2(式
中、Rは有機性官能基を、Yは塩素原子又はアルコキシ
基を表す。)で表される化合物を使用することができ
る。
基、エチル基、ビニル基、γ−グリシドキシプロピル
基、γ−メタクリロキシプロピル基、γ−(2−アミノ
エチル)アミノプロピル基、γ−クロロプロピル基、γ
−メルカプトプロピル基、γ−アミノプロピル基、γ−
アクリロキシプロピル基等を挙げることができる。ま
た、Yとしては、塩素原子のほか、メトキシ基、エトキ
シ基、β−メトキシエトキシ基、β−エトキシエトキシ
基等の炭素数1〜5のアルコキシ基等が挙げられる。
ング剤の光触媒層形成用組成物中への添加量は、光触媒
層の接着性や光触媒活性等を考慮して、固形分として1
0〜50重量%程度が好ましい。
(1)先ず、担体表面に中間層形成用組成物を塗工形成
することにより中間層を形成し、(2)次いで、該中間
層表面に光触媒層形成用組成物を塗工・形成することに
より光触媒層を形成することにより製造することができ
る。
はないが、例えば、前記中間層を構成するものとして列
記した樹脂、中間層形成用組成物の有機溶媒溶液、有機
溶媒縣濁液、水分散エマルジョン等を、担体表面に印刷
法、シート形成法、スプレー吹きつけ法、ディップコー
ティング法、メイヤバー工法、スピンコーティング法、
フローコーティング法等でコートし、乾燥させる方法を
用いることができる。中間層形成時の乾燥温度は、通常
室温から200℃程度である。
するものとして列記した樹脂(又は樹脂のモノマーもし
くはオリゴマー)の1種又は2種以上と、所望によりポ
リシロキサン、金属酸化物ゾル、金属水酸化酸化物ゾル
及びその他の添加物を添加した溶液あるいはエマルジョ
ンの形で調製することができる。この場合、樹脂のモノ
マーあるいはオリゴマーで用いる場合には、硬化触媒
(重合触媒)を添加することもできる。
好ましいが、例えば、水、メチルアルコール、エチルア
ルコール、イソプロピルアルコール、ブタノール等のア
ルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノン
等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル
類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等
の脂肪族炭化水素等、及びこれらの2種以上の混合溶媒
が挙げられる。
させる場合には、中間層形成用組成物として、例えば、
テトラアルコキシシランの所定量を水、メタノール、エ
タノール、酢酸エチル等の水もしくは有機溶媒に溶解
し、そのまま加熱あるいは所定量の酸もしくは塩基を添
加して部分的に加水分解させることにより得られるテト
ラアルコキシシランの部分加水分解生成物を添加したも
のを用いることができる。
用組成物の溶液あるいはエマルジョンをそれぞれ調製
し、上記の操作を繰り返すことによって、2層以上の積
層体からなる中間層を所定の厚みで形成することができ
る。
記中間層表面にスプレーコーティング法、フローコーテ
ィング法、スピンコーティング法、メイヤバー工法、デ
ィップコーティング法、ロールコーティング法等の公知
のコーティング方法により、所定の塗工量で塗工し、乾
燥させることにより、所定の厚みで形成することができ
る。
媒と、所望により金属酸化物ゾル、金属水酸化物ゾルあ
るいはシラン化合物を添加したものを、適当な溶媒に溶
解ないしは縣濁させて調製することができる。
好ましいが、例えば、水、メチルアルコール、エチルア
ルコール、イソプロピルアルコール、ブタノール等のア
ルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノン
等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル
類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等
の脂肪族炭化水素等、及びこれらの2種以上の混合溶媒
が挙げられる。
属酸化物ゾルあるいは金属水酸化物ゾルの前駆体溶液の
状態で光触媒を分散し、コート時に加水分解あるいは中
和分解してゾル化もしくはゲル化させてもよい。
ために、酸やアルカリの解膠剤等が添加されていてもよ
い。光触媒層形成時の乾燥温度としては、担体材質及び
中間層中の樹脂材質によっても異なるが、通常50℃〜
200℃の範囲が好ましい。
易接着処理を施すことも好ましい。中間層表面に易接着
処理を施すことにより、中間層と光触媒層との層間密着
性が著しく高められ、中間層表面に光触媒層を形成した
場合に、乱反射により光触媒層表面が見る角度によって
金色や玉虫色に見える、いわゆる干渉色が生じるのを効
果的に防止することができる。
層表面をコロナ放電処理やUV−オゾン処理を施す方法
が挙げられる。
フィルム状の場合には、その防汚、抗菌、脱臭機能を活
かして、光触媒を担持していない担体の裏面に、アクリ
ル系あるいはシリコン系粘着剤を塗布したフィルムとす
ることで、自動車や各種輸送機器、建築物等の窓ガラ
ス、冷凍・冷蔵ショーケースや温室等の内面に貼り付け
ることができる。
と、ガラス表面の汚染防止と破損時の飛散防止に有効な
透視性の高いフィルムとすることが可能となる。
部に有した物品としては、例えば、壁紙、壁面材、窓ガ
ラス、サッシ、窓枠類等の建築物の内外装材、ブライン
ド、カーテン、カーペット、ショーケース等の各種イン
テリア製品、眼鏡、ガラスレンズ、フロントガラス、ド
アミラー、鏡等の各種ガラス製品、照明器具、照明灯、
ブラックライト、テレビ、冷蔵庫、オーディオ機器、コ
ンピュータ、パソコン、プリンタ、ファクシミリ等の電
気機器、テント、傘、テーブルクロス等の日用品、箪
笥、本棚、机、テーブル等の家具類、自動車、電車、飛
行機、船舶等の車両の内外装材、農業用フィルム、防草
シート、育苗シート等の農園芸用シート類や食品包装材
料等が挙げられる。
するが、本発明の範囲はこれに限定されない。実施例1 酸化物換算でシリコン含有量が2重量%のアクリルシリ
コン樹脂(ガラス転移温度20℃)、及びテトラメトキ
シシランの部分加水分解生成物であり重合度が3〜6で
あるオリゴマーを固形分重量比65:35に混合し、エ
タノール−酢酸エチル混合溶媒で固形分濃度が15重量
%になるように希釈して、中間層形成用組成物溶液を調
製した。
品番号:STS−01、固形分濃度30重量%、平均粒
子径7nm)、テトラメトキシシランの部分加水分解生
成物であり重合度が3〜6であるオリゴマー及びコロイ
ダルシリカ(粒子径20nm)を固形分重量比25:1
0:65に混合し、エタノール及び水を用いて固形分3
重量%になるように希釈して光触媒層形成用組成物溶液
を調製した。
フタレート)フィルム表面に、バーコーターにより、先
に調製した中間層形成用組成物溶液を塗布し、160℃
で1時間乾燥して膜厚5μmの中間層を形成した。さら
に、得られた中間層の上に先に調製した光触媒層形成用
溶液をバーコーターにより塗布し、60℃で1時間乾燥
して膜厚0.1μmの光触媒層を形成した。
サンシャインカーボンアークウェザーメーター(スガ試
験機(株)製、WEL−SUN−HCH型)を使用し
て、促進耐侯性試験を行なったところ、648時間でも
光触媒層にひび割れは見られず、干渉色も認められなか
った。
にし、厚さ2μmの中間層を形成した以外は、実施例1
と同様にして比較例1のフィルム(光触媒担持構造体)
を作製し、得られたフィルムを実施例1と同様に評価し
た。その結果、648時間促進耐侯性試験の結果、干渉
色が見られた。
1、固形分濃度30重量%、平均粒子径7nm)、テト
ラメトキシシランの部分加水分解生成物であり重合度が
3〜6であるオリゴマー及びコロイダルシリカ(粒子径
20nm)を固形分重量比20:15:40に混合し、
エタノール、水を用いて固形分5重量%になるように希
釈して光触媒層形成用組成物溶液を調製した。
を主成分とする紫外線吸収剤等を含む第1の中間層形成
用組成物溶液を塗工・乾燥することにより、耐侯性を付
与した膜厚5μmの第1の中間層を形成した。次いで、
この第1の中間層表面に、実施例1で作製したのと同じ
組成の中間層形成用溶液を塗工・乾燥することにより、
厚さ2μmの第2の中間層を形成して、第1及び第2の
中間層の厚さの合計が7μmの中間層を得た。
の光触媒層形成用組成物溶液を塗工・乾燥することによ
り、厚さ0.2μmの光触媒層を形成した。
サンシャインカーボンアークウェザーメーター(スガ試
験機(株)製、WEL−SUN−HCH型)を使用し
て、促進耐侯性試験を行なったところ、500時間でも
光触媒層にひび割れは見られず、干渉色も認められなか
った。
同様にして、比較例2のフィルム(光触媒担持構造体)
を作製した。
実施例2と同様に評価を行った。その結果、500時間
の促進耐侯性試験を行ったところ、干渉色が見られた。
持構造体は、担体と光触媒層との間に中間層を設けた光
触媒担持構造体であって、透明担体と光触媒層との密着
性に優れ、担体及び中間層が光触媒により分解され難
く、いわゆる干渉色がなく、かつ、表面にひび割れ等の
生じない光触媒担持構造体である。
Claims (6)
- 【請求項1】担体上に中間層と光触媒層を順次設けてな
る光触媒坦持構造体であって、前記中間層は膜厚が3μ
m〜10μmで形成されており、かつ前記光触媒層は膜
厚が0.01μm〜0.3μmで形成されている光触媒
坦持構造体。 - 【請求項2】前記中間層は2層以上の積層体からなり、
該中間層の各層の屈折率の差が0.2以下である請求項
1記載の光触媒坦持構造体。 - 【請求項3】前記中間層は2層以上の積層体からなり、
該中間層の各層のうち、前記光触媒層と接触しない層は
アクリル系樹脂から形成されている請求項1又は請求項
2記載の光触媒坦持構造体。 - 【請求項4】前記中間層は2層以上の積層体からなり、
前記中間層の各層のうち、前記光触媒と接触しない層
は、膜厚の合計が1μm〜9μmで形成されている請求
項1〜請求項3いずれかに記載の光触媒坦持構造体。 - 【請求項5】前記中間層は2層以上の積層体からなり、
前記中間層の各層のうち、前記光触媒層と接触する層
は、ポリシロキサン、金属酸化物ゲル及び/若しくは金
属水酸化物ゲル、又はポリシロキサン、金属酸化物ゲル
又は金属水酸化物ゲルの少なくとも1種を含有する(ア
クリルシリコン樹脂若しくはエポキシシリコン樹脂)か
ら形成されている請求項1〜請求項4いずれかに記載の
光触媒坦持構造体。 - 【請求項6】前記中間層は2層以上の積層体からなり、
前記中間層の各層のうち光触媒層と接触する層は、
(1)アクリルシリコン樹脂又はエポキシシリコン樹脂
を酸化物換算で全固形分に対して40〜70重量%、
(2)金属酸化物及び/又は金属水酸化物ゲルを酸化物
換算で全固形分に対して2〜20重量%、及び(3)テ
トラメトキシシラン及び/又はテトラエトキシシランの
重縮合生成物であるポリシロキサンを酸化物換算で全固
形分に対して20〜40重量%を含有する樹脂組成物か
ら形成されている請求項5記載の光触媒坦持構造体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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---|---|---|---|---|
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JP2007168135A (ja) * | 2005-12-19 | 2007-07-05 | Kubota Matsushitadenko Exterior Works Ltd | 塗装体 |
JP2014208319A (ja) * | 2013-04-16 | 2014-11-06 | 株式会社ダイセル | 光触媒塗布体 |
-
2000
- 2000-01-24 JP JP2000017871A patent/JP2001205102A/ja active Pending
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